CN103298533A - 包括萃取的流体处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明在于提供能够高效连续地萃取被萃取物的、包括萃取的流体处理方法。在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面1、2间形成的薄膜流体中，进行使至少1种被萃取物向能够萃取上述被萃取物的至少1种萃取溶剂中萃取的流体处理。另外，进行以下的流体处理：将含有上述至少1种被萃取物的流体和含有上述至少1种萃取溶剂的萃取用流体在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面1、2间形成的薄膜流体中混合，使上述至少1种被萃取物向上述至少1种萃取溶剂中萃取。

Description

包括萃取的流体处理方法

技术领域

本发明涉及利用了薄膜流体的被萃取物的萃取方法及使用了该萃取方法的流体处理方法。

背景技术

作为用于将目标物质(以下，作为被萃取物)分离·精制的代表性的处理之一，有萃取。作为萃取被萃取物的装置、其方法，一般是实验室中的使用分液漏斗等的批量式，但在面向实际生产而规模扩大化了的情况下，具有不仅萃取不充分而且处理时间自然而然地变长等的问题，因此，到目前为止已提供各种连续式的萃取方法。

作为连续地萃取被萃取物的装置、其方法，有如专利文献1～3那样的装置及方法，但需要根据被萃取物的状态(气体、液体或固体)、其大小、物理·化学性质或处理量等的各条件来使用各种形式的装置或方法。另外，作为用于连续地萃取铂族元素等的贵金属、铟等的稀有金属等的金属的装置、其方法，可举出如专利文献4中那样的向流式连续萃取装置、专利文献5中所记载的那样的利用了超临界的分离回收方法等。

但是，如果要将上述举出的萃取装置、萃取方法应用于生产规模，则装置变得高价，或由于萃取工序复杂化而处理时间而变长等，有时不能引起能量、成本的降低。

另外，由本申请的申请人提供了如专利文献6、专利文献7那样的、在对向配设的可接近·分离的至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用表面间将流体混合·搅拌、进行反应·合成·晶析等的处理的流体处理装置及处理方法，但对于萃取被萃取物的萃取方法并没有公开。因此，请求能够以高的萃取效率(以下为高收率)容易地萃取被萃取物的萃取方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2000-254406号公报

专利文献2：特开2008-100149号公报

专利文献3：特开平10-263303号公报

专利文献4：特开2004-323947号公报

专利文献5：特开平8-291345号公报

专利文献6：特开2004-49957号公报

专利文献7：国际公开WO2009／008394号小册子

发明内容

发明要解决的课题

本发明，是解决上述的问题的发明，其目的在于提供能够高效连续地萃取被萃取物的、包括萃取的流体处理方法。更优选的是，谋求能够以高收率连续地萃取被萃取物的、包括萃取的流体处理方法的提供。

用于解决课题的手段

本发明人，进行了锐意研究，结果发现：通过将含有被萃取物的流体和含有能够萃取上述被萃取物的萃取溶剂的萃取用流体在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面间进行混合，能够进行将被萃取物高效且有效地萃取到萃取溶剂中的处理，完成了本发明。

本发明提供流体处理方法，其特征在于，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中，将至少1种被萃取物萃取到能够萃取上述被萃取物的至少1种萃取溶剂中。

另外，本发明可以如下实施，即：使用至少2种流体作为被处理流动体，其中至少1种流体是含有上述至少1种被萃取物的流体，上述以外的流体中至少其它的1种流体是含有上述至少1种萃取溶剂的萃取用流体，使作为上述被处理流动体的含有上述至少1种被萃取物的流体和上述萃取用流体，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中进行混合，将上述被萃取物萃取到上述萃取溶剂中。

另外，本发明可以如下实施，即：含有上述至少1种被萃取物的流体和上述萃取用流体中的任一方的被处理流动体一边形成上述薄膜流体一边通过上述处理用面间，具备与上述任一方的被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路，在上述至少2个处理用面的至少任一方中，具备至少一个与上述导入路相通的开口部，将含有上述至少1种被萃取物的流体和上述萃取用流体中的任一其它的被处理流动体从上述开口部导入上述处理用面间，将含有上述至少1种被萃取物的流体和上述萃取用流体在上述薄膜流体中混合，将上述被萃取物萃取到上述萃取溶剂中。

另外，本发明可以如下实施，即：具备：第1处理用部和相对于第1处理用部可接近·分离的第2处理用部至少2个处理用部、使上述第1处理用部和第2处理用部相对旋转的旋转驱动机构，在上述第1及第2处理用部中相互对向的位置，设置有第1处理用面及第2处理用面的至少2个处理用面，在上述第1处理用面和第2处理用面之间进行上述被处理流动体的处理，使上述被处理流动体通过可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的上述第1处理用面和上述第2处理用面之间，上述被处理流动体一边形成上述薄膜流体一边通过上述两处理用面间，由此将上述被萃取物萃取到上述萃取溶剂中。

另外，本发明可以如下实施，即：具备对上述被处理流动体赋予压力的流体压赋予机构，上述第1处理用面和第2处理用面是被赋予了上述压力的被处理流动体流过的、构成强制状态的流路的一部分的面，在上述第1处理用部和第2处理用部中的至少第2处理用部，具备受压面，且该受压面的至少一部分由上述第2处理用面构成，该受压面受到上述流体压赋予机构赋予被处理流动体的压力而产生在使第2处理用面从上述第1处理用面分离的方向移动的力，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的上述第1处理用面和上述第2处理用面之间导入含有上述至少1种被萃取物的流体和上述萃取用流体中的任一方的被处理流动体，具备至少一个与上述任一方的被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路，在上述第1处理用面和第2处理用面的至少任一方中具备至少一个与上述导入路相通的开口部，将含有上述至少1种被萃取物的流体和上述萃取用流体中的任一其它的被处理流动体从上述开口部导入上述两处理用面间，被导入上述两处理用面间的这些被处理流动体一边形成上述薄膜流体一边通过上述两处理用面间，将这些被处理流动体进行混合，由此将上述被萃取物萃取到上述萃取溶剂中。

另外，本发明可以如下实施，即：具备对上述被处理流动体赋予压力的流体压赋予机构，上述的第1处理用面和第2处理用面是上述赋予了压力的被处理流动体流过的、构成强制状态的流路的一部分的面，在上述第1处理用部和第2处理用部中的至少第2处理用部，具备受压面，且该受压面的至少一部分由上述第2处理用面构成，该受压面受到上述流体压赋予机构赋予被处理流动体的压力而产生在使第2处理用面向从上述第1处理用面分离的方向移动的力，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的上述第1处理用面和上述第2处理用面之间，导入含有上述至少1种被萃取物的流体和上述萃取用流体中的任一方的被处理流动体，具备与上述任一方的被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路，在上述第1处理用面和第2处理用面的至少任一方中具备至少一个与上述导入路相通的开口部，将含有上述至少1种被萃取物的流体和上述萃取用流体中的任一其它的被处理流动体，从上述开口部导入上述两处理用面间，导入上述两处理用面间的这些被处理流动体一边形成上述薄膜流体一边通过上述两处理用面间，将这些被处理流动体混合·反应，由此将上述被萃取物萃取到上述萃取溶剂中。

另外，本发明可以如下实施，即：使用第1、第2、第3的至少3种流体作为被处理流动体，在上述第1流体和上述第2流体中的至少任一方的流体中，以未反应的状态含有上述至少1种被萃取物，上述第3流体是含有能够以未反应的状态或反应后的状态萃取上述被萃取物的上述至少1种萃取溶剂的萃取用流体，上述被处理流动体中的至少任一种流体一边形成上述薄膜流体一边通过上述两处理用面间，具备至少2个与上述至少任一种流体流过的流路独立的另外的导入路，该至少2个另外的导入路相互独立，在上述第1处理用面和第2处理用面的至少任一方中具备与上述至少2个另外的导入路的每个分别相通的开口部，将与上述至少任一种流体不同的剩余的被处理流动体从上述各个开口部导入上述处理用面之间，将上述被处理流动体在上述薄膜流体中混合，使上述第1流体和上述第2流体反应，由此将由上述反应生成的反应主产物和反应副产物中的至少任一种作为上述被萃取物而萃取到上述萃取溶剂中。

发明的效果

根据本发明，能够高效且有效地连续地进行萃取处理，因此，能够比以往更简单且在低能量、低成本下进行，可廉价且稳定地提供工业上需要萃取的产品。另外，根据本发明，对于收率(萃取效率)的控制，也能够容易地进行，因此可提供与目标对应的萃取物。进而，根据本发明，能够连续地进行萃取处理和反应、析出、溶解或分子分散等的流体处理，因此，能够更高效地进行包括萃取的流体处理。

附图说明

图1是本发明实施方式涉及的流体处理装置的简略剖面图。

图2(A)是图1中所示的流体处理装置的第1处理用面的简略平面图，(B)是该装置的处理用面的主要部分放大图。

图3(A)是该装置的第2导入部的剖面图，(B)是用于说明该第2导入部的处理用面的主要部分放大图。

图4是本发明其它实施方式涉及的该装置的简略剖面图。

具体实施方式

以下，对于本发明说明详细内容。但是，本发明的技术范围不被下述实施方式及实施例所限定。

本发明中的被萃取物，没有特别限定。可以使用与目标对应的被萃取物。如果举一个例子，可举出天然存在的物质(天然物)、人工合成的有机物、无机物或有机·无机的复合物。作为天然物没有特别限定，例如为动植物、菌类等的生物体或土壤、河川·海中等中所含的成分。作为一个例子，可举出蛋白质、氨基酸、胡萝卜素、儿茶素等。除此之外，可举出金属、非金属、或它们的化合物、离子等的成分。作为金属或非金属的化合物，没有特别限定，如果举出一个例子，可举出金属或非金属的盐、氧化物、氮化物、碳化物、络合物、有机盐、有机络合物、有机化合物、或这些化合物的水合物、有机溶剂合物等。

在本发明中，将上述被萃取物混合或溶解于后述的气体状态或液体状态的溶剂中，作为含有至少1种被萃取物的流体来使用，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面间，将含有至少1种被萃取物的流体和含有能够萃取上述被萃取物的至少1种萃取溶剂的、用于萃取上述被萃取物的萃取用流体进行混合，由此可将上述被萃取物萃取到上述萃取溶剂中。

上述被萃取物的萃取处理前后的流体中的状态没有特别限定。可以是溶解或分子分散在后述的气体状态或液体状态的溶剂中的状态，也可以是固体或乳液等的微粒在溶剂中被分散了的状态地被悬浮了的状态。另外，也可以在上述被萃取物的萃取处理的前后伴有反应、析出、溶解、分子分散等。特别是在由反应而产生的目标化合物(主产物)或由上述反应而产生的副产物使其反应效率降低的情况下，通过连续地实施反应和上述目标化合物(主产物)或副产物的萃取，能够比以往更高效且有效地获得目标化合物。在该情况下，上述的目标化合物(主产物)或副产物称为上述被萃取物。

例如，作为一个事例进行金属离子的萃取的情况下，通过在某一定的pH范围进行实施而减少分配系数的降低。另外，在由于在有机反应·有机合成中生成作为副产物的水而形成平衡反应、反应不进行的事例中，将作为副产物的水萃取到水性溶剂中而排除到系统外，由此能够进行生成反应。在本事例中，除了将作为副产物的水萃取到水性溶剂中而排除到系统外之外，将目标化合物(主产物)萃取到有机溶剂中而排除到系统外也能够进行生成反应，只要将目标产物(主产物)和副产物中的至少任一种作为被萃取物萃取到萃取溶剂中即可。不限于这些，可以通过组合所有的反应和萃取来高效且有效地得到目标物。需要说明的是，所谓本发明中的分配系数，设为萃取处理后的移动到上述萃取溶剂中的上述至少1种被萃取物的量／残留在含有上述至少1种被萃取物的流体中的上述至少1种被萃取物的量。

另外，含有至少1种被萃取物的流体、后述的萃取用流体，可以是液体状态，也可以是气体状态，也可以是超临界状态、亚临界状态。

作为在含有上述至少1种被萃取物的流体中可以使用的溶剂，没有特别限定，例如可举出水、有机溶剂、或包含它们的多种混合溶剂。他么可以为液体状态也可以为气体状态。作为上述水，可举出自来水、离子交换水、纯水、超纯水、RO水等，作为有机溶剂，可举出醇化合物系溶剂、酰胺化合物系溶剂、酮化合物系溶剂、醚化合物系溶剂、有机磷酸化合物系溶剂、芳香族化合物系溶剂、二硫化碳系溶剂、脂肪族化合物系溶剂、腈化合物系溶剂、亚砜化合物系溶剂、卤素化合物系溶剂、酯化合物系溶剂、离子性液体、羧酸化合物、磺酸化合物等。上述的溶剂可以分别单独使用或也可以将多种以上溶剂混合使用。

除此之外，在上述溶剂中也可以混合或溶解碱性物质或酸性物质而实施。作为碱性物质，可举出氢氧化钠、氢氧化钾等的金属氢氧化物、如碳酸氢钠、碳酸钠这样的碳酸盐、如甲醇钠、异丙醇钠这样的金属醇盐，还可举出三乙胺、二乙基氨基乙醇、二乙胺等的胺系化合物、氨等。作为酸性物质，可举出王水、盐酸、硝酸、发烟硝酸、硫酸、发烟硫酸等的无机酸、甲酸、醋酸、氯乙酸、二氯乙酸、草酸、柠檬酸、抗坏血酸、磷酸、三氟乙酸、三氯乙酸等的有机酸。这些碱性物质或酸性物质，也可以如上所述与各种溶剂混合而实施，也可以分别单独使用。

作为用于上述与含有至少1种被萃取物的流体混合而萃取被萃取物的萃取用流体，采用含有能够萃取上述被萃取物的至少1种萃取溶剂的流体。上述的萃取溶剂中，可以使用与在含有上述至少1种被萃取物的流体中能够使用的溶剂一样的溶剂。可以根据目标被萃取物适宜地选择在含有至少1种被萃取物的流体中使用的溶剂和萃取用流体中使用的萃取溶剂来实施。

在本发明中，作为用于进行含有上述至少1种被萃取物的流体和含有上述至少1种萃取溶剂的萃取用流体的混合的、在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中均匀地进行搅拌·混合的方法及装置，例如，优选使用与本愿申请人提出的专利文献6或专利文献7中记载的同原理的装置。通过使用这样的原理的装置，可高效且有效地连续地进行萃取处理。

以下，使用附图，对上述流体处理装置的实施方式进行说明。

图1～图3所示的流体处理装置，与专利文献7记载的装置相同，所述装置为如下装置：在可接近·分离的至少一方相对于另一方相对地旋转的处理用部中的处理用面之间处理被处理物，即，将被处理流动体中的作为第1被处理流动体的第1流体导入处理用面间，从与导入了上述第1流体的流路独立、具备与处理用面间的开口部相通的其它流路将被处理流动体中的第2被处理流动体即第2流体导入处理用面间，在处理用面间将上述第1流体和第2流体进行混合·搅拌来进行处理。需要说明的是，在图1中，U表示上方，S表示下方，在本发明中，上下前后左右仅限于表示相对的位置关系，并不特定绝对的位置。在图2(A)、图3(B)中，R表示旋转方向。在图3(B)中，C表示离心力方向(半径方向)。

该装置为如下装置：使用至少2种流体，对于其中至少1种流体，包含至少1种被处理物，具备可接近·分离地相互对向配设的至少一方相对于另一方旋转的处理用面，在这些处理用面之间使上述各流体汇合而形成薄膜流体，在该薄膜流体中处理上述被处理物。该装置如上所述，可以处理多个被处理流动体，但也可以处理单一的被处理流动体。

该流体处理装置具备对向的第1及第2的2个处理用部10、20，至少一方处理用部进行旋转。两处理用部10、20的对向的面分别成为处理用面。第1处理用部10具备第1处理用面1，第2处理用部20具备第2处理用面2。

两处理用面1、2与被处理流动体的流路连接，构成被处理流动体的流路的一部分。该两处理用面1、2间的间隔可以适宜变更进行实施，通常调整为1mm以下，例如0.1μm～50μm左右的微小间隔。由此，通过该两处理用面1、2间的被处理流动体，成为由两处理用面1、2所强制的强制薄膜流体。

在使用该装置处理多个被处理流动体的情况下，该装置与第1被处理流动体的流路连接，形成该第1被处理流动体的流路的一部分，同时，形成与第1被处理流动体不同的第2被处理流动体的流路的一部分。而且，该装置进行如下流体的处理：使两流路合流，在处理用面1、2间，混合两被处理流动体，使其反应等。需要说明的是，在此，“处理”并不限于被处理物反应的方式，也包含不伴随反应而仅进行混合·分散的方式。

具体地进行说明时，具备：保持上述第1处理用部10的第1托架11、保持第2处理用部20的第2托架21、接面压力赋予机构、旋转驱动机构、第1导入部d1、第2导入部d2和流体压力赋予机构p。

如图2(A)所示，在该实施方式中，第1处理用部10为环状体，更详细而言，其为圈状的圆盘。另外，第2处理用部20也为环状的圈状的圆盘。第1、第2处理用部10、20的材质除金属之外，可以采用对陶瓷或烧结金属、耐磨耗钢、蓝宝石、其它金属实施有固化处理的材料或将硬质材料实施有加衬或涂层、镀敷等的材料。在该实施方式中，两处理用部10、20，相互对向的第1、第2处理用面1、2的至少一部分被行镜面研磨。

该镜面研磨的面粗糙度没有特别限定，优选设为Ra0.01～1.0μm，更优选为Ra0.03～0.3μm。

至少一方的托架可以用电动机等旋转驱动机构(无图示)相对于另一方的托架相对地进行旋转。图1的50表示旋转驱动机构的旋转轴，在该例中，该旋转轴50上所安装的第1托架11进行旋转，该第1托架11上所支承的第1处理用部10相对于第2处理用部20进行旋转。当然，可以使第2处理用部20旋转，也可以使两者旋转。另外，在该例中，将第1、第2托架11、21，使第1、第2处理用部10、20相对于该第1、第2托架11、21旋转也是可以的。

第1处理用部10和第2处理用部20至少任一方可与至少任意另一方接近·分离，两处理用面1、2可接近·分离。

在该实施方式中，第2处理用部20相对于第1处理用部10接近·分离，在设置于第2托架21的收容部41中可以可出没地收容第2处理用部20。但是，相反地，可以第1处理用部10可相对于第2处理用部20接近·分离，也可以两处理用部10、20相互接近·分离。

该收容部41为第2处理用部20的主要收容与处理用面2侧相反侧的部位的凹部，从平面看，其为呈现圆的即形成为环状的槽。该收容部41具有可以可使第2处理用部20旋转的充分的间隙，收容第2处理用部20。需要说明的是，第2处理用部20以在轴方向可以仅进行平行移动的方式配置，通过增大上述间隙，第2处理用部20也可以以消除与上述收容部41的轴方向平行的关系的方式使处理用部20的中心线相对于收容部41倾斜而位移，进而，可以以第2处理用部20的中心线和收容部41的中心线在半径方向偏离的方式进行位移。

这样，希望通过3维且可以位移地保持的浮动机构来保持第2处理用部20。

上述被处理流动体，在通过由各种泵、位置能量等构成的流体压力赋予机构p赋予压力的状态下，从成为流体流动的流路的第1导入部d1和第2导入部d2导入两处理用面1、2间。在该实施方式中，第1导入部d1为设置在环状的第2托架21的中央的流体的通路，其一端从环状的两处理用部10、20的内侧被导入两处理用面1、2间。第2导入部d2向处理用面1、2供给第1被处理流动体和进行反应的第2被处理流动体。在该实施方式中，第2导入部d2为设置于第2处理用部20的内部的流体的通路，其一端在第2处理用面2上开口。通过流体压力赋予机构p所加压的第1被处理流动体从第1导入部d1被导入两处理用部10、20的内侧的空间，通过第1处理用面1和第2处理用面2之间，在两处理用部10、20的外侧穿过。在这些处理用面1、2间，从第2导入部d2供给通过流体压力赋予机构p所加压的第2被处理流动体，与第1被处理流动体合流，进行混合、搅拌、乳化、分散、反应、晶出、晶析、析出等各种流体处理，从两处理用面1、2排出至两处理用部10、20的外侧。需要说明的是，也可以通过减压泵使两处理用部10、20的外侧的环境为负压。

上述接面压力赋予机构将作用于使第1处理用面1和第2处理用面2接近的方向的力赋予处理用部。在该实施方式中，接面压力赋予机构设置在第2托架21上，将第2处理用部20向第1处理用部10赋能。

上述接面压力赋予机构，第1处理用部10的第1处理用面1和第2处理用部20的第2处理用面2压在进行接近的方向，通过与使该接面压力和流体压力等两处理用面1、2间分离的力的均衡，产生具有nm单位至μm单位的微小的膜厚的薄膜流体。换言之，通过上述力的均衡，将两处理用面1、2间的间隔保持在规定的微小间隔。

在图1所示的实施方式中，接面压力赋予机构配位于上述收容部41和第2处理用部20之间。具体而言，由向将第2处理用部20靠近于第1处理用部10的方向赋能的弹簧43和导入空气、油等赋能用流体的赋能用流体的导入部44构成，通过弹簧43和上述赋能用流体的流体压力赋予上述接面压力。该弹簧43和上述赋能用流体的流体压力赋予任一方即可，可以为磁力或重力等其它的力。抵抗该接面压力赋予机构的赋能，由于通过流体压力赋予机构p所加压的被处理流动体的压力、粘性等产生的分离力，第2处理用部20远离第1处理用部10，在两处理用面间打开微小的间隔。这样，利用该接面压力和分离力的平衡，以μm单位的精度设定第1处理用面1和第2处理用面2，进行两处理用面1、2间的微小间隔的设定。作为上述分离力，可以举出被处理流动体的流体压或粘性和处理用部的旋转形成的离心力、对赋能用流体导入部44施加负压时的该负压、将弹簧43制成抗张弹簧时的弹簧的力等。该接面压力赋予机构不是第2处理用部20，可以设置于第1处理用部10，也可以设置于两者。

对上述分离力进行具体说明时，第2处理用部20与上述第2处理用面2同时具备位于第2处理用面2的内侧(即，被处理流动体向第1处理用面1和第2处理用面2之间的进入口侧)而与该第2处理用面2邻接的分离用调整面23。在该例中，分离用调整面23作为倾斜面被实施，但也可以为水平面。被处理流动体的压力作用于分离用调整面23，产生使第2处理用部20从第1处理用部10分离的方向的力。因此，用于产生分离力的受压面成为第2处理用面2和分离用调整面23。

进而，在该图1的例中，在第2处理用部20中形成有近接用调整面24。该近接用调整面24，为与分离用调整面23在轴方向上相反侧的面(在图1中为上方的面)，被处理流动体的压力发生作用，产生使第2处理用部20向第1处理用部10接近的方向的力

需要说明的是，作用于第2处理用面2及分离用调整面23的被处理流动体的压力、即流体压，可理解为构成机械密封中的开启力的力。投影于与处理用面1、2的接近·分离的方向、即第2处理用部20的出没方向(在图1中为轴方向)正交的假想平面上的近接用调整面24的投影面积A1和投影于该假想平面上的第2处理用部20的第2处理用面2及分离用调整面23的投影面积的合计面积A2的面积比A1/A2被称为平衡比K，上述开启力的调整上是重要的。对该开启力而言，可以通过变更上述平衡线、即近接用调整面24的面积A1，通过被处理流动体的压力、即流体压进行调整。

滑动面的实面压P、即接面压力中的流体压产生的压力用下式进行计算。

P＝P1×(K-k)＋Ps

在此，P1表示被处理流动体的压力即流体压，K表示上述平衡比，k表示开启力系数，Ps表示弹簧及背压力。

通过利用该平衡线的调整调整滑动面的实面压P而使处理用面1、2间为所期望的微小间隙量，形成被处理流动体产生的流动体膜，将产物等被处理了的被处理物制成微细，另外，进行均匀的反应处理。

需要说明的是，省略图示，也可以将近接用调整面24形成具有比分离用调整面23还大的面积的面进行实施。

被处理流动体成为通过保持上述微小的间隙的两处理用面1、2而被强制的薄膜流体，移动至环状的两处理用面1、2的外侧。但是，由于第1处理用部10旋转，因此，所混合的被处理流动体不会从环状的两处理用面1、2的内侧向外侧直线地移动，向环状的半径方向的移动向量和向周方向的移动向量的合成向量作用于被处理流动体，从内侧向外侧大致漩涡状地移动。

需要说明的是，旋转轴50并不限定于垂直配置的旋转轴，可以为在水平方向配位的旋转轴，也可以为倾斜配位的旋转轴。这是因为被处理流动体以两处理用面1、2间的微细的间隔进行处理，实质上可以排除重力的影响。另外，该接面压力赋予机构通过与可位移地保持上述第2处理用部20的浮动机构并用，也作为微振动、旋转对准的缓冲机构起作用。

第1、第2处理用部10、20可以将其至少任一方进行冷却或加热而调整其温度，在图1中，图示有在第1、第2处理用部10、20上设有温调机构(温度调整机构)J1,J2的例子。另外，可以将所导入的被处理流动体进行冷却或加热而调整其温度。这些温度也可以用于所处理的被处理物的析出，另外，也可以为了在第1、第2处理用面1、2间的被处理流动体上产生贝纳尔对流或马朗格尼对流而设定。

如图2所示，可以在第1处理用部10的第1处理用面1上形成从第1处理用部10的中心侧向外侧、即在径方向伸长的槽状的凹部13而实施。该凹部13的平面形状，如图2(B)所示，可以为将第1处理用面1上弯曲或漩涡状地伸长而成的形状或没有图示，也可以为笔直地向外方向伸长的形状、L字状等地屈曲或弯曲而成的形状、连续而成形状、断续而成的形状、分支而成的形状。另外，该凹部13也可作为形成于第2处理用面2而实施，也可作为形成于第1及第2处理用面1、2的两者而实施。通过形成这样的凹部13可得到微泵效果，具有可在第1及第2处理用面1、2间抽吸被处理流动体的效果。

该凹部13的基端优选达到第1处理用部10的内周。该凹部13的前端向第1处理用部面1的外周面侧延伸，其深度(横截面积)随着从基端向前端而逐渐减小。

该凹部13的前端与第1处理用面1的外周面之间，设有没有凹部13的平坦面16。

在第2处理用面2上设有上述第2导入部d2的开口部d20的情况下，优选设置于与对向的上述第1处理用面1的平坦面16对向的位置。

该开口部d20，优选设置在比第1处理用面1的凹部13更靠下游侧(在该例子中为外侧)。特别是优选设置在与通过微泵效果导入时的流动方向变换为在处理用面间形成的螺旋状层流的流动方向的点相比外径侧的与平坦面16对向的位置。具体而言，在图2(B)中，优选将至径向的距离n设为距在第1处理用面1上设置的凹部13的最外侧的位置的约0.5mm以上。特别是在从流体中使微粒析出的情况下，优选在层流条件下进行多种被处理流动体的混合和微粒的析出。开口部d20的形状，可以为如图2（B）、图3（B）中所述的圆形状，虽然未图示，也可为将作为环状盘的处理用面2的中央的开口卷曲的同心圆状的圆环形状。另外，在使开口部为圆环形状的情况下，其圆环形状的开口部可以连续，也可以不连续。

该第2导入部d2可以具有方向性。例如，如图3(A)所示，来自上述第2处理用面2的开口部d20的导入方向相对于第2处理用面2以规定的仰角(θ1)倾斜。该仰角(θ1)设为超过0度且小于90度，进而，在反应速度快的反应的情况下，优选以1度以上且45度以下设置。

另外，如图3(B)所示，来自上述第2处理用面2的开口部d20的导入方向在沿上述第2处理用面2的平面上具有方向性。该第2流体的导入方向在处理用面的半径方向的成分中为远离中心的外方向，且在相对于进行了旋转的处理用面间中的流体的旋转方向的成分中为正向。换言之，以通过开口部d20的半径方向即外方向的线段为基准线g，具有从该基准线g向旋转方向R的规定的角度(θ2)。关于该角度(θ2)，也优选设为超过0度且低于90度。

该角度(θ2)可以根据流体的种类、反应速度、粘度、处理用面的旋转速度等各种的条件进行变更而实施。另外，也可以在第2导入部d2中完全不具有方向性。

上述被处理流体的种类和其流路的数在图1的例中设为2个，但可以为1个，也可以为3个以上。在图1的例中，从第2导入部d2在处理用面1、2间导入第2流体，该导入部可以设置于第1处理用部10，也可以设置于两者。另外，可以对一种被处理流体准备多个导入部。另外，对设置于各处理用部的导入用的开口部而言，其形状或大小或数量没有特别限制，可以适宜变更而实施。另外，可以就在上述第1及第2处理用面间1、2之前或更上游侧设置导入部的开口部。

以下，对于使用上述的装置进行的包括萃取的流出处理方法的具体的方式进行说明

在上述装置中，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的处理用面1、2之间形成的薄膜流体中(强制薄膜中)，作为被处理流动体混合含有至少1种萃取溶剂的萃取用流体和含有至少1种被萃取物的流体，使被萃取物萃取到萃取溶剂中。

被萃取物的萃取，在图1中所示的装置的、可以接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的处理用面1、2间一边强制地均匀混合一边进行。

首先，从作为一个流路的第1导入部d1将作为第1流体的含有至少1种萃取溶剂的萃取用流体导入可以接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方旋转的处理用面1、2间，在该处理用面1、2间制作由第1流体构成的薄膜流体即第1流体膜。

然后，从作为其它流路的第2导入部d2将作为第2流体的将至少1种被萃取物的流体直接导入在上述处理用面1、2间制作了的第1流体膜。

如上所述，通过被处理流体的供给压与对旋转的处理用面之间施加的压力的压力平衡，可以在固定了距离的处理用面1、2间将第1流体与第2流体混合，进行萃取反应。

在总是使处理用面1、2间的距离及被处理流动体的混合条件稳定化了的处理用面1、2间，将上述第1及第2流体膜化而混合，由此各流体的表面积增大，可助长其混合及／或扩散。因此，可以进行瞬间的被萃取物的萃取，可将被萃取物以高收率(萃取效率)萃取到萃取溶剂中。另外，在处理用面1、2间，在萃取多种被萃取物的情况中，能够将这些多种被萃取物分别以高收率萃取到萃取溶剂中，且能够使这些多种被萃取物的萃取比率稳定化。

需要说明的是，可以在处理用面1、2之间进行上述反应即可，因此也可以与上述相反地，从第1导入部d1导入第2流体，从第2导入部d2导入第1流体。也就是说，各流体中第1、第2这样的表述，只不过具有存在的多个流体的第n个这样为了识别的含义，也可能存在第3以上的流体。

如上所述，如图4中所示，除了第1导入部d1、第2导入部d2以外也可以在处理装置上设置在第2处理用面2上具有开口部d30的第3导入部d3，但在该情况中，例如，可以从各导入部将作为第1流体的含有至少1种萃取溶剂的萃取用流体、作为第2流体的含有至少1种被萃取物的流体、作为第3流体的与第1流体不同的含有至少1种萃取溶剂的萃取用流体分别导入处理装置。这样一来，能够分别管理各流体中的温度、压力，能够更稳定地精密地控制分配系数的变更、微调等的萃取处理。需要说明的是，第3导入部d3的开口部d30的位置无关。向各导入部导入的被处理流动体(第1流体～第3流体)的组合，可以任意设定。即使是设置了第4以上的导入部的情况也一样，这样，这样可将向处理装置导入的流体进行细分化。

另外，可以控制第1、第2流体等的被处理流动体的温度，或控制第1流体和第2流体等的温度差(即进行供给的各被处理流体的温度差)。为了控制进行供给的各被处理流体的温度、温度差，可以测定各被处理流体的温度(即将导入处理装置、更具体地说是处理用面1、2间之前的温度)，附加进行导入处理用面1、2间的各被处理流体的加热或冷却的机构而实施。

在本发明中，不限定于使用含有至少1种被萃取物的流体和含有至少1种萃取溶剂的萃取用流体的至少2种流体。预先将含有至少1种被萃取物的流体和含有至少1种萃取溶剂的萃取用流体混合，作为1种流体导入于处理用面1、2间而形成薄膜流体(流体膜)，由此也能够进行萃取处理。

进而，在本发明中，也可以在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的处理用面1、2间，进行其它的混合·扩散·反应·合成·晶析等的处理，作为其前后的处理进行上述萃取处理。在该情况中，没有特别限定，例如，从第1～第3的各导入部(d1、d2、d3)，将作为第1流体的含有至少1种被萃取物的流体、作为第2流体的与第1流体不同的含有至少1种被萃取物的流体、作为第3流体的含有至少1种萃取溶剂的萃取用流体分别导入处理装置，使用第1流体及第2流体来进行上述混合·扩散·反应·合成·晶析等的处理，将作为第3流体的萃取用流体导入处理用面1、2间，由此也能够在处理用面1、2间连续进行混合·扩散·反应·合成·晶析等的处理和萃取处理或分离·精制处理。作为萃取用流体的第3流体，能够通过与第1流体和第2流体进行混合而从各自的流体将目标物质即被萃取物进行萃取，也能够通过与混合了第1流体和第2流体的混合流体进行混合而将与未反应状态的被萃取物反应了的目标物质即被萃取物进行萃取。可以根据反应、合成、析出、晶析等的种类、可由此得到的被萃取物的种类，能够适当选择在哪个时刻向处理用面1、2间导入萃取溶剂的种类、萃取用流体来实施。需要说明的是，在该情况下，在第1流体和第2流体中，分别含有不同的至少1种被萃取物，就要萃取之前的被萃取物的状态，可以是未反应的状态，也可以是使未反应的状态的被萃取物反应了的状态。在本发明中，所谓被萃取物，与就要萃取之前以哪种状态存在无关。另外，本发明中，所谓萃取溶剂，与萃取时的被萃取物的状态无关，都能够萃取被萃取物。被萃取物的萃取时的状态，可以是未反应的状态，也可以是使未反应的状态的被萃取物反应了的状态即反应后的状态的被萃取物，双方的状态也可以混在。可以根据目标被萃取物的状态适当选择萃取溶剂而实施。

在上述的、可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的处理用面1、2间，在组合进行反应和萃取时，例如，如果从第1～第3的各导入部(d1、d2、d3)，将作为第1流体的含有至少1种被萃取物的流体、作为第2流体的与第1流体不同的含有至少1种被萃取物的流体、作为第3流体的含有至少1种萃取溶剂的萃取用流体导入处理装置，在处理用面1、2间将第1流体～第3流体进行混合，则不仅能够将通过第1流体和第2流体进行反应而生成的主产物和副产物中的至少任一种作为被萃取物萃取到在第3流体中所含的萃取溶剂中，而且能够通过将主产物和副产物中的至少任一种作为被萃取物萃取到萃取溶剂中而促进反应，能够连续进行反应和萃取。

在本例中，使用了第1～第3流体的3种流体，但预先将上述的第1～第3流体进行混合，形成1种流体而导入处理用面1、2间，也能够连续地进行反应和萃取。另外，将作为第1流体的含有至少1种被萃取物的流体、作为第2流体的与第1流体不同的含有至少1种被萃取物和至少1种萃取溶剂的萃取用流体的2种流体导入处理用面1、2间，也能够连续地进行反应和萃取。

作为在上述萃取处理的前后进行的反应，没有特别限定，可举出有机反应，无机反应，pH变化，氧化·还原反应，水解反应，缩聚反应，使用了螯合剂的反应，使用了反胶束或胶束的各种反应，通过使被析出物质溶解在良溶剂中、和与上述良溶剂相比对被析出物质的溶解度低的不良溶剂混合而使被析出物质析出的反应。

作为具体例，考虑在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的处理用面1、2间，进行作为有机反应的1种的酯化反应和萃取处理的流体处理方法。使用图4中所示的装置，从第1～第3的各导入部(d1、d2、d3)，将作为第1流体的含有羧酸的流体、作为第2流体的含有醇的流体、作为第3流体的含有能够萃取主产物或副产物的任一方的萃取溶剂的萃取用流体分别导入处理装置，在处理用面1、2间进行混合。这样一来，在处理用面1、2间，能够使上述第1～第3流体膜化而混合，连续地进行使羧酸与醇反应的酯化反应和将通过酯化反应生成的酯(主产物)或水(副产物)向萃取溶剂的萃取。即，能够通过将主产物或副产物萃取到萃取溶剂中而排除到系统外来促进反应。在本例中，可以说，被萃取物为主产物或副产物，含有上述至少1种被萃取物的流体含有构成上述至少1种被萃取物的至少1种成分，以未反应的状态含有上述至少1种被萃取物。

另外，在作为第3流体使用含有能够萃取主产物和副产物双方的萃取溶剂的萃取用流体的情况下、在使用作为第3流体的含有能够选择地萃取主产物的萃取溶剂和能够选择地萃取副产物的萃取溶剂的萃取用流体的情况下，能够在处理用面1、2间连续地进行反应和通过该反应而生成的主产物和副产物向萃取溶剂的萃取。

如果这样使用本发明公开的方法，则萃取方法不复杂化，可容易地进行连续的处理，可收率(萃取效率)良好地使处理量增加。

实施例

以下，对于本发明公开实施例来更详细地说明本发明。但本发明并不限于这些实施例。

需要说明的是，以下的实施例中，所谓“从中央”意为图1中所示的处理装置的“从第1导入部d1”，第1流体是指从第1导入部d1导入的前述的第1被处理流动体，第2流体是指从如图1所示的处理装置的第2导入部d2导入的前述的第2被处理流动体。另外，第3流体设为从图4所示的处理装置的第3导入部d3导入的被处理流动体。

(实施例1)

一边从中央作为第1流体的含有萃取溶剂的萃取用流体将二(2-乙基己基)磷酸液体以供给压力／背压力＝0.30MPaG／0.02MPaG、转速1700rpm、100mL／min、40℃送液，一边作为第2流体的含有被萃取物的流体将金属换算浓度200g／L的硝酸铟的1N-硝酸溶液以20mL／min、40℃导入处理用面1、2间，将第1流体和第2流体在薄膜流体中混合。第1流体及第2流体的送液温度，是在就要导入处理装置之前(更详细地说，就要导入处理用面1、2间之前)测定第1流体和第2流体的各自的温度。通过将第1流体和第2流体在薄膜流体中混合，铟离子被作为萃取溶剂的二(2-乙基己基)磷酸萃取而移动至萃取溶剂中。铟离子移动了的第1流体和第2流体的混合溶液从处理用面1、2间排出。被排出了的铟离子移动了的第1流体和第2流体的混合溶液静置后，通过溶剂比重差进行分离。

(比较例1)

作为比较例1，使用分液漏斗对二(2-乙基己基)磷酸50mL和金属换算浓度200g／L的硝酸铟的硝酸溶液10mL进行萃取操作。具体地说，将40℃的(2-乙基己基)磷酸50mL和40℃的金属换算浓度200g／L硝酸铟的1Ｎ硝酸溶液10mL放入分液漏斗，使其振动3分钟，将铟离子(2-乙基己酯)萃取到50mL的(2-乙基己基)磷酸中。然后，将分液漏斗中的两者的混合溶液静置后，通过溶剂比重差来进行分离。

(实施例2)

一边从中央作为第1流体的含有萃取溶剂的萃取用流体将二(2-乙基己基)磷酸溶液以供给压力／背压力＝0.30MPaG／0.02MPaG、转速1700rpm，100mL／min、40℃送液，一边作为第2流体的含有被萃取物的流体将金属换算浓度200g／L的硝酸铟的1N-硝酸溶液以20mL／min、40℃导入处理用面1、2间，作为第3流体将1N氢氧化钠水溶液以5mL/min、40℃导入处理用面1、2间，将第1～第3流体在薄膜流体中混合。第1～第3流体的送液温度，是在就要导入处理装置之前(更详细地说，就要导入处理用面1、2间之前)，测定第1～第3流体各自的温度。通过将第1流体～第3流体在薄膜流体中混合，铟离子被作为萃取溶剂的二(2-乙基己基)磷酸萃取而移动到萃取溶剂中。铟离子移动了的第1流体、第2流体、第3流体的混合溶液，从处理用面1、2间排出。将被排出了的铟离子移动了的第1流体、第2流体、第3流体的混合溶液静置后，通过溶剂比重差进行分离。需要说明的是，第3流体的1N氢氧化钠水溶液，从实施当初就导入处理用面1、2间。(实施例3)

一边从中央作为第1流体的含有萃取溶剂的萃取用流体将二(2-乙基己基)磷酸液体以供给压力／背压力＝0.30MPaG／0.02MPaG、转速1700rpm、150mL／min、40℃送液，一边作为第2流体的含有被萃取物的流体将金属换算浓度200g／L的硝酸铟的1N-硝酸溶液以50mL／min、40℃导入处理用面1、2间，将第1流体和第2流体在薄膜流体中混合。第1流体及第2流体的送液温度，是在就要导入处理装置之前(更详细地说，就要在导入处理用面1、2间之前)测定第1流体和第2流体各自的温度。通过将第1流体和第2流体在薄膜流体中混合，铟离子被作为萃取溶剂的二(2-乙基己基)磷酸萃取而移动至萃取溶剂中。铟离子移动了的第1流体和第2流体的混合溶液从处理用面1、2间排出。将被排出了的铟离子移动了的第1流体和第2流体的混合溶液静置后，通过溶剂比重差进行分离。

(实施例4)

一边从中央作为第1流体的含有被处理物的流体将金属换算浓度200g／L的硝酸铟的1N-硝酸溶液以供给压力／背压力＝0.30MPaG／0.02MPaG、转速1700rpm、50mL／min、40℃送液，一边作为含有第2流体的萃取溶剂的萃取用流体将二(2-乙基己基)磷酸以100mL／min、40℃导入处理用面1、2间，将第1流体和第2流体在薄膜流体中混合。第1流体及第2流体的送液温度，是在就要导入处理装置之前(更详细地讲，就要导入于处理用面1、2间之前)测定第1流体和第2流体各自的温度。通过将第1流体和第2流体在薄膜流体中混合，铟离子被作为萃取溶剂的二(2-乙基己基)磷酸萃取而移动到萃取溶剂中。铟离子移动了的第1流体和第2流体的混合溶液从处理用面1、2间排出。将被排出了的铟离子移动了的第1流体和第2流体的混合溶液静置后，通过溶剂比重差进行分离。

对于上述实施例1～4及比较例1，使用ICP发光分光分析测定了水相侧的铟浓度。在ICP发光分光分析中，使用(株)岛津制作所制ICPS-8100(顺序型)。所谓实施例1～4及比较例1中的水相，是将萃取处理后的混合溶液静置了时被分离的两层中的、通过萃取铟离子被萃取而移动到二(2-乙基己基)磷酸中的、含有硝酸铟的1Ｎ硝酸溶液的溶液。

另外，由萃取前的硝酸铟的1Ｎ硝酸溶液的铟浓度(金属换算浓度200g／L)和表1中所示的萃取后的水相侧的铟浓度算出收率(萃取效率)。

利用ICP测定结果的水相侧的铟浓度及收率如下述表1。需要说明的是，表1中所示的实施例1～4及比较例1的各自的数据是将实施例1～4及比较例1为分别各实施5次(n＝5)而采集的数据的平均值。

[表1]

	水相的In浓度[g/L]	收率[％]
			实施例1	16.89	91.56
实施例2	0.04	99.98
			实施例3	17.65	91.18
实施例4	16.75	91.63
			比较例1	55.62	72.19

实施例1～4，与使用了分液漏斗的比较例1相比，铟离子的收率(萃取效率)提高。另外，如果对实施例1和实施例2进行比较，则在实施例2中，通过在薄膜流体中添加作为碱性物质的一种的碱，收率(萃取效率)进一步提高。

另外，使用二(2-乙基己基)磷酸对金属换算浓度200g／L的硝酸铟的1N硝酸溶液5L进行萃取处理时，在使用容积1L的分液漏斗进行实施了的情况下，如果以比较例1中记载的比例每批处理750mL，则需要进行40次，相对于600～700min左右，在实施例1的方法中可以以250min左右进行处理。如果与上述的使用了分液漏斗的情况相比，可缩短1／2以上的处理时间。另外，在实施例1～4的方法中在收率(萃取效率)方面未看到不均，但对于比较例1，收率(萃取效率)为65～80%，看到了不均。

从以上可确认，通过使用本申请发明涉及的包括萃取的流体处理方法，能够以高效且高收率连续地萃取被萃取物。

另外，从实施例1和实施例3可确认，通过调节含有萃取溶剂的萃取用流体的送液量和含有被萃取物的流体的送液量来进行最佳化，可以提高萃取处理能力。

符号的说明

1    第1处理用面

2    第2处理用面

10   第1处理用部

11   第1托架

20   第2处理用部

21   第2托架

d1   第1导入部

d2   第2导入部

d3   第3导入部

d20  开口部

d30  开口部

Claims (7)

1.一种流体处理方法，其特征在于，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中，

将至少1种被萃取物萃取到能够萃取所述被萃取物的至少1种萃取溶剂中。

2.如权利要求1所述的流体处理方法，其特征在于，

使用至少2种流体作为被处理流动体，其中至少1种流体是含有所述至少1种被萃取物的流体，

所述以外的流体中至少其它的1种流体是含有所述至少1种萃取溶剂的萃取用流体，

使作为所述被处理流动体的含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体，在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中进行混合，将所述被萃取物萃取到所述萃取溶剂中。

3.如权利要求2所述的流体处理方法，其特征在于，

含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一方的被处理流动体一边形成所述薄膜流体一边通过所述处理用面间，

具备与所述任一方的被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路，

在所述至少2个处理用面的至少任一方具备至少一个与所述导入路相通的开口部，

将含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一其它的被处理流动体从所述开口部导入所述处理用面间，

将含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体在所述薄膜流体中混合、将所述被萃取物萃取到所述萃取溶剂中。

4.如权利要求2所述的流体处理方法，其特征在于，

具备：第1处理用部和相对于第1处理用部可接近·分离的第2处理用部的至少2个处理用部、

使所述第1处理用部和第2处理用部相对进行旋转的旋转驱动机构，

在所述第1及第2处理用部中相互对向的位置，设置有第1处理用面及第2处理用面的所述至少2个处理用面，

在所述第1处理用面和第2处理用面之间进行所述的被处理流动体的处理，

在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的所述第1处理用面和所述第2处理用面之间，使所述被处理流动体通过，

所述被处理流动体一边形成所述薄膜流体一边通过所述两处理用面间，由此将所述被萃取物萃取到所述萃取溶剂中。

5.如权利要求4所述的流体处理方法，其特征在于，

具备对所述被处理流动体赋予压力的流体压赋予机构，

所述的第1处理用面和第2处理用面是被所述的被赋予了压力的被处理流动体流过的、构成强制状态的流路的一部分的面，

在所述第1处理用部和第2处理用部中的至少第2处理用部，具备受压面，且该受压面的至少一部分由所述第2处理用面构成，该受压面受到所述流体压赋予机构赋予被处理流动体的压力而产生在使第2处理用面从所述第1处理用面分离的方向移动的力，

在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的所述第1处理用面和所述第2处理用面之间，导入含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一方的被处理流动体，

具备至少一个与所述任一方被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路，

在所述第1处理用面和第2处理用面的至少任一方具备至少一个与所述导入路相通的开口部，

将含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一其它的被处理流动体从所述开口部导入所述两处理用面间，

被导入所述两处理用面间的这些被处理流动体一边形成所述薄膜流体一边通过所述两处理用面间，将这些被处理流动体混合，由此将所述被萃取物萃取到所述萃取溶剂中。

6.如权利要求4所述的流体处理方法，其特征在于，

具备对所述的被处理流动体赋予压力的流体压赋予机构，

所述的第1处理用面和第2处理用面，是所述的被赋予了压力的被处理流动体流过的、构成强制状态的流路的一部分的面，

在所述第1处理用部和第2处理用部中的至少第2处理用部中，具备受压面，且该受压面的至少一部分由所述第2处理用面构成，该受压面受到所述流体压赋予机构赋予被处理流动体的压力而产生在使第2处理用面从所述第1处理用面分离的方向移动的力，

在可接近·分离地相互对向配设、至少一方相对于另一方相对进行旋转的所述第1处理用面和所述第2处理用面之间，导入含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一方的被处理流动体，

具备与所述任一方的被处理流动体流过的流路独立的另外的导入路，

在所述第1处理用面和第2处理用面的至少任一方中具备至少一个与所述导入路相通的开口部，

将含有所述至少1种被萃取物的流体和所述萃取用流体中的任一其它的被处理流动体从所述开口部导入所述两处理用面间，

导入所述两处理用面间的这些被处理流动体一边形成所述薄膜流体一边通过所述两处理用面间，使这些被处理流动体混合·反应，由此将所述被萃取物萃取到所述萃取溶剂中。

7.如权利要求6所述的流体处理方法，其特征在于，

使用第1、第2、第3的至少3种流体作为被处理流动体，

在所述第1流体和所述第2流体中的至少任一方的流体中，以未反应的状态含有所述至少1种被萃取物，

所述第3流体是含有能够以未反应的状态或反应后的状态萃取所述被萃取物的所述至少1种萃取溶剂的萃取用流体，

所述的被处理流动体中的至少任一种流体一边形成所述薄膜流体一边通过所述两处理用面间，

具备至少2个与所述至少任一种流体流过的流路独立的另外的导入路，

该至少2个另外的导入路相互独立，

在所述第1处理用面和第2处理用面的至少任一方中具备与所述至少2个另外的导入路的每个分别相通的开口部，

将与所述至少任一种流体不同的剩余的被处理流动体从所述各个开口部导入所述处理用面之间，将所述的被处理流动体在所述薄膜流体中混合，使所述第1流体和所述第2流体反应，由此将由所述反应生成的反应主产物和反应副产物中的至少任一种作为所述被萃取物而萃取到所述萃取溶剂中。

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