CN105934735A - 双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供具有抗粘连性、同时反射率低、反射光的散射得到抑制而使观察性良好的双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板。本发明的双面透明导电性膜中，在基材膜的两面，分别依次形成层叠有2层以上的光学调整层的光学调整层层叠体、以及透明导电层，在所述光学调整层层叠体中，所述各光学调整层分别具有不同的折射率，在所述基材膜与至少一方的所述光学调整层层叠体之间，形成有含有粒子的抗粘连层，所述抗粘连层具有平坦部、和起因于所述粒子的隆起部，从所述粒子的最频粒径的值中减去所述抗粘连层的平坦部的厚度的值而得的值大于所述光学调整层层叠体的厚度的值，所述光学调整层层叠体的厚度分别为60nm以上且250nm以下。

Description

双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板
技术领域
本发明涉及双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板。
背景技术
近年来，由于投影型静电容量式触控面板、矩阵型电阻膜式触控面板能多点输入(多点触控)，因此操作性优异，其需求急速上升。作为这样的触控面板的电极构件，提出了在透明膜基材的两面形成有透明导电性薄膜的双面透明导电性膜。
在如上的触控面板中，使用具有图案化了的透明导电层的双面透明导电性膜。虽然从可见光透射率的观点考虑广泛使用铟-锡复合氧化物(ITO)作为透明导电层的材料，但由于其折射率高，因此在将含有ITO的透明导电层图案化时，在透明导电层形成图案的部分(图案形成部)和不存在透明导电层的部分(图案开口部)产生图案的观察性的差异，从外部观察图案时外观会恶化、或产生色调。为了不使这样的图案引人注意，还提出过下述技术，在双面设置有透明导电层的双面透明导电性膜中，在膜基材与透明导电层之间设置光学调整层(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2011/065032号
发明内容
发明所要解决的问题
在上述技术中，虽然在光学调整层的形成中采用了溅射等干式法，但从能够进行利用卷对卷方式的连续生产且可以实现成本降低的观点考虑，优选湿式涂敷法。但是，如果是卷对卷方式，则相互重叠的膜彼此密合而变得不易剥离(所谓的粘连)，根据情况有可能在膜中产生断裂或伤痕而使生产率降低。
与此不同，为了抑制粘连，可以采用在膜基材上形成在表面形成有凹凸的抗粘连层的对策。但是，若以湿式涂敷法在抗粘连层上形成光学调整层，则抗粘连层的隆起部由涂布液掩埋，从而会无法发挥充分的抗粘连性。另外，在借助湿式涂敷法的形成中，涂布液会随着隆起部的倾斜向隆起部周边的低的部分流延，在隆起部与涂布液流延到的部分产生光学调整层的厚度的变化，其结果是，无法获得所期望的光学设计，因此会产生反射光的散射而损害观察性。
而且，近年来，以进一步提高显示装置整体的观察性为目的，降低模块的各构成构件(盖板玻璃、偏振板等)的反射率成为技术开发的潮流。为了响应该潮流，要求使具有透明导电性膜的触控面板的反射率更低。
鉴于上述观点，本发明的目的在于，提供具有抗粘连性、同时反射率低、反射光的散射得到抑制而观察性良好的双面透明导电性膜及其卷绕体、以及触控面板。
用于解决问题的方法
本发明人等为了解决所述问题进行了深入研究，结果发现，通过将抗粘连层的粒子的粒径和光学调整层的厚度设置为特定的关系，同时将光学调整层设为特定的层构成，可以实现上述目的，从而完成了本发明。
即，本发明为一种双面透明导电性膜，在基材膜的两面分别依次形成层叠有2层以上的光学调整层的光学调整层层叠体、以及透明导电层，
在各所述光学调整层层叠体中，所述各光学调整层具有不同的折射率，
在所述基材膜与至少一方的所述光学调整层层叠体之间，形成有含有粒子的抗粘连层，
所述抗粘连层具有平坦部、和起因于所述粒子的隆起部，
从所述粒子的最频粒径的值中减去所述抗粘连层的平坦部的厚度的值而得的值大于所述光学调整层层叠体的厚度的值，
所述光学调整层层叠体的厚度分别为60nm以上且250nm以下。
在该双面透明导电性膜中，以能够根据与形成于基材膜的两面的透明导电层的关系分别进行光学设计的方式在基材膜与各透明导电层之间设置了光学调整层，因此即使在将透明导电层图案化的情况下也难以使图案引人注意，能够抑制色调的产生而达成良好的外观。特别是，由于在基材膜的两面采用了层叠有2层以上的折射率不同的光学调整层的光学调整层层叠体，因此不仅可以抑制表面侧的反射，而且可以抑制背面侧的反射，可以降低作为透明导电性膜整体的反射率。
此外，由于使从抗粘连层中所含的粒子的最频粒径的值中减去所述抗粘连层的平坦部的厚度的值而得的值大于所述光学调整层的厚度的值，因此即使在利用湿式涂敷形成光学调整层的情况下，也不会有掩埋抗粘连层的隆起部的情况，换言之，在光学调整层中也会存在起因于下层的抗粘连层的隆起部的隆起，其结果是，可以发挥优异的抗粘连性。
如上所述，该双面导电性膜中，通过采用层叠有2层以上的光学调整层的光学调整层层叠体，实现了反射率的降低。可以认为，在像这样利用湿式涂敷形成2层以上的光学调整层的情况下，与1层的情况相比涂布液向隆起部的周边的流延变得明显，隆起部周边的光学设计没有得到满足而产生反射光的散射。与之不同，该双面透明导电性膜中，由于将各光学调整层层叠体的厚度分别减薄到60nm以上且250nm以下，因此可以大幅度抑制由湿式涂敷造成的形成各光学调整层时的涂布液向隆起部周边的流延。由此，可以满足隆起部周边的光学设计，从而可以抑制反射光的散射而实现良好的观察性。
此外，该双面透明导电性膜即使在利用湿式涂敷形成光学调整层的情况下，也可以维持抗粘连性及抑制反射光的散射，因此包括光学调整层的形成在内可以进行利用卷对卷方式的连续生产，可以实现低成本的制造。
所述光学调整层优选为利用湿式涂敷形成的层。由此可以利用卷对卷方式来形成光学调整层，从而可以有助于削减制造成本。
该双面透明导电性膜中，由于采用了特定的层结构，因此可以使反射率为1.2％以下，可以发挥优异的观察性。
从所述粒子的最频粒径的值(nm)中减去所述抗粘连层的平坦部的厚度(nm)的值而得的值优选为200nm以上且1200nm以下。通过将最频粒径与平坦部的厚度之差设为200nm以上，可以防止利用湿式涂敷形成光学调整层时的抗粘连层的隆起部的消失而发挥抗粘连性。另一方面，通过将上述差设为1200nm以下，可以将光学调整层的涂布液向隆起部周边的流延抑制为不会对观察性造成影响的水平。
优选至少1层的所述光学调整层由含有有机成分和无机成分的有机无机复合材料形成。通过在有机成分之外还复合地使用无机成分，就可以将含有有机无机复合材料的涂布液的粘度有效地调整为适于湿式涂敷的范围，并且可以有效地调整为能够抑制向隆起部周边的流延的范围。另外，由于无机成分的添加，使得光学调整层的光学特性的调整变得容易，可以进一步降低透明导电性膜的反射率。
但是判明，若利用有机无机复合材料形成光学调整层，则除了上述因涂布液向隆起部周边的流延而产生的反射光的散射以外，还会有产生小的突起状的外观不良的情况。对此可以推测是因为，与产生上述的隆起部中的反射光的散射的机理相同，由于无机成分的尺寸，而在光学调整层的表面产生凹凸。因而，优选使所述无机成分的中值粒径的值小于所述光学调整层的厚度的值，抑制起因于无机成分的表面凹凸，从而抑制光散射。
所述透明导电层优选被进行了图案化，该双面透明导电性膜优选具有该透明导电层形成图案的图案形成部、和不存在该透明导电层的图案开口部。通过将透明导电层具体地图案化，可以特别合适地应用于静电容量式的触控面板。
所述基材膜优选含有环烯烃系树脂。由此，可以进一步提高该双面透明导电性膜的透明性，可以实现良好的外观。
本发明中，还包括将该双面导电性膜的长尺寸体卷绕成卷筒状的双面透明导电性膜卷绕体。
本发明中，还包括具备该双面透明导电性膜的触控面板。
附图说明
图1是本发明的一个实施方式的双面透明导电性膜的剖面示意图。
图2是本发明的另一实施方式的双面透明导电性膜的剖面示意图。
图3是示意性地表示透明导电层的图案的一例的局部透视俯视图。
图4A是示意性地表示反射率的测定步骤的说明图。
图4B是示意性地表示反射率的测定步骤的说明图。
具体实施方式
在参照附图的同时，对本发明的一个实施方式说明如下。而且，图中所示的形态并非实际的尺寸比，为了说明的方便，有局部放大或缩小表示的部位。另外，表示本说明书中的上下左右、表面和背面等位置关系的用语只是单纯地用于使说明容易的用语，没有任何特定实际的具体构成的位置关系的意图。
＜双面透明导电性膜＞
图1是示意性地表示本发明的双面透明导电性膜的一个实施方式的剖面图。双面透明导电性膜10中，在基材膜1的两面，依次形成有含有粒子5的抗粘连层2a、2b(以下，也将两者统称为“抗粘连层2”。)、光学调整层层叠体3a、3b(以下，也将两者统称为“光学调整层层叠体3”。)、以及透明导电层4a、4b(以下，也将两者统称为“透明导电层4”。)。光学调整层层叠体3a从靠近基材膜1的一侧起具有层叠了光学调整层31a及光学调整层32a的2层结构。光学调整层层叠体3b也具有相同的结构。
虽然图1中抗粘连层2a、2b形成于基材膜1的两面，然而也可以仅在基材膜1的上面侧或下面侧的任意一方形成抗粘连层。而且，对于抗粘连层2、光学调整层层叠体3、以及透明导电层4的构成，在另一面侧也可以采用与基材膜1的一面侧的构成相同的构成，因此以下主要对图1的基材膜1的上面侧的构成进行说明。
抗粘连层2a在表面具有平坦部21及隆起部22。隆起部22是因粒子5而形成。此处，双面透明导电性膜10中，从粒子5的最频粒径d的值中减去抗粘连层2a的平坦部21的厚度TA的值而得的值大于光学调整层层叠体3a的厚度TO。在利用湿式涂敷形成光学调整层31a、32a的情况下，抗粘连层2a的平坦部21由光学调整层31a、32a掩埋，隆起部22的高度被相对地降低而会有抗粘连性降低或消失的情况。双面透明导电性膜10中，由于以满足特定的关系的方式形成粒子5的最频粒径d、平坦部21的厚度TA、以及光学调整层层叠体3a的厚度TO，因此即使在利用湿式涂敷形成光学调整层31a、32a时，也可以防止掩埋抗粘连层2a的隆起部22的情况。其结果是，在光学调整层层叠体3a的表面也可以产生起因于隆起部22的隆起，可以发挥良好的抗粘连性。而且，图1中，图示出具有最频粒径d的粒子5，但是只要不损害本发明的作用效果，抗粘连层2a也可以含有具有最频粒径d以外的粒径的粒子。
双面透明导电性膜10中，通常将抗粘连层2a的厚度设为微米级，而与此相对，将光学调整层层叠体3a及透明导电层4a的各厚度减薄为纳米级，因此作为最外表面层的透明导电层4a追随光学调整层层叠体3a的隆起而具有隆起。图1的基材膜1的下面侧也相同。
双面透明导电性膜10的反射率可以考虑对显示模块所要求的光学特性适当地设定，然而优选为1.2％以下，更优选为1.0％以下，进一步优选为0.8％以下。
双面透明导电性膜的雾度只要能够确保所要求的透明性，就没有特别限定，然而优选为5％以下，更优选为4％以下，进一步优选为3％以下。而且，雾度的下限优选为0％，然而由于最外表面层的隆起部等的存在，一般而言多为0.3％以上。
＜基材膜＞
作为基材膜1，没有特别限制，然而可以使用具有透明性的各种塑料膜。例如，作为其材料，可以举出聚酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、聚降冰片烯系树脂等聚环烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。其中优选为环烯烃系树脂、聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚烯烃系树脂，特别优选为环烯烃系树脂。
基材膜1的厚度优选为2～200μm的范围内，更优选为20～180μm的范围内。若基材膜1的厚度小于2μm，则基材膜1的机械强度不足，从而会使得将膜基材制成卷筒状而连续地形成光学调整层层叠体3及透明导电层4的操作变得困难。另一方面，若厚度大于200μm，则会无法实现透明导电层4的耐擦伤性、作为触控面板用的打点特性(打点特性)的提高。
也可以对基材膜1的表面预先实施溅射、等离子体处理、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子束照射、化成、氧化等蚀刻处理或底涂处理，提高与形成于膜基材上的抗粘连层、光学调整层等的密合性。另外，也可以在形成抗粘连层、光学调整层之前，根据需要利用溶剂清洗或超声波清洗等，对膜基材表面进行除尘、洁净化。
＜抗粘连层＞
如上所述，抗粘连层2在表面具有平坦部21和隆起部22。隆起部22因抗粘连层2中所含的粒子5而形成。此时，对于从粒子5的最频粒径d的值中减去抗粘连层2a的平坦部21的厚度TA的值而得的值d－TA，从抗粘连性及防止隆起部周边的反射光散射的观点考虑，优选为200nm以上且1200nm以下，更优选为400nm以上且1100nm以下，进一步优选为600nm以上且1000nm以下。若上述值d－TA过小，则有可能无法获得足够的抗粘连性，若值d－TA过大，则光学调整层形成用的涂布液向隆起部22周边的流延明显，有可能产生反射光的散射而损害观察性。
粒子的最频粒径d可以考虑最外表面层的隆起部的尺寸、与抗粘连层2的平坦部21的厚度的关系等而适当地设定，没有特别限定。而且，从对双面透明导电性膜赋予足够的抗粘连性、并且抑制隆起部周边的反射光散射的观点考虑，粒子的最频粒径优选为700nm以上且4000nm以下，更优选为900nm以上且3000nm以下，进一步优选为1100nm以上且2500nm以下。而且，本说明书中，所谓“最频粒径”，是指表示粒子分布的极大值的粒径，通过使用流动式粒子图像分析装置(Sysmex公司制、产品名“FPIA－3000S”)，在规定条件下(鞘液：乙酸乙酯、测定模式：HPF测定、测定方式：总粒子数)进行测定而求出。测定试样使用将粒子用乙酸乙酯稀释为1.0重量％、并使用超声波清洗机均匀地分散而得的物质。
抗粘连层2的平坦部21的厚度优选以满足上述值d－TA的方式选择，具体而言优选为500nm以上且3000nm以下，更优选为700nm以上且2500nm以下，进一步优选为900nm以上且2000nm以下。若抗粘连层的平坦部的厚度过小，则上述值d－TA相对地变大，从而不可能忽视光学调整层的涂布液向隆起部周边的流延，有可能引起光散射。另一方面，若抗粘连层的平坦部的厚度过大，则上述值d－TA相对地变小，在光学调整层的形成时隆起部被掩埋而使抗粘连性有可能降低。而且，本说明书中，所谓抗粘连层的平坦部的厚度，是指抗粘连层的平坦部的平均厚度。
粒子可以是多分散粒子及单分散粒子的任意一种，然而若考虑隆起部的赋予的容易性、眩目防止性，则优选为单分散粒子。在单分散粒子的情况下，可以将粒子的粒径与最频粒径视为实质上相同。
抗粘连层中的粒子的含量优选相对于树脂组合物的固体成分100重量份为0.01～5重量份，更优选为0.02～1重量份，进一步优选为0.05～0.5重量份。若抗粘连层中的粒子的含量小，则会有难以在抗粘连层的表面形成足以赋予抗粘连性的隆起部的趋势。另一方面，若粒子的含量过大，则会因粒子所致的光散射而使双面透明导电性膜的雾度变高，会有观察性降低的趋势。另外，若粒子的含量过大，则在抗粘连层的形成时(溶液的涂布时)产生条纹，会有观察性受损、透明导电层的电特性变得不均匀的情况。
(树脂组合物)
作为形成抗粘连层2的树脂组合物，可以没有特别限制地使用能够实现粒子的分散、作为抗粘连层形成后的被膜具有足够的强度、有透明性的的组合物。作为所用的树脂可以举出热固型树脂、热塑型树脂、紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂、二液混合型树脂等，它们当中优选可以利用紫外线照射的固化处理、以简单的加工操作有效地形成光扩散层的紫外线固化型树脂。
作为紫外线固化型树脂，可以举出聚酯系、丙烯酸系、氨基甲酸酯系、酰胺系、硅酮系、环氧系等各种树脂，包括紫外线固化型的单体、低聚物、聚合物等。优选使用的紫外线固化型树脂例如可以举出具有紫外线聚合性的官能团的树脂，尤其是包含具有2个以上该官能团、特别是具有3～6个该官能团的丙烯酸系的单体或低聚物成分的树脂。另外，在紫外线固化型树脂中，配合有紫外线聚合引发剂。
在树脂层的形成材料中，除了所述材料以外，还可以使用流平剂、触变剂、防静电干扰剂等添加剂。若使用触变剂，则有利于微细凹凸形状表面的突出粒子的形成。作为触变剂，可以举出0.1μm以下的二氧化硅、云母等。这些添加剂的含量通常相对于紫外线固化型树脂100重量份为15重量份以下左右，优选设为0.01～15重量份。
(粒子)
作为抗粘连层2中所含的粒子，可以没有特别限制地使用各种金属氧化物、玻璃、塑料等具有透明性的粒子。例如可以举出二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、二氧化锆、氧化钙等无机系粒子、包含聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸系树脂、丙烯酸－苯乙烯共聚物、苯胍胺、三聚氰胺、聚碳酸酯等各种聚合物的交联或未交联的有机系粒子或硅酮系粒子等。所述粒子可以适当地选择使用1种或2种以上，然而优选有机系粒子。作为有机系粒子，从折射率的观点考虑，优选丙烯酸系树脂。
(涂布组合物)
形成抗粘连层时所用的涂布组合物含有上述的树脂、粒子、以及溶媒。另外，涂布组合物可以根据需要添加各种添加剂。作为这样的添加剂，可以举出防静电干扰剂、增塑剂、表面活性剂、抗氧剂、以及紫外线吸收剂等常用的添加剂。
涂布组合物是通过将上述的树脂及粒子根据需要与溶媒、添加剂、催化剂等混合而制备。涂布组合物中的溶媒没有特别限定，可以考虑所用的树脂、成为涂装的基底的部分的材质及组合物的涂装方法等适当地选择。作为溶媒的具体例，例如可以举出甲苯、二甲苯等芳香族系溶媒；甲乙酮、丙酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶媒；二乙醚、异丙醚、四氢呋喃、二噁烷、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇单甲醚、苯甲醚、苯乙醚等醚系溶媒；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸异丙酯、乙二醇二乙酸酯等酯系溶媒；二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、N－甲基吡咯烷酮等酰胺系溶媒；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂等溶纤剂系溶媒；甲醇、乙醇、丙醇等醇系溶媒；二氯甲烷、氯仿等卤素系溶媒等。这些溶媒可以单独使用，另外也可以并用2种以上。这些溶媒当中，优选使用酯系溶媒、醚系溶媒、醇系溶媒及酮系溶媒。
在涂布组合物中，优选将粒子分散于溶液中。作为使粒子分散于溶液中的方法，可以采用向树脂组合物溶液中添加粒子并混合的方法、将预先分散于溶媒中的粒子添加到树脂组合物溶液中的方法等各种公知的方法。
涂布组合物的固体成分浓度优选为1重量％～70重量％，更优选为2重量％～50重量％，最优选为5重量％～40重量％。若固体成分浓度过低，则涂布后的干燥工序中抗粘连层表面的隆起部的偏差变大，抗粘连层表面的隆起部变大的部分的雾度会升高。另一方面，若固体成分浓度过大，则含有成分容易凝聚，其结果是，凝聚部分会显在化而损害双面透明导电性膜的外观。
(涂布及固化)
抗粘连层是通过向基材上涂布上述的涂布组合物而形成。本实施方式中，在基材的两面进行涂布组合物向基材膜1上的涂布。而且，涂布组合物既可以直接涂布在基材膜1上，也可以涂布在形成于基材膜1上的底涂层等上。
涂布组合物的涂布方法可以根据涂布组合物及涂装工序的状况适当地选择，例如可以利用浸涂法、气刀涂布法、淋涂法、辊涂法、绕线棒涂布法、凹版涂布法、模涂法或挤出涂布法等进行涂布。
在涂布好涂布组合物后，通过使涂膜固化，可以形成抗粘连层。在树脂组合物为光固化性的情况下，通过使用发出与需要对应的波长的光的光源照射光，可以使之固化。作为所照射的光，例如可以使用曝光量为150mJ/cm2以上的光、优选为200mJ/cm2～1000J/cm2的光。另外，该照射光的波长没有特别限定，然而例如可以使用具有380nm以下的波长的照射光等。而且，也可以在光固化处理时、或光固化处理后进行加热。
也可以对抗粘连层2的表面预先实施溅射、等离子体处理、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子束照射、化成、氧化等蚀刻处理或底涂处理，提高与形成于抗粘连层上的光学调整层等的密合性。另外，也可以在形成光学调整层之前，根据需要利用溶剂清洗、超声波清洗等，对抗粘连层表面进行除尘、洁净化。
＜光学调整层层叠体＞
在本实施方式的双面透明导电性膜10中，在抗粘连层2与透明导电层4之间，以透明导电层的密合性、反射特性的控制等为目的设有光学调整层层叠体3。光学调整层层叠体3a具有从靠近基材膜1的一侧起层叠有光学调整层31a及光学调整层32a的2层结构。光学调整层31a及光学调整层32a具有彼此不同的折射率。光学调整层层叠体3a的层结构并不限定于2层结构，也可以具有3层以上的层结构。
光学调整层层叠体3a、3b的厚度各自独立地为60nm以上且250nm以下即可，优选为70nm以上且200nm以下，更优选为80nm以上且150nm以下。通过将光学调整层层叠体设为上述范围，可以大幅度抑制由湿式涂敷造成的各光学调整层的形成时的涂布液向隆起部周边的流延。由此，就可以满足隆起部周边的光学设计，可以抑制反射光的散射。若光学调整层层叠体的厚度过小，则无法充分地控制反射特性，有可能损害透明导电性膜的观察性。若光学调整层层叠体的厚度过大，则涂布液的流延变得明显，有可能产生反射光的散射。另外，若以这样的纳米级别水平的厚度形成光学调整层层叠体，则光学调整层层叠体的透明导电层4侧的表面基本上会维持作为其基底层的抗粘连层2表面的隆起形状。这样，由于在透明导电层4的表面也可以维持该隆起形状，因此可以制成具有抗粘连性的双面透明导电性膜。
[光学调整层]
虽然光学调整层31a及光学调整层32a具有彼此不同的折射率即可，然而从以更高的水平控制反射特性而降低反射率的观点考虑，优选光学调整层31a的折射率高于光学调整层32a的折射率。该情况下，光学调整层31a的折射率优选为1.60以上且1.90以下，更优选为1.70以上且1.80以下。另外，光学调整层32a的折射率优选为1.35以上且1.60以下，更优选为1.45以上且1.55以下。
光学调整层可以利用有机成分、无机成分、以及含有有机成分和无机成分的有机无机复合材料的任意一种形成。其中，优选至少1层的光学调整层由含有有机成分和无机成分的有机无机复合材料形成。通过除了有机成分以外还复合地使用无机成分，就可以将含有有机无机复合材料的涂布液的粘度有效地调整为适于湿式涂敷的范围，并且可以有效地调整为能够抑制向隆起部周边的流延的范围，从这一点考虑优选。另外，由于无机成分的添加，光学调整层的光学特性的调整变得容易，可以进一步降低透明导电性膜的反射率。
(有机成分)
作为有机成分没有特别限定，可以使用紫外线固化型树脂、热固型树脂、热塑性树脂等。从加工速度快、抑制对透明高分子基材1的热损害的观点考虑，特别优选使用紫外线固化型树脂。
作为这样的紫外线固化型树脂，例如可以使用由于光(紫外线)而发生固化的具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基的至少一方的基团的固化型化合物。作为固化型化合物，例如可以举出硅酮树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇多烯树脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等低聚物或预聚物等。它们既可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
作为有机无机复合材料的有机成分中所用的紫外线固化型树脂，也可以除了上述各成分以外还具有反应性稀释剂。作为反应性稀释剂，例如可以使用具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基的至少一方的基团的反应性稀释剂。作为反应性稀释剂的具体例，例如可以使用日本特开2008－88309号公报中记载的反应性稀释剂，包括单官能丙烯酸酯、单官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。作为反应性稀释剂，优选3官能以上的丙烯酸酯、3官能以上的甲基丙烯酸酯。这是因为，可以使硬涂层的硬度优异。作为其他反应性稀释剂，例如可以举出丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、异氰脲酸的丙烯酸酯、异氰脲酸的甲基丙烯酸酯等。它们既可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
(无机成分)
有机无机复合材料除了电离辐射线固化型树脂等有机成分以外，还含有无机成分。作为无机成分，例如可以举出氧化硅(二氧化硅)、氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆等无机氧化物的微粒或微粉末。它们当中，从控制硬涂层的折射率的观点考虑，优选氧化硅(二氧化硅)、氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆的微粒，特别优选氧化硅。它们既可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
无机成分的中值粒径的值优选小于光学调整层的厚度的值。若利用有机无机复合材料形成光学调整层，则会产生尺寸较小的突起状的外观不良。对此可以认为是由以无机成分形成的光学调整层的表面凹凸所引起。因而，优选使无机成分的中值粒径的值小于所述光学调整层的厚度的值，抑制起因于无机成分的表面凹凸，从而抑制光散射。
作为无机成分的具体的中值粒径，优选为50nm以下，更优选为40nm以下，进一步优选为30nm以下。像这样，若纳米粒子的最频粒径小，则难以产生如上所述的可见光的散射，并且即使在有机无机复合材料中的有机成分与纳米粒子的折射率不同的情况下，也可以抑制光学调整层的雾度大幅度增大。而且，虽然无机成分的中值粒径的下限越小越好，然而从防止凝聚而使分散性良好的观点考虑，优选为5nm以上。
而且，本说明书中，所谓“中值粒径”，是指粒子分布的累积度数显示为50％的粒径(d50)，无机成分的中值粒径是通过将试样用稀释液稀释到固体成分浓度1％，用动态光散射式粒径分布测定装置(堀场制作所制、“LB－500”)测定粒度分布而求出。稀释液可以根据无机成分的种类、无机成分的表面修饰的种类适当地选择。
无机氧化物纳米粒子优选利用含有聚合性不饱和基的有机化合物进行表面修饰。该不饱和基与有机无机复合材料中的有机成分发生反应固化，因而可以提高硬涂层的硬度。作为对无机氧化物纳米粒子进行表面修饰的有机化合物中的聚合性不饱和基，例如优选(甲基)丙烯酰基、乙烯基、丙烯基、丁二烯基、苯乙烯基、乙炔基、肉桂酰基、马来酸酯基、丙烯酰胺基。另外，所述含有聚合性不饱和基的有机化合物也可以是在分子内具有硅醇基的化合物或利用水解生成硅醇基的化合物。另外，含有聚合性不饱和基的有机化合物也优选为具有光感应性基团的化合物。
有机无机复合材料中的无机氧化物纳米粒子的配合量优选相对于电离辐射线固化型树脂等有机成分固体成分100重量份为50重量份～300重量份的范围，更优选为100重量份～200重量份的范围。通过将有机无机复合材料中的无机氧化物纳米粒子的配合量设为上述范围，可以抑制光学调整层形成用的涂布液向隆起部周边的流延，从而防止光的散射。另外，例如也可以调整光学调整层的折射率。
(添加剂)
在光学调整层3的形成材料中，也可以还加入各种添加剂。作为添加剂，例如可以使用用于使有机无机复合材料固化而形成光学调整层的聚合引发剂、流平剂、颜料、填充剂、分散剂、增塑剂、紫外线吸收剂、表面活性剂、抗氧剂、触变剂等。
作为聚合引发剂，可以使用现有公知的光聚合引发剂。例如可以使用2，2－二甲氧基－2－苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、氧杂蒽酮、3－甲基苯乙酮、4－氯二苯甲酮、4，4’－二甲氧基二苯甲酮、苯偶姻丙醚、联苯酰二甲基缩酮、N，N，N，N－四甲基－4，4’－二氰基二苯甲酮、1－(4－异丙基苯基)－2－羟基－2－甲基丙烷－1－酮、此外还有噻吨酮系化合物等。
作为流平剂，可以适当地使用氟系或硅酮系的流平剂，然而更优选为硅酮系的流平剂。作为硅酮系流平剂，可以举出聚二甲基硅氧烷、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚甲基烷基硅氧烷等。氟系或硅酮系的流平剂的添加量优选相对于有机无机复合材料中的有机成分的固体成分与无机成分的合计100重量份在0.01～5重量份的范围内添加。
光学调整层可以使用上述的材料，利用凹版涂布法或棒涂法、帘涂法、模涂法、旋涂法、喷涂法、辊涂法等涂敷法等合适地形成。虽然如此所述优选至少1层的光学调整层利用涂敷法形成，然而作为剩下的光学调整层的形成法，也可以除了上述的涂敷法以外，还采用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等。
作为固化处理，例如可以例示出借助能量射线的照射的方法等。作为能量射线源，例如可以使用高压水银灯、卤素灯、氙灯、金属卤化物灯、氮激光器、电子束加速装置、放射性元素等射线源。对于能量射线源的照射量，作为紫外线波长365nm下的累计曝光量，优选为50～5000mJ/cm2。在照射量小于50mJ/cm2的情况下，固化就会不充分，因此光学调整层3的硬度降低。另外，若大于5000mJ/cm2，则光学调整层3着色而使透明性降低。
＜透明导电层＞
透明导电层4的构成材料没有特别限定，适合使用选自铟、锡、锌、镓、钼、钛、硅、锆、镁、铝、金、银、铜、钯、钨中的至少1种金属的金属氧化物。在该金属氧化物中，根据需要，也可以还含有上述组中所示的金属原子。例如优选使用含有氧化锡的氧化铟(ITO)、含有钼的氧化锡(ATO)等。
透明导电层4的厚度没有特别限制，然而为了制成使其表面电阻为1×103Ω/□以下的具有良好的导电性的连续被膜，优选将厚度设为10nm以上。若膜厚过厚，则会导致透明性的降低等，因此优选为15～35nm，更优选为20～30nm的范围内。若透明导电层4的厚度小于15nm，则膜表面的电阻变高，并且难以成为连续被膜。另外，若透明导电层4的厚度大于35nm，则会导致透明性的降低等。
作为透明导电层4的折射率，在透明导电层4被图案化的情况下，从不仅抑制图案形成部P与图案开口部O(参照图2)的反射率差，而且抑制两者的色调之差的观点考虑，透明导电层5的折射率优选为1.85～2.1左右。
透明导电层4的形成方法没有特别限定，可以采用现有公知的方法。具体而言，例如可以例示出真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等干式工艺。另外，也可以根据所必需的膜厚采用适当的方法。而且，若透明导电层4是利用溅射法等干式工艺形成，则如图1所示，透明导电层4的表面基本上维持作为其基底层的抗粘连层2a(及光学调整层层叠体3)表面的平坦部及隆起部的形状。因而，即使在抗粘连层2上形成有光学调整层层叠体3及透明导电层4的情况下，也可以合适地对透明导电层4表面赋予抗粘连性。
透明导电层4根据需要可以实施加热退火处理(例如在大气气氛下、在80～150℃实施30～90分钟左右)而使之结晶化。通过使透明导电层结晶化，不仅透明导电层被低电阻化，而且透明性及耐久性提高。通过在双面透明导电性膜10中将抗粘连层2a的厚度设为上述范围，在加热退火处理时也可以抑制卷曲的发生，处置性优异。
如图2及3所示，透明导电层4也可以利用蚀刻等进行图案化。图2表示出透明导电层4被图案化了的双面透明导电性膜10。但是，为了说明的方便，图2中，省略了抗粘连层2中所含的粒子及由其造成的隆起部，各层的厚度与图1所示的样子不同。图2所示的双面透明导电性膜具有透明导电层4形成图案的图案形成部P、和被除去了透明导电层4的图案开口部O。在用于静电容量式的触控面板或矩阵式的电阻膜方式的触控面板的双面透明导电性膜中，如图3所示，优选将透明导电层4a、4b以条纹状图案化，优选透明导电层4a、4b形成彼此正交的格子状矩阵图案。而且，虽然在图3中图示为图案形成部P的宽度大于图案开口部O的宽度，然而本发明并不受该形态限制。
如图2及3所示，在双面透明导电性膜10的透明导电层4a、4b被图案化的情况下，根据图案形状，在以俯视方式透视双面透明导电性膜10时，有时会存在两面的图案形成部重复的双面图案区域X、和一个面为图案形成部且另一个面为图案开口部的单面图案区域Y(Y1及Y2)。此时，双面图案区域X的反射率与单面图案区域Y的反射率之差ΔR的绝对值优选为1％以下，更优选为0.5％以下。另外，双面图案区域X的反射色调b＊优选满足－10≤b＊≤0，更优选满足－8≤b＊≤0，特别优选满足－5≤b＊≤0。通过将反射率差ΔR的绝对值或反射色调b＊设为上述范围内，就可以抑制图案观察及色调(特别是黄色调)的产生，从而获得外观更加良好的透明导电性膜。
而且，本说明书中，所谓“反射率”表示的是CIE表色系统的D65光源的视感反射率Y。另外，所谓“色调”，是JIS Z8729中规定的L＊a＊b＊表色系统中的D65光源的L＊值、a＊值、b＊值，“反射色调”是由反射光求出的色调。
一般而言，由于透明导电层由金属氧化物形成，因此折射率高，表面的反射率高。因而，在图案形成部P与图案开口部O之间产生反射率差，从而有易于辨识图案的趋势。与此相对，本发明中，通过在表背面的基材膜1与透明导电层4之间分别设置光学调整层层叠体，而利用界面多重反射，借助干涉来消除透明导电层表面的反射光，降低图案形成部P的反射率。因而，图案形成部P与图案开口部O的反射率差被降低，图案变得难以辨识。
＜双面透明导电性膜卷绕体＞
本实施方式中，可以将双面透明导电性膜10制成长尺寸体，形成将其卷绕为卷筒状而成的双面透明导电性膜卷绕体。双面透明导电性膜的长尺寸片的卷绕体可以通过如下操作形成，即，作为基材膜使用长尺寸片的卷筒状卷绕体，将前述的抗粘连层、光学调整层、以及透明导电层都利用卷对卷法来形成。在形成这样的卷绕体时，可以在双面透明导电性膜的表面贴合具备弱粘合层的保护膜(隔片)后卷绕为卷筒状，然而本实施方式的双面透明导电性膜由于抗粘连性得到改善，因此即使不使用保护膜也可以形成双面透明导电性膜的长尺寸片的卷绕体。即，通过赋予抗粘连性，可以抑制处置时在膜表面的伤痕的产生，并且膜的卷绕性优异，因此即使不在表面贴合保护膜，也容易获得将长尺寸片卷绕为卷筒状的卷绕体。如此所述，本实施方式的双面透明导电性膜由于可以不使用保护膜地形成长尺寸片的卷绕体，因此在用于其后的触控面板的形成等时的操作性优异。另外，由于不需要作为工序构件的保护膜，因而还有助于削减成本、减少废弃物。
＜触控面板＞
双面透明导电性膜10例如可以适用于静电容量式、电阻膜方式等的触控面板。特别是，即使在透明导电层被图案化的情况下，也可以将图案形成部与图案开口部的观察性的差异、特别是反射率之差抑制得较小，因此可以适用于像投影型静电容量式的触控面板、或能够进行多点输入的电阻膜方式的触控面板那样具备以规定形状图案化了的透明导电层的触控面板。
在触控面板的形成时，可以在双面透明导电性膜的一个或两个主面夹隔着透明的粘合剂层贴合玻璃、高分子膜等其他的基材等。透明基体可以由1片基体膜构成，也可以是2片以上的基体膜的层叠体(例如夹隔着透明的粘合剂层层叠而成的层叠体)。另外，也可以在贴合于双面透明导电性膜的透明基体的外表面设置硬涂层。
作为双面透明导电性膜与基材的贴合中所用的粘合剂层，只要是具有透明性的物质，就可以没有特别限制地使用。具体而言，例如可以适当地选择使用以丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯基醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烃、环氧系、氟系、天然橡胶、合成橡胶等橡胶系等的聚合物作为基础聚合物的物质。特别是从光学透明性优异、显示出适度的润湿性、凝聚性及胶粘性等粘合特性、耐候性和耐热性等也优异的方面考虑，优选使用丙烯酸系粘合剂。
在将上述的本发明的双面透明导电性膜用于触控面板的形成的情况下，触控面板形成时的处置性优异。因而，可以高生产率地制造透明性及观察性优异的触控面板。
[实施例]
以下，使用实施例对本发明进行详细说明，然而本发明只要不超出其主旨，就不限定于以下的实施例。实施例中，只要没有特别指出，带有“份”的就是指“重量份”。
[实施例1]
利用以下的步骤制作出图1所示的形态的双面透明导电性膜。首先，准备含有最频粒径1.8μm(1800nm)的多个单分散粒子(综研化学公司制、商品名“MX180TAN”)和粘结剂树脂(DIC公司制、商品名“UNIDIC RS29－120”)、且以乙酸乙酯作为溶媒的涂布组合物。粒子的添加份数是相对于粘结剂树脂100份为0.2份。然后，使用凹版涂布机，在厚度100μm的长尺寸基材膜1(日本Zeon公司制、商品名“ZEONOR”)的两面，以使干燥后的平坦部的厚度为1.0μm(1000nm)的方式涂布上涂布组合物，在80℃加热1分钟，由此使涂膜干燥。其后，通过利用高压水银灯，照射累计光量250mJ/cm2的紫外线，而形成抗粘连层2a、2b。
然后，在两面的抗粘连层2a、2b的表面，使用凹版涂布机，涂布作为有机无机复合成分的折射率调整剂(JSR公司制、商品名“OPSTAR Z7412”：作为无机成分含有中值粒径40nm的氧化锆粒子的折射率为1.62的有机无机复合材料)，在60℃加热1分钟，由此使涂膜干燥。其后，通过利用高压水银灯，照射累计光量250mJ/cm2的紫外线而实施固化处理，在两面形成厚度为85nm且折射率为1.62的光学调整层31a、31b。继而，在光学调整层31a、31b的表面，使用凹版涂布机涂布基于溶胶－凝胶法的热固型的折射率调整剂(Colcoat公司制、商品名“Colcoat PX”)，在120℃加热1分钟，由此在两面形成厚度为30nm且折射率为1.46的光学调整层32a、32b，形成光学调整层层叠体3a、3b。
其后，将具有抗粘连层2a、2b及光学调整层层叠体3a、3b的长尺寸基材投入卷绕式溅射装置，在两面的光学调整层层叠体3a、3b的表面，作为透明导电层4a、4b层叠厚20nm的铟·锡氧化物层(在由氩气98％和氧气2％构成的0.4Pa的气氛中、使用由氧化铟97重量％－氧化锡3重量％构成的烧结体的溅射)。此时，上述的光学调整层、透明导电层以沿着上述抗粘连层的平坦部及隆起部的方式层叠。由此制作出双面透明导电性膜10。
[实施例2]
准备含有最频粒径1.8μm(1800nm)的多个单分散粒子(综研化学公司制、商品名“MX180TAN”)和粘结剂树脂(DIC公司制、商品名“UNIDIC RS29－120”)、且以乙酸乙酯作为溶媒的涂布组合物。粒子的添加份数是相对于粘结剂树脂100份为0.2份。然后，在厚100μm的长尺寸基材膜1(日本Zeon公司制、商品名“ZEONOR”)的两面，使用凹版涂布机，以使干燥后的平坦部的厚度为1.0μm(1000nm)的方式涂布上涂布组合物，在80℃加热1分钟，由此使涂膜干燥。其后，通过利用高压水银灯，照射累计光量250mJ/cm2的紫外线，而形成抗粘连层2a、2b。
然后，在两面的抗粘连层2a、2b的表面，使用凹版涂布机，涂布作为有机无机复合成分的折射率调整剂(JSR公司制、商品名“OPSTAR KZ6734”：作为无机成分含有中值粒径40nm的氧化锆粒子的折射率为1.74的有机无机复合材料)，在60℃加热1分钟，由此使涂膜干燥。其后，通过利用高压水银灯，照射累计光量250mJ/cm2的紫外线而实施固化处理，在两面形成厚度为40nm且折射率为1.74的光学调整层31a、31b。继而，在光学调整层31a、31b的表面，使用凹版涂布机，涂布相对于作为有机成分的折射率调整剂(大阪有机化学公司制、商品名“Viscoat 300”)100份含有作为无机成分的中值粒径20nm的氧化硅粒子20重量份的有机无机复合材料，在60℃加热1分钟，由此使涂膜干燥。其后，通过利用高压水银灯，照射累计光量250mJ/cm2的紫外线而实施固化处理，在两面形成厚度为50nm且折射率为1.5的光学调整层32a、32b，形成光学调整层层叠体3a、3b。
其后，将具有抗粘连层2a、2b及光学调整层层叠体3a、3b的长尺寸基材投入卷绕式溅射装置，在两面的光学调整层层叠体3a、3b的表面，作为透明导电层4a、4b层叠厚20nm的铟·锡氧化物层(在由氩气98％和氧气2％构成的0.4Pa的气氛中、使用由氧化铟97重量％－氧化锡3重量％构成的烧结体的溅射)。此时，上述的光学调整层、透明导电层以沿着上述抗粘连层的平坦部及隆起部的方式层叠。由此制作出双面透明导电性膜10。
[实施例3]
除了将光学调整层31a中的无机成分的中值粒径设为25nm以外，与实施例2相同地制作出双面透明导电性膜。
[实施例4]
除了将抗粘连层2a、2b的平坦部的厚度设为1.5μm(1500nm)以外，与实施例2相同地制作出双面透明导电性膜。
[实施例5]
除了将抗粘连层2a、2b的平坦部的厚度设为0.5μm(500nm)以外，与实施例2相同地制作出双面透明导电性膜。
[实施例6]
除了将光学调整层31a、31b的厚度设为120nm、将光学调整层32a、32b的厚度设为5nm以外，与实施例2相同地制作出双面透明导电性膜。
[实施例7]
除了将光学调整层31a、31b的厚度设为30nm、将光学调整层32a、32b的厚度设为60nm以外，与实施例2相同地制作出双面透明导电性膜。
[实施例8]
除了将光学调整层31a、31b的厚度设为45nm、将光学调整层32a、32b的厚度设为200nm以外，与实施例2相同地制作出双面透明导电性膜。
[实施例9]
除了将光学调整层31a、31b的厚度设为45nm、将光学调整层32a、32b的厚度设为20nm以外，与实施例2相同地制作出双面透明导电性膜。
[比较例1]
除了将抗粘连层2a、2b的平坦部的厚度设为1.7μm(1700nm)以外，与实施例1相同地制作出双面透明导电性膜。
[比较例2]
除了将光学调整层31a、31b的厚度设为20nm、将光学调整层32a、32b的厚度设为25nm以外，与实施例2相同地制作出双面透明导电性膜。
[比较例3]
除了将光学调整层31a、31b的厚度设为210nm、将光学调整层32a、32b的厚度设为45nm以外，与实施例2相同地制作出双面透明导电性膜。
[比较例4]
除了未形成光学调整层32a、32b以外，与实施例1相同地制作出双面透明导电性膜。
[比较例5]
除了将光学调整层31a、31b的厚度设为115nm、未形成光学调整层32a、32b以外，与实施例1相同地制作出双面透明导电性膜。
[评价]
对实施例1～9及比较例1～5中得到的各个双面透明导电性膜，进行了下述的评价。将各评价结果表示于表1中。
＜光学调整层的折射率＞
准备上述的光学调整层形成用的涂布液，依照JIS K7105测定针对该固化物的折射率，作为光学调整层的折射率。具体而言，在未处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(以下称作PET膜。)上使用棒涂机涂布形成用涂布液，在80℃干燥60分钟。然后，使用高压水银灯照射0.6J/cm2的紫外线，使涂膜固化。将该操作反复进行2次而形成层叠有2层的固化膜的固化物后，从PET膜上剥离固化物。对所得的固化物，使用阿贝折射仪，射入测定光(钠D线)而以25.0±1.0℃测定4次，将测定值的平均作为光学调整层的折射率nD25。
＜各层的厚度＞
抗粘连层、光学调整层及透明导电层的厚度是使用大塚电子(株)制的瞬间多重测光系统“MCPD2000”(商品名)，在膜的宽度方向对等间隔的5点进行测定，以所得的干涉光谱的波形为基础算出平均值而求出。
＜粒子的最频粒径＞
使用流动式粒子图像分析装置(Sysmex公司制、产品名“FPIA－3000S”)，在规定条件下(鞘液：乙酸乙酯、测定模式：HPF测定、测定方式：总粒子数)进行测定。测定试样是将粒子用乙酸乙酯稀释为1.0重量％、并使用超声波清洗机均匀地分散而制备。
＜无机成分的中值粒径＞
将试样用稀释液(丙二醇单甲醚)稀释为固体成分浓度1％，通过用动态光散射式粒径分布测定装置(堀场制作所制LB－500)测定粒度分布而求出。
＜反射率的测定＞
使用日立Hitec公司制的分光光度计“U－4100”(商品名)的积分球测定模式，将向透明导电层的入射角设为2度，以波长5nm间隔测定波长380～780nm的区域的反射率，将这些反射率的平均值作为双面透明导电性膜的反射率。而且，所述测定如图4A所示，在双面透明导电性膜10(样品)的一方的透明导电层4b侧用粘合剂11贴合黑色的丙烯酸类树脂板13而形成遮光层，在另一个面用粘合剂11贴合制作透明导电性膜时的基材膜1，在基本上没有来自样品的背面的反射或来自背面侧的光的入射的状态下进行测定。由此得到反射率1。另外，如图4B所示，以仅将基材膜1用粘合剂11贴合于黑色的丙烯酸类树脂板13的构成再次进行反射率测定，得到反射率2。通过从反射率1中减去反射率2，而得到反射率的值。
＜抗粘连性＞
利用指压使平滑性高的膜(日本Zeon公司制、商品名“ZEONOR膜ZF－16”)向所制作出的双面透明导电性膜的透明导电层表面压接，基于以下的基准评价了粘贴程度。
(评价基准)
◎：没有发生粘贴
〇：虽然一度发生粘贴，然而随着时间的经过，膜发生剥离
×：发生粘贴的膜保持原状而不剥离
＜反射光的散射的评价＞
对所制作出的双面透明导电性膜在透射白色光的同时进行借助光学显微镜(50倍)的目视检查，基于以下的基准判定了反射光的散射的有无。
(评价基准)
◎：完全看不到反射光的散射的水平
○：基本上看不到反射光的散射的水平
△：可以看到反射光的散射，然而是对观察性没有影响的水平
×：反射光的散射的影响强，是损害观察性的水平
[表1]
实施例1～9的双面透明导电性膜中，反射率得到降低，可以获得良好的抗粘连性，另外，可以获得如下的结果，即，反射光的散射受到抑制而使外观也良好，或者至少是对观察性没有影响的水平。
另一方面，比较例1中，虽然反射率及外观良好，然而抗粘连性差。对此可以推测是因为，抗粘连层的粒子的最频粒径d与平坦部的厚度TA之差d－TA过小，因光学调整层的形成而将隆起部掩埋。比较例2中，虽然抗粘连性及外观是没有问题的水平，然而由于光学调整层层叠体的厚度小于60nm而反射特性的控制不充分，因此反射率的值变大。比较例3中，虽然反射率及抗粘连性良好，然而外观不良。对此可以推测是因为，光学调整层的厚度过大而使涂布液向隆起部周边的流延变得明显，隆起部周边的光学设计受到破坏而产生光的散射。比较例4及5中，由于仅形成1层光学调整层，因此无法控制双面透明导电性膜的反射特性，反射率变大。
而且，实施例6及7中，虽然基本上看不到反射光的散射，然而可以看到被推测是起因于光学调整层中的无机成分的尺寸小的突起状的外观不良。虽然它们对观察性没有影响，然而为了避免它们，可以说优选使无机成分的中值粒径小于光学调整层的厚度。
符号的说明
1 基材膜，2a、2b 抗粘连层，3a、3b 光学调整层层叠体，31a、31b、32a、32b 光学调整层，4a、4b 透明导电层，5 粒子，10 双面透明导电性膜，21 平坦部，22 隆起部，O 图案开口部，P 图案形成部，TA 抗粘连层的厚度，TO 光学调整层层叠体的厚度，X 双面图案区域，Y1、Y2 单面图案区域。

Claims (9)

1.一种双面透明导电性膜，
在基材膜的两面分别依次形成光学调整层层叠体和透明导电层，所述光学调整层层叠体中层叠有2层以上的光学调整层，
在各所述光学调整层层叠体中，所述各光学调整层具有不同的折射率，
在所述基材膜与至少一方的所述光学调整层层叠体之间，形成有含有粒子的抗粘连层，
所述抗粘连层具有平坦部、和起因于所述粒子的隆起部，
所述粒子的从最频粒径的值中减去所述抗粘连层的平坦部的厚度的值而得的值大于所述光学调整层层叠体的厚度的值，
所述光学调整层层叠体的厚度分别为60nm以上且250nm以下。
2.根据权利要求1所述的双面透明导电性膜，其中，所述光学调整层是利用湿式涂敷形成的层。
3.根据权利要求1或2所述的双面透明导电性膜，反射率为1.2％以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的双面透明导电性膜，其中，所述粒子的从最频粒径的值中减去所述抗粘连层的平坦部的厚度的值而得的值为200nm以上且1200nm以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的双面透明导电性膜，其中，至少1层的所述光学调整层由含有有机成分和无机成分的有机无机复合材料形成，
所述无机成分的中值粒径的值小于所述光学调整层的厚度的值。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的双面透明导电性膜，其中，所述透明导电层被图案化，具有该透明导电层形成图案的图案形成部、和不存在该透明导电层的图案开口部。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的双面透明导电性膜，其中，所述基材膜含有环烯烃系树脂。
8.一种双面透明导电性膜卷绕体，其将权利要求1～7中任一项所述的双面导电性膜的长尺寸体卷绕为卷筒状。
9.一种触控面板，其具备权利要求1～7中任一项所述的双面透明导电性膜。
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