CN103116194B - 光学膜、生产光学膜的方法、抗反射膜、偏振片和图像显示装置 - Google Patents

Abstract

一种光学膜，其包含酰化纤维素膜基材和抗静电硬涂层，该纤维素酰化物膜基材包含多个糖酯化合物和酰化纤维素，其中多个糖酯化合物具有不同的酯取代度，且该多个糖酯化合物的平均酯取代度为60‑94％，抗静电硬涂层由涂布组合物形成，该涂布组合物至少包含机抗静电剂和其分子中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物。

Description

光学膜、生产光学膜的方法、抗反射膜、偏振片和图像显示 装置

技术领域

本发明涉及一种光学膜、生产光学膜的方法、抗反射膜、偏振片和图像显示装置。更具体地，本发明涉及一种在酰化纤维素基材上包含抗静电硬涂层的光学膜，所述光学膜具有优异的抗静电性和硬度，并且在暴露于高温高湿度环境后仍具有优异的抗静电性，本发明还涉及包含上述光学膜的抗反射膜、偏振片和图像显示装置。

背景技术

在图像显示设备中，例如，阴极射线管显示器(CRT)，等离子体显示器面板(PDP)，电致发光显示器(ELD)，真空荧光显示器(VFD)，场发射显示器(FED)或液晶显示器装置，适合提供一种透明、具有抗静电性能和硬涂层性能的光学膜，以防止破损或划痕，以及由于显示器表面上附着灰尘等所导致的清晰度(visibility)降低，或因为静电而导致的显示装置损坏。特别地，响应现在的趋势，例如对图像显示设备的提升品级、增大尺寸、降低厚度或延长寿命，需要应用于所述图像显示设备的光学膜具有除了硬涂层性能和抗静电性及高耐用性之外的其它优良性能。

特别是，在液晶显示装置中，适合采用在硬涂层性能和抗静电性之间具有良好平衡的光学膜来作为偏振片的保护膜，且为了保持对偏振片形式的起偏器的良好粘合性，通常采用酰化纤维素膜作为光学膜的基材。

从以上观点来看，酰化纤维素膜需要具有高透明性(低雾度)，良好的透湿性和良好的光学性能，而之前是通过添加特殊增塑剂来满足这些性能的。然而，磷酸酯例如磷酸三苯酯(TPP)这种典型的增塑剂在生产酰化纤维素膜过程的干燥步骤中会升华，由此引起附着于生产线的污染物掉落导膜上，导致膜表面状态不合格等问题。除了以上问题外，从提供环境友好的偏振片保护膜及其制造方法的角度来看，需要不要使用磷酸酯作为增塑剂而用于酰化纤维素膜。

众所周知的是，糖或其衍生物适合作为用于光学膜的纤维素膜中的增塑剂使用，并且对于糖及其衍生物，已知使用糖酯化合物的实例(JP-A-2001-247717(此处“JP-A”意思为“未审查的已公开日本专利申请”)和WO2009/031464)。

另外，为了得到同时具有抗静电性能和硬涂层性能的光学膜，已知的形成抗静电硬涂层所使用的组合物包括例如含季铵盐基团聚合物的离子导电聚合物作为抗静电剂，及形成粘结剂的多官能单体(例如，JP-A-2009-263567)。

发明内容

在这些情况下，为了替代或改进之前使用的诸如磷酸三苯酯(TPP)的增塑剂，发明人研究了使用JP-A-2001-247717和WO2009/031464中记载的糖酯化合物与酰化纤维素膜组合所制得的膜的物理性能。然而已发现，当使用JP-A-2001-247717和WO2009/031464中记载的高取代度的糖酯化合物时，无法同时满足高硬度、良好的抗静电性能和在高温高湿度环境中暴露后良好的抗静电性能，需要进一步对其进行改进。

本发明的一个目的是提供一种具有优异的透明度、硬涂层性能和抗静电性，并且在高温高湿条件下抗静电性良好的光学膜。本发明的另一目的是提供一种使用所述光学膜的具有良好性能的抗反射膜，一种使用所述光学膜的具有良好性能的偏振片，和一种采用所述光学膜、所述抗反射膜或所述偏振片的图像显示装置。

为了解决上面描述的问题，经过认真深入的研究发明人发现，通过使用包括由有机抗静电剂作为抗静电剂和形成粘结剂的多官能单体的组合物，与含有特定酯取代度的糖酯化合物作为增塑剂的酰化纤维素膜基材组合，能够得到具有优异的透明度、硬涂层性和抗静电性，并且在高温高湿环境暴露后的抗静电性得到改善的光学膜。

具体来说，本发明通过以下内容解决了上述问题：

(1)一种光学膜，包含酰化纤维素膜基材和抗静电硬涂层，所述酰化纤维素膜基材包括具有不同酯取代度的多个糖酯化合物和酰化纤维素，其中该多个糖酯化合物的平均酯取代度是60-94％，所述抗静电硬涂层由涂布组合物形成，该涂布组合物至少包含有机抗静电剂和其分子中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物。

(2)如以上(1)所述的光学膜，其中酯取代度为75％或以上的糖酯化合物的含量基于多个糖酯化合物为80摩尔％或以下。

(3)如以上(1)或(2)所述的光学膜，其中抗静电硬涂层由涂布组合物形成，该涂布组合物至少包含有机抗静电剂，其分子中具有三个或以上(甲基)丙烯酰基的可固化化合物，引发剂和溶剂。

(4)如以上(1)至(3)之一所述的光学膜，其中有机抗静电剂是含有季铵盐基团的抗静电剂。

(5)如以上(4)所述的光学膜，其中含有季铵盐基团的抗静电剂的含量是1-12重量％，基于用于形成抗静电硬涂层的涂布组合物中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物的重量。

(6)如以上(1)至(5)之一所述的光学膜，其中具有(甲基)丙烯酰基、并且进一步含有至少一个选自羟基、羧基和氨基甲酸酯基的基团的可固化化合物的总含量为40重量％或以下，基于用于形成抗静电硬涂层的涂布组合物中含有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物的总重量。

(7)一种生产以上(1)至(6)之一所述的光学膜的方法，包括涂敷涂布组合物和固化所涂敷的涂布组合物。

(8)一种抗反射膜，包括直接或通过其它层位于如以上(1)到(6)中之一所述的光学膜上的低折射率层。

(9)一种偏振片，包含以上(1)至(6)之一所述的光学膜或以上(8)所述的抗反射膜，以作为所述偏振片的保护膜。

(10)一种图像显示装置，其包含以上(1)至(6)之一所述的光学膜，以上(8)所述的抗反射膜或以上(9)所述的偏振片。

根据本发明，可以提供一种具有优异的透明度、硬涂层性和抗静电性，并且在高温高湿条件下暴露后仍具有良好的抗静电性的光学膜。并且，通过采用根据本发明的光学膜，可以提供了一种能够防止因为附着灰尘等所导致的清晰度降低，或静电导致的显示装置损坏，并且具有优异耐久性的抗反射膜，还提供了一种使用上述光学膜的偏振片及图像显示装置。

具体实施方式

以下将详细说明本发明，说明书下列组成部分是基于本发明的某些情况下的表示性实施方案，但本发明并不应解释为局限于此。在说明书中，使用术语“至”所表示的数值范围是指分别包括术语“至”之前和之后的数值作为上限和下限的范围。

本发明的光学膜是一种包含酰化纤维素膜基材和抗静电硬涂层的光学膜，该酰化纤维素膜基材包括具有不同酯取代度的多个糖酯化合物和酰化纤维素，其中该多个糖酯化合物的平均酯取代度是60-94％，抗静电硬涂层则由至少包含有机抗静电剂和其分子中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物的涂布组合物形成。

[酰化纤维素膜基材]

本发明的光学膜中酰化纤维素膜基材包含具有不同酯取代度的多个糖酯化合物和酰化纤维素，其中所述多个糖酯化合物的平均酯取代度是60-94％。

<酰化纤维素>

本发明的酰化纤维素优选乙酰基取代度为2.70至小于2.95。当乙酰基取代度为2.7或以上时，该酰化纤维素具有和糖酯化合物(例如具有特别的取代度的苯甲酸蔗糖酯)良好的相容性满足了以下描述的条件，因为其使得膜的透明性变好而被优选。另外，除了透明度以外，透湿性和含水量也变好。另一方面，低于2.95的取代度为优选，因为光学性能并未被削弱。

酰化纤维素的乙酰基取代度更优选为2.75-2.90，特别优选为2.82-2.87。全酰基取代度的优选范围与上述乙酰基取代度的优选范围相同。

包括乙酰基的酰基的取代度可以根据ASTM-D817-96中限定的方法来测定。没有被酰基取代的部分通常以羟基存在。

酰化纤维素的合成方法的基本原理在Migita等的Mokuzai Kagaku(Wood Chemistry)，180-190页，Kyoritsu Shuppan Co.，ltd.(1968)中记载。典型的合成方法包括采用羧酸酐-乙酸-硫酸催化剂的液相乙酰化法。

为了得到酰化纤维素，确切说是将纤维素原材料，例如原棉或木浆用适量的乙酸进行预处理，然后放入预先冷却的羧基化混合溶液中进行酯化，从而合成全酰化纤维素(其中在2-、3-和6-位总的酰基取代度大约是3.00)。所述羧基化混合溶液通常包括作为溶剂的乙酸，作为酯化剂的羧酸酐，和作为催化剂的硫酸。一般来说，所用的羧酸酐的量在化学计量上超过在与羧酸酐反应的纤维素和体系中存在的水的总量。在酯化反应完成之后，向体系中添加含中和剂(例如钙、镁、铁、铝或锌的碳酸盐、醋酸盐或氧化物)的水溶液，以水解体系中残留的过量的羧酸酐以及中和部分酯化催化剂。然后，在少量酯化反应催化剂(通常为残留的硫酸)存在下，将制得的全酰化纤维素保持在50-90℃下以对其进行皂化熟化，由此将其转化成具有期望的酰基取代度和聚合度的酰化纤维素。在得到期望的酰化纤维素时，利用上述中和剂将仍残留在体系中的催化剂完全中和；或者，不中和所述催化剂，而是将酰化纤维素溶液加入水或稀乙酸中(或者将水或稀乙酸放入酰化纤维素溶液中)，由此分离酰化纤维素，其后进行洗涤和稳定化处理，由此获得特定的酰化纤维素。

酰化纤维素的分子量优选40,000-400,000，更优选100,000-350,000，以数均分子量(Mn)计。本发明中所用的酰化纤维素的Mw/Mn之比优选4.0或更低，更优选1.4-2.3。

在本发明中，酰化纤维素等的平均分子量和分子量分布是通过采用凝胶渗透色谱法(GPC)、并根据WO2008/126535中所描述的方法计算而确定数均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)，然后得出。

<糖酯化合物>

本发明中酰化纤维素膜基材包含具有不同的酯取代度的多个糖酯化合物，其中该多个糖酯化合物的平均酯取代度为60-94％。

将糖酯化合物加入酰化纤维素中以制得酰化纤维素膜基材，然后将下文所述的抗静电硬涂层形成在所述酰化纤维素膜基材上，由此得到具有优异的硬度和抗静电性能，并且在暴露于高温和高湿度环境后抗静电性能仍优异的光学膜。通过在液晶显示装置中使用本发明的光学膜，可改善正面收缩。

<糖残基>

糖酯化合物意思为其中至少一个基团(例如羟基或羧基)与至少一个取代基通过酯键互相键合的化合物，该至少一个基团可以在构成所述化合物的多糖中被取代。具体来说，此处所述的糖酯化合物也包括广义上的糖衍生物，还包括含有糖残基结构的化合物，例如葡萄糖酸。具体来说，所述糖酯化合物还包括葡萄糖和羧酸之间形成的酯，以及葡萄糖酸和醇之间形成的酯。

在组成糖酯化合物的多糖中可被取代的基团优选羟基。

糖酯化合物包括衍生自组成糖酯化合物的多糖的结构(下文中也将其称为“糖残基”)。每个单糖的糖残基结构是指糖酯化合物的结构单元。优选糖酯化合物的结构单元包括吡喃糖糖结构单元或呋喃糖结构单元，更优选所有糖残基都是吡喃糖结构单元或呋喃糖结构单元。并且，在糖酯化合物由多糖组成的情形下，优选其一起包含吡喃糖结构单元或呋喃糖结构单元。

糖酯化合物的糖残基可以衍生自五糖或聚己糖，优选衍生自聚己糖。

糖酯化合物中所含的结构单元数量优选2-4，更优选2-3，特别优选2。具体来说，构成糖酯化合物的糖优选二糖、三糖或四糖，更优选二糖或三糖，特别优选二糖。

在本发明中，所述糖酯化合物优选包括2-4个吡喃糖结构单元或呋喃糖结构单元，其中至少一个羟基被酯化，更优选糖酯化合物包含两个吡喃糖结构单元或呋喃糖结构单元，其中至少一个羟基被酯化。

单糖或含有2-4个单糖单元的实例包括赤藓糖、苏糖、核糖、阿糖、木糖、来苏糖、阿洛糖(arose)、阿卓糖、葡萄糖、果糖、甘露糖、古洛糖、艾杜糖、半乳糖、塔罗糖、海藻糖、异海藻糖、新海藻糖、海藻糖胺、曲二糖、黑曲霉糖、麦芽糖、麦芽糖醇、异麦芽糖、槐糖、昆布二糖、纤维二糖、龙胆二糖、乳糖、乳糖胺、乳糖醇、乳果糖、蜜二糖、樱草糖、芸香糖、绵枣儿二糖、蔗糖、三氯蔗糖、松二糖、巢菜糖、纤维三糖、马铃薯三糖、龙胆三糖、异麦芽三糖、异葡糖基麦芽糖、麦芽三糖、甘露三糖、松三糖、潘糖、车前糖、棉子糖、茄三糖、伞形糖(umbeliferose)、石蒜四糖、麦芽四糖、水苏糖、波罗地戊糖(baltopentaose)、belbalpentaose、麦芽六糖、木糖醇、山梨糖醇。

其中，优选核糖、阿糖、木糖、来苏糖、葡萄糖、果糖、甘露糖、半乳糖、海藻糖、麦芽糖、纤维二糖、乳糖、蔗糖、三氯蔗糖、木糖醇和山梨糖醇；更优选是阿糖、木糖、葡萄糖、果糖、甘露糖、半乳糖、麦芽糖、纤维二糖、和蔗糖；特别优选是木糖、葡萄糖、果糖、甘露糖、半乳糖、麦芽糖、纤维二糖、蔗糖、木糖醇、山梨糖醇。

<取代基结构>

本发明中所用的包括所述取代基的糖酯化合物优选具有下式(1)表示的结构：

式(1)(OH)_p-G-(L¹-R¹¹)_q(O-R¹²)_r

在式(1)中，G表示糖残基，L¹表示-O-、-CO-和-NR¹³-之中的任何一个；R¹¹表示氢原子或单价的取代基；R¹²表示与酯键相连的单价取代基。p、q和r各自独立表示0或以上的整数；在G是具有环状缩醛结构的未取代的糖的情形下，(p+q+r)等于羟基的数目。R¹³表示氢原子或单价取代基(优选烷基)。

G的优选范围与上述的糖残基的优选范围相同。

优选地，L¹是-O-或-CO-、更优选-O-。当L¹是-O-时，特别优选衍生自酯键或醚键的连接基团，更加特别优选衍生自酯键的连接基团。

在具有多个L¹的情况下，则它们之间可以是相同的或不同的。

R¹¹和R¹²的至少一个优选具有芳族环。

特别是，当L¹是-O-时(即在糖酯化合物的羟基被R¹¹和R¹²取代时)，优选R¹¹、R¹²和R¹³选自取代或未取代的酰基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的氨基，更优选选自取代或未取代的酰基、取代或未取代的烷基、或取代或未取代的芳基，特别优选未取代的酰基、取代或未取代的烷基、和未取代的芳基。

在具有多个R¹¹、多个R¹²或多个R¹³的情况下，它们之间分别可以是相同的或不同的。

p表示0或以上的整数，其优选的范围与以下论述的每个单糖单元羟基数目的优选范围相同。

r优选为大于G中包含的吡喃糖结构单元或呋喃糖结构单元数目的数值。

q优选0。

因为在假设G是具有环状缩醛结构的未取代的糖的情形之下，(p+q+r)等于羟基的数目，因此，p、q和r的最上限分别被明确限定。

糖酯化合物的取代基的优选例子包括烷基(优选具有1到22个碳原子的烷基、更优选1到12个碳原子的烷基、特别优选1到8个碳原子的烷基，例如，甲基、乙基、丙基、羟乙基、羟丙基、2-氰乙基或苯甲基)，芳基(优选具有6到24个碳原子的芳基、更优选具有6到18个碳原子的芳基、特别优选具有6到12个碳原子的芳基，例如，苯基或萘基)，酰基(优选具有1到22个碳原子的酰基、更优选2到12个碳原子的酰基、特别优选2到8个碳原子的酰基，例如，乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、戊酰基、己酰基、辛酰基、苯甲酰基、甲苯甲酰基、邻苯二甲酰基)，酰胺基(优选具有1到22个碳原子的酰胺基、更优选具有2到12个碳原子的酰胺基、特别优选具有2到8个碳原子的酰胺基，例如，甲酰胺基或乙酰胺基)，酰亚胺基(优选具有4到22个碳原子的酰亚胺基、更优选具有4到12个碳原子的酰亚胺基、特别优选具有4到8个碳原子的酰亚胺基，例如，琥珀酰亚胺基或苯二甲酰亚胺基)。这些之中，更优选烷基和酰基；更优选甲基、乙酰基、异丁酰基和苯甲酰基。取代基特别优选为苯甲酰基和乙酰基的至少一个，更特别优选为苯甲酰基。

获得所述糖酯化合物的方法，可以是从例如Tokyo Chemical公司或Sigma-Aldrich等的市售产品来获得，或者其可以通过使用市售的碳水化合物根据已知的酯衍生物形成方法(例如根据在JP-A-8-245678中所描述的方法)来合成。

所述糖酯化合物的数均分子量范围优选为200-3,500，更优选的范围是200-3,000，特别优选的范围是250-2,000。

本发明中可以采用的糖酯化合物的具体例子如下所示，但是本发明并不局限于此。

在如下所示的结构式中，每个R独立地表示合适的取代基，并且多个R可以彼此相同或不同。如下表1-4所示的取代度说明每个结构式中可以被酯取代的取代基种类和取代基数量。例如，如化合物112所示，其表示8个可以被取代的取代基的3个取代基被苯甲酰基酯取代，如化合物117所示，其表示8个可以被取代的取代基都被苯甲酰基酯取代。下文实施例中所用的这些化合物的酯取代度分别为37.5％和100％。在多种具有不同酯取代度的化合物组合使用的情况下，每种化合物酯取代度与其所含的摩尔比率(摩尔分数)的乘积相加得到的总数值被用作平均酯取代度。

表1

表2

表3

表4

相对于酰化纤维素来说，糖酯化合物优选含量为2-30重量％，更优选5-20重量％，特别优选5-15重量％。

(具有不同酯取代度的糖酯化合物的含量比率)

根据本发明的酰化纤维素膜基材包含多个具有不同的酯取代度的糖酯化合物，其中该多个糖酯化合物的平均酯取代度是60-94％。多个糖酯化合物的平均酯取代度优选是60-85％，更优选65-80％。通过调整上述范围内的糖酯化合物的平均酯取代度，当在酰化纤维素膜基材上提供下文所述抗静电硬涂层时，可得到具有优异的透明性、硬涂层性和抗静电性以及在暴露于高温和高湿度环境后仍具有优异抗静电性的光学膜。

根据本发明，从酰化纤维素的透明性的角度来看，优选具有酯取代度75％或以上的糖酯化合物的含量基于多个糖酯化合物的含量是80摩尔％或以下。具有酯取代度75％或以上的糖酯化合物的含量更优选是30-75摩尔％，更优选45-75摩尔％。

具有不同酯取代度的多个糖酯化合物的平均酯取代度是60-94％，优选60-85％，更优选65-80％。在上述范围内调整具有不同酯取代度的多个糖酯化合物的平均酯取代度，意指调整具有不同酯取代度的多个糖酯化合物中每个结构单元的羟基数。据信通过调整具有不同酯取代度的多个糖酯化合物中每个结构单元的羟基数，当暴露于高温和高湿条件时，防止了糖酯化合物向抗静电硬涂层的迁移，并且限制了其与抗静电硬涂层中有机抗静电剂的相互作用，从而增加了抗静电性能的耐久性。进一步，通过调整平均酯取代度在根据本发明的范围内，使得能够得到具有高弹性模量的酰化纤维素基材，由此本发明的光学膜能够实现高硬度和耐久性之间的良好平衡。

(制备具有不同酯取代度的多个糖酯化合物的方法)

就混合具有不同酯取代度的多个糖酯化合物的方法而言没有具体的限定，已知的方法都可以使用。就混合具有不同酯取代度的多个糖酯化合物的时机而言，例如，当采用溶液成膜方法时，可以在加入酰化纤维素浓液之前进行多个糖酯化合物的混合，或将所述多个糖酯化合物独立地加入酰化纤维素浓液中。

<除糖酯化合物之外的添加剂>

(1)糖酯化合物之外的增塑剂

根据本发明的酰化纤维素膜优选含有至少一种选自以下的疏水化剂：多元醇酯疏水化剂、缩聚酯疏水化剂、和碳水化合物衍生物疏水化剂。疏水化剂优选可以降低膜中水含量，同时尽可能小地抑制其玻璃化转变温度降低的影响。通过采用疏水化剂，在高温高湿条件下酰化纤维素膜中添加剂扩散到起偏器层中的现象得到了限制，从而防止了起偏器性能的劣化。

(多元醇酯疏水化剂)

多元醇酯如下通式(A)所示。

式(A)R³¹-(OH)_n

(式中，R³¹表示n价有机基团。n表示2或以上的正整数。)

以下给出优选的多元醇的例子，但本发明并未局限于此。具体来说，其优选例子包括核糖醇、阿糖醇、乙二醇、二甘醇、三甘醇、四甘醇、1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、1，2-丁二醇、1，3-丁二醇、1，4-丁二醇、二丁二醇、1，2，4-丁三醇、1，5-戊二醇、1，6-己二醇、己三醇、半乳糖醇、甘露糖醇、3-甲基戊-1，3，5-三醇、频哪醇、山梨糖醇、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷和木糖醇等。特别优选为三甘醇、四甘醇、二丙二醇、三丙二醇、山梨糖醇、三羟甲基丙烷和木糖醇。

对于多元醇酯疏水化剂，采用具有5或以上个碳原子的多元醇的多元醇酯是优选的。特别优选具有5-20个碳原子的多元醇。

对多元醇酯中使用的一元羧酸并无特别限定，可使用公知的脂族一元羧酸、脂环族一元羧酸或芳香族一元羧酸。考虑到提高透湿性和湿度保留性，优选使用脂环族一元羧酸或芳香族一元羧酸。

以下给出多元醇酯中使用的一元羧酸的优选例子，但本发明并不局限于此。

所用的脂族一元羧酸优选具有1-32个碳原子的直链或支链的脂肪酸，更优选具有1-20个碳原子的直链或支链的脂肪酸，特别优选具有1-10个碳原子的直链或支链的脂肪酸。因为与纤维素衍生物的相容性增加，所以优选加入乙酸。也可以优选与乙酸一同使用其它一元羧酸。

脂族一元羧酸的优选例子包括饱和脂肪酸，例如乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、辛酸、2-乙基-己酸、十一烷酸、十二烷酸、十三烷酸、十四烷酸、十五烷酸、十六烷酸、十七烷酸、十八烷酸、十九烷酸、二十烷酸、山萮酸、二十四烷酸、蜡酸、二十七烷酸、二十九烷酸、三十烷酸或三十二烷酸；不饱和脂肪酸，例如十一碳烯酸、油酸、山梨酸、亚油酸、亚麻酸、花生四烯酸。

优选的脂环族一元羧酸的例子包括环戊烷羧酸、环己烷羧酸、环辛烷羧酸、和其衍生物。

优选的芳香族一元羧酸的例子包括苯甲酸，通过在苯甲酸的苯环中引入烷基而制备的酸，例如甲苯甲酸，具有2个或多个苯环的芳香族一元羧酸，例如联苯羧酸、萘甲酸、四氢化萘羧酸等、及其衍生物。特别优选为苯甲酸。

多元醇酯疏水化剂的分子量并无特别限定，以分子量300-3000的范围为优选，350-1500为更优选。多元醇酯疏水化剂分子量愈大越难挥发，所以是优选的。另外一方面，由透湿性和与纤维素衍生物的相容性来看，分子量较小的多元醇酯疏水化剂也优选。

用于多元醇酯的羧酸可为单独使用，或以两种或更多种的其混合物使用。实际上，多元醇中的羟基可全部酯化，或部分羟基保留。

以下所示为多元醇酯的具体的例子。

(缩聚酯疏水化剂)

优选缩聚酯疏水化剂是通过至少一种具有芳环的二羧酸(又称为芳族二羧酸)和至少一种平均碳原子数是2.5-8.0的脂族二醇获得的。还优选所述缩聚酯疏水化剂由至少一种芳族二羧酸和至少一种脂族二羧酸及至少一种平均碳原子数是2.5-8.0的脂族二醇的混合物得到。

二羧酸残基和二醇残基的平均碳原子数是分别计算的。

二羧酸残基的平均碳原子数定义为二羧酸残基的组成比(摩尔分数)乘以组分碳原子数计算而得的值。例如，当二羧酸是由50mol％的己二酸残基和50mol％的邻苯二甲酸残基构成时，平均碳原子数是7.0。

对于二醇残基的情况也与上面的一样，二醇残基的平均碳原子数定义为二醇残基的组成比(摩尔分数)乘以组分碳原子数计算而得的值。例如，当二醇由50mol％的乙二醇和50mol％的1，2-丙二醇构成时，平均碳原子数是2.5。

缩聚酯的数均分子量优选500-2000，更优选600-1500，进一步优选700-1200。当缩聚酯的数均分子量为500或更高时，挥发性低导致膜很少出现失败，或者拉伸酰化纤维膜时在高温下挥发造成的过程污染很难发生。同样，当缩聚酯的数均分子量是2,000或更低时，与酰化纤维素的相容性会高，因此成膜和热拉伸时很少发生渗出。

缩聚酯的数均分子量可通过凝胶渗透色谱法进行测定和计算。在未端封的聚酯多元醇的情况下，其数均分子量也可以通过单位重量的羟基数量(此后也可以称为“羟基值”)来计算。这里所用的羟基值可通过乙酰化聚酯多元醇，然后测出中和过量的乙酸所需氢氧化钾的量(mg)的数值来确定。

在采用芳族二羧酸和脂族二羧酸的混合物作为二羧酸组分的情况下，所述二羧酸的平均碳原子数优选为5.5-10.0，更优选5.6-8。

当二羧酸的平均碳原子数为5.5或以上时，可以得到具有优异耐久性的偏振片。当二羧酸的平均碳原子数为10或以下时，与酰化纤维素的相容性优异，从而限制了在成膜过程中产生渗出。

采用二醇和包含芳族二羧酸的二羧酸获得的缩聚酯包括所述芳族二羧酸的残基。

在本说明书中，残基是指缩聚酯的部分结构，其表示具有形成缩聚酯单体特征的部分结构。例如，由二羧酸HOOC-R-COOH形成的二羧酸残基是-OC-R-CO-。

所述缩聚酯的芳族二羧酸残基的比例优选40摩尔％或以上。更优选40-95摩尔％。

当所述缩聚酯的芳族二羧酸残基比例为40摩尔％或以上时，得到的酰化纤维素膜能够足够的光学各向异性，得到的偏振片具有优异的耐久性。当所述缩聚酯的芳族二羧酸残基比例为95摩尔％或以下时，与酰化纤维素的优异相容性使得在膜形成时，以及甚至在对酰化纤维素膜进行热拉伸时都很难出现渗出。

作为用于形成上述缩聚酯疏水化剂的芳族二羧酸，例如可以列举出邻苯二甲酸、对苯二甲酸、间苯二甲酸、1，5-萘二甲酸、1，4-萘二甲酸、1，8-萘二甲酸、2，8-萘二甲酸和2，6-萘二甲酸。对于芳族二羧酸，优选邻苯二甲酸、对苯二甲酸、2，6-萘二甲酸，更优选邻苯二甲酸和对苯二甲酸，进一步优选对苯二甲酸。

在所述缩聚酯中，芳族二羧酸残基由混合中使用的上述芳族二羧酸形成。

具体来说，芳族二羧酸残基优选包含邻苯二甲酸残基、对苯二甲酸残基和间苯二甲酸残基的至少一个，更优选包含邻苯二甲酸残基和对苯二甲酸残基的至少一个，进一步优选包含对苯二甲酸残基。

当形成缩聚酯的混合物中使用对苯二甲酸作为芳族二羧酸时，与酰化纤维素的相容性优异，可以制成即使在酰化纤维素膜的成膜时和热拉伸时也很难产生渗出的酰化纤维素膜。并且，所述芳族二羧酸可以采用一种或与两种或多种的组合。当采用两种芳族二羧酸时，优选采用邻苯二甲酸和对苯二甲酸。

从缩聚酯可以在常温下变软化并且容易操作角度看，优选组合使用邻苯二甲酸和对苯二甲酸这两种香族二羧酸。

在所述缩聚酯的二羧酸残基中，对苯二羧酸残基的含量优选40-100摩尔％。

当对苯二羧酸残基的含量为40摩尔％或以上时，得到的酰化纤维素膜具有足够的光学各向异性。

通过二醇和包含脂族二羧酸的二酸获得的缩聚酯具有脂族二羧酸残基。

作为用于形成所述缩聚酯疏水化剂的脂族二羧酸，例如可以列举草酸、丙二酸、琥珀酸、马来酸、富马酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十二烷二羧酸或1，4-环己烷二羧酸。

在缩聚酯中，会形成由混合中使用的脂族二羧酸衍生的脂族二羧酸残基。

脂族二羧酸残基优选平均碳原子数为5.5-10.0，更优选为5.5-8.0，进一步优选为5.5-7.0。当脂族二羧酸的平均碳原子数为10.0或以下时，可减少化合物的热损失，从而可防止表面状态缺陷的发生，造成该故障的原因被认为是酰化纤维素料片(web)干燥时的渗出引起的工艺污染。还有，优选脂族二羧酸的平均碳原子数为5.5或以上，因为相容性优异，所述缩聚酯所沉积几乎不会出现。

具体地，脂族二羧酸残基优选含有琥珀酸残基，在采用两种脂族二羧酸残基时，优选含有琥珀酸残基和己二酸残基。

具体地，在形成缩聚酯的混合中，脂族二羧酸可以采用一种，或者其两种或更多种的组合。在采用两种脂族二羧酸的时候，优选采用琥珀酸和己二酸。在形成缩聚酯的混合中采用一种脂族二羧酸时，优选使用琥珀酸。在这些情况下，从与酰化纤维素的相容性角度考虑，可以将脂族二羧酸残基的平均碳原子数调整到期望值，并且这是优选的。

在形成缩聚酯的混合中，优选采用二种或三种二羧酸。在采用两种二羧酸时，优选采用各一种的脂族二羧酸和芳族二羧酸。在采用三种二羧酸时，采用一种脂族二羧酸和两种芳族二羧酸，或两种脂族二羧酸和一种芳族二羧酸。这是因为二羧酸残基的平均碳原子数很容易调整，芳族二羧酸残基的含量可以控制在优选的范围内，从而提高起偏器的耐久度。

由二醇和二羧酸得到的缩聚酯包括二醇残基。

在本说明书中，由HO-R-OH的二醇形成的二醇残基是-O-R-O-。

形成缩聚酯的二醇包括芳族二醇和脂族二醇，优选作为疏水基使用的缩聚酯至少由脂族二醇形成。

所述缩聚酯优选含有平均碳原子数为2.5-7.0的脂族二醇残基，更优选含有平均碳原子数为2.5-4.0的脂族二醇残基。当脂族二醇残基的平均碳原子数7.0或以下时，与酰化纤维素的相容性得到改进，渗出几乎不会发生，化合物的加热损失很难增加，可防止产生据认为是在酰化纤维素料片干燥时的渗出引起的工艺污染所导致的表面状态缺陷。还有，当脂族二醇残基的平均碳原子数2.5或以上时，更容易合成。

可以形成缩聚酯疏水化剂的脂族二醇优选包括烷基二醇和脂环族二醇。例如，优选的有乙二醇、1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、1，2-丁二醇、1，3-丁二醇、2-甲基-1，3-丙二醇、1，4-丁二醇、1，5-戊二醇、2，2-二甲基-1，3-丙二醇(新戊二醇)、2，2-二乙基-1，3-丙二醇(3，3-二羟甲基戊烷)、2-正丁基-2-乙基-1，3-丙二醇(3，3-二羟甲基庚烷)、3-甲基-1，5-戊二醇、1，6-己二醇、2，2，4-三甲基-1，3-戊二醇、2-乙基-1，3-己二醇、2-甲基-1，8-辛二醇、1，9-壬二醇、1，10-癸二醇、1，12-十八烷二醇、二甘醇、环己烷二甲醇。优选其一种或二种或更多种脂族二醇的混合物与乙二醇一起使用。

脂族二醇优选乙二醇、1，2-丙二醇和1，3-丙二醇的至少一种，特别优选乙二醇和1，2-丙二醇的至少一种。在采用两种脂族二醇形成缩聚酯时，优选采用乙二醇和1，2-丙二醇。通过采用1，2-丙二醇或1，3-丙二醇，可以防止缩聚酯的结晶。

在所述缩聚酯中，混合中所用的二醇所衍生的二醇残基形成。

具体来说，所述缩聚酯优选含有乙二醇残基、1，2-丙二醇残基和1，3-丙二醇残基的至少一种作为二醇残基，更优选含有乙二醇残基或1，2-丙二醇残基。

在缩聚酯所含的脂族二醇残基中，优选含有10-100摩尔％的乙二醇残基，更优选20-100摩尔％。

在其还未被封端时，缩聚酯的端基可以是二醇或羧酸，或者所谓的末端封端可以通过进一步与一元羧酸或一元醇反应来进行。

封端采用的一元羧酸优选乙酸、丙酸、丁酸、苯甲酸等等。封端采用的一元醇优选甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇等等，最优选甲醇。当缩聚酯端基采用的一元羧酸的碳原子数是7或以下时，化合物的热损失不会变大，不会发生表面状态缺陷。

更优选缩聚酯的端基以二醇残基存在，其未被封端，或被乙酸、丙酸或苯甲酸封端。

缩聚酯的两端是否封端或者未封端并不重要。

在缩聚酯的两个端基均未封端的情况下，该缩聚酯优选为聚酯多元醇。

作为缩聚酯的一个实施方案，可以例举出其中脂肪二醇残基的碳原子数是2.5-8.0、并且缩聚酯的两端都未被封端的缩聚酯。

在缩聚酯的两端都被封端的情况下，优选通过与一元羧酸的反应来将两端封端。在这种情况下，缩聚酯的两端都是一元羧酸残基。在本说明书中，由一元羧酸R-COOH形成的一元羧酸残基是R-CO-。在缩聚酯的两端都被一元羧酸封端的情况下，所述一元羧酸残基优选脂族一元羧酸残基，更优选具有22个或更少碳原子的脂族一元羧酸残基，进一步更优选具有3个或以下碳原子的脂族一元羧酸残基。还有，所述一元羧酸残基优选具有2个或更多碳原子的脂族一元羧酸残基，特别优选具有2个碳原子的脂族一元羧酸残基。

作为缩聚酯的一个实施方案，可以例举其中脂肪二醇残基碳原子数为2.5-7.0、且缩聚酯的两端都被一元羧酸封端的缩聚酯。

当缩聚酯的两个端基的一元羧酸残基的碳原子数3或以下时，挥发性降低，缩聚酯的加热损失不会变大，并且能够减少过程污染的产生和表面状态缺陷的出现。

具体来说，封端所用的一元羧酸优选脂族一元羧酸，更优选具有2-22个碳原子的脂族一元羧酸，进一步更优选具有2-3个碳原子的脂族一元羧酸，特别优选具有2个碳原子的脂族一元羧酸。

例如，作为一元羧酸，乙酸、丙酸、丁酸、苯甲酸及其衍生物是优选的，乙酸和丙酸更优选，最优选乙酸。

用于封端的一元羧酸可以采用其两种或多种的混合物。

优选缩聚酯的两端被乙酸或丙酸封端，最优选缩聚酯的两端被乙酸封端为乙酰基酯残基(有时被称为乙酰基残基)。

在缩聚酯的两端都封端的情况下，常温下很难变成固体形式的状态，容易处理，可以得到具有优异的偏振片湿度稳定性和耐久性的酰化纤维素膜。

缩聚酯的具体实例A-1至A-34如下表5所示，但是本发明并不局限于此。

表5

以上表5中所用的缩写分别表示如下所示化合物，PA：邻苯二甲酸，TPA：对苯二甲酸，AA：己二酸，SA：琥珀酸，2，6-NPA：2，6-萘二甲酸。

缩聚酯可以容易地通过任何聚酯化反应的热融合缩聚方法合成，或通过二醇与二羧酸的以常规方法酯交换反应合成，以及酸的酰氯和乙二醇的界面缩合方法得到。缩聚酯详细描述在Koichi Murai编辑的KasozaiSono Riron to Oyo(Plasticizer，Its Theory and Application)，第一版，KoichiShobo Co.，Ltd.，(March 1，1973)中。所述的材料例如也可以采用在JP-A-5-155809、JP-A-5-155810、JP-A-5-197073、JP-A-2006-259494、JP-A-7-330670、JP-A-2006-342227和JP-A-2007-003679中的材料。

加入的疏水化剂的量相对于酰化纤维素优选为1-20重量％。当疏水化剂的含量为1重量％或以上时，易于获得增加起偏器耐久性的效果。还有，疏水化剂的含量为20重量％或以下时，几乎不会发生渗出。疏水化剂的含量更优选2-15重量％，特别优选5-15重量％。

向酰化纤维素膜中加入疏水化剂的时机并没有特别的限定，只要在膜形成的时候加入就可以。例如，可以再合成酰化纤维素的时候加入，或可以在制备浓液时与酰化纤维素混合。

(2)延迟显现剂(developer)

本发明的膜可以包含延迟显现剂。通过使用延迟显现剂，该膜可在以低的拉伸比时得到高的Re显现性。所述延迟显现剂的种类没有特别的限定。延迟显现剂包括棒状或盘状化合物和具有上述延迟显现性能的非磷酸酯化合物的化合物。在棒状或盘状化合物之中，具有至少两个芳环的化合物是本文优选使用的延迟显现剂。

可以组合使用两种或更多种的延迟显现剂。

优选该延迟显现剂在250到400nm的波长范围具有最大吸收，并且在可见光范围内基本上不吸收。

作为延迟显现剂，例如，可以使用在JP-A-2004-50516和JP-A-2007-86748中描述的化合物，然而本发明并不应解读为局限于此。

作为盘状化合物，例如，本发明中可以优选使用在EP-A-0911656中描述的化合物、在JP-A-2003-344655中描述的三嗪化合物、在JP-A2008-150592的第[0097]到[0108]段中描述的苯并菲化合物。

可以根据已知的方法来合成盘状化合物，例如，根据在JP-A-2003-344655中描述的方法，或在JP-A-2005-134884中描述的方法。

除上述盘状化合物之外，本发明还优选使用具有线性分子结构的棒状化合物，例如，在JP-A-2008-150592的第[0110]到[0127]段中描述的棒状化合物是优选的。

(3)丙烯酸聚合物

根据本发明，重均分子量为500-10,000的丙烯酸聚合物可以进一步加入酰化纤维素膜中。优选丙烯酸聚合物的重均分子量为500-5,000。

通过加入丙烯酸聚合物，形成的酰化纤维素膜透明性优异、具有特别低的透湿性，并表现出作为偏振片保护膜的优异特性。对于丙烯酸聚合物，优选使用WO 2008/126535中描述的化合物。

(4)抗氧化剂和热降解抑制剂

本发明中，作为抗氧化剂和热降解抑制剂，可以使用公知的那些。特别是，优选使用内酯化合物，硫化合物，酚类化合物，含双键化合物，受阻胺化合物和磷化合物。对于抗氧化剂和热降解抑制剂，优选使用WO 2008/126535中描述的化合物。

(5)着色剂

本发明中可以使用着色剂。着色剂通常指的是染料或颜料，但在本发明中，它表示使得液晶显示器显示带蓝色色调的效果、可控制黄色指数效果或减少雾度效果的物质。作为着色剂，优选使用WO 2008/126535中描述的化合物。

(6)微细颗粒

本发明中采用的微细颗粒包括无机化合物，例如，二氧化硅、二氧化钛、氧化铝、氧化锆、碳酸钙、滑石、粘土、煅烧高岭土、煅烧硅酸钙、水合硅酸钙、硅酸铝、硅酸镁和磷酸钙。

优选含硅的微细颗粒，由此雾度会降低，特别优选二氧化硅。

微细颗粒的初级颗粒的优选平均粒径是5-50nm，更优选7-20nm。微细颗粒优选包括粒径为0.05-0.3μm的次级聚集体。

酰化纤维素膜中微细颗粒的含量优选0.05-1重量％，特别优选0.1-0.5重量％。在通过共流延方法形成的多层结构的酰化纤维素膜的情况下，优选上述的含量范围内的微细颗粒在表面层中。

二氧化硅微细颗粒可以商标名市售获得，例如，AEROSIL R972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600和NAX50(由Nippon Aerosil CO.，Ltd.生产)，并且可以使用它们。

氧化锆微细颗粒可以商标名市售获得，例如，AEROSIL R976和R811(由NipponAerosil CO.，Ltd.生产)，并且可以使用它们。

聚合物微细颗粒的实例包括，例如，硅树脂、氟树脂和丙烯酸树脂。优选硅树脂，具有三维网状结构的硅树脂特别优选。其可以商标名市售获得，例如TOSPEARL 103、105、108、120、145、3120和240(由ToshibaSilicone Co.，Ltd.制造)，并且可以使用它们。

其中，特别优选采用AEROSIL 200V和AEROSIL R972V，因为它们在以下方面具有巨大作用：降低摩擦系数，同时可以使酰化纤维素膜的雾度保持在较低值。

(7)其它添加剂

在本发明的酰化纤维素膜中，还可以添加除上述化合物外在常用酰化纤维素膜中加入的其他添加剂。

这些其它添加剂包括，例如，紫外线吸收剂。

作为其它添加剂，优选使用WO2008/126535中描述的化合物。

<生产酰化纤维素膜基材的方法>

本发明中生产酰化纤维素膜基材的方法没有特别的限定，膜可以通过已知的方法形成。具体来说，含有酰化纤维素的膜可以采用溶液浇注成膜法或者熔融成膜法形成。从改进膜的表面状态的角度考虑，生产本发明的膜的方法，优选包括通过溶液浇注膜的成膜法形成含酰化纤维素的膜的步骤。

以下将描述参考通过溶液浇注成膜方法的案例来生产根据本发明的膜，但是本发明并不限于该溶液浇注成膜方法。在采用溶液浇注成膜法作为生产根据本发明的膜的方法时，可以采用已知的方法。

(厚度)

根据本发明的酰化纤维素膜厚度优选20-200μm，更优选20-85μm，进一步更优选25-65μm。当厚度为20μm或以上时，处理性能优良，膜的机械强度不会不充分，并且缺陷，例如生产过程中膜的破损很难发生，并且膜的表面状态优异。

[抗静电硬涂层]

根据本发明的光学膜具有由涂布组合物形成的抗静电图层，该涂布组合物包括至少一种有机抗静电剂和在其分子中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物。

<有机抗静电剂>

根据本发明的有机抗静电剂优选导电聚合物。所述导电聚合物包括离子传导化合物(离子传导聚合物)和电子传导化合物(电子传导聚合物)。从与单体型化合物和表面活性剂型化合物相比，减少渗出的发生、在常规有机溶剂中的高溶解度和优异的抗静电性能的角度来看，优选离子传导化合物。

(a.1)离子传导化合物

离子传导化合物包括，例如，阳离子、阴离子和两性离子传导化合物。

对于离子传导化合物，优选容易实现本发明效果的阳离子或阴离子化合物，特别是从化合物的高抗静电性能来看，含有季铵盐基团的聚合物(阳离子化合物)是合适的。

对于含有季铵盐的聚合物，任何具有低分子量和高分子量的类型都可以使用，从例如防止渗出、从而防止抗静电性能波动来看，更优选具有高分子量的阳离子抗静电剂。

可以从已知的化合物中适当选择使用含有季铵盐的高分子量阳离子化合物，考虑到高离子传导性，优选具有至少一个由下式(I)至(III)表示的结构单元的聚合物：

式(I)：

式(I)中，R₁表示氢原子、烷基、卤素原子或-CH₂COO^-M⁺，Y表示氢原子或-COO^-M⁺，M⁺表示质子或阳离子，L表示-CONH-、-COO-、-CO-或-O-，J表示亚烷基、亚芳基或由这些基团组合形成的基团，Q表示选自以下组A的基团：

在上式中，R₂、R₂′和R₂″各自独立地表示烷基，J表示亚烷基、亚芳基或由这些基团的组合形成的基团，X-表示阴离子，p和q各自独立地表示0或1；

式(II)：

式(III)：

在式(II)和式(III)中，R₃、R₅、R₅和R₆各自独立地表示烷基，或R₃和R₄或R₅和R₆可以彼此连接在一起形成含氮杂环。

A、B和D各自独立地表示亚烷基、亚芳基、亚烯基、亚芳基亚烷基、-R₇COR₈-、-R₉COOR₁₀OCOR₁₁-、R₁₂OCR₁₃COOR₁₄-、-R₁₅-(OR₁₆)m-、-R₁₇CONHR₁₈NHCOR₁₉-、-R₂₀OCONHR₂₁NHCOR₂₂-或-R₂₃NHCONHR₂₄NHCONHR₂₅-，E表示单键、亚烷基、亚芳基、亚烯基、亚芳基亚烷基、-R₇COR₈-、-R₉COOR₁₀OCOR₁₁、-R₁₂OCR₁₃COOR₁₄-、-R₁₅-(OR₁₆)m-、-R₁₇CONHR₁₈NHCOR₁₉-、-R₂₀OCONHR₂₁NHCOR₂₂-、-R₂₃NHCONHR₂₄NHCONHR₂₅-或-NHCOR₂₆CONH-，R₇、R₈、R₉、R₁₁、R₁₂、R₁₄、R₁₅、R₁₆、R₁₇、R₁₉、R₂₀、R₂₂、R₂₃、R₂₅和R₂₆各自独立地表示亚烷基。R₁₀、R₁₃、R₁₈、R₂₁和R₂₄各自独立地表示选自亚烷基、亚烯基、亚芳基、亚芳基亚烷基和亚烷基亚芳基的连接基团。m表示1至4的正整数。X^-表示阴离子。

Z₁和Z₂各自表示与-N＝C-基团一起形成五元环或六元环所必要的非金属原子基团，并且可以与E连接，以季盐≡N⁺[X^-]-的形式。

n表示从5至300的整数。

式(I)至(III)中的基团具体描述如下。

卤素原子包括氯原子和溴原子，优选氯原子。

烷基优选具有1至4个碳原子的支链或支链烷基，更优选甲基、乙基或丙基。

亚烷基优选具有1至12个碳原子的亚烷基，更优选亚甲基、亚乙基或亚丙基，特别优选亚乙基。

亚芳基优选具有6至15个碳原子的亚芳基，更优选亚苯基、二亚苯基、苯基亚甲基、苯基二亚甲基或亚萘基，特别优选苯基亚甲基。这些基团可具有取代基。

亚烯基优选具有2至10个碳原子的亚烯基，亚芳基亚烷基优选具有6至12个碳原子的亚芳基亚烷基。这些基团可具有取代基。

各基团上可以存在的取代基包括，例如，甲基、乙基和丙基。

在式(I)中，R₁优选氢原子。

Y优选氢原子。

J优选苯基亚甲基。

Q优选选自组A中的下式(VI)所示的基团，其中，R₂、R₂′和R₂″各自独立地表示甲基。

X^-包括例如卤素离子、磺酸根阴离子或羧酸根阴离子，优选卤素离子，更优选氯离子。

p和q各自优选为0或1，更优选地，p是0，q是1。

式(VI)：

在式(II)和(III)中，R₃、R₄、R₅和R₆各自优选表示取代的或未取代的具有1至4个碳原子的烷基，更优选甲基或乙基，特别优选甲基。

A、B和D各自独立地优选表示取代的或未取代的具有2至10个碳原子的亚烷基，亚芳基、亚烯基或亚芳基亚烷基，更优选苯基二亚甲基。

X^-表示例如卤素离子、磺酸根阴离子或羧酸根阴离子，优选卤素离子，更优选氯离子。

E优选表示单键、亚烷基、亚芳基、亚烯基或亚芳基亚烷基。

由Z₁或Z₂与-N＝C-基团形成的五元或六元环包括例如二氮阳离子二环辛烷环。

具有式(I)至(III)中任意一个表示的结构单元的化合物的具体实例图示如下，但本发明不应解读为局限于此。在所述具体实例中，下标(m、x、z、r和实际数值)中，m表示每个单元中重复单元的个数，x、y、z和r各表示每个单元的摩尔比。

上述导电化合物可单独使用，或可以以其两种或更多种化合物组合使用。由于也可提高抗静电萦涂层的耐刮擦性(膜强度)，所以更优选使用在抗静电剂的分子中具有可聚合基团的抗静电化合物。

所述离子传导化合物也可使用可商购产品。例如，其示例有“LIODURAS LAS-1211”(由Toyo Ink Co.，Ltd.生产)，SHIKO UV-AS-102(由Nippon Synthetic Chemical IndustyCo.，Ltd)生产)，以及ASC-209P(由Kyoeisha Chemical Co.，Ltd.生产)。

适合用作离子传导化合物的含季铵盐基团的聚合物，其除了式(I)至(III)(离子结构单元)表示的结构单元以外，还可另外具有聚合单元。

可用作除离子结构单元以外的聚合单元的单体的实例包括以下化合物。

<具有氧化烯(alkylene oxide)链的化合物(a-2)>

凭借除所述离子结构单元以外的聚合单元，在组合物制备过程中，所述离子传导化合物可以增强在溶剂中的溶解度，或与含不饱和双键的化合物或光聚合引发剂的相容性。尤其是，优选所述离子传导化合物具有氧化烯链。

具有氧化烯链的化合物(a-2)由以下式(2)表示，并可通过如环氧乙烷与烷基醇的开环聚合，然后与甲基丙烯酸甲酯发生酯交换反应或与(甲基)丙烯酰氯反应获得。

CH₂＝C(R⁵)COO(AO)_nR⁶ 式(2)

在式(2)中，R⁵表示H或CH₃，R⁶表示氢或具有1至22个碳原子的烃基，n表示2至200的整数，A表示具有2至4个碳原子的亚烷基。

在式(2)中，氧化烯基团(AO)为具有2至4个碳原子的氧化烯基团，其实例包括氧化乙烯基团、氧化丙烯基团和氧化丁烯基团。此外，具有不同碳数的氧化烯基团在相同单体中可存在。

氧化烯基团的数值n为2至200的整数，优选10至100的整数。如果n为1或更小、或为201或更大，在某些条件下可能得不到与下述含具有不饱和双键的化合物的足够的相容性。

R⁶为氢或具有1至22个碳原子的烃基。如果碳数为23或更大，则原料昂贵，这是不实际的。

作为具有1至22个碳原子的烃基，可选择取代或未取代的烃基。优选未取代的烃基，更优选未取代的烷基。作为未取代的烷基，可以使用具有支链或不具有支链的烷基。其两种或更多种可以组合使用。

具有氧化烯链的化合物(a-2)的具体实例包括聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇-丙二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇-丁二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇-丁二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单甲基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单丁基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单辛基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单苄基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单苯基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单癸基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单十二烷基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单十四烷基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯十六烷基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单十八烷基醚、聚(乙二醇-丙二醇)单(甲基)丙烯酸酯辛基醚、聚(乙二醇-丙二醇)单(甲基)丙烯酸酯十八烷基醚和聚(乙二醇-丙二醇)单(甲基)丙烯酸酯壬基苯基醚。

<可与(a-2)共聚的化合物(a-3)>

此外，如果需要，可与化合物(a-2)共聚的化合物(a-3)可任选进行自由基共聚合。

可与化合物(a-2)共聚的化合物(a-3)为具有一个烯键式不饱和基团的化合物，所述化合物没有特殊限制，其实例包括(甲基)丙烯酸烷基酯，如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯或(甲基)丙烯酸十八烷基酯；(甲基)丙烯酸羟烷基酯，如(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯或(甲基)丙烯酸羟丁酯；各种(甲基)丙烯酸酯，如苄基(甲基)丙烯酸酯、环己基(甲基)丙烯酸酯、异冰片基(甲基)丙烯酸酯、双环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、双环戊烯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯、乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、丁氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、氰乙基(甲基)丙烯酸酯或缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯；苯乙烯，和甲基苯乙烯。

(a.2)电子传导化合物

电子传导化合物包括非共轭聚合物或共轭聚合物的化合物，其中芳香碳环或芳香杂环与单键或二价或更高价连接基团相连。所述电子传导化合物优选具有10^-6S.cm^-1或更高的导电率的聚合物，更优选10^-1S.cm^-1或更高的导电率的聚合物。

电子传导聚合物优选非共轭聚合物或共轭聚合物，所述聚合物通过芳香碳环或芳香杂环与单键或二价或更高价连接基团相连而形成。非共轭聚合物或共轭聚合物中的芳香碳环包括，例如，苯环，并且苯环可以进一步形成稠环。共轭聚合物或非共轭聚合物中的芳香杂环包括，例如，吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、哒嗪环、三嗪环、噁唑环、噻唑环、咪唑环、噁二唑环、噻二唑环、三唑环、四唑环、呋喃环、噻吩环、吡咯环、吲哚环、咔唑环、苯并咪唑环、咪唑并吡啶环。所述环可以进一步形成稠环，并可以具有取代基。

非共轭或共轭聚合物中二价或更高价的连接基团包括由例如碳原子、硅原子、氮原子、硼原子、氧原子、硫原子、金属和金属离子形成的连接基团，优选由碳原子、氮原子、硅原子、硼原子、氧原子、硫原子或其组合形成的基团。由其组合形成的基团的例子包括取代或未取代的亚甲基、羰基、亚氨基、磺酰基、亚磺酰基、酯基、酰氨基和甲硅烷基。

电子传导聚合物的具体实例包括导电性聚苯胺、聚对苯、聚对苯撑乙烯(polyparaphenylenevinylene)、聚噻吩、聚呋喃、聚吡咯、聚硒吩、聚异硫茚(thianaphthene)、聚苯硫醚、聚乙炔、聚乙烯吡啶(polypyridyl-vinylene)、聚吖嗪和其衍生物，且每个可被取代。基于用途，电子传导聚合物可以单独使用或两种或更多种组合使用。

一旦达到了预期的传导性，可以与其它不具有传导性的聚合物的混合物形式使用，也可以使用能够形成电子传导聚合物的单体和其它不具有传导性的单体的共聚物。

电子传导聚合物更优选共轭聚合物。共轭聚合物的例子包括聚乙炔、聚二乙炔、聚对苯、聚芴、聚、聚对苯硫醚、聚吡咯、聚噻吩、聚异硫茚、聚苯胺、聚对苯撑乙烯、聚(2，5-噻吩乙烯)，多链型共轭聚合物(例如聚周萘(polyperinaphthalene))、金属酞菁型聚合物，其它共轭聚合物(例如聚对二甲苯或聚[α-(5，5’-联噻吩二基)亚苄基])和其衍生物。

优选的示例是聚对苯、聚吡咯、聚噻吩、聚苯胺、聚对苯撑乙烯、聚(2，5-噻吩乙烯)、及其衍生物，更优选示例为聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯及其衍生物，还更优选的示例是聚噻吩及其衍生物的至少一种。

共轭聚合物可以具有取代基。共轭聚合物可以具有的取代基的实例包括下式(s1)中R¹¹所表示的取代基。

基于得到既具有高透明性又具有抗静电性能的光学膜的角度考虑，特别是，优选电子传导聚合物具有由下式(S1)表示的部分结构(即聚噻吩或其衍生物)：

在式(s1)中，R¹¹表示取代基，m11表示0-2的整数。当m11表示2时，多个R¹¹可以是相同的或不同的，并且可以互相连接形成环。n11表示1或以上的整数。

R¹¹表示的取代基包括烷基(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-12个碳原子，特别优选具有1-8个碳原子，例如甲基、乙基、异丙基、叔丁基、正辛基、正癸基、正十六基、环丙基、环戊基或环己基)，烯基(优选具有2-20个碳原子，更优选具有2-12个碳原子，特别优选2-8个碳原子，例如乙烯基、烯丙基、2-丁烯基、3-戊烯基、2-己烯基、3-己烯基、4-己烯基或2-辛烯基)，炔基(优选具有2-20个碳原子，更优选具有2-12个碳原子，特别优选2-8个碳原子，例如炔丙基或3-戊炔基)，芳基(优选具有6-30个碳原子，更优选具有6-20个碳原子，特别优选具有6-12个碳原子，例如苯基，对甲基苯基或萘基)、氨基(优选具有0-20个碳原子，更优选具有0-10个碳原子，特别优选具有0-6个碳原子，例如氨基、甲氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二苄氨基或二苯氨基)，烷氧基(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-12个碳原子，特别优选具有1-8个碳原子，例如甲氧基、乙氧基、丁氧基、己氧基或辛氧基)，芳氧基(优选具有6-20个碳原子，更优选具有6-16个碳原子，特别优选具有6-12个碳原子，例如苯氧基，2-萘氧基)，酰基(优选具有1到20个碳原子、更优选具有1到16个碳原子、特别优选具有1到12个碳原子，例如，乙酰基、苯甲酰基、甲酰基、新戊酰基)，烷氧羰基(优选具有2-20个碳原子，更优选具有2-16个碳原子，特别优选具有2-12个碳原子，例如甲氧基羰基或乙氧基羰基)，芳氧羰基(优选具有7-20个碳原子，更优选具有7-16个碳原子，特别优选具有7-10个碳原子，例如苯氧羰基)，酰氧基(优选具有2-20个碳原子，更优选具有2-16个碳原子，还更优选具有2-10个碳原子，例如乙酰氧基、苯甲酰氧基)，酰基氨基(优选具有2-20个碳原子，更优选具有2-16个碳原子，特别优选具有2-10个碳原子，例如乙酰氨基、苯酰基氨基)，烷氧羰基氨基(优选具有2-20个碳原子，更优选具有2-16个碳原子，特别优选具有2-12个碳原子，例如甲氧基羰基氨基)，芳氧基羰基氨基(优选具有7-20个碳原子，更优选具有7-16个碳原子，特别优选具有7-12个碳原子，例如苯氧基羰基氨基)，磺酰基氨基(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-16个碳原子，特别优选具有1-12个碳原子，例如甲磺酰基氨基或苯磺酰基氨基)，氨磺酰基(优选具有0-20个碳原子，更优选具有0-16个碳原子，特别优选具有0-12个碳原子，例如氨磺酰基、甲基氨磺酰基、二甲基氨磺酰基或苯基氨磺酰基)，氨基甲酰基(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-16个碳原子，特别优选具有1-12个碳原子，例如氨基甲酰基、甲基氨基甲酰基、二乙基氨基甲酰基或苯基氨基甲酰基)，烷硫基(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-16个碳原子，特别优选具有1-12个碳原子，例如甲硫基或乙硫基)，芳硫基(优选具有6-20个碳原子，更优选具有6-16个碳原子，特别优选具有6-12个碳原子，例如苯硫基)，磺酰基(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-16个碳原子，特别优选具有1-12个碳原子，例如甲磺酰基或甲苯磺酰基)，亚磺酰基(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-16个碳原子，特别优选具有1-12个碳原子，例如甲基亚磺酰基或苯基亚磺酰基)，脲基(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-16个碳原子，特别优选具有1-12个碳原子，例如脲基、甲基脲基或苯基脲基)，亚磷酰胺氯酯(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-16个碳原子，特别优选具有1-12个碳原子，例如二乙基亚磷酰胺氯酯或苯基亚磷酰胺氯酯)，羟基，巯基，卤素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子或碘原子)，氰基，磺基，羧基，硝基，异羟肟酸基，亚磺基，肼基，亚氨基，杂环基团(优选具有1-20个碳原子，更优选具有1-12个碳原子，杂原子的例子包括氮原子、氧原子和硫原子，具体例子包括吡咯烷，哌啶，哌嗪，吗啉，噻吩，呋喃，吡咯，咪唑，吡唑，吡啶，吡嗪，哒嗪，三唑，三嗪，吲哚，吲唑，嘌呤，噻唑啉，噻唑，噻二唑，噁唑啉，噁唑，噁二唑，喹啉，异喹啉，酞嗪，naphthylydine，喹喔啉，喹唑啉，噌啉，蝶啶，吖啶，菲咯啉，吩嗪，四唑，苯并咪唑，苯并噁唑，苯并噻唑，苯并三唑，四氮茚)，硅烷基(优选具有3-40个碳原子，更优选具有3-30个碳原子，特别优选具有3-24个碳原子，例如三甲基甲硅烷基或三苯基甲硅烷基)。

R¹¹表示的取代基可以进一步被取代。当其为多个取代基时，它们可以相同或不同，如果可能，它们可以互相结合成环。形成的环的例子包括环烷基环，苯环，噻吩环，二氧六环，二噻烷环。

R¹¹表示的取代基优选是烷基、烯基、炔基、烷氧基、烷硫基，更优选烷基、烷氧基或烷硫基。特别优选地，当m11是2的时候，两个R¹¹是形成环的烷氧基或烷硫基，从而形成二氧六环或二噻烷。

当式(s1)中m11是1时，R¹¹优选烷基，更优选碳原子数2-8的烷基。

当式(s1)是聚(3-烷基噻吩)时，其中R¹¹是烷基，相邻的噻吩之间的连接模式包括所有的噻吩环都是以2-5’连接的立构规则模式和包括2-2’连接和5-5’连接的立构不规则模式。其中，优选立构不规则模式。

本发明中，从既得到高透明性又得到导电性的角度考虑，特别优选电子传导聚合物是聚(3，4-亚乙基二氧)噻吩(如下示的具体实例中的化合物(6)，PEDOT)。

式(s1)表示的聚噻吩和其衍生物可以由已知的方法生产，例如在J.Mater.Chem.，15，2077-2088(2005)或Advanced Materials，12(7)，481(2000)中描述的方法。并且还有商业产品，例如DENATRON P502(由NagaseChemteX Corp生产)，和3，4-亚乙基二氧噻吩(BAYTRON(注册商标)MV2)，3，4-聚亚乙基二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸(BAYTRON(注册商标)P)，BAYTRON(注册商标)C)，BAYTRON(注册商标)F E，BAYTRON(注册商标)M V2，BAYTRON(注册商标)P，BAYTRON(注册商标)P AG，BAYTRON(注册商标)P HC V4，BAYTRON(注册商标)P HS，BAYTRON(注册商标)PH，BAYTRON(注册商标)PH 500和BAYTRON(注册商标)PH 510(由H.C.Starck GmbH制造)。

作为聚苯胺和其衍生物，可采用聚苯胺(由Aldrich ChemicalCompany，Inc生产)和聚苯胺(翠绿亚胺盐)(由Aldrich Chemical Company，Inc生产)。

作为聚吡咯及其衍生物，可采用聚吡咯(由Aldrich ChemicalCompany，Inc生产)。

电子传导聚合物的具体实例如下所示，但是本发明并不解读为局限于此。在下示的具体实例中，x和y各自表示重复单元的个数。在这些化合物以外，还可举例WO98/01909中的化合物。

(有机溶剂中的溶解性)

基于涂布性能及提供与(b)组分的亲合性的角度考虑，优选电子传导聚合物在有机溶剂中是可溶的。

更具体来说，优选电子传导聚合物能以至少1.0重量％可溶于有机溶剂中，该有机溶剂含有5重量％或以下的水，并且介电常数是2-30。

此处采用的术语“可溶”指的是一种状态，其中电子传导聚合物在有机溶剂中以单分子或多个单分子缔合的形式存在于有机溶剂中，或电子传导聚合物以300nm或以下的颗粒尺寸分散在有机溶剂中。

大体来说，电子传导聚合物具有高亲水性，并通常可溶于以水为主要成分的溶剂中。为了在有机溶剂中增溶这种电子传导聚合物，示例的一种方法是，例如，其中将可提高与有机溶剂的亲合性的化合物(例如下文所述的增溶助剂)或将有机溶剂中的分散剂加入含有电子传导聚合物的组合物中。并且，在采用电子传导聚合物与多阴离子掺杂剂一起使用的情况下，优选如下描述的方法对多阴离子掺杂剂进行疏水化处理。

进一步还可采用一种方法，其中电子传导聚合物以未掺杂状态(没有采用掺杂剂的状态)使用，以增加其在有机溶剂中的溶解性，再在形成涂层后加入掺杂剂，以使其产生传导性。

除了以上所述以外，还可以采用下述参考文献所记载的方法作为增加其在有机溶剂中溶解度的方法。

例如，在JP-A-2002-179911中描述了一种方法，其中聚苯胺组合物以未掺杂的状态溶解在有机溶剂中，材料被涂布在基材上并干燥，然后用溶液对其进行氧化并进行掺杂处理，溶液中溶有或分散有质子酸或氧化剂，以产生传导性。

另外，在WO05/035626中描述了一种生产可以稳定分散在有机溶剂中的导电性聚苯胺的方法，其中苯胺或其衍生物的氧化聚合发生在包含水相和有机相的混合相中，聚合在至少存在一种磺酸和具有质子酸基团的水不溶性有机聚合物化合物、分子量调节剂和任选存在的相转移催化剂共同存在的情况下进行。

作为有机溶剂，例如，醇、芳香烃、醚、酮和酯都是合适的。有机溶剂的具体实例列举如下。每种有机溶剂的介电常数如括号中所示。

醇包括，例如单羟基醇和二羟基醇。单羟基醇优选具有2-8个碳原子的饱和脂肪醇。醇的具体例子包括乙醇(25.7)，正丙醇(21.8)，异丙醇(18.6)，正丁醇(17.1)，仲丁醇(15.5)，和叔丁醇(11.4)。

芳香烃的具体例子包括苯(2.3)，甲苯(2.2)，二甲苯(2.2)。醚的具体实例包括四氢呋喃(7.5)，乙二醇单甲基醚(16)，乙二醇单甲基醚乙酸酯(8)，乙二醇单乙基醚(14)，乙二醇单乙基醚乙酸酯(8)和乙二醇单丁基醚(9)。酮的具体例子包括丙酮(21.5)，二乙基酮(17.0)，甲基乙基酮(15.5)，二丙酮醇(18.2)，甲基异丁基酮(13.1)和环己酮(18.3)。酯的具体例子包括乙酸甲酯(7.0)，乙酸乙酯(6.0)，乙酸丙酯(5.7)和乙酸丁酯(5.0)。

电子传导聚合物优选以至少1.0重量％的可溶解于有机溶剂中，更优选以1.0-10.0重量％可溶解于有机溶剂中，进一步更优选以3.0-30.0重量％可溶解于有机溶剂中。

在有机溶剂中，电子传导聚合物可以以颗粒的形式存在。在这种情况下，颗粒的平均粒径优选300nm或以下，更优选200nm或以下，进一步更优选100nm或以下。通过将粒径控制在上述范围内，可以防止在有机溶剂中颗粒的沉淀。粒径的下限没有特别限定，且通常是1nm或以上。

(疏水化处理)

在多阴离子掺杂剂与上述电子传导聚合物一起使用的情况下，优选对包括电子传导聚合物和聚合物掺杂的组合物进行疏水化处理。通过进行组合物的疏水化处理，可以提高电子传导聚合物在有机溶剂中的溶解度，从而改进其与具有两个或以上可聚合基团的多官能单体化合物(B)的亲合性。可以通过改进多阴离子掺杂剂的阴离子基团来进行疏水化处理。

具体来说，疏水化处理的第一方法包括，例如，阴离子基团的酯化、醚化、乙酰化、甲苯磺酰化、三苯甲基化、烷基硅烷化或烷基羰基化方法。其中，优选酯化或醚化。通过酯化进行疏水化处理的方法包括其中多阴离子掺杂剂的阴离子基团用氯化剂氯化，然后通过醇酯化，例如甲醇或乙醇。还有，采用具有羟基或缩水甘油基和不饱和双键基团的化合物，然后通过磺基或羧基进行酯化，以进行疏水化。

在本发明中，迄今为止所知的多种方法都可使用，其实例具体描述在例如JP-A-2005-314671以及JP-A-2006-28439中。

疏水化处理的第二方法包括将碱性化合物与多阴离子掺杂剂的阴离子基团相连以进行疏水化的方法。碱性化合物优选胺化合物，并且包括，例如，伯胺、仲胺、叔胺和芳香胺。其具体例子包括被具有1-20个碳原子的烷基取代的伯胺、仲胺或叔胺，被具有1-20个碳原子的烷基取代的咪唑，以及吡啶。为了增加在有机溶剂中的溶解度，胺化合物的分子量优选50-2000，更优选70-1000，最优选80-500。

基于对电子传导聚合物的掺杂并未作出贡献的多阴离子掺杂剂的阴离子基团，作为碱性疏水化剂的胺化合物的量优选0.1-10.0摩尔当量，更优选0.5-2.0摩尔当量，特别优选0.85-1.25摩尔当量。在上述范围内时，有机溶剂中的溶解度、传导性和涂布层的强度都可以得到满足。

进一步，关于疏水化处理的细节，可以参见例如JP-A-2008-115215和JP-A-2008-115216的说明书。

(增溶助剂)

所述电子传导聚合物可以与在其分子中含有亲水性部分和疏水性部分，优选还含有可电离辐射固化的官能团的化合物(以下称作增溶助剂)一起使用。

通过采用增溶助剂，对电子传导聚合物在低含水量有机溶剂中的溶解性有帮助，并实现了涂层表面状态的进一步改善，且在根据本发明的组合物所形成的层中，固化层的强度得到了提高。

增溶助剂优选包含亲水部分、疏水部分和含可电离辐射固化的官能团部分的共聚物，特别优选嵌段型共聚物和接枝型共聚物，其中这些部分以单独片段的形式分别存在。可以通过活性阴离子聚合、活性自由基组合或具有上述部分的大分子的聚合得到所述共聚物。

增溶助剂描述在例如JP-A-2006-176681的[0022]-[0038]段中。

(含有电子传导聚合物的溶液的制备)

电子传导化合物采用上述有机溶剂的溶液的形式制备。

虽然已知有几种制备含有电子传导化合物的溶液的方法，但是下述三种方法是优选的。

第一种方法是这样的方法，其包括将电子传导聚合物在水中在多阴离子掺杂剂存在下聚合，然后，如果需要，通过加入上述增溶助剂或碱性疏水化剂进行处理，然后将水替换为有机溶剂。第二种方法是这样的方法，其包括将电子传导聚合物在水中在多阴离子掺杂剂存在下聚合，然后，如果需要，通过加入上述增溶助剂或碱性疏水化剂，蒸发水至干燥，然后加入有机溶剂以增溶。第三种方法是这样的方法，其包括分别制备π共轭体系导电聚合物和多阴离子掺杂剂，将二者混合并分散在溶剂中，以制备导电聚合物组合物的浓液，并且当溶剂中含水时，用有机溶剂取代水。

在上述方法中，增溶助剂的用量优选1-100重量％，更优选2-70重量％，最优选5-50重量％，基于电子传导聚合物和多阴离子掺杂剂的总量。在第一种方法中，用有机溶剂代替水的方法优选是加入高度水混溶性溶剂，例如，乙醇、异丙醇或丙酮，以制备均一溶液，再通过超滤法除去水。还有，示例的通过加入高度水混溶性溶剂来降低水含量至某一程度的方法是，混合更疏水的溶剂，并在减压下除去高挥发组分，以制备溶剂组合物。进一步，还可以在采用碱性疏水化剂充分进行了疏水化时，加入低水混溶性的有机溶剂，形成分离的两相体系，并且将水相中的有机传导性聚合物也被萃取至有机溶剂相中。

从增加抗静电性和抑制渗出导致的不平坦的发生的角度考虑，离子传导性聚合物的重均分子量优选2,000-500,000，更优选5,000-300,000。电子传导化合物的重均分子量优选20,000-500,000，更优选20,000-300,000，进一步更优选20,000-100,000。所述重均分子量是基于苯乙烯的通过凝胶渗透色谱法测量和计算的重均分子量。

从给予高硬度和高抗静电性的角度考虑，在形成本发明的抗静电硬涂层的涂布组合物中，传导性聚合物的含量优选1-12重量％，更优选1-10重量％，进一步更优选1.5-8重量％，以涂布组合物中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物的总重量计。当所述含量是1重量％或以上时，才可产生抗静电性能。当所述含量是12重量％或以下时，可以增加抗静电性能和膜强度(铅笔硬度)，并且从成本角度考虑也优选。

<其分子中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物>

本发明的抗静电硬涂层由涂布组合物形成，除了上述有机抗静电剂外，涂布组合物包括在其分子中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物。

其分子中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物可以起到粘结剂的作用，基于涂布层的强度和耐擦伤性角度考虑，优选其分子中具有两个或更多个(甲基)丙烯酰基，更优选为其分子中具有三个或更多个(甲基)丙烯酰基的多官能单体。

还有，其分子中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物优选是电离辐射可固化型化合物。

其分子中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物优选是多元醇和(甲基)丙烯酸的酯。其实例包括：1，4-丁二醇-二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇-二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇(甲基)丙烯酸酯、乙二醇-二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇-二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇-四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇-三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷-三(甲基)丙烯酸酯、EO-改性的三羟甲基丙烷-三(甲基)丙烯酸酯、PO-改性的三羟甲基丙烷-三(甲基)丙烯酸酯、EO-改性的磷酸-三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷-三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)-四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇-四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇-五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇-六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇-六(甲基)丙烯酸酯、1，2，3-环己烷-四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯和己内酯改性的三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯。

对于含(甲基)丙烯酰基的多官能丙烯酸酯基化合物，可以使用市售的产品，其实例包括Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.生产的A-TMMT和A-DPH。

在JP-A-2009-98658的[0114]至[0122]段中，描述了无氟多官能单体，可以将其应用到本发明中。

在本发明的形成抗静电硬涂层的涂布组合物中，从高硬度和高的抗静电性考虑，具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物优选具有小含量的极性基团，具体而言，其具有小含量的羟基、羧基和氨基甲酸酯基。进一步含有选自羟基、羧基和氨基甲酸酯基的至少一种的具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物的总含量优选40重量％或以下，更优选30重量％或以下，进一步更优选25重量％或以下，以具有(甲基)丙烯酰基的化合物的总重量计。

从得到高硬度的涂布层的角度考虑，基于涂层组合物的总固体含量，在本发明的用于形成抗静电性硬涂层的涂布组合物的其分子中具有(甲基)丙烯酰基的化合物的含量优选50-95重量％，更优选70-95重量％，进一步更优选80-95重量％。

<光聚合引发剂>

形成抗静电硬涂层的涂布组合物可以包含光聚合引发剂。

所述光聚合引发剂的实例包括苯乙酮、苯偶姻、二苯甲酮、膦氧化物、缩酮、蒽醌、噻吨酮、偶氮化合物、过氧化物、2，3-二烷基二酮化合物、二硫化物、氟代胺化合物、芳香锍、洛粉碱二聚物、鎓盐、硼酸盐、活性酯、活性卤素、无机络合物和香豆素。JP-A-2009-98658的第[0133]至[0151]段描述了光聚合引发剂的具体实例、优选实施方案和商业产品，这些也可以适当地用于本发明。

在Saishin UV Koka Gijutsu(Latest UV Curing Technologies)，159页，Technical Information Institute Co.，Ltd.(1991)和Kiyomi Kato，ShigaisenKoka System(Ultraviolet Curing System)，65-148页，Sogo Gijutsu Center(1989)中也描述了多种实例，这些可以用于本发明中。

基于涂布组合物中的总固体含量，光聚合引发剂在本发明的用于形成抗静电硬涂层的涂布组合物中的含量优选为0.5-8重量％，更优选为1-5重量％。

本发明的抗静电硬涂层特别优选至少含有有机抗静电剂、其分子中包含三个或以上(甲基)丙烯酰基的可固化化合物、引发剂和溶剂的涂布组合物形成。

(其它功能层)

根据本发明的光学膜可以具有除了抗静电硬涂层以外的其它功能层。只要其不违背本发明的精神，对功能层没有特别的限定。例如，光学膜的实施方案可以列举如下。

基材膜/抗静电硬涂层

基材膜/硬涂层/抗静电硬涂层

基材膜/抗静电硬涂层/低折射率层

基材膜/抗静电硬涂层/防眩光层

基材膜/防眩光层/抗静电硬涂层

基材膜/抗静电硬涂层/高折射率层/低折射率层

基材膜/抗静电硬涂层/中折射率层/高折射率层/低折射率层

基材膜/抗静电硬涂层/防眩光层/低折射率层

[抗静电硬涂层的物理性质]

根据本发明的抗静电硬涂层的折射率优选为1.48-1.65，更优选为1.48-1.60，最优选为1.48-1.55。优选上述范围内的折射率，因为可抑制基材表面不平坦的干扰，当层叠低折射率层时，反射色度可以为中性。

抗静电硬涂层的膜厚度优选为1μm或以上，更优选为4-20μm，进一步更优选为6-18μm，最优选为6-15μm。在上述范围内，机械强度和传导性均可满足。

另外，抗静电硬涂层的强度越高越优选。从实际的目的看，在铅笔硬度测试中，抗静电硬涂层的强度优选为3H或以上，更优选4H或以上。此外，优选在按照JIS K 5400进行的Taber测试中，测试前和后的样品磨损损失应尽可能小。

抗静电硬涂层的透光率优选为80％或以上，更优选85％或以上，最优选90％或以上。

[光学膜的物理性质]

考虑到抗静电性，根据本发明的光学膜的表面电阻率SR(Ω/sq)的常用对数值(LogSR)优选为较小，在25℃、60％湿度的环境中，优选为10.0或更小，更优选为9.3或更小。通过将表面电阻率设定到上述范围内，可以防止显示屏幕上沾染灰尘等所导致的清晰度下降，以及给予显示装置防止因静电而产生的破坏的性能。

在根据本发明的光学膜中，优选总雾值为从0.1％到低于1％，且基于JIS B 0601的算术平均粗糙度Ra为0.03μm或更小。当所述数值分别处于上述范围内时是较优选的，原因在于透光度和平顺性都很优异，并且清晰度变好。

总雾值更优选为从0.1％到低于0.5％。Ra更优选为0.001-0.015μm。

(制备光学膜的方法)

本发明的光学膜可通过下述方法形成，但本发明不应解读为局限于该方法。

首先制备用于形成抗静电性硬涂层的组合物。然后，通过例如浸涂法、气刀涂布法、帘式涂布法、辊涂法、线棒涂布法、凹面(gravure)涂布法、模口(die)涂布法将所述组合物涂布在透明支持体上，然后加热或干燥。更优选微凹面涂布法、线棒涂布法和模口涂布法(见U.S.专利2,681,294及JP-A-2006-122889)，特别优选模口涂布法。

涂布和干燥后，用光辐照由所述用于形成抗静电性硬涂层的组合物形成的层而使其固化，从而形成抗静电层。如果需要，其他层(构成光学膜的多个层，例如硬涂层和防眩光层)可以预先涂布在基材上，在其上可以形成所述抗静电性硬涂层。或者，本发明的抗静电硬涂层可形成在基材上，然后在其上形成其它层，这样便得到了本发明的光学膜。

本发明的制备光学膜的方法优选包括以下步骤的方法：将用于形成抗静电性硬涂层的组合物涂布并固化在透明基材上，从而形成抗静电性硬涂层。

为了赋予内散射性能，抗静电硬涂层可以含有消光(matte)颗粒，例如无机化合物颗粒或树脂颗粒。

为了控制抗静电硬涂层的折射率，具有不同折射率的单体或无机颗粒或二者可以加入抗静电硬涂层的粘结剂中。无机颗粒在控制折射率的效果以外，还具有抑制因交联反应而导致的固化收缩的效果。本发明中提到的粘结剂是一种包含聚合物的粘结剂，该聚合物通过在形成抗静电硬涂层和分散无机颗粒在其中后，聚合例如多官能单体和/或高折射率单体而制得。作为控制折射率的无机颗粒，可以举例二氧化硅微细颗粒。

(防眩光层)

在本发明中，为了赋予膜归因于表面散射的防眩光性，优选具有增加膜的硬度和抗擦伤性的硬涂层性，可以与抗静电硬涂层分开地形成防眩光层。

防眩光层描述在JP-A-2009-98658的[0178]-[0189]段中，其内容可以应用于本发明中。

在本发明的光学膜具有例如两层的防眩光层/抗静电硬涂层层叠到透明支持体上的结构时，可以采用上述两层同时涂布形成并且在一个涂布步骤中形成两层的方法。

在这种情况下，通过同时涂布并且在一个涂布步骤中形成抗静电硬涂层和防眩光层的两层，使得在低成本下获得高生产率成为可能。就在一个涂布步骤中同时形成两层的方法而言，可以采用已知的方法。具体来说，可以采用JP-A-2007-293302中的[0032]-[0056]段中描述的方法。

(高折射率层和中折射率层)

本发明的光学膜可包含高折射率层或中折射率层。

高折射率层的折射率优选为1.65-2.20，更优选为1.70-1.80。将中折射率层的折射率值调整到低折射率层的折射率和高折射率层的折射率之间。中折射率层的折射率优选为1.55-1.65，更优选为1.58-1.63。

对于形成高折射率层或中折射率层的方法而言，虽然可以使用通过化学气相沉积(CVD)法或物理气相沉积((PVD)法形成无机氧化物的透明薄膜，尤其是通过物理气相沉积法中的真空气相沉积法或溅射法形成，但优选通过全湿式涂布的方法。

对中折射率层和高折射率层没有特别限制，只要它们是折射率分别落入上述范围内的折射层，并可使用那些已知的其构成组分。其具体实例描述在JP-A-2008-262187第[0074]-[0094]段中。

(低折射率层)

本发明的光学膜优选具有直接或通过另一层位于抗静电性硬涂层上的低折射率层。在此情况下，本发明的光学膜可作用为抗反射膜。

在此情况下，低折射率层具有的折射率低于抗静电硬涂层的折射率，并且低折射率层的折射率优选为1.30-1.51，更优选为1.30-1.46，进一步更优选为1.32-1.38。优选将低折射率层的折射率设置到上述范围内，因为这样能保持较低反射率，并保持膜强度。对于形成低折射率层的方法，虽然可以使用通过化学气相沉积(CVD)法或物理气相沉积(PVD)法形成，尤其是物理气相沉积法中的真空气相沉积法或溅射法形成的无机氧化物的透明薄膜，但是，优选利用低折射率层的组合物通过全湿式涂布的方法。

对低折射率层没有特别限制，只要其是折射率在上述范围的层，并可使用那些已知的其构成组分。具体地，可适当使用JP-A-2007-298974中描述的包括含氟固化树脂和无机细颗粒的组合物，以及JP-A-2002-317152、JP-A-2003-202406和JP-A-2003-292831中描述的含中空二氧化硅微细颗粒的低折射率涂层。

[偏振片的保护膜]

在使用本发明的光学膜作为偏振膜的表面保护膜(偏振片保护膜)的情况下，通过对以下表面进行亲水化处理，可以改善其与主要由聚乙烯醇构成的偏振膜的粘附性，具体地，对以下表面进行所谓皂化处理：具有薄膜层的相对侧上的透明支持体表面，即，将要与偏振膜层叠那侧的表面。

同样优选地，在起偏器的两个保护膜中，光学膜之外的另一个膜是具有含光学各向异性层的光学补偿层的光学补偿膜。光学补偿膜(延迟膜)能改善液晶显示屏上的视角特性。

虽然可以使用已知的光学补偿膜作为所述光学补偿膜，就提供大视角而言，优选JP-A-2001-100042中描述的光学补偿膜。

下面描述皂化处理。所述皂化处理是包括将光学膜浸渍于温热的含水碱性溶液中一定时间，用水洗涤，再通过酸洗进行中和的处理。皂化处理可以在任何处理条件下进行，只要能够亲水化处理与偏振膜层叠的一侧上的透明支持体的表面。因此，可适宜地确定处理剂的浓度、处理剂溶液的温度和处理时间。由于需要保证生产率，通常要确定处理条件从而在三分钟内完成所述处理。一般条件为，碱浓度为3-25重量％，处理温度为30-70℃，处理时间为15秒-5分钟。碱处理用的碱种类优选氢氧化钠或氢氧化钾，酸洗涤所用的酸宜为硫酸，水洗涤用的水宜为离子交换水或纯水。

通过上述处理，即使当本发明的光学膜的抗静电硬涂层暴露于上述皂化处理液中的含水碱性溶液，也能完好保持其抗静电性能。

在利用本发明的光学膜作为偏振膜的表面保护膜(偏振片保护膜)的情况下，酰化纤维素膜优选为醋酸纤维素膜。

[偏振片]

本发明的偏振片是具有偏振膜和保护所述偏振膜的两个表面的两个保护膜的偏振片，其中至少一个表面保护膜是本发明的光学膜或抗反射膜。

所述偏振膜的实例包括碘基偏振膜、使用二色性染料的染料基偏振膜以及多烯基偏振膜。碘基偏振膜和染料基偏振膜通常可以用聚乙烯醇类型的膜制备得到。

以下构型是优选的，其中光学膜的酰化纤维素膜任选通过例如由聚乙烯醇构成的粘合层粘附于偏振膜，而且在所述偏振膜的另一侧上提供有保护膜。所述保护膜也可以具有粘合层，该粘合层位于与布置偏振膜的一侧相对的另一侧上。

通过使用本发明的光学膜作为偏振片保护膜，可以制造具有优异的物理强度、抗静电性和耐久性的偏振片。

另外，本发明的偏振片也可具有光学补偿功能。在此情形下，优选地在保护膜的两个表面中，前侧上的表面保护膜或后侧上的表面保护膜中仅有一个与上述光学膜一起形成，并且与具有光学膜的偏振片一侧相对的另一侧上的表面保护层为光学补偿膜。

通过制备采用本发明光学膜的偏振片作为偏振片的一个保护膜，和具有光学各向异性的光学补偿膜作为偏振片的另一个保护膜的偏振片，可以进一步改善液晶显示装置在亮室中的对比度和上/下、左/右视角。

[图像显示装置]

本发明的图像显示装置在其显示器最上表面上具有根据本发明的光学膜或偏振片。

本发明的光学膜和偏振片适用于图像显示装置中，如液晶显示装置(LCD)、等离子体显示屏(PDP)、电致发光显示装置(ELD)或阴极射线管显示器(CRT)。

特别地，其可有利地用于图像显示装置，例如液晶显示装置中，更优选将所述光学膜用于透射/半透射式液晶显示装置中液晶单元背光侧上的最上表面层。

液晶显示装置通常具有液晶单元和位于液晶单元两侧上的两个偏振片，液晶单元装载有位于两电极基材之间的液晶。此外，一个光学各向异性层设置在液晶单元和一个偏振片之间，或者两个光学各向异性层分别位于液晶单元和两个偏振片之间。

液晶单元优选为TN模式、VA模式、OCB模式、IPS模式或ECB模式。

实施例

本发明的特征根据下述实施例与对比例进行详细描述。只要不超出本发明的主旨，材料、用量、比率、处理内容、处理程序等等可以做出适应性调整。所以，本发明的范围不应被解读为限定于下述具体的实施例中。

实施例A

[基材膜的制备]

(1)具有不同酯取代度的多个糖酯化合物的制备

以下表6中所述的具有不同取代度的多个糖酯化合物由下述方法制备。

首先，以上表1中的化合物112-117通过WO2009/031464中[0054]段示例化合物3的合成中所描述的方法进行合成。

并且，其它化合物(例如乙酰化蔗糖)通过相似的方法合成。然后，将化合物混合以制备糖酯化合物。就合成的糖酯化合物来说，对作为反应溶剂的甲苯进行减压(10mmHg或更低)干燥，且采用的化合物的残留溶剂低于100ppm。

(测量糖酯化合物平均取代度的方法)

在以下所示HPLC条件下测量每次停留时间的空隙比，并计算相对于总面积的取代度。

<HPLC的测量条件>

柱：TSK-gel ODS-100Z(Tosoh Corp.生产)，4.6x150mm，批号(P0014)

洗脱剂A：H₂O＝100，洗脱剂B：AR＝100，洗脱剂A和洗脱剂B均含有0.1％的AcOH和0.1％的NEt3

流速：1ml/min，柱温：40℃，波长：254nm，灵敏度：AUX2，注入量：10μl，冲洗液：THF/H₂O＝9/1(以体积比计)

样品浓度：5mg/10ml(THF)

(2)浓液的制备

将以下所示的组合物添加到混合槽中，搅拌，使每种组分都溶解，在90℃加热约10分钟，然后通过滤纸和烧结的金属过滤器过滤，滤纸的平均孔径是34μm，金属过滤器的平均孔径是10μm。

酰化纤维素溶液1

乙酰基取代度为2.85分子量为300,000的醋酸纤维素 100.0重量份

下表6所示的对比例1的具有不同酯取代度的多个糖 共8.0重量份

酯化合物

二氯甲烷 365.8重量份

甲醇 92.6重量份

丁醇 4.6重量份

消光剂分散液

将如下所示包括酰化纤维素溶液的由上述方法制备的组合物添加到分散器中来制备消光剂分散液。

消光剂分散液

消光剂(平均粒径为16nm的硅石颗粒(AEROSIL R972，0.2重量份

Nippon Aerosil Co.，Ltd.生产)

二氯甲烷 65.7重量份

甲醇 16.6重量份

丁醇 0.8重量份

酰化纤维素溶液 110.3重量份

将消光剂分散液混入100重量份的上述酰化纤维素溶液1中以得到基于酰化纤维素树脂0.02重量份的无机微细颗粒，制备形成膜的浓液。

(3)浇注

将每种浓液在30℃加热，并且通过辊筒式(drum)成膜机浇注。所述辊筒由SUS制成，并且其表面温度设定在-5℃，整个浇注单元的专用温度设定在15℃。

(4)干燥

将通过浇注形成的网(膜)从辊筒上剥离，并采用拉幅机在40℃进行空气干燥，其中在拉幅机输送网，网的两端用夹子夹住。

(5)拉伸

当夹在拉幅机上的网(膜)的残余溶剂量相对于整个膜的重量变为30-5％时，网(膜)被沿着与拉幅机传输方向(横向)垂直的方向拉伸10％。

随后，酰化纤维素膜解开夹子，并在110℃干燥30分钟。在该步骤中，对浇注的膜厚度进行控制，以使拉伸后的膜厚为40μm。

由此制得对比例1中采用的醋酸纤维素膜基材1。

通过以与对比例1中所用醋酸纤维素膜基材1相同的方法制备成膜浓液，并实施浇注、干燥、拉伸，从而得到实施例和对比例中的每种醋酸纤维素膜基材，除了表6中所示糖酯化合物的酯取代度、比率和增塑剂种类改变以外。膜基材中所用的糖酯化合物是分别具有表6中所示酯取代度的糖酯化合物的混合物，表6中取代度以摩尔比计(摩尔％)。

作为对比例4采用的膜基材，成膜浓液采用磷酸三苯酯(TPP)和磷酸联苯基二苯酯(BDP)以3∶1的比率混合的混合物制备，并且膜基材通过与上述方法相同的方法制备。

[光学膜的制备]

制备形成抗静电硬涂层用涂布溶液，并且在基材上形成抗静电硬涂层，从而制得光学膜。

(形成抗静电硬涂层的涂布溶液的制备)

将表7中所示组分添加到搅拌槽中，搅拌，通过孔径0.4μm的丙烯过滤器的过滤，来制备分别用来形成抗静电硬涂层的涂布溶液HC-1至HC-14。每种表7中所示添加组分的量以重量份计。

采用的化合物分别如下所示。

A-TMM-3LM-N：季戊四醇四丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯的混合物(三丙烯酸酯率：57％)，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.生产。

A-TMMT：季戊四醇四丙烯酸酯，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.生产。

VISCOTE 295：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，Osaka Organic ChemicalCo.，Ltd生产。

EBECRYL 5129(EB-5129)：六官能脂族聚氨酯丙烯酸酯，DaicelCorp.生产。

BLEMMER GMR：甘油二甲基丙烯酸酯，NOF Corp.生产。

SAS-PE：包含聚噻吩聚苯乙烯磺酸的导电聚合物，Shin-EtsuPolymer Co.，Ltd.生产。

1-羟基环己基苯基酮：聚合引发剂，IRGACURE 184，Ciba SpecialtyChemicalsInc.生产。

(抗静电性硬涂层的制备)

在通过上述方法得到的醋酸纤维素膜基材上，使用凹面涂布机涂布上述用于抗静电硬涂层的涂布溶液，并在60℃下干燥大约2分钟。然后，使用160W/cm的风冷式金属卤化物灯(由Eye Graphics Co.，Ltd.制造)进行紫外线照射以使涂层固化，紫外线照度为400mW/cm²，照射剂量为120mJ/cm²，同时用氮气吹扫系统，以使气氛中的氧气浓度为1.0体积％或更小，这样便制得光学膜样品。

[抗静电性能(1)]

将光学膜样品在23℃和60％RH的条件下静置2小时，然后通过超绝缘电阻/微安计TR8601(Advantest Corp.生产)来测量其表面电阻。较小的表面电阻值的常用对数(logSR)表示有较好的抗静电性能。所得的logSR通过以下所示标准进行评估。结果如表6所示。

A：log SR≤9.3

B：9.3＜log SR≤10.0

C：10.0＜log SR＜10.7

D：log SR≥10.7

[铅笔硬度]

将光学膜样品置于23℃、RH 50％的条件下对其进行2小时的湿度调理，然后通过JIS K 5600定义的铅笔硬度方法，在750g的负重下使用JIS S 6006规定的测试用铅笔刮划五次来评估。一组刮划测试重复五次。每组刮划测试后进行视觉评估，以每次增加0.5H的方法计算五组的平均值，计算出在五组试验中的三组或更多组没有缺陷的铅笔硬度，作为光学膜样品的铅笔硬度。在JIS 5600中定义的缺陷包括涂膜的涂层破裂和划伤，却并不意味着在涂层上形成凹痕，但是涂层上的凹痕也包括在铅笔硬度计算中的缺陷内。得到的结果如表6所示。

[暴露至高温和高湿环境后的抗静电性能(抗静电性能(2)]

将光学膜样品在80℃和90％RH的条件下储存500小时，然后干燥，直至没有残留水。此后，将光学膜样品在25℃和60％RH的条件下静置2小时，然后以与以上抗静电性能(1)相同的方法进行评估。计算由此得到的值及抗静电性能(1)中所得值之间的差值(ΔlogSR)。较小的Δlog SR表示在暴露在高温和高湿环境后更好的抗静电性能。得到的Δlog SR通过下述标准进行评估。结果如表6所示。

A：Δlog SR＜0.3

B：0.3≤Δlog SR＜1.0

C：1.0≤Δlog SR＜2.0

D：Δlog SR≥2.0

实施例B

[抗反射膜的制备]

(全氟烯烃共聚物P-1的合成)

全氟烯烃共聚物P-1通过与JP-A-2010-152311中描述的全氟烯烃共聚物(1)相同的方式制备。聚合物的折射率是1.422。

全氟烯烃共聚物P-1

上面结构式中，50∶50表示的是摩尔比。

(中空二氧化硅分散液A-1的制备)

在调整的制备条件下，中空二氧化硅分散液A-1(固含量浓度为18.2重量％)与JP-A-2007-298974描述的分散液A-1的相同方法制备，该二氧化硅平均粒径为60nm，壳厚度为10nm，二氧化硅石颗粒折射率为1.31。

(用于低折射率层的组合物A-1的制备)

将下示组合物加入混合槽中并搅拌，以制备用于低折射率层的组合物A-1(固含量浓度为12.5重量％)。

全氟烯烃共聚物P-1 14.8重量份

甲基乙基酮 157.7重量份

DPHA 3.0重量份

中空二氧化硅分散液A-1 21.2重量份

IRGACURE 127 1.3重量份

X22-164C 2.1重量份

采用的化合物分别如下所述：

DPHA：二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物，由NipponKayaku Co.，Ltd.生产。

X22-164C：反应性有机硅，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.生产。

Irgacure 127：光聚合引发剂，由Ciba Specialty Chemicals Inc.生产。

(低折射率层的制备)

使用凹面涂布机，将用于低折射率层的组合物A-1涂布在实施例7的光学膜(样品8)的抗静电硬涂层上，以制备抗反射膜样品R-1。干燥条件为90℃下30秒，紫外固化使用240W/cm的风冷式金属卤化物灯(由Eye Graphics Co.，Ltd.制造)在以下条件下进行：照度600mW/cm²、照射剂量为600mJ/cm²，同时用氮气吹扫系统至气氛的氧气浓度为0.1体积1％或更低。低折射率层的膜厚度为95nm。

并且，用于低折射率层的组合物A-1也以与上述方式相同的方式涂布在实施例10的光学膜(样品11)的抗静电硬涂层上，以制备抗反射膜样品R-2。

(镜面反射率)

将适配器ARV-474配接在分光光度计V-550(由JASCO Corp.制造)上以评价抗反射性能，测量在380nm至780nm的波长范围内入射角为5°时出射角为5°的镜面反射率，并计算450nm至650nm时的平均反射率。结果如表8所示。表8中所示的每种性能都是通过抗反射膜的形式进行评价的。

表8

实施例C

(多个糖酯化合物的混合物的制备)

采用与实施例A中描述的相同方法，合成上述表1中的化合物112-117和上述表4中的化合物118、120和122。

然后，将如下表9中所描述的每种糖酯化合物混合，以制得组合物(由摩尔分数表示)，来分别制备多个糖酯化合物的混合物。

(纤维素酯溶液D-1的制备)

将如下所示的组合物加入混合槽中，在加热的条件下搅拌，使每种组分分别溶解，以制备纤维素酯溶液D-1。所述纤维素酯的乙酰基取代度根据ASTM D-817-91测定。粘均聚合度按照Uda等人的极限粘度测定法(Kazuo Uda，Hideo Saito，The Journal of FiberScience and Technology，Japan，Vol.18，No.1，pp.105-120(1962))测定。

纤维素酯溶液D-1的组成

纤维素酯(乙酰基取代度为2.86、粘均聚合度为310)100重量份

糖酯化合物混合物(具有表9所示的组成) 4.0重量份

二氯甲烷 375重量份

甲醇 82重量份

丁醇 5重量份

(消光剂分散液M-1的制备)

将如下所示的组合物添加到分散器中并搅拌，使每种组分都溶解，以制备消光剂分散液M-1。

消光剂分散液M-1的组成

硅石颗粒分散液(粒径16nm(AEROSIL R972，Nippon Aerosil Co.，Ltd.制造) 10.0重量份

二氯甲烷 62.5重量份

甲醇 14.1重量份

丁醇 0.8重量份

纤维素酯溶液D-1 10.3重量份

(紫外吸收剂溶液U-1的制备)

将如下所示的组合物加入混合槽中，在加热下搅拌，使每种组分都溶解，以制得紫外吸收剂溶液U-1。

紫外吸收剂溶液U-1的组成

如下所示紫外吸收剂(UV-1) 10.0重量份

如下所示紫外吸收剂(UV-2) 10.0重量份

二氯甲烷 54.3重量份

甲醇 12.0重量份

丁醇 0.7重量份

纤维素酯溶液D-1 12.9重量份

(样品31-39的基材膜的制备)

(核心层浓液的制备)

将具有如表9所示组成的糖酯化合物的混合物加入纤维素酯溶液D-1中，加入量为基于100重量份的纤维素酯的8.0重量份，然后加入紫外吸收剂溶液U-1，以得到基于100重量份纤维素酯各1.2重量份的紫外吸收剂(UV-1)和紫外吸收剂(UV-2)，将各组分在加热下彻底搅拌溶解，以制得浓液。

(用于表面层1的浓液的制备)

将紫外吸收剂溶液U-1加入纤维素酯溶液D-1中，以得到基于100重量份的纤维素酯各1.2重量份的紫外吸收剂(UV-1)和紫外吸收剂(UV-2)，加入消光剂分散液M-1，以得到基于100重量份纤维素酯0.026重量份的硅石颗粒，将各个组分在加热下彻底搅拌溶解，以得到浓液。

(用于表面层2的浓液的制备)

将紫外吸收剂溶液U-1加入纤维素酯溶液D-1中，以得到基于100重量份的纤维素酯各1.2重量份的紫外吸收剂(UV-1)和紫外吸收剂(UV-2)，加入消光剂分散液M-1，以得到基于100重量份纤维素酯0.078重量份的硅石颗粒，将各个组分在加热下彻底搅拌溶解，以得到浓液。

对于每个基材膜，将得到的浓液在30℃加热，以三层结构通过浇注刀(giesser)从模口共浇注到直径为3m的辊筒的不锈钢支持体镜面上。浇注用于表面层1的浓液，以形成与支持体接触的具有6μm干膜厚度的第一层，浇注用于核心层的浓液，以形成干膜厚为29μm的第二层，以及浇注用于表面层2的浓液，以得到干膜厚为5μm的第三层。支持体的表面温度设定为4℃，浇注宽度为1470mm。整个浇注单元的特定温度设为15℃。将残留溶剂量为240％状态的浇注和旋转的纤维素酯膜从辊筒上剥离，剥离位置是在浇注单元端点前50cm，并且其两端用销钉式拉幅机夹住。在剥离时，膜在传送方向被拉伸6％。然后，采用销钉式拉幅机(JP-A-4-1009中图3的销钉式拉幅机)夹持住所述膜在宽度方向(垂直于传送方向)的两端，并在宽度方向上进行5％的拉伸处理。制得的纤维素酯膜厚度设计为40μm。

由此制得用于样品31-39的基材膜。

(样品31-39的光学膜的制备)

采用涂布溶液HC-6来形成实施例A所用的抗静电硬涂层，在上述每个基材膜的第一层一侧上形成抗静电硬涂层。

具体来说，采用凹面涂布机进行涂布，并采用与实施例A相同方式的紫外辐射进行层的固化。抗静电硬涂层的设计厚度为8μm。

(样品31-39的性能评估)

三项性能包括抗静电性(1)，铅笔硬度，和暴露于高温和高湿环境后的抗静电性(抗静电性(2))，通过与实施例A相同的方法进行评估。

得到的结果如表9所示。

实施例D

(纤维素酯溶液D-2的制备)

将如下所示的组合物放入混合槽中，在加热的条件下搅拌，使每种组分溶解来制备纤维素酯溶液D-2。

纤维素酯溶液D-2的组成

纤维素酯(乙酰基取代度为2.86，粘均聚合度为310) 100重量份

糖酯化合物的混合物(具有表10所示的组成) 4.0重量份

二氯甲烷 375重量份

甲醇 82重量份

丁醇 5重量份

(消光剂分散液M-2的制备)

将如下所示的组合物添加到分散器中并搅拌，使每种组分都溶解，以制备消光剂分散液M-2。

消光剂分散液M-2的组成

硅石颗粒分散液(粒径为16nm(AEROSIL R972，Nippon Aerosil Co.，Ltd.制造) 10.0重量份

二氯甲烷 62.5重量份

甲醇 14.1重量份

丁醇 0.8重量份

纤维素酯溶液D-2 10.3重量份

(紫外吸收剂溶液U-2的制备)

将如下所示的组合物加入混合槽中，搅拌并加热，使每种组分都溶解，以制得紫外吸收剂溶液U-2。

紫外吸收剂溶液U-2的组成

紫外吸收剂(UV-1) 10.0重量份

紫外吸收剂(UV-2) 10.0重量份

二氯甲烷 54.3重量份

甲醇 12.0重量份

丁醇 0.7重量份

纤维素酯溶液D-2 12.9重量份

(样品41-43的基材膜的制备)

(用于核心层的浓液的制备)

将具有如表10所示的组成的糖酯化合物的混合物加入纤维素酯溶液D-2中，加入量基于100重量份的纤维素酯为8.0重量份，然后加入紫外吸收剂溶液U-2，以得到基于100重量份的纤维素酯各1.2重量份的紫外吸收剂(UV-1)和紫外吸收剂(UV-2)，各个组分在加热下彻底搅拌，以得到浓液。

(用于表面层1的浓液的制备)

将紫外吸收剂溶液U-2加入纤维素酯溶液D-2中，以得到基于100重量份的纤维素酯各1.2重量份的紫外吸收剂(UV-1)和紫外吸收剂(UV-2)，加入消光剂分散液M-2，以得到基于100重量份纤维素酯0.026重量份的硅石颗粒，加入二氯甲烷，以得到85重量％的浓液溶剂，各个组分在加热下彻底搅拌，以得到浓液。

(用于表面层2的浓液的制备)

将紫外吸收剂溶液U-2加入纤维素酯溶液D-2中，以得到基于100重量份的纤维素酯各1.2重量份的紫外吸收剂(UV-1)和紫外吸收剂(UV-2)，加入消光剂分散液M-2，以得到基于100重量份纤维素酯0.078重量份的硅石颗粒，加入二氯甲烷，以得到85重量％的浓液溶剂，各个组分在加热下彻底搅拌，以得到浓液。

用于表面层的浓液中所用总溶剂中采用的二氯甲烷比例为83-97重量％，更优选83-92重量％。在上述范围内时，当硬涂层涂布在纤维素酯膜上时，粘合性能优良，并且进一步偏振片的重复性能优良。

对于每个基材膜，将得到的浓液在30℃加热，以三层结构通过浇注刀从模口共浇注到直径为3m的辊筒的不锈钢支持体镜面上。浇注用于表面层1的浓液，以形成与支持体接触的具有6μm干膜厚度的第一层，浇注用于核心层的浓液，以形成干膜厚为29μm的第二层，以及浇注用于表面层2的浓液，以得到干膜厚为5μm的第三层。支持体的表面温度设定为4℃，浇注宽度为1470mm。整个浇注单元的特定温度设为15℃。将残留溶剂量为240％状态的浇注和旋转的纤维素酯膜从辊筒上剥离，剥离位置是在浇注单元端点前50cm，并且其两端用销钉式拉幅机夹住。在剥离时，膜在传送方向被拉伸6％。然后，采用销钉式拉幅机(JP-A-4-1009中图3的销钉式拉幅机)夹持住所述膜在宽度方向(垂直于传送方向)的两端，并在宽度方向上进行5％的拉伸处理。制得的纤维素酯膜厚度设计为40μm，以制备用于样品41-43的基材膜。

纤维素酯膜在传送方向或宽度方向的拉伸对于控制具有硬涂层的膜或偏振片形式的膜的卷曲是有效的，优选拉伸范围是3-20％，更优选5-15％。

(样品44-46的光学膜的制备)

(用于核心层浓液的制备)

将具有如表10所示组成的糖酯化合物的混合物加入纤维素酯溶液D-2中，加入量基于100重量份的纤维素酯为11.0重量份，然后加入紫外吸收剂溶液U-2，以得到基于100重量份的纤维素酯各1.2重量份的紫外吸收剂(UV-1)和紫外吸收剂(UV-2)，各个组分在加热下彻底搅拌，以得到浓液。

(用于表面层1的浓液的制备)

将紫外吸收剂溶液U-2加入纤维素酯溶液D-2中，以得到基于100重量份的纤维素酯各1.2重量份的紫外吸收剂(UV-1)和紫外吸收剂(UV-2)，加入消光剂分散液M-2，以得到基于100重量份纤维素酯0.026重量份的硅石颗粒，加入二氯甲烷，以得到85重量％的浓液溶剂，各个组分在加热下彻底搅拌，以得到浓液。

(用于表面层2的浓液的制备)

将紫外吸收剂溶液U-2加入纤维素酯溶液D-2中，以得到基于100重量份的纤维素酯各1.2重量份的紫外吸收剂(UV-1)和紫外吸收剂(UV-2)，加入消光剂分散液M-2，以得到基于100重量份纤维素酯0.078重量份的硅石颗粒，加入二氯甲烷，以得到85重量％的浓液溶剂，各个组分在加热下彻底搅拌，以得到浓液。

对于每个基材膜，将得到的浓液在30℃加热，以三层结构通过浇注刀从模口共浇注到直径为3m的辊筒的不锈钢支持体镜面上。浇注用于表面层1的浓液，以形成与支持体接触的具有2μm干膜厚度的第一层，浇注用于核心层的浓液，以形成干膜厚为54μm的第二层，以及浇注用于表面层2的浓液，以形成干膜厚为4μm的第三层。支持体的表面温度设定为-7℃，浇注宽度为1470mm。整个浇注单元的特定温度设为15℃。将浇注并旋转的纤维素酯膜在30℃干燥的风下在辊筒上干燥，在残留溶剂量为240％的状态下将纤维素酯膜与辊筒剥离，剥离点位于浇注单元端点前50cm，并且纤维素酯膜的两端用销钉式拉幅机夹住。在剥离时，膜在传送方向被拉伸10％。然后，采用销钉式拉幅机(JP-A-4-1009中图3的销钉式拉幅机)夹持住膜在宽度方向(垂直于传送方向)的两端，并在宽度方向上进行5％的拉伸处理。制得的纤维素酯膜的厚度设计为60μm。

由此，制备出用于样品44-46的光学膜。

(样品41-46的光学膜的制备)

采用用于形成实施例A中所用抗静电硬涂层的涂布溶液HC-6，在上述每个基材膜上形成抗静电硬涂层。

具体来说，采用凹面涂布机进行涂布，并采用与实施例A相同的方式进行紫外辐射进行层的固化。抗静电硬涂层的设计厚度为8μm。

(样品41-46的性能评估)

三项性能抗静电性(1)、铅笔硬度、暴露于高温和高湿环境后的抗静电性(抗静电性(2))通过与实施例A相同的方法进行评估。

得到的结果如表10所示。

Claims (10)

1.一种光学膜，其包含酰化纤维素膜基材和抗静电硬涂层，所述抗静电硬涂层由涂布组合物形成，其特征在于，所述酰化纤维素膜基材包含具有不同酯取代度的多个糖酯化合物和酰化纤维素，其中该多个糖酯化合物的平均酯取代度是60-94％，并且，所述涂布组合物至少包含有机抗静电剂和可固化化合物，该可固化化合物分子中具有(甲基)丙烯酰基。

2.权利要求1所述的光学膜，其中，以多个糖酯化合物计，酯取代度为75％或以上的糖酯化合物的含量为80摩尔％或以下。

3.权利要求1或2所述的光学膜，其中所述抗静电硬涂层由涂布组合物形成，该涂布组合物至少包含有机抗静电剂、其分子中具有三个或以上(甲基)丙烯酰基的可固化化合物、引发剂和溶剂。

4.权利要求1或2所述的光学膜，其中所述有机抗静电剂是含有季铵盐基团的抗静电剂。

5.权利要求4所述的光学膜，其中以用于形成抗静电硬涂层的涂布组合物中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物的重量计，含有季铵盐基团的抗静电剂的含量是1-12重量％。

6.权利要求1或2所述的光学膜，其中以用于形成抗静电硬涂层的涂布组合物中具有(甲基)丙烯酰基的可固化化合物的总重量计，具有(甲基)丙烯酰基、并且进一步含有至少一个选自羟基、羧基和氨基甲酸酯基的基团的可固化化合物的总含量为40重量％或以下。

7.一种制备权利要求1或2所述的光学膜的方法，其包括涂敷所述涂布组合物和固化所涂敷的涂布组合物。

8.一种抗反射膜，其包含直接或经由其它层而位于权利要求1或2所述的光学膜上的低折射率层。

9.一种偏振片，其包含权利要求1或2所述的光学膜，以作为所述偏振片的保护膜。

10.一种图像显示装置，其包含显示器和权利要求1或2所述的光学膜。