CN103177986A - 涂布装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种涂布装置，即便在使基板倾斜地加以搬送的情况下，也可以只在基板的背面适当地涂布处理液，并且可以将处理液与防附着液确实地分离而加以个别地回收。处理液喷出管(30)在基板(100)的下方侧且自搬送辊(10)的基板(100)的搬送方向的上游侧，向涂布辊(20)的表面喷出处理液。在处理液回收部(45)上附设有处理液引导构件(70)，用于将自处理液喷出管(30)喷出的处理液引导至处理液回收部(45)。

Description

涂布装置

技术领域

本发明涉及一种涂布装置，将处理液涂布于有机电致发光(electroluminescent，EL)显示装置用玻璃基板、液晶显示装置用玻璃基板、太阳电池用面板基板、等离子体显示面板(Plasma Display Panel，PDP)用玻璃基板或半导体制造装置用光罩基板等矩形状的基板的背面。

背景技术

在对上述矩形状的基板进行清洗处理的基板处理装置中，通常，为了迅速洗掉污染物而提高清洗效果，是一边以使基板的表面相对于水平方向倾斜的状态进行搬送，一边对基板的表面或背面供给清洗液来进行所述清洗处理(参照专利文献1)。

然而，有时必须在清洗处理工序之后，只在基板的背面涂布特定目的的处理液。例如，有时会产生只在基板的背面涂布用于保护基板的处理液的需要。

在专利文献1所记载的基板处理装置中，利用配设于基板的背面侧的雾化喷嘴(spray nozzle)对基板的背面喷出处理液，藉此在基板的背面涂布处理液。

现有技术文献

专利文献

专利文献1日本专利特开2004-25144公报

发明内容

发明要解决的课题

如专利文献1中所记载的基板处理装置，当采用自雾化喷嘴喷出处理液的构成时，会产生自雾化喷嘴喷出的处理液绕流至基板表面而附着于所述基板表面的问题。而且，即使控制处理液的喷出时间来防止处理液的绕流，悬浮于处理室内的雾状处理液也有可能附着于基板表面。

因此，例如，也可以考虑在存积于存积槽内的处理液的表面附近的高度位置搬送基板，仅使基板的背面与存积槽内的处理液接触，藉此将处理液涂布于基板的背面，但是这种情况下，液面的控制极为困难，从而不切实。并且，当结合其前后的工序以使基板倾斜的状态搬送基板时，就不可能应用这种处理方法。

本发明是为了解决上述问题而开发的，其目的在于提供一种涂布装置，即便在使基板倾斜地加以搬送的情况下，也可以只在基板的背面适当地涂布处理液。

而且，当如上所述只在基板的背面涂布特定目的的处理液，并且必须防止所述处理液附着于基板表面时，优选的是在将处理液涂布于基板的背面之前，对基板的表面供给用于防止处理液附着于基板表面的纯水等防附着液。这种情况下，涂布于基板背面的处理液可因价格昂贵而加以回收再利用，而纯水等防附着液则可直接废弃。因此，必须对处理液与防附着液加以个别地回收。

本发明是为了解决上述问题而开发的，其另一目的在于提供一种涂布装置，可以将处理液与防附着液确实地分离而加以个别地回收。

技术方案1所述的发明是一种涂布装置，将处理液涂布于矩形状的基板的背面，包括：搬送机构，以使所述基板的表面相对于水平方向倾斜的状态进行搬送；涂布辊，抵接于被所述搬送机构搬送的基板的背面而旋转；处理液喷出管，在长度方向与所述搬送机构的基板搬送方向相交的方向上，而且与被所述搬送机构搬送的基板的背面平行地配设，并且沿着长度方向排列设置有多个处理液的喷出口，在被所述搬送机构搬送的基板的下方侧且自所述搬送机构的基板搬送方向的上游侧，向所述涂布辊的表面喷出处理液；防附着液喷出单元，对被所述搬送机构搬送的基板的表面供给防止所述处理液附着于基板的表面的防附着液；处理液回收部，回收自被所述搬送机构搬送的基板的背面流下的处理液；防附着液回收部，回收自被所述搬送机构搬送的基板的表面流下的防附着液；以及处理液引导构件，用于将自所述处理液喷出管喷出的处理液引导至所述处理液回收部。

技术方案2所述的发明根据技术方案1所述的发明，包括处理液循环机构，将回收至所述处理液回收部的处理液再度供给至所述处理液喷出管。

技术方案3所述的发明根据技术方案2所述的发明，所述处理液引导构件包括：第1引导面，相对于所述处理液喷出管在所述搬送机构的基板搬送方向的上游侧，与所述处理液喷出管平行地延伸；以及第2引导面，在与所述处理液喷出管的下端部相对向的位置，沿着与所述第1引导面相交的方向延伸。

技术方案4所述的发明根据技术方案3所述的发明，还包括防附着液引导构件，用于将自所述防附着液喷出单元喷出的防附着液引导至所述防附着液回收部。

技术方案5所述的发明根据技术方案4所述的发明，所述防附着液引导构件相对于所述处理液引导构件在所述搬送机构的基板搬送方向的上游侧，与所述处理液引导构件相接近而配置。

技术方案6所述的发明根据技术方案1或技术方案2所述的发明，所述处理液喷出管包括相对于所述处理液喷出管的长度方向分割而成的多个存积部，所述涂布装置包括对该多个存积部的各个供给处理液的处理液供给机构。

技术方案7所述的发明根据技术方案1或技术方案2所述的发明，包括：基板位置识别单元，识别被所述搬送机构搬送的基板的前端的位置与后端的位置；以及涂布控制单元，根据由所述基板位置识别单元所识别的基板的前端的位置与后端的位置，使自所述处理液喷出管向所述涂布辊的表面喷出处理液的动作，在被所述搬送机构搬送的基板的前端抵达至所述涂布辊之前开始，在被所述基板搬送机构搬送的基板的后端抵达至所述涂布辊之前停止。

发明的效果

根据技术方案1所述的发明，利用处理液喷出管，在基板的下方侧且自基板的搬送方向的上游侧向涂布辊的表面喷出处理液，因此即便在使基板倾斜地加以搬送的情况下，也可以只在基板的背面适当地涂布处理液。而且，通过将自处理液喷出管喷出的处理液引导至处理液回收部的处理液引导构件的作用，能够使处理液与供给至基板表面的防附着液分离，而加以个别地回收。

根据技术方案2所述的发明，能够使与防附着液分离而回收的处理液循环而再利用。

根据技术方案3所述的发明，通过第1引导面及第2引导面的作用，可以防止处理液渗入至防附着液回收部，并且能够将处理液与防附着液确实地分离，而加以个别地回收。

根据技术方案4及技术方案5所述的发明，通过防附着液引导构件的作用，可以防止防附着液渗入至处理液回收部，并且能够将防附着液与处理液确实地分离，而加以个别地回收。

根据技术方案6所述的发明，即使在以与被搬送机构搬送的基板的背面成为平行的方式相对于水平方向倾斜地配置处理液喷出管的情况下，也可以使自各喷出口喷出的处理液的量相对于处理液喷出管的长度方向整个区域大致均匀。因此，可以使涂布于基板背面的处理液的量遍及基板的整个区域均匀分布。

根据技术方案7所述的发明，使处理液的喷出动作在基板的前端抵达至涂布辊之前开始，并在基板的后端抵达至涂布辊之前停止，因此可以防止处理液绕流至基板的表面侧。

附图说明

图1是本发明的涂布装置的前视概要图。

图2是本发明的涂布装置的平面概要图。

图3是本发明的涂布装置的涂布辊20附近的侧剖视概要图。

图4是表示利用搬送辊10搬送基板100的状态的概要图。

图5是表示被搬送辊10搬送的基板100与涂布辊20的配置的概要图。

图6是处理液喷出管30的概要图。

图7(a)、图7(b)是表示被搬送辊10搬送的基板100、涂布辊20及处理液喷出管30的说明图。

图8是表示纯水引导构件71、附设于处理液回收部45的处理液引导构件70的从正面侧而来的剖视图。

图9(a)、图9(b)是表示涂布辊20与处理液引导构件70的配置关系的说明图。

图10是表示本发明的涂布装置的控制系统的框图。

附图标记：

10：搬送辊

11：导辊

12：支撑辊

13：连结轴

20：涂布辊

30：处理液喷出管

31：喷出口

32：供给口

33：隔板

40：处理液的排出口

41：处理液槽

42：泵

43、44：电磁阀

45：处理液回收部

46、47、48、49、57：管路

51：空气喷出嘴

52：传感器

53：涂布腔室

54：搬入口

55：搬出口

56：纯水的排出口

58：纯水喷出管

59：马达

61：清洗装置

62：干燥装置

70：处理液引导构件

70a：第1引导面

70b：第2引导面

71：纯水引导构件

72：支撑构件

73、74：螺钉

90：控制部

91：ROM

92：RAM

93：CPU

94：接口

100：基板

具体实施方式

以下，根据附图说明本发明的实施方式。图1是本发明的涂布装置的前视概要图。并且，图2是本发明的涂布装置的平面概要图。此外，图3是本发明的涂布装置的涂布辊20附近的侧剖视概要图。

所述涂布装置包括涂布腔室53，所述涂布腔室53配设于利用纯水清洗矩形状的基板100的清洗装置61与使基板100干燥的干燥装置62之间，并且形成有被搬送的基板100的搬入口54及搬出口55。在所述腔室53内配设有多个搬送辊10，用于以所述基板100的表面相对于水平方向倾斜的状态搬送基板100。并且，所述涂布装置包括抵接于被多个搬送辊10搬送的基板100的整个背面而旋转的涂布辊20。

图4是表示利用搬送辊10搬送基板100的状态的概要图。

搬送辊10包括：导辊(guide roller)11，包括与基板100的倾斜下端缘抵接的凸缘部；多个支撑辊12，抵接于基板100的背面而支撑基板100；以及连结轴13，连结所述导辊11与支撑辊12。基板100由具有如上所述构成的搬送辊10，以所述基板100的表面相对于水平方向倾斜的状态被搬送。然后，涂布辊20在抵接于被搬送辊10搬送的基板100的背面整个区域的状态下，与基板100的移动速度同步地旋转。

图5是表示被搬送辊10搬送的基板100与涂布辊20的配置的概要图。

所述涂布辊20在长度方向与搬送辊10的基板100的搬送方向相交的方向上，并且与被搬送辊10搬送的基板100的背面平行地配设。由此，涂布辊20如下所述，通过抵接于被搬送辊10搬送的基板100的整个背面而旋转，将处理液涂布于基板100的背面。而且，涂布辊20若是能够把处理液涂布到基板100的背面的必要区域的话，涂布辊20不与基板100的背面的部分区域接触亦可。

再次参照图1至图3，所述涂布装置包括：处理液喷出管30，用于向涂布辊20的表面喷出处理液；以及处理液供给机构，用于对所述处理液喷出管30供给处理液。所述处理液供给机构包括：处理液槽41，存积处理液；泵42，用于压送处理液槽41内的处理液，配设于管路46中；电磁阀43，为了将处理液输送至处理液喷出管30，配设于管路48中；电磁阀44，用于使处理液循环，配设于管路47中；处理液回收部45，回收自涂布辊20滴落的处理液；以及管路49，将由处理液回收部45回收的处理液经由处理液的排出口40输送至处理液槽41。在处理液回收部45上附设有处理液引导构件70，用于将自处理液喷出管30喷出的处理液引导至处理液回收部45。

并且，所述涂布装置包括一对纯水喷出管58，用于对被搬送辊10搬送的基板100的表面供给纯水作为防止处理液附着于基板100的表面的防附着液。所述纯水喷出管58配设于涂布腔室53的基板100的搬入口54与搬出口55附近。所述纯水喷出管58与未图示的纯水的供给源相连接，配设于长度方向与搬送辊10的基板100的搬送方向相交的方向上。所述纯水喷出管58具有两端封闭的筒状的形状，在所述纯水喷出管58的内部形成纯水的存积部，并且沿着所述纯水喷出管58的长度方向排列设置有多个与纯水的存积部连通的纯水的喷出口。

自纯水供给管58供给至基板100的纯水向涂布腔室53的底部流下，经由形成于涂布腔室53的底部的纯水的排出口56及管路57排出至未图示的下水道(drain)。因此，所述涂布腔室53的底部作为用于回收自纯水喷出管58喷出的纯水的纯水回收部而发挥作用。再者，也可以使用使二氧化碳溶解于纯水中而成的液体代替纯水作为防附着液。

此外，所述涂布装置包括：空气喷出嘴51，在前段的清洗装置61中用于基板100的清洗，用来去除附着于基板100的背面的纯水；以及传感器52，用于识别被搬送辊10搬送的基板100的前端与后端，包括微动开关等。

图6是处理液喷出管30的概要图。

所述处理液喷出管30在与涂布辊20平行的方向上，即，在长度方向与搬送辊10的基板100的搬送方向相交的方向上，并且与被搬送辊10搬送的基板100的背面平行地配设。所述处理液喷出管30具有两端封闭的筒状的形状，在所述处理液喷出管30的内部形成有处理液的存积部。

所述处理液的存积部通过将筒状的处理液喷出管30内部间隔开的3个隔板33，相对于所述处理液喷出管30的长度方向而分割成4个区域。并且，在各区域内，配设有处理液的供给口32。自图1所示的管路48供给的处理液自各供给口32供给至分割而成的4个处理液的存积部内。

并且，在处理液喷出管30中，沿着长度方向排列设置有多个与各存积部连通的处理液的喷出口31。自各供给口32供给至分割而成的4个处理液的存积部内的处理液是自处理液的喷出口31喷出。

图7(a)、图7(b)是表示被搬送辊10搬送的基板100、涂布辊20与处理液喷出管30的说明图。

如图7(a)所示，处理液喷出管30在被搬送辊10搬送的基板100的下方侧且自搬送辊10的基板100的搬送方向的上游侧(图7(a)中的左侧)，向涂布辊20的表面喷出处理液。

图8是表示纯水引导构件71与附设于处理液回收部45的处理液引导构件70的从正面侧而来的剖视图。并且，图9(a)、图9(b)是表示涂布辊20与处理液引导构件70的配置关系的说明图。且图9(a)是涂布辊20与处理液引导构件70的平面图，图9(b)是涂布辊20与处理液引导构件70的侧视图。

所述处理液引导构件70用于将自处理液喷出管30喷出的处理液引导至处理液回收部45。所述处理液引导构件70包括：第1引导面70a，相对于处理液喷出管30在搬送辊10的基板100的搬送方向的上游侧，与处理液喷出管30平行地延伸；以及第2引导面70b，在与处理液喷出管30的下端部相对向的位置，沿着与第1引导面70a正交的方向延伸。第1引导面70a是相对于处理液喷出管30遍及搬送辊10的基板100的搬送方向的上游侧的处理液喷出管30的长度方向整个区域而配设，所述第1引导面70a的下端部侵入至处理液回收部45内。

所述处理液引导构件70与处理液喷出管30及纯水引导构件71一起，相对于支撑构件72通过一对螺钉73而固定。而且，支撑构件72相对于处理液回收部45，通过一对螺钉74而固定。在这里，纯水引导构件71用于将自纯水喷出管58喷出的纯水引导至作为纯水回收部发挥作用的涂布腔室53的底部。所述纯水引导构件71相对于处理液引导构件70在搬送辊10的基板100的搬送方向的上游侧，与处理液引导构件70相接近而配置。

图10是本发明的涂布装置的控制系统的框图。

所述涂布装置包括控制部90，所述控制部90包括：只读存储器(read-only memory，ROM)91，存储有装置的控制所必需的动作程序；随机访问存储器(random access memory，RAM)92，控制时暂时存储数据等；以及中央处理器(central processing unit，CPU)93，执行逻辑运算。所述控制部90经由接口(interface)94，与用于对各搬送辊10进行旋转驱动的马达59连接。并且，所述控制部90经由接口94，与上述传感器52、泵42及电磁阀43、44连接。再者，所述控制部90如下所述，作为涂布控制单元发挥作用，使自处理液喷出管30向涂布辊20的表面喷出处理液的动作，在被搬送辊10搬送的基板100的前端抵达至涂布辊20之前开始，在被搬送辊10搬送的基板100的后端抵达至涂布辊20之前停止。

在具有如上所述的构成的涂布装置中，在基板100上涂布处理液时，通过图10所示的控制部90的控制来驱动马达59，使搬送辊10旋转。然后，在基板100即将通过清洗装置61进入至涂布腔室53的搬入口54之前，传感器52检测基板100的前端。当传感器52检测出基板100的前端的位置时，其后，控制部90根据来自传感器52的基板100的前端的检测信号及马达59的旋转速度，监视基板100的前端的位置。

另一方面，在由传感器52进行的基板100的前端的检测时点，在用于对处理液喷出管30供给处理液的处理液供给机构中，电磁阀43被关闭，电磁阀44被打开。因此，通过泵42的驱动，处理液槽41内的处理液在包含管路46、泵42、管路47及电磁阀44的循环路径中循环。

当被搬送辊10搬送的基板100搬送至涂布腔室53内时，自纯水喷出管58向基板100的表面供给纯水。另一方面，自基板100的表面绕流至背面的纯水、清洗装置61的清洗处理时附着于基板100的背面的纯水通过自空气喷出嘴51喷出的压缩空气的作用而去除。由此，可以防止残留于基板100的背面的纯水成为对基板100的背面涂布处理液的障碍。再者，自基板100流下的纯水自作为纯水回收部发挥作用的涂布腔室53的底部，经由形成于涂布腔室53的底部的排出口56及管路57排出至下水道。

然后，在被搬送辊10搬送的基板100的前端抵达至涂布辊20之前，通过控制部90的控制，打开电磁阀43，关闭电磁阀44。由此，通过泵42的驱动，处理液槽41内的处理液经由管路46、泵42、电磁阀43、管路48而输送至处理液喷出管30。然后，所述处理液自处理液喷出管30的各供给32，经暂时储存于4个存积部之后，自各喷出口31向涂布辊20的表面喷出。向涂布辊20的表面喷出而滴落的处理液被处理液回收部45回收，并经由管路49返回至处理液槽41。

另一方面，如上所述，处理液喷出管30内的处理液的存积部通过3个隔板33相对于所述处理液喷出管30的长度方向而分割成4个区域，自管路48供给的处理液自各供给口32，经储存于分割而成的4个处理液的存积部内之后，自处理液的喷出口31喷出。因此，即使在处理液喷出管30倾斜的情况下，也可以使自各喷出口31喷出的处理液的喷出量维持为大致均匀。

接着，当将基板100的前端搬送至与涂布辊20抵接的位置为止时，通过抵接于基板100的背面整个区域的涂布辊20的作用，在基板100的背面涂布处理液。此时，如图7(a)所示，处理液喷出管30形成为在被搬送辊10搬送的基板100的下方侧且自搬送辊10的基板100的搬送方向的上游侧，向涂布辊20的表面喷出处理液的构成，因此可以有效防止处理液绕流至基板100的表面。

通过在上述状态下继续搬送基板100，在基板100的背面整个区域涂布处理液。然后，利用传感器52检测被搬送辊10搬送的基板100的后端。当传感器52检测出基板100的后端的位置时，其后，控制部90根据传感器52的基板100的后端的检测信号及马达59的旋转速度，监视基板100的后端的位置。

然后，在被搬送辊10搬送的基板100的后端抵达至涂布辊20之前，通过控制部90的指令，关闭电磁阀43，并且打开电磁阀44。由此，停止自处理液喷出管30喷出处理液，处理液槽41内的处理液在包括管路46、泵42、管路47及电磁阀44的循环路径中循环。由此，如图7(b)所示，在基板100的后端抵达至搬送辊10之前，停止自处理液喷出管30喷出处理液，因此可以有效防止将自处理液喷出管30喷出的处理液供给至被搬送辊10搬送的基板100的上表面。

然后，如上所述，当对基板100的表面供给纯水，对基板100的背面供给处理液时，为了对处理液进行再利用，必须将处理液与纯水确实地分离而加以回收。在本实施方式的涂布装置中，通过处理液引导构件70及纯水引导构件71的作用，可以将处理液与纯水确实地分离而加以回收。

即，通过相对于处理液喷出管30在搬送辊10的基板100的搬送方向的上游侧，与处理液喷出管30平行地延伸的处理液引导构件70的第1引导面70a，可以将自处理液喷出管30喷出的处理液引导至处理液回收部45的内部。因此，可以防止自处理液喷出管30喷出的处理液经过支撑构件72等，向比处理液回收部45更靠基板100的搬送方向的上游侧的涂布腔室53的底部流下。

而且，通过在与经倾斜配置的处理液喷出管30的下端部相对向的位置，沿着与第1引导面70a正交的方向延伸的处理液引导构件70的第2引导面70b，可以将自处理液喷出管30喷出的处理液引导至处理液回收部45的内部。因此，可以防止自处理液喷出管30喷出的处理液越过经倾斜配置的处理液回收部45的倾斜下端部，自处理液回收部45向倾斜下端部侧的涂布腔室53的底部流下。

此外，通过纯水引导构件71的作用，可以防止附着于被搬送辊10搬送的基板100的纯水伴随着基板100的搬送而渗入至处理液回收部45。因此，可以将处理液与纯水确实地分离。

如以上所述，根据本实施方式的涂布装置，处理液喷出管30具有在被搬送辊10搬送的基板100的下方侧且自搬送辊10的基板100的搬送方向的上游侧，向涂布辊20的表面喷出处理液的构成，并且在被搬送辊10搬送的基板100的后端抵达至涂布辊20之前，停止自处理液喷出管30喷出处理液，因此可以使处理液不绕流至基板100的表面，而只在基板100的背面准确地涂布处理液。

而且，处理液喷出管30内的处理液的存积部通过3个隔板33相对于所述处理液喷出管30的长度方向而分割成4个区域，将处理液存积于分割而成的4个处理液的存积部内之后，自处理液的喷出口31喷出，因此即使在将处理液喷出管30倾斜地配置的情况下，也可以使自各喷出口31喷出的处理液的喷出量维持为大致均匀。

此外，通过处理液引导构件70及纯水引导构件71的作用，可以将处理液与纯水确实地分离而加以回收。因此，可以有效地对处理液进行再利用。

Claims (7)

1.一种涂布装置，将处理液涂布于矩形状的基板的背面，其特征在于包括：

搬送机构，以使所述基板的表面相对于水平方向倾斜的状态进行搬送；

涂布辊，抵接于被所述搬送机构搬送的所述基板的背面而旋转；

处理液喷出管，在长度方向与所述搬送机构的基板搬送方向相交的方向上，并且与被所述搬送机构搬送的所述基板的背面平行地配设，而且沿着长度方向排列设置有多个处理液的喷出口，在被所述搬送机构搬送的所述基板的下方侧且自所述搬送机构的所述基板搬送方向的上游侧，向所述涂布辊的表面喷出处理液；

防附着液喷出单元，对被所述搬送机构搬送的所述基板的表面，供给防止所述处理液附着于所述基板的表面的防附着液；

处理液回收部，回收自被所述搬送机构搬送的所述基板的背面流下的所述处理液；

防附着液回收部，回收自被所述搬送机构搬送的所述基板的表面流下的所述防附着液；以及

处理液引导构件，用于将自所述处理液喷出管喷出的所述处理液引导至所述处理液回收部。

2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于：

包括处理液循环机构，将回收至所述处理液回收部的所述处理液再度供给至所述处理液喷出管。

3.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于：

所述处理液引导构件包括：

第1引导面，相对于所述处理液喷出管在所述搬送机构的所述基板搬送方向的上游侧，与所述处理液喷出管平行地延伸；以及

第2引导面，在与所述处理液喷出管的下端部相对向的位置，沿着与所述第1引导面相交的方向延伸。

4.根据权利要求3所述的涂布装置，其特征在于：

还包括防附着液引导构件，用于将自所述防附着液喷出单元喷出的所述防附着液引导至所述防附着液回收部。

5.根据权利要求4所述的涂布装置，其特征在于：

所述防附着液引导构件相对于所述处理液引导构件在所述搬送机构的所述基板搬送方向的上游侧，与所述处理液引导构件相接近而配置。

6.根据权利要求1或权利要求2所述的涂布装置，其特征在于：

所述处理液喷出管包括相对于所述处理液喷出管的长度方向分割而成的多个存积部，

所述涂布装置包括处理液供给机构，对该多个存积部的各个供给所述处理液。

7.根据权利要求1或权利要求2所述的涂布装置，其特征在于包括：

基板位置识别单元，识别被所述搬送机构搬送的所述基板的前端的位置与后端的位置；以及

涂布控制单元，根据由所述基板位置识别单元所识别的所述基板的前端的位置与后端的位置，使自所述处理液喷出管向所述涂布辊的表面喷出所述处理液的动作，在被所述搬送机构搬送的所述基板的前端抵达至所述涂布辊之前开始，在被所述基板搬送机构搬送的所述基板的后端抵达至所述涂布辊之前停止。

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