KR20190139125A - 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름 - Google Patents

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Abstract

투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제공한다.
광학 조정층 부착 하드 코트 필름은 비정성 폴리머로 이루어지는 투명 기재 필름과, 그 투명 기재 필름의 일방의 면에 순서대로 적층된 하드 코트층 및 그 위의 광학 조정층을 구비한다. 광학 조정층에는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 광학 조정층의 평균 막두께보다 크며, 그 평균 입경 r1과 평균 막두께 d1이 50nm≤(r1-d1)≤1900nm의 관계에 있다. 광학 조정층의 표면의, 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra는 0.3nm~20nm의 범위에 있다.

Description

투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름
본 발명은 투명한 필름을 기재로서 사용하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름에 관한 것이다.
종래, 예를 들면 스마트폰이나 태블릿 단말 등과 같이 표시 화면에 접촉함으로써 정보를 입력할 수 있는 장치로서 정전용량식 등의 터치패널이 널리 사용되고 있었다. 여기서 터치패널용의 투명 도전성 필름으로서는 기재 필름 상에 투명 도전층으로서 산화인듐주석(ITO : Indium Tin Oxide)을 증착이나 스퍼터링 등의 공법에 의해 적층한 것이 일반적이었다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).
그리고 투명 도전성 필름의 기재로서는 복굴절이 큰 결정성 폴리머 필름인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용하고 있었지만, 예를 들면 선글라스 너머로 모바일 단말을 조작하는 것 같은 경우에 있어서는 편광 선글라스의 사용에 의해 간섭 줄무늬(uneven interference)가 발생하는 문제가 있는 점에서, 복굴절이 작은 비정성(非晶性) 폴리머 필름을 기재로서 사용하는 것이 제안되었다.
그러나 비정성 폴리머 필름을 기재로 한 투명 도전성 필름에 의해 상기한 간섭 줄무늬의 발생은 해소되었지만, 비정성 폴리머 필름은 결정성 폴리머 필름에 비해 필름의 표면에 상처가 생기기 쉽다는 결점이 있었다. 또 비정성 폴리머 필름은 결정성 폴리머 필름에 비해 깨지기 쉽다는 결점도 있기 때문에, 필름의 반송시에 반송 롤 등의 평활면과 밀착함으로써 주름이 되어 깨져버리는 문제가 있었다. 그래서 비정성 폴리머 필름의 편면 또는 양면에 하드 코트층을 설치한 투명 도전성 필름용의 하드 코트 필름이 생각되었다. 그러나 이 경우 하드 코트 필름을 롤 형상으로 권취하면, 겹치는 하드 코트 필름의 기재의 이면과 하드 코트층, 또는 하드 코트층끼리가 밀착해버린다는 블로킹의 문제가 있었다. 그래서 비정성 폴리머 필름 상에 1~5μm의 입자를 포함하는 하드 코트층을 설치하고, 하드 코트층 및 그 위의 ITO층(투명 도전층) 등의 표면에 요철을 형성시켜, 내블로킹성(anti-blocking)을 개량하는 것이 제안되었다(예를 들면, 특허문헌 2, 3 참조).
일본 특개 평7-68690호 공보 일본 특개 2013-107349호 공보 일본 특개 2013-243115호 공보
그러나 ITO층(투명 도전층) 등의 표면에 요철이 형성되도록, 기재가 되는 비정성 폴리머 필름 상에 1~5μm 사이즈의 입자를 포함하는 하드 코트층을 설치한 경우, 하드 코트층이나 그 위의 ITO층(투명 도전층) 등의 두께에 따라서는 입자 사이즈가 1~2μm에서는 내블로킹성이 부족할 우려가 있고, 입자 사이즈가 2μm보다 크면 시인성이 저하될 우려가 있었다.
본 발명은 증착이나 스퍼터링법 등에 의해 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 그 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 사용한 투명 도전성 필름을 제공하는 것에 있다.
본 발명에 따른 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름은 상기 목적을 달성하기 위해서 다음의 구성으로 이루어진다. 즉
본 발명에 따른 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름은 비정성 폴리머로 이루어지는 투명 기재 필름과, 그 투명 기재 필름의 적어도 일방의 면에 순서대로 적층된 하드 코트층 및 그 위의 광학 조정층을 구비한다. 여기서 상기 광학 조정층에는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 상기 광학 조정층의 평균 막두께보다 크며, 그 평균 입경 r1과 그 평균 막두께 d1이
50nm≤(r1-d1)≤1900nm
의 관계에 있다. 그리고 상기 광학 조정층의 표면의, 상기 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm의 범위에 있다. 여기서 광학 조정층이 복수층(고굴절률층+저굴절률층)으로 이루어지는 경우는 평균 입경 r1은 넣은 입자(평균 막두께 d1보다 평균 입경이 큰 입자) 전체의 평균 입경인데, 평균 막두께 d1은 양쪽의 층에 입자를 넣었을 때와, 고굴절률층에만 입자를 넣었을 때는 전체의 평균 막두께이며, 저굴절률층에만 입자를 넣었을 때는 저굴절률층의 평균 막두께이다(이하, 동일함).
이 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름에 의하면, 하드 코트층 상에 적층된 광학 조정층에는 복수의 입자가 함유되어 있다. 그리고 그 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경 r1이 광학 조정층의 평균 막두께 d1보다 크고, 그 차가 50nm~1900nm의 범위에 있다. 또 광학 조정층의 표면의, 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm가 되고 있다. 이와 같이 하여, 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경과 광학 조정층의 평균 막두께의 차를 50nm 이상으로 하고, 광학 조정층의 표면의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 0.3nm 이상으로 함으로써, 그 후에 광학 조정층 상에 증착이나 스퍼터링법 등에 의해 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있다. 또 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경과 광학 조정층의 평균 막두께의 차를 1900nm 이하로 하고, 광학 조정층의 표면의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 20nm 이하로 함으로써, 그 후의 투명 도전성 필름에 있어서도 시인성의 저하를 억제할 수 있다.
또 상기 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경 r1은 100nm~2000nm의 범위에 있고, 그 평균 입경 r1(nm)과 그 입자의 개수 N(개/mm2)가
199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)
의 관계에 있다. 여기서 입자의 개수 N은 광학 조정층의 표면(광학 조정층이 복수층 있는 경우에는 그 최표면)으로부터 50nm 이상의 높이가 있는 입자의 개수를 말한다(이하, 동일함).
또 상기 광학 조정층의 평균 막두께 d1과, 그 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경 r1이
(d1/r1)<0.5
의 관계에 있다.
또 상기 하드 코트층에는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 상기 하드 코트층의 평균 막두께보다 작으며, 그들 입자는 상기 하드 코트층의 표면에 편재하고 있다.
또 상기 하드 코트층의 평균 막두께 d2와, 그 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입경 r2가
(d2/r2)>2
의 관계에 있다.
또 상기 광학 조정층의 표면의 곡부측 면적이 661780μm2당 200000μm2 이하이다. 여기서 광학 조정층의 표면의 곡부측 면적은 광학 조정층에 포함되는 입자가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층의 평균 높이로부터 3nm 이상 곡부측이 되는 광학 조정층의 표면의 면적을 말한다(이하, 동일함).
또 상기 하드 코트층 및 상기 광학 조정층은 상기 투명 기재 필름의 일방의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름의 타방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합(貼合)되어도 된다.
또 상기 하드 코트층 및 상기 광학 조정층은 상기 투명 기재 필름의 양쪽의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름의 어느 일방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합되어도 된다.
또 본 발명에 따른 투명 도전성 필름은 상기 광학 조정층 부착 하드 코트 필름에 있어서의 광학 조정층의 표면에 투명 도전층이 형성되어 이루어진다.
본 발명에 따른 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름에 의하면, 광학 조정층에 입자를 함유시키고, 그 입자의 평균 입경을 광학 조정층의 평균 막두께에 대하여 50nm~1900nm의 범위에서 크게 하며, 광학 조정층의 표면의, 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 0.3nm~20nm으로 함으로써, 그 후에 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명이 제1 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
도 2는 동일하게 광학 조정층의 입자의 평균 입경과 개수의 관계를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
도 4는 본 발명의 제3 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
이하, 본 발명에 따른 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름을 실시하기 위한 형태를 도면에 기초하여 설명한다.
도 1~도 2는 본 발명의 제1 실시형태를 나타낸다. 도면 중 부호 1은 투명 도전성 필름에 사용되는 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 나타낸다. 2는 투명 기재 필름을 나타낸다. 3은 하드 코트층을 나타낸다. 4는 광학 조정층을 나타낸다.
광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 투명 기재 필름(2)과, 그 투명 기재 필름(2)의 적어도 일방의 면(도시 실시형태에 있어서는 일방의 면)에 순서대로 적층된 하드 코트층(3) 및 그 위의 광학 조정층(4)을 구비한다.
여기서 광학 조정층(4)에는 복수의 입자(4a, 4a)가 함유되고, 그들 입자(4a, 4a)의 평균 입경은 광학 조정층(4)의 평균 막두께보다 크며, 그 평균 입경 r1과 그 평균 막두께 d1이
50nm≤(r1-d1)≤1900nm
의 관계에 있다. 즉, 평균 입경 r1은 평균 막두께 d1보다 50nm~1900nm 크다. 그리고 광학 조정층(4)의 표면의, 그 광학 조정층(4)에 함유되는 상기 입자(4a)에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm(보다 바람직하게는 0.3nm~10nm)의 범위에 있다.
그래서 투명 도전성 필름(도시하지 않음)은 이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)에 있어서의 광학 조정층(4)의 표면에 투명 도전층이 형성되어 이루어지는 것이다.
이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)에 의하면, 하드 코트층(3) 상에 적층된 광학 조정층(4)에는 복수의 입자(4a, 4a)가 함유되어 있다. 그리고 그 광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경 r1이 광학 조정층(4)의 평균 막두께 d1보다 크고, 그 차가 50nm~1900nm의 범위에 있다. 또 광학 조정층(4)의 표면의, 입자(4a)에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm의 범위로 되어 있다. 광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경 r1과 광학 조정층(4)의 평균 막두께 d1의 차를 50nm 이상으로 하고, 광학 조정층(4)의 표면의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 0.3nm 이상으로 함으로써, 그 후에 광학 조정층(4) 상에 증착이나 스퍼터링법 등에 의해 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있다. 즉, 입자(4a)에 의해 형성되는 볼록부와, 특정 부분의 산술 평균 거칠기를 형성하는 볼록부(4b)의 2종류의 볼록부에 의해, 이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1) 뿐만아니라 그 후의 투명 도전성 필름에 있어서도 내블로킹성을 발현한다. 또 광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경 r1과 광학 조정층(4)의 평균 막두께 d1의 차를 1900nm 이하로 하고, 광학 조정층(4)의 표면의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 20nm 이하로 함으로써, 그 후의 투명 도전성 필름에 있어서도 시인성의 저하를 억제할 수 있다.
이와 같이 하여 광학 조정층(4)에 입자(4a)를 함유시키고, 그 입자(4a)의 평균 입경을 광학 조정층(4)의 평균 막두께에 대하여 50nm~1900nm의 범위에서 크게 하고, 광학 조정층(4)의 표면의 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 0.3nm~20nm으로 함으로써, 그 후에 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있다.
또한 본 발명의 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 정전용량식의 터치패널용으로서 적합하게 사용할 수 있는데, 그 용도는 상기 터치패널용에 한정되는 것은 아니다.
구체적으로는 투명 기재 필름(2)은 비정성 폴리머로 이루어진다. 이 비정성 폴리머로서는 지환 구조를 가지는 비정질 올레핀이 바람직한데, 이것에 한정되는 것은 아니다. 비정질 올레핀으로서는 예를 들면 사이클로올레핀 폴리머나 사이클로올레핀 코폴리머 등이 있다. 또 이 투명 기재 필름(2)의 재료는 폴리카보네이트나 트라이아세틸셀룰로스나 폴리이미드 등이어도 된다. 이 투명 기재 필름(2)의 두께는 10μm~500μm인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10μm~200μm, 더욱 바람직하게는 20μm~100μm인 것이 좋다. 또 투명 기재 필름(2)의 표면에 미리 이접착층(易接着層)의 도공이나 코로나 방전 처리 등의 물리 처리 등의 전처리를 시행함으로써, 적층되는 하드 코트층(3)과의 밀착성을 향상시킬 수 있다.
하드 코트층(3)은 그 평균 막두께는 하드 코트성을 얻기 위해서 0.5μm~10.0μm의 범위에 있는 것이 바람직하고, 0.75μm~5.0μm의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 막두께가 0.5μm 미만이면 하드 코트층(3)의 경도가 불충분하게 될 우려가 있고, 10.0μm를 넘으면 하드 코트층(3) 또는 그 위의 층에 크랙이 들어가거나, 권취가 곤란하게 될 우려가 있을 뿐만아니라 투명성 등의 광학 특성이 저하될 우려도 있다.
또한 광학 조정층의 상기 특정 부분의 볼록부(4b)(즉, 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra의 상기 값)를 얻기 위해서, 하드 코트층(3)의 표면(즉, 투명 기재 필름(2)이 있는 측과는 반대의 면)은 산술 평균 거칠기 Ra가 2nm~20nm의 범위인 것이 바람직하고, 3nm~10nm인 것이 보다 바람직하다. 하드 코트층(3)의 표면의 산술 평균 거칠기 Ra가 2nm 미만이면 그 후의 광학 조정층(4)의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm 미만이 될 우려가 있어, 내블로킹성이 저하된다. 또 하드 코트층(3)의 표면의 산술 평균 거칠기 Ra가 20nm보다 크면 투명성 등의 광학 특성이 저하될 우려가 있다.
도시 실시형태에 있어서는 하드 코트층(3)에 복수의 입자(3a, 3a)가 함유되고, 그들 입자(3a, 3a)의 평균 입경은 하드 코트층(3)의 평균 막두께보다 작다. 그리고 그들 입자(3a, 3a)는 하드 코트층(3)의 표면(즉, 투명 기재 필름(2)이 있는 측과는 반대의 면)에 편재하고 있다. 그래서 하드 코트층(3)의 표면에 편재하는 이들 입자(3a, 3a)에 의한 표면의 볼록부에 추종하도록, 그 하드 코트층(3) 상의 광학 조정층(4)의 표면에 볼록부(4b, 4b)가 형성되고, 그들 볼록부(4b, 4b)가 광학 조정층(4)의 표면의 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra의 값에 반영된다.
상세하게는 하드 코트층(3)을 형성하기 위한 하드 코트 도공액은 바인더와, 하드 코트층(3)의 평균 막두께보다 작은 평균 입경의 복수의 입자(3a, 3a)와, 용제를 포함한다. 그리고 그 하드 코트 도공액을 투명 기재 필름(2)에 도공하고, 건조시켜, UV 노광하는 중에 (특히, 건조 공정에서) 입자(3a)를 하드 코트층(3)의 표면으로 편재시킨다. 이 방법을 사용함으로써, 하드 코트층(3)의 표면의 적합한 표면 거칠기를 균일하게 효율적으로 얻을 수 있다.
하드 코트 도공액은 상세하게는 하드 코트층(3)을 형성하는 경화성 조성물로서, 입자(3a), 바인더를 함유하고, 바람직하게는 자외선에 의해 경화하는 것이 좋다. 하드 코트 도공액에 포함되는 바인더는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 내상성을 유지하면서 유연성을 부여하기 위해서 유레테인아크릴레이트를 사용할 수 있다. 하드 코트 도공액에 포함되는 입자(3a)의 평균 입경은 50nm~500nm의 범위에 있는 것이 바람직하고, 80nm~400nm의 범위에 있는 것이 보다 바람직하며, 120nm~400nm의 범위에 있는 것이 더욱 바람직하다. 그래서 이들 입자(3a, 3a)에 의해 표면에 볼록부가 형성되는데, 평균 입경이 50nm 미만에서는 표면에 충분한 볼록부를 형성할 수 없을 우려가 있고, 평균 입경이 500nm를 넘으면 헤이즈(haze)가 상승할 우려가 있다. 또 하드 코트층(3)의 평균 막두께 d2와, 그 하드 코트층(3)에 함유되는 입자(3a)의 평균 입경 r2는 (d2/r2)>2의 관계에 있는 것이 바람직하고, 이 범위로 함으로써 헤이즈(haze)의 상승을 억제할 수 있다.
입자(3a)로서는 특별히 한정되지 않지만, 각종 무기계, 유기계의 입자를 사용할 수 있다. 이 입자(3a)로서는 예를 들면 실리카, 알루미나, 타이타니아, 아크릴 수지, 스타이렌-아크릴 공중합 수지, 스타이렌 수지, 유레테인 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지, 폴리에틸렌 수지, 페놀 수지 등을 소재로 하는 입자 등이 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 2종 이상을 조합해도 된다.
입자(3a)에 유기계 입자를 사용하는 경우는 아크릴계 입자를 사용하고, 유화 중합법에 의해 합성된 것이 원하는 평균 입경의 입자를 얻기 위해서도 바람직하다.
또 입자(3a)에 무기계 입자를 사용하는 경우는 표면 처리나 계면활성제 등으로 표면 자유 에너지를 작게 한 실리카 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같이 표면 자유 에너지가 작아짐으로써, 하드 코트층(3)의 표면으로 입자(3a)를 편재시키기 쉬워진다.
또 하드 코트 도공액에는 필요에 따라 분산제, 레벨링제, 소포제, 요변제, 방오제, 항균제, 난연제, 상처 방지제, 슬립제 등의 첨가제를 성능에 영향이 없는 범위에서 포함해도 된다.
또 막두께의 조정 등의 관점에서 유기 용제를 사용하여 하드 코트 도공액을 희석해도 된다. 예를 들면 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM), 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터와 같은 알코올계의 유기 용제나, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸아이소뷰틸케톤(MIBK), 사이클로헥산온(아논), 아세톤 등과 같은 케톤계 유기 용제나, 아세트산뷰틸, 아세트산에틸, 락트산에틸, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 등과 같은 에스터계 유기 용제나, 톨루엔, 자일렌 등과 같은 방향족계 유기 용제나, N-메틸피롤리돈, 다이메틸아세트아마이드, 다이메틸폼아마이드 등과 같은 아마이드계 유기 용제 등을 사용할 수 있다. 그리고 이들 예시의 유기 용제는 단독이어도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 되는데, 그 용해도 파라미터 δ는 8~11의 범위인 것이 바람직하고, 또한 용해도 파라미터 δ가 8~10의 범위에 있는 것이 더욱 바람직하다.
도공(塗工)에는 예를 들면 리버스 그라비어 코트법, 다이렉트 그라비어 코트법, 다이 코트법, 바 코트법, 와이어 바 코트법, 롤 코트법, 스핀 코트법, 딥 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법, 키스 코트법 등과 같은 코팅 방법이나, 각종 인쇄 방법을 사용할 수 있는데, 이들 방법에 한정되는 것은 아니다.
건조 공정에 대해서는 건조가 지나치게 빠르면, 응집·표면으로의 편재가 불충분하게 되기 때문에, 건조는 50℃~120℃의 온도에서 10초~180초간정도 행하는 것이 바람직하고, 특히 건조 온도는 50℃~80℃가 바람직하다. 건조 시간은 길수록 좋은데, 생산성을 고려하면 10초~120초정도로 하는 것이 더욱 바람직하다.
UV 노광 공정에 대해서는 건조 후에 하드 코트층(3)에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써, 입자(3a)의 응집체를 하드 코트층(3)의 표면의 측에 고정화할 수 있다. 자외선의 조사에는 고압 수은 램프, 무전극(마이크로파 방식) 램프, 제논 램프, 메탈 할라이드 램프, 그 밖에 임의의 자외선 조사 장치를 사용할 수 있고, 필요에 따라 질소 등의 불활성 가스 분위기화에서 자외선 조사를 행해도 된다. 또 자외선의 조사량은 50~800mJ/cm2의 범위, 바람직하게는 100~300mJ/cm2의 범위인 것이 좋다.
광학 조정층(4)은 투명 도전성 필름의 패터닝된 투명 도전층이 존재하는 부분과 존재하지 않는 부분의 반사율의 차이에 의해 그 패턴을 눈으로 볼 수 있게 되는 현상(즉, 패턴 보임)을 완화하기 위해서 하드 코트층(3) 상에 적층된다. 이 패턴 보임을 완화하기 위해서는 광학 조정층(4)의 굴절률을 투명 도전층의 굴절률과 하드 코트층(3)의 굴절률의 사이로 하는 것이 좋고, 그 때문에 광학 조정층(4)의 굴절률은 1.55~1.80의 범위에 있는 것이 바람직하다. 또 이 광학 조정층(4)의 평균 막두께는 투명 기재 필름(2), 하드 코트층(3), 광학 조정층(4)의 굴절률에 따라 상이하지만, 5nm~500nm의 범위이며, 투명 도전층이 존재하는 부분과 존재하지 않는 부분의 반사율의 차가 가능한 한 작아지는 두께로 조정하는 것이 바람직하다. 광학 조정층(4)의 막두께가 5nm 미만이면 입자(4a)의 탈락의 우려가 있고, 500nm보다 큰 막두께에서는 투명 도전층이나 금속층 등을 제막한 후에 충분한 내블로킹성이 얻어지지 않을 우려가 있다.
광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경은 100nm~2000nm의 범위인 것이 바람직하고, 200nm~1500nm인 것이 보다 바람직하며, 400nm~1000nm인 것이 더욱 바람직하다. 입자(4a)의 평균 입경을 이 범위로 함으로써, 증착이나 스퍼터링법에 의해 투명 도전층이나 금속층을 제막한 후에도 충분한 내블로킹성을 갖게 하고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있다. 입자(4a)의 평균 입경이 100nm 미만이면 증착이나 스퍼터링법에 의해 투명 도전층이나 금속층을 제막한 후에 충분한 내블로킹성이 얻어지지 않을 우려가 있고, 입자(4a)의 평균 입경이 2000nm보다 크면 시인성이 저하될 우려가 있다.
또 광학 조정층(4)의 평균 막두께 d1과, 그 광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경 r1의 관계는 (d1/r1)<0.5로 하는 것이 바람직하다. 이 범위로 함으로써 입자(4a)의 평균 입경 r1을 작게 해도 충분한 높이의 볼록부를 만들 수 있다. 그리고 광학 조정층(4)의 막두께, 투명 도전층의 막두께, 금속층의 막두께로부터 입자(4a)의 평균 입경을 조정할 수 있다.
여기서 (d1/r1)<0.5로 하면, 입자(4a)의 반 이상이 볼록부가 되고, 스침 등에 의한 입자(4a)의 탈락의 우려가 있지만, 광학 조정층(4)의 상기 특정 부분의 볼록부(4b)가 존재함으로써 이활성(易滑性)이 높아져, 스침 등에 의한 입자(4a)의 탈락을 방지할 수 있다.
입자(4a)의 첨가량은 입자(4a)의 평균 입경에 따라 최적의 양이 상이하며, 그 평균 입경 r1(nm)과 그 입자(4a)의 개수 N(개/mm2)이
199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)
의 관계에 있는 것이 바람직하다(이 N의 범위를 도 2에 있어서 우측 상승의 사선으로 나타낸다). 그리고 보다 바람직하게는
480.48exp(-0.002r1)≤N≤2277exp(-0.002r1)의 관계에 있는 것이 좋다(이 N의 범위를 도 2에 있어서 우측 하강의 사선으로 나타낸다).
또 이 광학 조정층(4)에 포함되는 입자(4a)가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층(4)의 표면에 큰 기복이 생겨 있는 경우는 ITO 등의 도전막을 설치했을 때 도통이 어려워지는 경우가 있다. 그래서 상기 입자(4a)가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층(4)의 평균 높이로부터 3nm 이상 곡부측이 되는 광학 조정층(4)의 표면의 면적(광학 조정층(4)의 표면의 곡부측 면적)은 661780μm2당 200000μm2 이하인 것이 바람직하고, 150000μm2 이하인 것이 더욱 바람직하다. 즉, 입자(4a)가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층(4)의 표면은 완전히 평평한 것이 투명도전막의 도통에 있어서는 바람직한데, 내블로킹성의 문제가 있기 때문에, 상기 볼록부(4b)에 의해 이 상반되는 문제를 해결할 수 있다.
이 광학 조정층(4)은 광학 조정층 도공액을 하드 코트층(3)의 표면에 도공하고, 건조시켜, UV 노광함으로써 얻어진다. 광학 조정층 도공액으로서는 굴절률이 조정된 공지의 도재(예를 들면 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」이나 도요켐 가부시키가이샤(Toyochem Co., Ltd.)제 「리오듀라스(LIODURAS) TYZ-A15-S(제품명)」)를 사용할 수 있다. 1.55~1.80의 고굴절률을 얻기 위해서는 금속 산화 입자를 포함해도 된다. 이 금속 산화 입자로서는 예를 들면 타이타늄, 지르코늄, 주석, 아연, 규소, 나이오븀, 알루미늄, 크로뮴, 마그네슘, 저마늄, 갈륨, 안티모니, 백금 등의 산화물이 있는데, 특히 산화지르코늄, 산화타이타늄이 바람직하다. 또 이들 산화물을 복수종 조합해도 된다.
광학 조정층(4)에 함유하는 입자(4a)의 재료로서는 무기계, 유기계의 다분산이나 단분산의 공지의 입자(예를 들면, 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「MX-80H3wT(제품명)」)를 사용할 수 있다.
또 필요에 따라 분산제, 레벨링제, 소포제, 요변제, 방오제, 항균제, 난연제, 상처 방지제, 슬립제 등의 첨가제를 성능에 영향이 없는 범위에서 광학 조정층 도공액에 포함해도 된다. 특히 레벨링제는 광학 조정층(4)의 표면의 곡부측 면적을 적게 할 목적에서, 표면장력 저하 능력을 조정하는 것이 바람직하다.
또 막두께의 조정등의 관점에서 유기 용제를 사용하여 광학 조정층 도공액을 희석해도 된다. 예를 들면, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM), 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터와 같은 알코올계의 유기 용제나, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸아이소뷰틸케톤(MIBK), 사이클로헥산온(아논), 아세톤 등과 같은 케톤계 유기 용제나, 아세트산뷰틸, 아세트산에틸, 락트산에틸, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 등과 같은 에스터계 유기 용제나, 톨루엔, 자일렌 등과 같은 방향족계 유기 용제나, N-메틸피롤리돈, 다이메틸아세트아마이드, 다이메틸폼아마이드 등과 같은 아마이드계 유기 용제 등을 사용할 수 있다. 그리고 이들 예시의 유기 용제는 단독이어도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 되는데, 그 용해도 파라미터 δ는 8~11의 범위인 것이 바람직하고, 또한 δ가 8~10의 범위에 있는 것이 바람직하다. 사용하는 유기 용제의 표면장력은 20~40dyne/cm2의 범위가 바람직하고, 광학 조정층(4)의 표면의 곡부측 면적을 적게 할 목적에서, 건조 공정에 일어나는 도막의 농도 상승에 있어서 각 농도에 대한 표면장력의 차가 적어지도록 광학 조정층 도공액의 유기 용제종을 선정하는 것이 바람직하다.
도공에는 예를 들면 리버스 그라비어 코트법, 다이렉트 그라비어 코트법, 다이 코트법, 바 코트법, 와이어 바 코트법, 롤 코트법, 스핀 코트법, 딥 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법, 키스 코트법 등과 같은 코팅 방법이나, 각종 인쇄 방법을 사용할 수 있는데, 이들 방법에 한정되는 것은 아니다.
건조 공정에 대해서는 50℃~150℃의 온도에서 10초~180초간정도 행하는 것이 생산성의 관점에서도 바람직하다. 온도는 성능에 영향이 없는 범위이면 높은 편이 경화 전의 도막면의 점도가 내려가고, 빠르게 레벨링(평활화)하여 광학 조정층(4)의 표면의 곡부측 면적이 적어지기 때문에, 80℃~150℃로 하는 것이 보다 바람직하다.
UV 노광 공정에 대해서는 건조 후에 광학 조정층(4)에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 막을 고정할 수 있다. 자외선의 조사에는 고압 수은 램프, 무전극(마이크로파 방식) 램프, 제논 램프, 메탈 할라이드 램프, 그 밖에 임의의 자외선 조사 장치를 사용할 수 있고, 필요에 따라 질소 등의 불활성 가스 분위기화에서 자외선 조사를 행해도 된다. 또 자외선의 조사량은 50~800mJ/cm2의 범위, 바람직하게는 100~300mJ/cm2의 범위인 것이 좋다.
도 3은 본 발명의 제2 실시형태를 나타낸다. 이 실시형태는 제1 실시형태와는 투명 기재 필름(2)의 타방의 면에도 하드 코트층이 설치되는 점이 상이하지만, 그 밖에는 동일하며, 이하에 동일한 부분에는 동일한 부호를 붙이고, 상이한 부분을 주로 설명한다.
이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 투명 기재 필름(2)의 타방의 면(즉, 하드 코트층(3) 및 광학 조정층(4)이 설치되는 일방의 면과는 반대의 면)에 제2 하드 코트층(5)을 가진다. 이 제2 하드 코트층(5)에는 복수의 입자(5a, 5a)가 함유되고, 그들 입자(5a, 5a)는 제2 하드 코트층(5)의 표면(즉, 투명 기재 필름(2)이 있는 측과는 반대의 면)에 편재하고 있다. 이것에 의해 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)의 일방의 면 뿐만아니라 타방의 면에도 내상성과 내블로킹성을 부여할 수 있다. 이 때문에 투명 기재 필름(2)에 깨지기 쉽고 표면에 상처가 생기기 쉽다는 결점을 가지는 비정성 폴리머 필름을 사용해도 충분한 하드 코트성과 충분한 내블로킹성을 가지는 광학 조정층 부착 하드 코트 필름이 얻어진다. 여기에 있어서 시인성을 저하시키지 않기 위해서는 복수의 입자(5a, 5a)의 평균 입경을 제2 하드 코트층(5)의 평균 막두께보다 작게 하는 것이 바람직한데, 이활성이나 필름의 처리성을 보다 부여시킬 목적에서, 필요에 따라 입자(5a)의 평균 입경을 제2 하드 코트층(5)의 평균 막두께보다 크게 해도 된다.
도 4는 본 발명의 제3 실시형태를 나타낸다. 이 실시형태는 제2 실시형태와는 보호 필름이 설치되는 점이 상이하지만, 그 밖에는 동일하며, 이하에 동일한 부분에는 동일 부호를 붙이고, 상이한 부분을 주로 설명한다.
이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)에 있어서는 하드 코트층(3) 및 광학 조정층(4)은 투명 기재 필름(2)의 일방의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름(2)의 타방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름(6)이 첩합되어 있다. 상세하게는 이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 제2 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)을 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 본체(1a)로 하여, 그 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 본체(1a)에 있어서의 투명 기재 필름(2)의 타방의 면측인 제2 하드 코트층(5)의 표면에 보호 필름용 투명 기재 필름(6a)과 점착층(6b)으로 이루어지는 보호 필름(6)이 그 점착층(6b)을 사용하여 첩합되어 있다.
이와 같이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)에 보호 필름(6)을 설치함으로써, 투명 기재 필름(2)이 매우 얇은 경우 등에 있어서도 작업성을 양호하게 하고, 오염 등도 방지할 수 있다.
보호 필름(6)을 형성하는 재료는 특별히 한정되지 않지만, 열 처리 공정 중 및 열 처리 공정 후의 컬의 제어라는 관점에서, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 본체(1a)와는 가열 수축률 및 선팽창 계수가 가까운 재료가 바람직하다.
또한 본 발명은 상기 서술한 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 그 밖에 각종 변경이 가능하다. 예를 들면 광학 조정층(4)에 함유되는 복수의 입자(4a, 4a)는 그 직경이 동일하지 않아도 되며, 도 5에 나타내는 바와 같이 상이해도 된다. 또 이 점은 하드 코트층(3)에 함유되는 입자(3a, 3a)에 있어서도 동일하다.
또 광학 조정층(4)은 1층이 아니어도 되며, 고굴절률층, 저굴절률층 등 2층 이상의 다층으로 이루어져도 상관없다. 그 경우, 하드 코트층(3)측에 있는 광학 조정층의 굴절률은 1.55~1.80의 고굴절률로 하고, 투명 도전층을 적층하는 측의 광학 조정층의 굴절률은 1.50 이하의 저굴절률로 함으로써 적합하게 패턴 보임을 완화할 수 있다. 그리고 광학 조정층에 포함되는 입자(4a)는 어느 층에 함유되어도 되고, 또 복수층에 함유되어도 상관없지만, 투명 기재 필름(2)으로부터 가장 떨어진 측에 있는 광학 조정층에 포함되는 것이 바람직하다.
또 광학 조정층(4)의 표면의 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 소정의 범위로 하기 위해서, 하드 코트층(3)에 복수의 입자(3a, 3a)를 함유시켜, 하드 코트층(3)의 표면(투명 기재 필름(2)이 있는 측과는 반대의 면)에 볼록부를 설치하고, 그 볼록부를 광학 조정층의 표면에 반영시켰지만, 이 하드 코트층(3)의 표면에 볼록부를 설치하는 방법으로서, 입자(3a)를 사용하는 것이 아니라, 2종류 이상의 재료가 상분리(phase separation)함으로써 볼록부를 형성하는 방법이라든지, 엠보스 가공에 의해 볼록부를 형성하는 방법 등을 채용해도 된다(도 6에 나타내는 볼록부(3b) 참조).
또 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 투명 기재 필름(2)의 일방의 면에 하드 코트층(3) 및 광학 조정층(4)이 설치되는데, 투명 기재 필름(2)의 양쪽의 면에 하드 코트층(3) 및 광학 조정층(4)이 설치되어도 된다. 그리고 이 경우 투명 기재 필름(2)의 어느 일방의 면측에(결국은 어느 일방의 광학 조정층(4)의 표면에) 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합되어도 된다.
또 제2 및 제3 도시 실시형태에 있어서는 제2 하드 코트층(5)에 입자(5a)가 포함되는데, 이 입자(5a)는 포함되지 않아도 된다.
(실시예)
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다.
<실시예 1>
투명 기재 필름(2)은 닛폰 제온 가부시키가이샤(Zeon Corporation)제 「ZeonorFilm ZF16-100(제품명)」을 사용했다. 이 투명 기재 필름(2)의 일방의 면에 코로나 처리를 시행한 후, 그 일방의 면에 하드 코트층(3)을 적층하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 또한 하드 코트 필름에 있어서의 하드 코트층(3)의 표면에 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(하드 코트 도공액(1a)의 조제)
디스포컵에 DIC 가부시키가이샤(DIC Corporation)제 「PC16-2291(제품명)」과 아세트산뷰틸과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(1a)을 조정했다.
하드 코트 도공액(1a)의 배합
PC-16-2291 아세트산뷰틸 MEK
중량 6.25g 중 1.88g 중 1.88g 중
(하드 코트 필름(1A)의 제작)
상기 하드 코트 도공액(1a)을 #5의 와이어 바를 사용하여 투명 기재 필름(2)의 코로나 처리한 면에 도포하고, 그 후 80℃의 온도에서 1.0분간에 걸쳐 건조시키고, 이어서 고압 수은 램프를 사용하여 광량 200mJ/cm2의 조건으로 자외선을 조사하여, 하드 코트 필름(1A)을 제작했다.
(광학 조정층 도공액(1b)의 조제)
디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(1b)을 조정했다.
광학 조정층 도공액(1b)의 배합
Z-816-3L MX-80H3wT MEK
중량 1.78g 중 0.20mg 중 8.22g 중
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1B)의 제작)
하드 코트 필름(1A)의 하드 코트층(3)의 표면에 광학 조정층 도공액(1b)을 #3의 와이어 바를 사용하여 도포하고, 그 후 80℃의 온도에서 1.0분간에 걸쳐 건조시키고, 이어서 자외선을 투과하는 창이 상면에 설치된 용기 안에 필름을 넣어 3분간 용기 내를 질소 분위기화에 두었다. 그 후 고압 수은 램프를 사용하여 광량 200mJ/cm2의 조건으로 자외선을 조사하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1B)을 제작했다.
<실시예 2>
실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 도공액(2b)의 조제)
디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-40(제품명)」과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(2b)을 조정했다.
광학 조정층 도공액(2b)의 배합
Z-816-3L MX-40 MEK
중량 1.78g 중 0.25mg 중 8.22g 중
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(2B)의 제작)
광학 조정층 도공액(2b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(2B)을 제작했다.
<실시예 3>
실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 도공액(3b)의 조제)
디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-150(제품명)」과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(3b)을 조정했다.
광학 조정층 도공액(3b)의 배합
Z-816-3L MX-150 MEK
중량 1.78g 중 0.32mg 중 8.22g 중
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(3B)의 제작)
광학 조정층 도공액(3b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(3B)을 제작했다.
<실시예 4>
실시예 1의 하드 코트층(3)의 도공액을 변경하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 또한 하드 코트 필름의 하드 코트층(3)의 표면에 실시예 1과 동일한 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(하드 코트 도공액(4a)의 조제)
디스포컵에 DIC 가부시키가이샤(DIC Corporation)제 하드 코트제 「PC16-2291(제품명)」과 「PC-16-9081(제품명)」과 아세트산뷰틸과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(4a)을 조정했다.
하드 코트 도공액(4a)의 배합
PC-16-2291 PC-16-9081 아세트산뷰틸 MEK
중량 3.12g 중 3.12g 중 1.88g 중 1.88g 중
(하드 코트 필름(4A)의 제작)
하드 코트 도공액(4a)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1의 하드 코트 필름(1A)의 제작과 완전히 동일하게 하여 하드 코트 필름(4A)을 제작했다.
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(4B)의 제작)
하드 코트 필름(4A)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(4B)을 제작했다.
<실시예 5>
실시예 4의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(5B)의 제작)
광학 조정층 도공액(2b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 4와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(5B)을 제작했다.
<실시예 6>
실시예 4의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(6B)의 제작)
광학 조정층 도공액(3b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 4와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(6B)을 제작했다.
<실시예 7>
실시예 1의 하드 코트층(3)의 도공액을 변경하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 또한 하드 코트 필름의 하드 코트층(3)의 표면에 실시예 1과 동일한 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(하드 코트 도공액(7a)의 조제)
디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-739L(제품명)」과 도레·다우코닝 가부시키가이샤(Dow Corning Toray Co., Ltd.)제 「8019ADDITIVE(제품명)」와 메틸아이소뷰틸케톤(MIBK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(7a)을 조정했다.
하드 코트 도공액(7a)의 배합
Z-739L 8019ADDITIVE MIBK
중량 10.36g 중 4.1mg 중 4.64g 중
(하드 코트 필름(7A)의 제작)
하드 코트 도공액(7a)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1의 하드 코트 필름(1A)의 제작과 완전히 동일하게 하여 하드 코트 필름(7A)을 제작했다.
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(7B)의 제작)
하드 코트 필름(7A)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(7B)을 제작했다.
<실시예 8>
실시예 1의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1B)의 투명 기재 필름(2)의 면(타방의 면)에 실시예 1과 동일한 순서로 하드 코트층(3)과 광학 조정층(4)을 형성하여, 양면 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(8B)을 제작했다.
<실시예 9>
실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 도공액(9b)의 조제)
디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(9b)을 조정했다.
광학 조정층 도공액(9b)의 배합
Z-816-3L MX-80H3wT MEK
중량 1.78g 중 0.07mg 중 8.22g 중
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(9B)의 제작)
광학 조정층 도공액(9b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(9B)을 제작했다.
<실시예 10>
실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 도공액(10b)의 조제)
디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(10b)을 조정했다.
광학 조정층 도공액(10b)의 배합
Z-816-3L MX-80H3wT MEK
중량 1.78g 중 0.44mg 중 8.22g 중
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(10B)의 제작)
광학 조정층 도공액(10b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(10B)을 제작했다.
<실시예 11>
실시예 1의 하드 코트층(3)의 도공액 및 와이어 바의 번수(番手)를 변경하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 또한 하드 코트 필름의 하드 코트층(3)의 표면에 실시예 1과 동일한 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(하드 코트 도공액(11a)의 조정)
디스포컵에 닛폰페인트·오토모티브코팅스 가부시키가이샤(Nippon Paint Automotive Coatings Co., Ltd.)제 「UT-1147/P55(제품명)」와 아세트산뷰틸과 메틸아이소뷰틸케톤(MIBK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(11a)을 조정했다.
하드 코트 도공액(11a)의 배합
UT-1147/P55 아세트산뷰틸 MIBK
중량 9.00g 중 2.25mg 중 0.75g 중
(하드 코트 필름(11A)의 제작)
하드 코트 도공액(11a)을 사용하고, 그 도공액의 도포에 #7의 와이어 바를 사용하며, 그 밖에는 실시예 1의 하드 코트 필름(1A)의 제작과 완전히 동일하게 하여 하드 코트 필름(11A)을 제작했다.
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(11B)의 제작)
하드 코트 필름(11A)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(11B)을 제작했다.
<실시예 12>
실시예 1의 하드 코트층(3)의 도공액과 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(하드 코트 도공액(12a)의 조정)
디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-735L-35(제품명)」와, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM)를 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(12a)을 조정했다.
하드 코트 도공액(12a)의 배합
Z-735L-35 PGM
중량 10.36g 중 4.64g 중
(하드 코트 필름(12A)의 제작)
하드 코트 도공액(12a)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1의 하드 코트 필름(1A)의 제작과 완전히 동일하게 하여 하드 코트 필름(12A)을 제작했다.
(광학 조정층 도공액(12b)의 조정)
디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L개(改)(제품명)」와, 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM)와, 빅케미·재팬 가부시키가이샤(BYK Japan KK)제 「BYK-UV3570(제품명)」을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(12b)을 조정했다.
광학 조정층 도공액(12b)의 배합
Z-816-3L개 MX-80H3wT PGM BYK-UV3570
중량 1.78g 중 0.44mg 중 8.22g 중 9mg 중
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(12B)의 제작)
광학 조정층 도공액(12b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(12B)을 제작했다.
<실시예 13>
실시예 12의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 도공액(13b)의 조정)
디스포컵에 도요켐 가부시키가이샤(Toyochem Co., Ltd.)제 「리오듀라스(LIODURAS) TYZ-A15-S(제품명)」와, 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM)를 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(13b)을 조정했다.
광학 조정층 도공액(13b)의 배합
TYZ-A15-S MX-80H3wT PGM
중량 1.48g 중 0.55mg 중 8.22g 중
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(13B)의 제작)
광학 조정층 도공액(13b)을 사용한 것 외에는 실시예 12와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(13B)을 제작했다.
<실시예 14>
실시예 13의 광학 조정층(4)의 건조 조건을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(14B)의 제작)
광학 조정층의 도공 후의 건조 온도를 100℃로 한 것 외에는 실시예 13과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(14B)을 제작했다.
<실시예 15>
실시예 14의 광학 조정층(4)의 건조 조건을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(15B)의 제작)
광학 조정층의 도공 후의 건조 온도를 130℃로 한 것 외에는 실시예 14와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(15B)을 제작했다.
<실시예 16>
실시예 15의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 도공액(16b)의 조정)
디스포컵에 도요켐 가부시키가이샤(Toyochem Co., Ltd.)제 「리오듀라스(LIODURAS) TYZ-A15-S(제품명)」와, 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM)를 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(16b)을 조정했다.
광학 조정층 도공액(16b)의 배합
TYZ-A15-S MX-80H3wT PGM
중량 1.48g 중 0.20mg 중 8.22g 중
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(16B)의 제작)
광학 조정층 도공액(16b)을 사용한 것 외에는 실시예 15와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(16B)을 제작했다.
<비교예 1>
실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.
(광학 조정층 도공액(Xb)의 조제)
디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(Xb)을 조정했다.
광학 조정층 도공액(Xb)의 배합
Z-816-3L MEK
중량 1.78g 중 8.22g 중
(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(XB)의 제작)
광학 조정층 도공액(Xb)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(XB)을 제작했다.
<실시예 17>
실시예 1의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(17)을 제작했다.
<실시예 18>
실시예 2의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(2B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(18)을 제작했다.
<실시예 19>
실시예 3의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(3B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(19)을 제작했다.
<실시예 20>
실시예 4의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(4B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(20)을 제작했다.
<실시예 21>
실시예 5의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(5B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(21)을 제작했다.
<실시예 22>
실시예 6의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(6B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(22)을 제작했다.
<실시예 23>
실시예 13의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(13B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하고, 145℃의 오븐에서 1시간 어닐링(annealing)하여, 투명 도전성 필름(23)을 제작했다.
<실시예 24>
실시예 14의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(14B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하고, 145℃의 오븐에서 1시간 어닐링(annealing)하여, 투명 도전성 필름(24)을 제작했다.
<실시예 25>
실시예 15의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(15B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하고, 145℃의 오븐에서 1시간 어닐링(annealing)하여, 투명 도전성 필름(25)을 제작했다.
<실시예 26>
실시예 16의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(16B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하고, 145℃의 오븐에서 1시간 어닐링(annealing)하여, 투명 도전성 필름(26)을 제작했다.
<실시예 27>
실시예 23의 투명 도전성 필름(23)의 ITO층측에 구리 타겟을 사용하고, 200nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 금속층 부착 투명 도전성 필름(27)을 제작했다.
<실시예 28>
실시예 26의 투명 도전성 필름(26)의 ITO층측에 구리 타겟을 사용하고, 200nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 금속층 부착 투명 도전성 필름(28)을 제작했다.
<광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 평가 결과>
광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 평가 결과를 다음의 표 15 및 표 16에 나타낸다.
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 실시예 6
광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]		 120 120 120 120 120 120
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]		 800 400 1500 800 400 1500
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]		 223 931 75 211 882 93
d1/r1 0.15 0.3 0.08 0.15 0.3 0.08
하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]		 995 980 1052 1111 1002 920
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]		 250 250 250 250 250 250
d2/r2 3.98 3.92 4.21 4.44 4.01 3.68
광학 조정층의 표면의
산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1		 4.55 5.25 4.80 7.89 8.20 7.80
Hz[%] 0.40 0.40 0.70 0.50 0.50 0.70
시인성 ○ ○ △ ○ ○ △
정마찰 계수 0.40 0.40 0.41 0.38 0.39 0.38
내블로킹성 ○ ○ ○ ○ ○ ○
입자 탈락 ○ ○ ○ ○ ○ ○
실시예 7 실시예 8 실시예 9 실시예 10 실시예 11 실시예 12
광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]		 120 120 120 120 120 120
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]		 800 800 800 800 800 800
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]		 250 198 136 405 220 306
d1/r1 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15
하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]		 1044 1020 999 976 2112 980
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]		 120 250 250 250 - 120
d2/r2 8.7 4.08 3.99 3.90 - 8.17
광학 조정층의 표면의
산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1		 1.80 5.65 6.24 5.75 4.29 0.6
Hz[%] 0.40 1.30 0.35 1.20 1.00 0.90
시인성 ○ ○ ○ △ ○ ○
정마찰 계수 0.47 0.40 0.49 0.38 0.49 0.49
내블로킹성 ○ ○ ○ ○ ○ ○
입자 탈락 ○ ○ ○ ○ ○ ○
주) *1 광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기는 실시예에 있어서는 광학 조정층에 함유되는 입자에 의한 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다.
실시예 13 실시예 14 실시예 15 실시예 16 비교예 1
광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]		 90 90 90 90 120
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]		 800 800 800 800 -
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]		 530 505 520 215 0
d1/r1 0.11 0.11 0.11 0.11 -
하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]		 980 980 980 980 1101
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]		 120 120 120 120 250
d2/r2 8.17 8.17 8.17 8.17 4.40
광학 조정층의 표면의
산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1		 1.32 1.35 1.41 1.32 1.56
광학 조정층의 표면의
곡부측 면적[μm2]		 143146 101024 31405 20123 -
Hz[%] 0.90 0.89 0.91 0.45 0.15
시인성 △ △ △ ○ ○
정마찰 계수 0.43 0.41 0.43 0.60 1.21
내블로킹성 ○ ○ ○ ○ ×
입자 탈락 ○ ○ ○ ○ ○
주) *1 광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기는 실시예에 있어서는 광학 조정층에 함유되는 입자에 의한 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다. 비교예에 있어서는 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다.
표 15 및 표 16으로부터 명확한 바와 같이, 실시예 1~16에 있어서의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름은 광학 조정층(4)에 광학 조정층(4)의 평균 막두께보다 평균 입경이 큰 입자(4a)를 포함하고, 광학 조정층(4)의 특정 부분의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~10nm이며, Hz(헤이즈)가 낮고, 정마찰 계수가 1보다 낮으며, 입자 탈락도 없다. 이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름은 시인성이 좋고, 광학 조정층의 표면에 투명 도전층을 설치한 경우에도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있다.
또 비교예 1의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름도 시인성이 양호하지만, 광학 조정층(4)에 입자를 첨가하고 있지 않고, 정마찰 계수가 1을 넘고 있다. 이 때문에 투명 도전층을 표면에 설치한 경우에는 충분한 내블로킹성이 얻어지지 않는다.
<투명 도전성 필름의 평가 결과>
투명 도전성 필름의 평가 결과를 다음의 표 17 및 표 18에 나타낸다.
실시예 17 실시예 18 실시예 19 실시예 20 실시예 21 실시예 22
광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]		 120 120 120 120 120 120
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]		 800 400 1500 800 400 1500
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]		 215 830 75 250 1010 80
d1/r1 0.15 0.3 0.08 0.15 0.3 0.08
하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]		 995 980 1052 1111 1002 920
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]		 250 250 250 250 250 250
d2/r2 3.98 3.92 4.21 4.44 4.01 3.68
ITO 막두께[nm] 21 21 21 21 21 21
Hz[%] 0.76 0.76 1.09 0.82 0.85 0.86
시인성 ○ ○ △ ○ ○ △
정마찰 계수 0.48 0.36 0.51 0.41 0.45 0.42
내블로킹성 ○ ○ ○ ○ ○ ○
실시예 23 실시예 24 실시예 25 실시예 26
광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]		 90 90 90 90
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]		 800 800 800 800
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]		 530 505 520 215
d1/r1 0.11 0.11 0.11 0.11
하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]		 980 980 980 980
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]		 120 120 120 120
d2/r2 8.17 8.17 8.17 8.17
광학 조정층의 표면의
산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1		 1.32 1.35 1.41 1.32
광학 조정층의 표면의
곡부측 면적[μm2]		 143146 101024 31405 20123
ITO 막두께[nm] 21 21 21 21
Hz[%] 1.20 1.19 1.25 0.80
전기 저항값[Ω/□] 149 145 141 141
시인성 △ △ △ ○
정마찰 계수 0.40 0.41 0.41 0.52
내블로킹성 ○ ○ ○ ○
주) *1 광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기는 실시예에 있어서는 광학 조정층에 함유되는 입자에 의한 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다.
표 17 및 표 18에 있어서, 실시예 17~26에 있어서의 투명 도전성 필름은 실시예 1~6 및 실시예 13~16의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 사용하고 있지만, Hz(헤이즈)가 낮고, 정마찰 계수가 낮다. 이 투명 도전성 필름은 시인성이 좋고, 투명 도전층 부착에서도 충분한 내블로킹성을 가지고 있다. 또 실시예 23~26에 있어서의 투명 도전성 필름은 광학 조정층의 표면의 곡부측 면적이 661780μm2당 200000μm2 이하이며, 전기 저항값도 낮다.
<금속층 부착 투명 도전성 필름의 평가 결과>
금속층 부착 투명 도전성 필름의 평가 결과를 다음의 표 19에 나타낸다.
실시예 27 실시예 28
광학 조정층의 평균 막두께 d1[nm] 90 90
광학 조정층 함유 입자의 평균 입경 r1[nm] 800 800
광학 조정층 함유 입자의 개수 N[개/mm2] 530 215
d1/r1 0.11 0.11
하드 코트층의 평균 막두께 d2[nm] 980 980
하드 코트층 함유 입자의 평균 입경 r2[nm] 120 120
d2/r2 8.17 8.17
광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1 1.32 1.32
광학 조정층의 표면의 곡부측 면적[μm2] 143146 20123
ITO 막두께[nm] 21 21
구리 막두께[nm] 200 200
정마찰 계수 0.32 0.38
내블로킹성 ○ ○
주) *1 광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기는 실시예에 있어서는 광학 조정층에 함유되는 입자에 의한 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다.
표 19에 있어서, 실시예 27~28에 있어서의 금속층 부착 투명 도전성 필름은 실시예 23 및 실시예 26의 투명 도전성 필름을 사용하고 있지만, 전극이 되는 금속층을 부착해도 충분한 내블로킹성을 가지고 있다.
<평가 방법>
(Hz)
닛폰덴쇼쿠코교 가부시키가이샤(Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.)제 「Haze Meter NDH2000(제품명)」을 사용하여, JIS-K7136의 방법으로 측정했다.
(시인성)
삼파장 형광등의 투과광을 육안으로 관찰하고, 입자가 거의 보이지 않는 경우를 ○로 하고, 입자를 육안으로 확인할 수 있지만 하나하나의 입자가 확실하게 보이지 않는 경우를 △로 하고, 하나하나의 입자가 확실하게 보이는 경우를 ×로 했다.
(내블로킹성)
가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼(Shimadzu Corporation)제 「오토그래프(AUTOGRAPH) AG-IS MS(AG-1kNIS)(제품명)」을 사용하여, 마찰 방향 60mm×50mm의 면적에 4.4kg 중의 수직 하중을 가하여 시료의 측정면끼리의 정마찰 계수를 측정했다. 정마찰 계수가 1 이상인 경우를 ×로 하고, 1 미만인 경우를 ○로 했다.
(입자 탈락)
테스터산교 가부시키가이샤(Tester Sangyo Co., Ltd.)제 「AB-301 COLOR FASTNESS RUBBING TESTER(제품명)」을 사용하여, 플란넬(16호 쌍사 플란넬 WKF2254)을 500g의 하중으로 500 왕복 광학 조정층의 면을 문지르고, 그 후 표면을 가부시키가이샤 기엔스(Keyence Corporation)제 「마이크로스코프(Microscope) VHX-1000(제품명)」을 사용하여 입자(4a)의 탈락이 없는지 확인했다. 입자(4a)의 탈락이 없는 것을 ○로 하고, 입자(4a)의 탈락이 있는 것을 ×로 했다.
(하드 코트층의 평균 막두께)
하드 코트층(3)의 평균 막두께는 필메트릭스(Filmetrics) 가부시키가이샤제 「Filmetrics F20 막두께 측정 시스템(제품명)」을 사용하여 측정했다.
(광학 조정층의 평균 막두께)
광학 조정층(4)의 막두께는 이하의 순서로 측정했다.
(1) 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼(Shimadzu Corporation)제 「UV3600(제품명)」을 사용하고, 파장 380~800nm에 있어서의 반사율을 측정하여 파형을 얻는다.
(2) 광학 시뮬레이션 소프트에, 광학 조정층(4)의 막두께 이외의 적층막의 정보 [구성, 투명 기재 필름(2)의 굴절률(1.52로 했다)과 두께, 하드 코트층(3)의 굴절률(1.50으로 했다)과 평균 막두께(상기한 하드 코트층(3)의 평균 막두께의 측정값), 광학 조정층의 굴절률(실시예 13~16은 1.60으로 했다. 그 밖의 실시예는 1.62로 했다)]를 넣는다.
(3) 광학 시뮬레이션의 광학 조정층에 임의의 막두께를 입력하여 얻어진 파형과, (1)에서 얻어진 파형이 일치했을 때의 막두께값을 광학 조정층의 평균 막두께로 한다.
즉, 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼(Shimadzu Corporation)제 「UV3600(제품명)」을 사용하여 간섭 파형을 얻은 후, 측정한 간섭 파형과 시뮬레이션에 의한 계산 파형이 일치하는 막두께값을 광학 조정층의 평균 막두께로 했다.
(하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입경)
국제표준화기구규격 ISO 13320을 기초로 하는 일본공업규격 JIS Z8825에 따른 레이저 회절·산란법에 의해 얻어지는 체적 기준의 입자 직경 분포의 산술 평균값을 입자의 평균 입경으로 했다.
(광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경)
국제표준화기구규격 ISO 13320을 기초로 하는 일본공업규격 JIS Z8825에 따른 레이저 회절·산란법에 의해 얻어지는 체적 기준의 입자 직경 분포의 산술 평균값을 입자의 평균 입경으로 했다.
(광학 조정층의 특정 부분의 산술 평균 거칠기 Ra)
미츠비시케미컬시스템 가부시키가이샤(Mitsubishi Chemical Systems, Inc.)(구 사명 : 가부시키가이샤 료카시스템(Ryoka Systems Inc.))제 「비접촉 표면·층단면 형상 계측 시스템 VertScan 2.0(형식 : R5300GL-L-A100-AC)(제품명)」을 사용하여 50mm×50mm로 잘라낸 샘플을 스테이지에 두고, 10배 렌즈로 표면 형상의 측정을 행했다. 그 후, 측정 데이터를 관찰하여, 광학 조정층(4)에 포함되는 입자(4a)에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기 Ra를 산출했다.
(광학 조정층 함유 입자의 개수 N)
미츠비시케미컬시스템 가부시키가이샤(Mitsubishi Chemical Systems, Inc.)(구 사명 : 가부시키가이샤 료카시스템(Ryoka Systems Inc.))제 「비접촉 표면·층단면 형상 계측 시스템 VertScan 2.0(형식 : R5300GL-L-A100-AC(제품명))을 사용하여, 50mm×50mm로 잘라낸 샘플을 스테이지에 두고, 10배 렌즈로 표면 형상의 측정을 행했다. 그 후, 측정 데이터의 입자 해석을 실행하여 1mm×1mm에 있어서의 광학 조정층(4)의 표면으로부터 50nm 이상의 높이가 있는 입자 개수를 세었다.
(광학 조정층의 표면의 곡부측 면적)
미츠비시케미컬시스템 가부시키가이샤(Mitsubishi Chemical Systems, Inc.)(구 사명 : 가부시키가이샤 료카시스템(Ryoka Systems Inc.))제 「비접촉 표면·층단면 형상 계측 시스템 VertScan 2.0(형식 : R5300GL-L-A100-AC(제품명))」을 사용하여, 50mm×50mm로 잘라낸 샘플을 스테이지에 두고, 5배 렌즈로 표면 형상의 측정을 행했다. 그 후, 측정 데이터의 베어링 해석을 실행하여, 입자(4a)가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층(4)의 평균 높이로부터 3nm 이상 곡부측인 면적(광학 조정층의 표면의 곡부측 면적)을 661780μm2당의 값으로 산출했다.
(투명 도전성 필름의 전기 저항값)
가부시키가이샤 미츠비시케미컬애널리테크(Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.)(구 사명 : 가부시키가이샤 미츠비시카가쿠애널리테크)제 「Loresta-GP(형식 : MCP-T610)(제품명)」을 사용하여 측정했다.
(산업상 이용 가능성)
이상에 나타내는 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름은 정전용량식의 터치패널 등에 적합하게 사용된다.
1…광학 조정층 부착 하드 코트 필름
2…투명 기재 필름
3…하드 코트층
3a…입자
4…광학 조정층
4a…입자
6…보호 필름

Claims (9)

  1. 비정성 폴리머로 이루어지는 투명 기재 필름과, 그 투명 기재 필름의 적어도 일방의 면에 순서대로 적층된 하드 코트층 및 그 위의 광학 조정층을 구비하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름으로서,
    상기 광학 조정층에는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 상기 광학 조정층의 평균 막두께보다 크며, 그 평균 입경 r1과 그 평균 막두께 d1이
    50nm≤(r1-d1)≤1900nm
    의 관계에 있으며, 또
    상기 광학 조정층의 표면의, 상기 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm의 범위에 있는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경 r1은 100nm~2000nm의 범위에 있고, 그 평균 입경 r1(nm)과 그 입자의 개수 N(개/mm2)이
    199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)
    의 관계에 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 광학 조정층의 평균 막두께 d1과, 그 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경 r1이
    (d1/r1)<0.5
    의 관계에 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하드 코트층에는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 상기 하드 코트층의 평균 막두께보다 작으며, 그들 입자는 상기 하드 코트층의 표면에 편재하고 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 하드 코트층의 평균 막두께 d2와, 그 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입경 r2가
    (d2/r2)>2
    의 관계에 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 조정층의 표면의 곡부측 면적이 661780μm2당 200000μm2 이하인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하드 코트층 및 상기 광학 조정층은 상기 투명 기재 필름의 일방의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름의 타방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
  8. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하드 코트층 및 상기 광학 조정층은 상기 투명 기재 필름의 양쪽의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름의 어느 일방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 조정층 부착 하드 코트 필름에 있어서의 광학 조정층의 표면에 투명 도전층이 형성되어 이루어지는 투명 도전성 필름.
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