CN109451735A - 透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及透明导电性膜 - Google Patents

透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及透明导电性膜 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其即使在设置了透明导电层的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性，并且能够抑制识别性的下降。该带光学调整层的硬涂层膜具备由非结晶性聚合物构成的透明基材膜、顺序地层叠在该透明基材膜的一个面上的硬涂层及其上的光学调整层。光学调整层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径比光学调整层的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1与该平均膜厚d1具有以下关系：50nm≤(r1‑d1)≤1900nm。光学调整层的表面的除了由颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm的范围。

Description

透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及透明导电 性膜
技术领域
本发明涉及使用透明膜作为基材的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及透明导电性膜。
背景技术
以前，例如如智能手机、平板终端等那样，作为能够通过触摸显示画面而输入信息的装置，广泛地使用了静电电容式等的触摸屏。在此，作为触摸屏用的透明导电性膜，一般在基材膜上，通过蒸镀、喷溅等工艺方法层叠氧化铟锡(ITO：Indium Tin Oxide)作为透明导电层(例如参照专利文献1)。
另外，作为透明导电性膜的基材，使用了作为双折射大的结晶性聚合物膜的聚对酞酸乙二酯膜，但例如在戴着太阳镜操作移动终端那样的情况下，存在由于偏光太阳镜的使用而产生干涉条纹(uneven interference)的问题，因此提出了使用双折射小的非结晶性聚合物膜作为基材。
但是，通过将非结晶性聚合物膜作为基材的透明导电性膜消除了上述干涉条纹的发生，但非结晶性聚合物膜与结晶性聚合物膜相比，存在膜的表面容易产生伤痕的缺点。另外，非结晶性聚合物膜与结晶性聚合物膜相比，还存在容易划伤的缺点，因此在膜的运输时，存在由于与运输辊等平滑面紧贴而产生皱褶从而划伤的问题。因此，可以考虑在非结晶性聚合物膜的单面或双面设置了硬涂层的透明导电性膜用的硬涂层膜。但在该情况下存在以下的问题：如果将硬涂层膜卷绕为卷状，则重叠的硬涂层膜的基材的背面与硬涂层、或硬涂层之间紧贴的粘连的问题。因此，提出了在非结晶性聚合物膜上设置包含1～5μm的颗粒的硬涂层，使得在硬涂层及其上的ITO层(透明导电层)等的表面形成凹凸来改进耐粘连性(anti-blocking)(例如参照专利文献2、3)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平7-68690号公报
专利文献2：日本特开2013-107349号公报
专利文献3：日本特开2013-243115号公报
发明内容
但是，在成为基材的非结晶性聚合物膜上设置包含1～5μm大小的颗粒的硬涂层使得在ITO层(透明导电层)等的表面形成凹凸的情况下，根据硬涂层、其上的ITO层(透明导电层)等的厚度，在颗粒大小为1～2μm时耐粘连性存在不足之虞，如果颗粒大小大于2μm则识别性存在下降之虞。
本发明提供一种透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及使用了该带光学调整层的硬涂层膜的透明导电性膜，其即使在通过蒸镀、喷溅法等设置了透明导电层的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性，并且能够抑制识别性的下降。
为了达到上述目的，本发明的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜、以及透明导电性膜由以下结构构成。即，
本发明的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜具备由非结晶性聚合物构成的透明基材膜、顺序地层叠在该透明基材膜的至少一个面上的硬涂层及其上的光学调整层。在此，上述光学调整层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径比上述光学调整层的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1与该平均膜厚d1具有以下关系：
50nm≤(r1-d1)≤1900nm。
另外，上述光学调整层的表面的除了由上述颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra处于0.3nm～20nm的范围。在此，在光学调整层由多个层(高折射率层+低折射率层)构成的情况下，平均颗粒直径r1是所添加的颗粒(平均颗粒直径比平均膜厚d1大的颗粒)整体的平均颗粒直径，但平均膜厚d1在向双方的层添加了颗粒时、只向高折射率层添加了颗粒时，是整体的平均膜厚，在只向低折射率层添加了颗粒时，是低折射率层的平均膜厚(以下相同)。
根据该透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，在层叠在硬涂层上的光学调整层上含有多个颗粒。另外，该光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1比光学调整层的平均膜厚d1大，该差处于50nm～1900nm的范围。另外，光学调整层的表面的除了由颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm。这样，通过将光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径与光学调整层的平均膜厚之间的差设为50nm以上，将光学调整层的表面的上述特定部分中的算术平均粗糙度Ra设为0.3nm以上，即使在此后通过蒸镀、喷溅法等在光学调整层上设置透明导电层所得的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性。另外，通过将光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1与光学调整层的平均膜厚的差设为1900nm以下，将光学调整层的表面的上述特定部分中的算术平均粗糙度Ra设为20nm以下，在此后的透明导电性膜中，也能够抑制识别性的下降。
另外，上述光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1处于100nm～2000nm的范围，该平均颗粒直径r1(nm)与该颗粒的个数N(个/mm2)具有以下的关系：
199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)。
在此，颗粒的个数N是指从光学调整层的表面(在光学调整层有多层的情况下，为其最表面)位于50nm以上的高度的颗粒的个数(以下相同)。
另外，上述光学调整层的平均膜厚d1与该光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1具有以下的关系：
(d1/r1)<0.5。
另外，上述硬涂层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径小于上述硬涂层的平均膜厚，这些颗粒偏在于上述硬涂层的表面。
另外，上述硬涂层的平均膜厚d2与该硬涂层所含有的颗粒的平均颗粒直径r2具有以下的关系：
(d2/r2)＞2。
另外，上述光学调整层的表面的凹侧面积对于每661780μm2为200000μm2以下。在此，光学调整层的表面的凹侧面积是指相对于不存在光学调整层所含有的颗粒的部分的光学调整层的平均高度成为3nm以上的凹侧的光学调整层的表面的面积(以下相同)。
另外，也可以将上述硬涂层和上述光学调整层设置在上述透明基材膜的一个面，在该透明基材膜的另一个面侧粘贴保护膜使得形成最外层。
另外，也可以将上述硬涂层和上述光学调整层设置在上述透明基材基材膜的两个面，在该透明基材膜的任意一个面侧粘贴保护膜使得形成最外层。
另外，在上述带光学调整层的硬涂层膜的光学调整层的表面形成透明导电层来形成本发明的透明导电性膜。
发明效果
根据本发明的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，使光学调整层含有颗粒，使该颗粒的平均颗粒直径比光学调整层的平均膜厚大50nm～1900nm的范围，将光学调整层的表面的除了由颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra设为0.3nm～20nm，由此即使在此后设置透明导电层所得的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性，能够抑制识别性的下降。
附图说明
图1是本发明的第一实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。
图2同样地是表示光学调整层的颗粒的平均颗粒直径与个数之间的关系的图。
图3是本发明的第二实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。
图4是本发明的第三实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。
图5是本发明的其他实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。
图6是本发明的另一个实施方式的带光学调整层的硬涂层膜的截面示意图。
附图标记说明
1：带光学调整层的硬涂层膜；2：透明基材膜；3：硬涂层；3a：颗粒；4：光学调整层；4a：颗粒；6：保护膜。
具体实施方式
以下，根据附图说明用于实施本发明的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜以及透明导电性膜的方式。
图1～图2表示本发明的第一实施方式。图中的符号1表示用于透明导电性膜的带光学调整层的硬涂层膜。2表示透明基材膜。3表示硬涂层。4表示光学调整层。
带光学调整层的硬涂层膜1具备透明基材膜2、顺序地层叠在该透明基材膜2的至少一个面(在图示的实施方式中，为一个面)上的硬涂层3和其上的光学调整层4。
在此，光学调整层4含有多个颗粒4a、4a，这些颗粒4a、4a的平均颗粒直径比光学调整层4的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1和该平均膜厚d1具有以下关系：
50nm≤(r1-d1)≤1900nm
即，平均颗粒直径r1比平均膜厚d1大50nm～1900nm。另外，光学调整层4的表面的除了由该光学调整层4所含有的上述颗粒4a形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra处于0.3nm～20nm(更理想的是为0.3nm～10nm)的范围。
因此，在该带光学调整层的硬涂层膜1的光学调整层4的表面形成透明导电层从而形成透明导电性膜(未图示)。
根据该带光学调整层的硬涂层膜1，在层叠在硬涂层3上的光学调整层4上，含有多个颗粒4a、4a。另外，该光学调整层4所含有的颗粒4a的平均颗粒直径r1比光学调整层4的平均膜厚d1大，其差处于50nm～1900nm的范围。另外，光学调整层4的表面的除了由颗粒4a形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm的范围。通过将光学调整层4所含有的颗粒4a的平均颗粒直径r1与光学调整层4的平均膜厚d1的差设为50nm以上，将光学调整层4的表面的上述特定部分中的算术平均粗糙度Ra设为0.3nm以上，即使在此后通过蒸镀、喷溅法等在光学调整层4上设置透明导电层所得的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性。即，通过由颗粒4a形成的凸部、形成特定部分的算术平均粗糙度的凸部4b这2种凸部，不只是在该带光学调整层的硬涂层膜1中，在此后的透明导电性膜中，也会发现耐粘连性。另外，通过将光学调整层4所含有的颗粒4a的平均颗粒直径r1与光学调整层4的平均膜厚d1之间的差设为1900nm以下，将光学调整层4的表面的上述特定部分中的算术平均粗糙度Ra设为20nm以下，在此后的透明导电性膜中，也能够抑制识别性的下降。
这样，使光学调整层4含有颗粒4a，使该颗粒4a的平均颗粒直径比光学调整层4的平均膜厚大50nm～1900nm的范围，将光学调整层4的表面的特定部分中的算术平均粗糙度Ra设为0.3nm～20nm，由此即使在此后设置透明导电层所得的透明导电性膜中，也能够得到充分的耐粘连性，能够抑制识别性的下降。
此外，本发明的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜1能够适合地作为静电电容式的触摸屏用而使用，但用途并不限于上述触摸屏用。
具体地说，透明基材膜2由非结晶性聚合物构成。作为该非结晶性聚合物，理想的是具有脂环构造的非晶质烯烃类，但并不限于此。作为非晶质烯烃类，例如有环烯聚合物、环烯共聚物等。另外，该透明基材膜2的材料也可以是聚碳酸脂、纤维素三乙酸酯、聚酰亚胺等。该透明基材膜2的厚度理想的是10μm～500μm，更理想的是10μm～200μm，进而理想的可以是20μm～100μm。另外，通过在透明基材膜2的表面预先实施易粘接层的涂抹、电晕放电处理等物理处理等预处理，能够提高与层叠的硬涂层3的紧贴性。
对于硬涂层3，为了得到硬涂层性，其平均膜厚理想为0.5μm～10.0μm的范围，更理想的为0.75μm～5.0μm的范围。如果膜厚不满0.5μm，则硬涂层3的硬度有不充分之虞，如果超过10.0μm，则硬涂层3或其上的层不只是有会产生裂缝、变得难以卷绕之虞，透明性等光学特性也有下降之虞。
进而，为了得到光学调整层的上述特定部分的凸部4b(即特定部分中的算术平均粗糙度Ra的上述值)，对于硬涂层3的表面(即与透明基材膜2所在侧相反的面)，算术平均粗糙度Ra理想的是2nm～20nm的范围，更理想的是3nm～10nm。如果硬涂层3的表面的算术平均粗糙度Ra不满2nm，则此后的光学调整层4的上述特定部分中的算术平均粗糙度Ra有不满0.3nm之虞，耐粘连性下降。另外，如果硬涂层3的表面的算术平均粗糙度Ra大于20nm，则透明性等光学特性有下降之虞。
在图示的实施方式中，硬涂层3含有多个颗粒3a、3a，这些颗粒3a、3a的平均颗粒直径小于硬涂层3的平均膜厚。另外，这些颗粒3a、3a偏在于在于硬涂层3的表面(即与透明基材膜2所在侧相反的面)。因此，在该硬涂层3上的光学调整层4的表面形成凸部4b、4b，使得与由偏在于硬涂层3的表面的这些颗粒3a、3a产生的表面的凸部一致，这些凸部4b、4b反映在光学调整层4的表面的特定部分中的算术平均粗糙度Ra的值。
详细地说，用于形成硬涂层3的硬涂层涂抹液包含粘合剂、平均颗粒直径小于硬涂层3的平均膜厚的多个颗粒3a、3a、溶剂。另外，将该硬涂层涂抹液涂抹到透明基材膜2，干燥，通过UV曝光(特别在干燥工序中)使颗粒3a偏在于硬涂层3的表面。通过利用该方法，能够均匀高效地得到硬涂层3的表面的合适的表面粗糙度。
详细地说，硬涂层涂抹液是形成硬涂层3的硬化性组成物，含有颗粒3a、粘合剂，理想的是通过紫外线硬化。硬涂层涂抹液所含有的粘合剂并没有特别限定，但为了在保持耐损伤性的同时赋予柔软性，可以使用氨基甲酸酯丙烯酸酯。硬涂层涂抹液所含有的颗粒3a的平均颗粒直径理想的为50nm～500nm的范围，更理想的为80nm～400nm的范围，进而理想的为120nm～400nm的范围。因此，通过这些颗粒3a、3a在表面形成凸部，但在平均颗粒直径不满50nm时，有在表面无法形成充分的凸部之虞，如果平均颗粒直径超过500nm，则模糊度(haze)有上升之虞。另外，硬涂层3的平均膜厚d2和该硬涂层3所含有的颗粒3a的平均颗粒直径r2理想的是具有(d2/r2)>2的关系，通过设为该范围，能够抑制模糊度(haze)的上升。
作为颗粒3a并没有特定限定，但可以使用各种无机系、有机系的颗粒。作为该颗粒3a，例如有以二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、丙烯树脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物树脂、苯乙烯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、硅树脂、聚乙烯树脂、酚醛树脂等为素材的颗粒等，但并不限于它们，可以组合2种以上。
在作为颗粒3a使用有机系颗粒的情况下，使用丙烯系颗粒通过乳化聚合法所合成的颗粒对于得到希望的平均颗粒直径的颗粒也是理想的。
另外，在作为颗粒3a使用无机系颗粒的情况下，理想的是通过表面处理、表面活性剂等减小了表面自由能量的二氧化硅颗粒。通过这样减小表面自由能量，而容易地使颗粒3a偏在于硬涂层3的表面。
另外，在硬涂层涂抹液中，根据需要也可以在不对性能产生影响的范围内包含分散剂、调平剂、消泡剂、触变剂、防污剂、抗菌剂、阻燃剂、防刮剂、增滑剂等添加剂。
另外，从膜厚的调整等的观点出发，可以使用有机溶剂来稀释硬涂层涂抹液。例如，可以使用乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚(PGM)、二乙二醇单丁醚那样的醇类有机溶剂、甲乙酮(MEK)、甲基异丁基酮(MIBK)、环己酮(anon)、丙酮等那样的酮系有机溶剂、乙酸丁酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯、丙二醇单甲醚乙酸酯等那样的酯系有机溶剂、甲苯、二甲苯等那样的芳香族系有机溶剂、N-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺等那样的酰胺系有机溶剂等。另外，这些示例的有机溶剂既可以单独使用，也可以组合2种以上使用，但其溶解度参数δ理想的是8～11的范围，进而，更理想的是溶解度参数δ处于8～10的范围。
对于涂抹，例如可以利用反向凹版涂布法、直接凹版涂布法、模涂法、棒涂法、线棒(wire bar)涂布法、辊涂法、旋涂法、浸涂法、喷涂法、刮刀涂布法、触涂法等那样的涂布方法、各种印刷方法，但并不限于这些方法。
对于干燥工序，如果干燥过快，则凝聚/向表面的偏在不充分，因此理想的是在50℃～120℃的温度下进行10秒～180秒左右的干燥，特别理想的是干燥温度为50℃～80℃。干燥时间越长越好，但如果考虑到生产性，更理想的是为10秒～120秒左右。
对于UV曝光工序，可以在干燥后，向硬涂层3照射紫外线使其硬化，由此将颗粒3a的凝聚体固定在硬涂层3的表面一侧。对于紫外线的照射，可以使用高压汞灯、无极丝(微波方式)灯、氙灯、金属卤化物灯、其他任意的紫外线照射装置，也可以根据需要在氮等惰性气体氛围中进行紫外线照射。另外，紫外线的照射量可以是50～800mJ/cm2的范围，理想的是100～300mJ/cm2的范围。
由于透明导电性膜的存在制图后的透明导电层的部分与不存在的部分的反射率的不同，为了缓和能够目视到该图案的现象(即显纹)，而将光学调整层4层叠到硬涂层3上。为了缓和该显纹，可以将光学调整层4的折射率设为透明导电层的折射率与硬涂层3的折射率之间，为此，理想的是光学调整层4的折射率处于1.55～1.80的范围。另外，该光学调整层4的平均膜厚根据透明基材膜2、硬涂层3、光学调整层4的折射率而不同，但为5nm～500nm的范围，理想的是调整为存在透明导电层的部分与不存在的部分的反射率的差尽量小的厚度。如果光学调整层4的膜厚不满5nm，则颗粒4a有脱落之虞，在大于500nm的膜厚时，存在在对透明导电层、金属层等进行制膜后无法得到充分的耐粘连性之虞。
光学调整层4所含有的颗粒4a的平均颗粒直径理想的是100nm～2000nm的范围，更理想的是200nm～1500nm，进而理想的是400nm～1000nm。通过将颗粒4a的平均颗粒直径设为该范围，在通过蒸镀、喷溅法对透明导电层、金属层进行制膜后，也能够使其具有充分的耐粘连性，进而能够抑制识别性的下降。如果颗粒4a的平均颗粒直径不满100nm，则在通过蒸镀、喷溅法对透明导电层、金属层进行制膜后，有可能无法得到充分的耐粘连性，如果颗粒4a的平均颗粒直径大于2000nm，则识别性有下降之虞。
另外，光学调整层4的平均膜厚d1与该光学调整层4所含有的颗粒4a的平均颗粒直径r1之间的关系理想的为(d1/r1)<0.5。通过设为该范围，即使减小颗粒4a的平均颗粒直径r1，也能够制作充分高度的凸部。另外，可以根据光学调整层4的膜厚、透明导电层的膜厚、金属层的膜厚调整颗粒4a的平均颗粒直径。
在此，当设为(d1/r1)<0.5时，颗粒4a的一半以上成为凸部，有由于摩擦等造成颗粒4a的脱落之虞，但由于存在光学调整层4的上述特定部分的凸部4b，所以易滑性提高，能够防止因摩擦等造成的颗粒4a的脱落。
颗粒4a的添加量根据颗粒4a的平均颗粒直径而最优量不同，理想的是该平均颗粒直径r1(nm)与该颗粒4a的个数N(个/mm2)具有199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)的关系(在图2中用右上的斜线表示该N的范围)。另外，更理想的是具有480.48exp(-0.002r1)≤N≤2277exp(-0.002r1)的关系(在图2中用右下的斜线表示该N的范围)。
另外，在不存在该光学调整层4所含有的颗粒4a的部分的光学调整层4的表面产生大的起伏的情况下，在设置了ITO等导电膜时，有时难以导通。因此，相对于上述不存在颗粒4a的部分的光学调整层4的平均高度成为3nm以上的凹侧的光学调整层4的表面的面积(光学调整层4的表面的凹侧面积)理想的是在每661780μm2中为200000μm2以下，更理想的是150000μm2以下。即，不存在颗粒4a的部分的光学调整层4的表面完全平坦对于透明导电膜的导通来说是理想的，但存在耐粘连性的问题，因此可以通过上述凸部4b来解决该相反的问题。
通过在硬涂层3的表面涂抹光学调整层涂抹液，并进行干燥、UV曝光，而得到该光学调整层4。作为光学调整层涂抹液，可以使用调整了折射率后的公知的涂抹材料(例如由Aica工业株式会社(Aica Kogyo Co.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-816-3L(产品名)”、由Toyochem(Toyochem Co.，Ltd.)制造的“LIODURAS TYZ-A15-S(产品名称)”)。为了得到1.55～1.80的高折射率，也可以包含金属氧化颗粒。作为该金属氧化颗粒，例如有钛、锆、锡、锌、硅、铌、铝、铬、镁、锗、镓、锑、铂等的氧化物，但特别理想的是氧化锆、氧化钛。另外，也可以组合多种它们的氧化物。
作为光学调整层4所含有的颗粒4a的材料，可以使用无机系、有机系的多分散、单分散的公知的颗粒(例如综研化学株式会社(Soken Chemical&Engineering Co.Ltd.)制造的“MX-80H3wT(产品名称)”)。
另外，根据需要，也可以在不影响性能的范围内，在光学调整层涂抹液中包含分散剂、调平剂、消泡剂、触变剂、防污剂、抗菌剂、阻燃剂、防刮剂、增滑剂等添加剂。为了减少光学调整层4的表面的凹侧面积的目的，特别理想的是调平剂调整表面张力低下能力。
另外，从膜厚的调整等的观点出发，也可以使用有机溶剂稀释光学调整层涂抹液。例如，可以使用乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚(PGM)、二乙二醇单丁醚那样的醇类有机溶剂、甲乙酮(MEK)、甲基异丁基酮(MIBK)、环己酮(anon)、丙酮等那样的酮系有机溶剂、乙酸丁酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯、丙二醇单甲醚乙酸酯等那样的酯系有机溶剂、甲苯、二甲苯等那样的芳香族系有机溶剂、N-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺等那样的酰胺系有机溶剂等。另外，这些示例的有机溶剂既可以单独使用，也可以组合2种以上使用，但其溶解度参数δ理想的是8～11的范围，进而，更理想的是溶解度参数δ处于8～10的范围。所使用的有机溶剂的表面张力理想的是20～40dyne/cm2的范围，为了减少光学调整层4的表面的凹侧面积，理想的是挑选光学调整层涂抹液的有机溶剂种类，使得在因干燥工序引起的涂膜的浓度上升时，与各浓度对应的表面张力的差减少。
对于涂抹，例如可以利用反向凹版涂布法、直接凹版涂布法、模涂法、棒涂法、线棒涂布法、辊涂法、旋涂法、浸涂法、喷涂法、刮刀涂布法、触涂法等那样的涂布方法、各种印刷方法，但并不限于这些方法。
对于干燥工序，从生产性的观点出发，理想的是在50℃～150℃的温度下进行10秒～180秒左右。如果是不影响性能的范围，则在温度高时硬化前的涂膜面的粘度下降，迅速地调平(平滑化)，光学调整层4的表面的凹侧面积减少，因此更理想的是将温度设为80℃～150℃。
对于UV曝光工序，可以在干燥后，向光学调整层4照射紫外线使其硬化，由此能够使膜固定。对于紫外线的照射，可以使用高压汞灯、无极丝(微波方式)灯、氙灯、金属卤化物灯、其他任意的紫外线照射装置，也可以根据需要在氮等惰性气体氛围中进行紫外线照射。另外，紫外线的照射量可以是50～800mJ/cm2的范围，理想的是100～300mJ/cm2的范围。
图3表示本发明的第二实施方式。本实施方式与第一实施方式的不同点在于：在透明基材膜2的另一个面也设置硬涂层，但其他相同，以下对相同的部分附加相同的符号，主要说明不同的部分。
该带光学调整层的硬涂层膜1在透明基材膜2的另一个面(即与设置了硬涂层3和光学调整层4的一个面相反的面)具有第二硬涂层5。该第二硬涂层5含有多个颗粒5a、5a，这些颗粒5a、5a偏在于第二硬涂层5的表面(即与透明基材膜2所在侧相反的面)。由此，不只是带光学调整层的硬涂层膜1的一个面，对另一个面也能够赋予耐伤性和耐粘连性。因此，即使作为透明基材膜2使用具有容易划伤并且表面容易产生伤痕这样的缺点的非结晶性聚合物膜，也能够得到具有充分的硬涂层性和充分的耐粘连性的带光学调整层的硬涂层膜。此处，为了不使识别性下降，理想的是使多个颗粒5a、5a的平均颗粒直径比第二硬涂层5的平均膜厚小，但为了进一步赋予易滑性、膜的可处理性的目的，也可以根据需要，使颗粒5a的平均颗粒直径比第二硬涂层5的平均膜厚大。
图4表示本发明的第三实施方式。本实施方式与第二实施方式的不同点在于：设置了保护膜，但其他相同，以下对相同的部分附加相同的符号，主要说明不同的部分。
在该带光学调整层的硬涂层膜1中，硬涂层3和光学调整层4被设置在透明基材膜2的一个面，在该透明基材膜2的另一个面侧，粘贴有保护膜6以便形成最外层。详细地说，该带光学调整层的硬涂层膜1将第二实施方式的带光学调整层的硬涂层膜1作为带光学调整层的硬涂层膜本体1a，利用粘贴层6b，将由保护膜用透明基材膜6a和该粘贴层6b构成的保护膜6粘贴到该带光学调整层的硬涂层膜本体1a的作为透明基材膜2的另一个面侧的第二硬涂层5的表面。
通过这样对带光学调整层的硬涂层膜1设置保护膜6，即使在透明基材膜2非常薄的情况等下，也能够改进工作性，还能够防止污染等。
形成保护膜6的材料并没有特别限定，但从热处理工序中和热处理工序后的卷曲的控制这样的观点出发，加热收缩率和线膨胀系数与带光学调整层的硬涂层膜本体1a相近的材料是理想的。
此外，本发明并不限于上述实施方式，能够进行其他各种变更。例如，对于光学调整层4所含有的多个颗粒4a、4a，其直径也可以是不同的，可以如图5所示那样不同。对于硬涂层3所含有的颗粒3a、3a，也是同样的。
另外，光学调整层4也可以不是一层，可以由高折射率层、低折射率层等的2层以上的多层构成。在该情况下，位于硬涂层3侧的光学调整层的折射率为1.55～1.80的高折射率，层叠透明导电层一侧的光学调整层的折射率为1.50以下的低折射率，由此能够适合地缓和显纹。另外，光学调整层所含有的颗粒4a可以包含在任意层中，另外也可以包含在多个层中，但理想的是包含在离透明基材膜2最远一侧的光学调整层。
另外，为了使光学调整层4的表面的特定部分中的算术平均粗糙度Ra成为规定的范围，使硬涂层3含有多个颗粒3a、3a，在硬涂层3的表面(与透明基材膜2所在侧相反的面)设置凸部，使光学调整层的表面反映该凸部，但作为在该硬涂层3的表面设置凸部的方法，不只是使用颗粒3a，也可以采用通过对2种以上的材料进行相分离(phase seperation)来形成凸部的方法、通过压纹加工形成凸部的方法等(参照图6所示的凸部3b)。
另外，带光学调整层的硬涂层膜1在透明基材膜2的一个面设置硬涂层3和光学调整层4，但也可以在透明基材膜2的两个面设置硬涂层3和光学调整层4。另外，在该情况下，也可以在透明基材膜2的任意一个面侧(即在光学调整层4的任意一个表面)粘贴保护膜以便形成最外层。
另外，在图示的第二和第三实施方式中，第二硬涂层5含有颗粒5a，但也可以不含有该颗粒5a。
实施例
以下，根据实施例更具体地说明本发明。
<实施例1>
透明基材膜2使用了日本Zeon株式会社(Zeon Corporation)制造的“ZeonorFilmZF16-100(产品名称)”。在对该透明基材膜2的一个面实施了电晕处理后，在该一个面上层叠硬涂层3，制作硬涂层膜。进而，在硬涂层膜的硬涂层3的表面层叠光学调整层4，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(硬涂层涂抹液(1a)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合DIC株式会社(DIC corporation)制造的“PC16-2291(产品名称)”、乙酸丁酯、甲基乙基酮(MEK)，调制硬涂层涂抹液(1a)。
[表1]
硬涂层涂抹液(1a)的配合
PC-16-2291 乙酸丁酯 MEK
重量 6.25g重 1.88g重 1.88g重
(硬涂层膜(1A)的制作)
使用5号的线棒，将上述硬涂层涂抹液(1a)涂抹到透明基材膜2的进行了电晕处理的面，然后在80℃的温度下，花1.0分钟进行干燥，接着使用高压汞灯，在光量200mJ/cm2的条件下照射紫外线，制作硬涂层膜(1A)。
(光学调整层涂抹液(1b)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由Aica工业株式会社(Aica KogyoCo.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-816-3L(产品名称)”、由综研化学株式会社(SokenChemical&Engineering Co.Ltd.)制造的“CHEMISNOW MX-80H3wT(产品名称)”、甲基乙基酮(MEK)，调制光学调整层涂抹液(1b)。
[表2]
光学调整层涂抹液(1b)的配合
Z-816-3L MX-80H3wT MEK
重量 1.78g重 0.20mg重 8.22g重
(带光学调整层的硬涂层膜(1B)的制作)
使用3号的线棒向硬涂层膜(1A)的硬涂层3的表面涂抹光学调整层涂抹液(1b)，然后在80℃的温度下花1.0分钟进行干燥，接着，将膜放入在上面设置了透过紫外线的窗口的容器中，在容器内放置氮气氛3分钟。然后，使用高压汞灯，在光量200mJ/cm2的条件下照射紫外线，制作带光学调整层的硬涂层膜(1B)。
<实施例2>
变更实施例1的光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(光学调整层涂抹液(2b)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由Aica工业株式会社(Aica KogyoCo.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-816-3L(产品名称)”、由综研化学株式会社(SokenChemical&Engineering Co.,Ltd.)制造的“CHEMISNOW MX-40(产品名称)”、甲基乙基酮(MEK)，调制光学调整层涂抹液(2b)。
[表3]
光学调整层涂抹液(2b)的配合
Z-816-3L MX-40 MEK
重量 1.78g重 0.25mg重 8.22g重
(带光学调整层的硬涂层膜(2B)的制作)
使用光学调整层涂抹液(2b)，其他与实施例1完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(2B)。
<实施例3>
变更实施例1的光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(光学调整层涂抹液(3b)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由Aica工业株式会社(Aica KogyoCo.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-816-3L(产品名称)”、由综研化学株式会社(SokenChemical&Engineering Co.,Ltd.)制造的“CHEMISNOW MX-150(产品名称)”、甲基乙基酮(MEK)，调制光学调整层涂抹液(3b)。
[表4]
光学调整层涂抹液(3b)的配合
Z-816-3L MX-150 MEK
重量 1.78g重 0.32mg重 8.22g重
(带光学调整层的硬涂层膜(3B)的制作)
使用光学调整层涂抹液(3b)，其他与实施例1完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(3B)。
<实施例4>
变更实施例1的硬涂层3的涂抹液，制作硬涂层膜。进而，在硬涂层膜的硬涂层3的表面层叠与实施例1相同的光学调整层4，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(硬涂层涂抹液(4a)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合DIC株式会社(DIC Corporation)制造的硬涂层剂“PC16-2291(产品名称)”、“PC-16-9081(产品名称)”、乙酸丁酯、甲基乙基酮(MEK)，调制硬涂层涂抹液(4a)。
[表5]
硬涂层涂抹液(4a)的配合
PC-16-2291 PC-16-9081 乙酸丁酯 MEK
重量 3.12g重 3.12g重 1.88g重 1.88g重
(硬涂层膜(4A)的制作)
使用硬涂层涂抹液(4a)，其他与实施例1的硬涂层膜(1A)的制作完全相同地，制作硬涂层膜(4A)。
(带光学调整层的硬涂层膜(4B)的制作)
使用硬涂层膜(4A)，其他与实施例1完全相同地层叠光学调整层4，制作带光学调整层的硬涂层膜(4B)。
<实施例5>
变更实施例4的光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(带光学调整层的硬涂层膜(5B)的制作)
使用光学调整层涂抹液(2b)，其他与实施例4完全相同地，制作带光学调整层的硬涂层膜(5B)。
<实施例6>
变更实施例4的光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(带光学调整层的硬涂层膜(6B)的制作)
使用光学调整层涂抹液(3b)，其他与实施例4完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(6B)。
<实施例7>
变更实施例1的硬涂层3的涂抹液，制作硬涂层膜。进而，在硬涂层膜的硬涂层3的表面层叠与实施例1相同的光学调整层4，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(硬涂层涂抹液(7a)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由Aica工业株式会社(Aica KogyoCo.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-739L(产品名称)”、由东丽Dow Corning株式会社(DowCorning Toray Co.,Ltd.)制造的“8019ADDITIVE(产品名称)”、甲基异丁基酮(MIBK)，调制硬涂层涂抹液(7a)。
[表6]
硬涂层涂抹液(7a)的配合
Z-739L 8019ADDITIVE MIBK
重量 10.36g重 4.1mg重 4.64g重
(硬涂层膜(7A)的制作)
使用硬涂层涂抹液(7a)，其他与实施例1的硬涂层膜(1A)的制作完全相同地制作硬涂层膜(7A)。
(带光学调整层的硬涂层膜(7B)的制作)
使用硬涂层膜(7A)，其他与实施例1完全相同地层叠光学调整层4，制作带光学调整层的硬涂层膜(7B)。
<实施例8>
按照与实施例1相同的步骤，在实施例1的带光学调整层的硬涂层膜(1B)的透明基材膜2的面(另一个面)形成硬涂层3和光学调整层4，制作带双面光学调整层的硬涂层膜(8B)。
<实施例9>
变更实施例1的光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(光学调整层涂抹液(9b)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由Aica工业株式会社(Aica KogyoCo.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-816-3L(产品名称)”、由综研化学株式会社(SokenChemical&Engineering Co.,Ltd.)制造的“CHEMISNOW MX-80H3wT(产品名称)”、甲基乙基酮(MEK)，调制光学调整层涂抹液(9b)。
[表7]
光学调整层涂抹液(9b)的配合
Z-816-3L MX-80H3wT MEK
重量 1.78g重 0.07mg重 8.22g重
(带光学调整层的硬涂层膜(9B)的制作)
使用光学调整层涂抹液(9b)，其他与实施例1完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(9B)。
<实施例10>
变更实施例1的光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(光学调整层涂抹液(10b)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由Aica工业株式会社(Aica KogyoCo.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-816-3L(产品名称)”、由综研化学株式会社(SokenChemical&Engineering Co.,Ltd.)制造的“CHEMISNOW MX-80H3wT(产品名称)”、甲基乙基酮(MEK)，调制光学调整层涂抹液(10b)。
[表8]
光学调整层涂抹液(10b)的配合
Z-816-3L MX-80H3wT MEK
重量 1.78g重 0.44mg重 8.22g重
(带光学调整层的硬涂层膜(10B)的制作)
使用光学调整层涂抹液(10b)，其他与实施例1完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(10B)。
<实施例11>
变更实施例1的硬涂层3的涂抹液和线棒的次序，制作硬涂层膜。进而，在硬涂层膜的硬涂层3的表面层叠与实施例1相同的光学调整层4，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(硬涂层涂抹液(11a)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由日本涂料汽车涂层株式会社(NipponPaint Automotive Coatings Co.,Ltd.)制造的“UT-1147/P55(产品名称)”、乙酸丁酯、甲基异丁基酮(MIBK)，调制硬涂层涂抹液(11a)。
[表9]
硬涂层涂抹液(11a)的配合
UT-1147/P55 乙酸丁酯 MIBK
重量 9.00g重 2.25mg重 0.75g重
(硬涂层膜(11A)的制作)
使用硬涂层涂抹液(11a)，对该涂抹液的涂抹使用7号的线棒，其他与实施例1的硬涂层膜(1A)的制作完全相同地制作硬涂层膜(11A)。
(带光学调整层的硬涂层膜(11B)的制作)
使用硬涂层膜(11A)，其他与实施例1完全相同地层叠光学调整层4，制作带光学调整层的硬涂层膜(11B)。
<实施例12>
变更实施例1的硬涂层3的涂抹液和光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(硬涂层涂抹液(12a)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由Aica工业株式会社(Aica KogyoCo.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-735L-35(产品名称)”、丙二醇单甲醚(PGM)，调制硬涂层涂抹液(12a)。
[表10]
硬涂层涂抹液(12a)的配合
Z-735L-35 PGM
重量 10.36g重 4.64g重
(硬涂层膜(12A)的制作)
使用硬涂层涂抹液(12a)，其他与实施例1的硬涂层膜(1A)的制作完全相同地制作硬涂层膜(12A)。
(光学调整层涂抹液(12b)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由Aica工业株式会社(Aica KogyoCo.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-816-3L改(产品名称)”、由综研化学株式会社(SokenChemical&Engineering Co.,Ltd.)制造的“CHEMISNOW MX-80H3wT(产品名称)”、丙二醇单甲醚(PGM)、由BYK日本株式会社(BYK Japan KK)制造的“BYK-UV3570(产品名称)”，调制光学调整层涂抹液(12b)。
[表11]
光学调整层涂抹液(12b)的配合
Z-816-3L改 MX-80H3wT PGM BYK-UV3570
重量 1.78g重 0.44mg重 8.22g重 9mg重
(带光学调整层的硬涂层膜(12B)的制作)
使用光学调整层涂抹液(12b)，其他与实施例1完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(12B)。
<实施例13>
变更实施例12的光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(光学调整层涂抹液(13b)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由东洋化学株式会社(Toyochem Co.，Ltd.)制造的“LIODURAS TYZ-A15-S(产品名称)”、由综研化学株式会社(Soken Chemical&Engineering Co.,Ltd.)制造的“CHEMISNOW MX-80H3wT(产品名称)”、丙二醇单甲醚(PGM)，调制光学调整层涂抹液(13b)。
[表12]
光学调整层涂抹液(13b)的配合
TYZ-A15-S MX-80H3wT PGM
重量 1.48g重 0.55mg重 8.22g重
(带光学调整层的硬涂层膜(13B)的制作)
使用光学调整层涂抹液(13b)，其他与实施例12完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(13B)。
<实施例14>
变更实施例13的光学调整层4的干燥条件，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(带光学调整层的硬涂层膜(14B)的制作)
将涂抹光学调整层后的干燥温度设为100℃，其他与实施例13完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(14B)。
<实施例15>
变更实施例14的光学调整层4的干燥条件，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(带光学调整层的硬涂层膜(15B)的制作)
将涂抹光学调整层后的干燥温度设为130℃，其他与实施例14完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(15B)。
<实施例16>
变更实施例15的光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(光学调整层涂抹液(16b)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由东洋化学株式会社(Toyochem Co.，Ltd.)制造的“LIODURAS TYZ-A15-S(产品名称)”、由综研化学株式会社(Soken Chemical&Engineering Co.,Ltd.)制造的“CHEMISNOW MX-80H3wT(产品名称)”、丙二醇单甲醚(PGM)，调制光学调整层涂抹液(16b)。
[表13]
光学调整层涂抹液(16b)的配合
TYZ-A15-S MX-80H3wT PGM
重量 1.48g重 0.20mg重 8.22g重
(带光学调整层的硬涂层膜(16B)的制作)
使用光学调整层涂抹液(16b)，其他与实施例15完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(16B)。
<比较例1>
变更实施例1的光学调整层4的涂抹液，制作带光学调整层的硬涂层膜。
(光学调整层涂抹液(Xb)的调制)
按照以下的配合比在一次性实验杯中混合由Aica工业株式会社(Aica KogyoCo.，Ltd.)制造的“AICAAITRON Z-816-3L(产品名称)”、甲基乙基酮(MEK)，调制光学调整层涂抹液(Xb)。
[表14]
光学调整层涂抹液(Xb)的配合
Z-816-3L MEK
重量 1.78g重 8.22g重
(带光学调整层的硬涂层膜(XB)的制作)
使用光学调整层涂抹液(Xb)，其他与实施例1完全相同地制作带光学调整层的硬涂层膜(XB)。
<实施例17>
在实施例1的带光学调整层的硬涂层膜(1B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，制作透明导电性膜(17)。
<实施例18>
在实施例2的带光学调整层的硬涂层膜(2B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，制作透明导电性膜(18)。
<实施例19>
在实施例3的带光学调整层的硬涂层膜(2B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，制作透明导电性膜(19)。
<实施例20>
在实施例4的带光学调整层的硬涂层膜(4B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，制作透明导电性膜(20)。
<实施例21>
在实施例5的带光学调整层的硬涂层膜(5B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，制作透明导电性膜(21)。
<实施例22>
在实施例6的带光学调整层的硬涂层膜(6B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，制作透明导电性膜(22)。
<实施例23>
在实施例13的带光学调整层的硬涂层膜(13B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，在145℃的烘箱下进行1小时的退火(annealing)，制作透明导电性膜(23)。
<实施例24>
在实施例14的带光学调整层的硬涂层膜(14B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，在145℃的烘箱下进行1小时的退火(annealing)，制作透明导电性膜(24)。
<实施例25>
在实施例15的带光学调整层的硬涂层膜(15B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，在145℃的烘箱下进行1小时的退火(annealing)，制作透明导电性膜(25)。
<实施例26>
在实施例16的带光学调整层的硬涂层膜(16B)的光学调整层4侧使用ITO靶，进行21nm的喷溅蒸镀，在145℃的烘箱下进行1小时的退火(annealing)，制作透明导电性膜(26)。
<实施例27>
在实施例23的透明导电性膜(23)的ITO层侧使用铜靶，进行200nm的喷溅蒸镀，制作带金属层的透明导电性膜(27)。
<实施例28>
在实施例26的透明导电性膜(26)的ITO层侧使用铜靶，进行200nm的喷溅蒸镀，制作带金属层的透明导电性膜(28)。
<带光学调整层的硬涂层膜的评价结果>
在以下的表15和表16中表示带光学调整层的硬涂层膜的评价结果。
[表15]
注(*1)在实施例中，光学调整层的表面的算术平均粗糙度表示因光学调整层所含有的颗粒造成的除了凸部以外的特定部分中的50μm×50μm的范围的算术平均粗糙度。
[表16]
注(*1)在实施例中，光学调整层的表面的算术平均粗糙度表示因光学调整层所含有的颗粒造成的除了凸部以外的特定部分中的50μm×50μm的范围的算术平均粗糙度。在比较例中，表示50μm×50μm的范围的算术平均粗糙度。
如从表15和表16所了解的那样，实施例1～16中的带光学调整层的硬涂层膜在光学调整层4中包含平均颗粒直径比光学调整层4的平均膜厚大的颗粒4a，光学调整层4的特定部分的算术平均粗糙度Ra是0.30nm～10nm，模糊度(Hz)低，静摩擦系数比1低，也没有颗粒脱离。该带光学调整层的硬涂层膜的识别性好，在光学调整层的表面设置了透明导电层的情况下，也能够得到充分的耐粘连性。
另外，比较例子1的带光学调整层的硬涂层膜的识别性也好，但没有向光学调整层4添加颗粒，静摩擦系数超过了1。因此，在表面设置了透明导电层的情况下，无法得到充分的耐粘连性。
<透明导性电膜的评价结果>
在以下的表17和表18中表示透明导电性膜的评价结果。
[表17]
[表18]
注(*1)在实施例中，光学调整层的表面的算术平均粗糙度表示因光学调整层所含有的颗粒造成的除了凸部以外的特定部分中的50μm×50μm的范围的算术平均粗糙度。
在表17和表18中，实施例17～26的透明导电性膜使用了实施例1～6和实施例13～16的带光学调整层的硬涂层膜，但模糊度(H2)低，静摩擦系数低。该透明导电性膜识别性好，即使带有透明导电层，也具有充分的耐粘连性。另外，对于实施例23～26的透明导电性膜，光学调整层的表面的凹侧面积在每661780μm2中是200000μm2以下，电阻值也低。
<带金属层的透明导电性膜的评价结果>
在以下的表19中表示带金属层的透明导电性膜的评价结果。
[表19]
注(*1)在实施例中，光学调整层的表面的算术平均粗糙度表示因光学调整层所含有的颗粒造成的除了凸部以外的特定部分中的50μm×50μm的范围的算术平均粗糙度。
在表19中，实施例27～28的带金属层的透明导电性膜使用了实施例23和实施例26的透明导电性膜，但即使附加成为电极的金属层，也具有充分的耐粘连性。
<评价方法>
(Hz)
使用由日本电色工业株式会社(Nippon Denshoku Industries Co.,Ltd.)制造的“Haze Meter NDH2000(产品名称)”，通过JIS-K7136的方法进行测定。
(识别性)
目视观察三波长荧光灯的透射光，将几乎看不到颗粒的情况设为○，将能够目视到颗粒但无法清楚地看到一个一个的颗粒的情况设为△，将能够清楚地看到一个一个的颗粒的情况设为×。
(耐粘连性)
使用由株式会社岛津制作所(Shimadzu Corporation)制造的“AUTOGRAPH AG-ISMS(AG-1kNIS)(产品名称)”，向摩擦方向60mm×50mm的面积施加4.4kg重的垂直荷重，测定试件的测定面相互之间的静摩擦系数。静摩擦系数大于等于1时设为×，静摩擦系数小于1时设为○。
(颗粒脱离)
使用由TESTER产业株式会社(Tester Sangyo Co.,Ltd.)制造的“AB-301COLORFASTNESS RUBBING TESTER(产品名称)”，使用法兰绒布(16号双丝法兰绒WKF2254)以500g的荷重擦拭光学调整层的面500次，然后在表面使用由株式会社Keyence(Keyencecorporation)制造的“Microscope VHX-1000(产品名称)”，确认有无颗粒4a的脱离。将没有颗粒4a的脱离的情况设为○，将有颗粒4a的脱离的情况设为×。
(硬涂层的平均膜厚)
使用由Filmetrics株式会社制造的“Filmetrics F20膜厚测定系统(产品名称)”，测定硬涂层3的平均膜厚。
(光学调整层的平均膜厚)
按照以下的步骤测定光学调整层4的膜厚。
(1)使用由株式会社岛津制作所(Shimadzu Corporation)制造的“UV3600(产品名称)”，测定波长380～800nm下的反射率，得到波形。
(2)向光学模拟软件输入光学调整层4的膜厚以外的层叠膜的信息“结构、透明基材膜2的折射率(为1.52)和厚度、硬涂层3的折射率(为1.50)和平均膜厚(上述硬涂层3的平均膜厚的测定值)、光学调整层的折射率(实施例13～16为1.60。其他实施例为1.62)”。
(3)将对光学模拟的光学调整层输入任意的膜厚而得到的波形与在(1)中得到的波形一致时的膜厚值作为光学调整层的平均膜厚。
即，在使用由株式会社岛津制作所(Shimadzu Corporation)制造的“UV3600(产品名称)”得到干涉波形后，将测定出的干涉波形与模拟的计算波形一致的膜厚值作为光学调整层的平均膜厚。
(硬涂层所含有的颗粒的平均颗粒直径)
将依照以国际标准化组织标准ISO 13320为基础的日本工业标准JIS Z8825的通过激光折射/散射法得到的体积基准的颗粒直径分布的算术平均值作为颗粒的平均颗粒直径。
(光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径)
将依照以国际标准化组织标准ISO 13320为基础的日本工业标准JIS Z8825的通过激光折射/散射法得到的体积基准的颗粒直径分布的算术平均值作为颗粒的平均颗粒直径。
(光学调整层的特定部分的算术平均粗糙度Ra)
使用由三菱化学系统株式会社(Mitsubishi Chemical Systems，Inc.)(旧公司名：株式会社菱化系统(Ryoka Systems Inc.))制造的“非接触表面/层截面形状测量系统VertScan2.0(型号：R5300GL-L-A100-AC)(产品名称)”，将切割为50mm×50mm的采样放置到载物台上，用10倍镜头进行表面形状的测定。然后，观察测定数据，计算在除了由光学调整层4所含有的颗粒4a形成的凸部以外的特定部分中50μm×50μm的范围的算术平均粗糙度Ra。
(光学调整层含有颗粒的个数N)
使用由三菱化学系统株式会社(Mitsubishi Chemical Systems，Inc.)(旧公司名：株式会社菱化系统(Ryoka Systems Inc.))制造的“非接触表面/层截面形状测量系统VertScan2.0(型号：R5300GL-L-A100-AC)(产品名称)”，将切割为50mm×50mm的采样放置到载物台上，用10倍镜头进行表面形状的测定。然后，执行测定数据的颗粒分析，计数1mm×1mm中的相对于光学调整层4的表面有50nm以上的高度的颗粒个数。
(光学调整层的表面的凹侧面积)
使用由三菱化学系统株式会社(Mitsubishi Chemical Systems，Inc.)(旧公司名：株式会社菱化系统(Ryoka Systems Inc.))制造的“非接触表面/层截面形状测量系统VertScan2.0(型号：R5300GL-L-A100-AC)(产品名称)”，将切割为50mm×50mm的采样放置到载物台上，用5倍镜头进行表面形状的测定。然后，执行测定数据的负荷分析，按照每661780μm2的值，计算不存在颗粒4a的部分的相对于光学调整层4的平均高度为3nm以上的凹侧的面积(光学调整层的表面的凹侧面积)。
(透明导电性膜的电阻值)
使用由株式会社三菱化工分析技术(Mitsubishi Chemical Analytech Co.，Ltd.)(旧公司名：株式会社三菱化学分析技术)制造的“Loresta-GP(型号：MCP-T610)(产品名称)”进行测定。
以上所示的带光学调整层的硬涂层膜和透明导电性膜适合用于静电电容式的触摸屏等。

Claims (9)

1.一种透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，具备由非结晶性聚合物构成的透明基材膜、顺序地层叠在该透明基材膜的至少一个面上的硬涂层及其上的光学调整层，其中：
上述光学调整层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径比上述光学调整层的平均膜厚大，该平均颗粒直径r1与该平均膜厚d1具有以下关系：
50nm≤(r1-d1)≤1900nm，
另外，上述光学调整层的表面的除了由上述颗粒形成的凸部以外的特定部分中的算术平均粗糙度Ra为0.3nm～20nm的范围。
2.根据权利要求1所述的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其中：
上述光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1为100nm～2000nm的范围，该平均颗粒直径r1(nm)与该颗粒的个数N(个/mm2)具有以下的关系：
199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)。
3.根据权利要求1或2所述的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其中：
上述光学调整层的平均膜厚d1与该光学调整层所含有的颗粒的平均颗粒直径r1具有以下的关系：
(d1/r1)<0.5。
4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其中：上述硬涂层含有多个颗粒，这些颗粒的平均颗粒直径小于上述硬涂层的平均膜厚，这些颗粒偏在于上述硬涂层的表面。
5.根据权利要求4所述的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其中：
上述硬涂层的平均膜厚d2与该硬涂层所含有的颗粒的平均颗粒直径r2具有以下的关系：
(d2/r2)＞2。
6.根据权利要求1～5中的任意一项所述的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其中：上述光学调整层的表面的凹侧面积对于每661780μm2为200000μm2以下。
7.根据权利要求1～6中的任意一项所述的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其中：将上述硬涂层和上述光学调整层设置在上述透明基材膜的一个面，在该透明基材膜的另一个面侧粘贴保护膜以便形成最外层。
8.根据权利要求1～6中的任意一项所述的透明导电性膜用的带光学调整层的硬涂层膜，其中：将上述硬涂层和上述光学调整层设置在上述透明基材膜的两个面，在该透明基材膜的任意一个面侧粘贴保护膜以便形成最外层。
9.一种透明导电性膜，其中：
在记载于权利要求1～8中的任意一项的带光学调整层的硬涂层膜的光学调整层的表面形成透明导电层而形成该透明导电性膜。
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