JP4953885B2 - 偏光板用保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は、低透湿性の偏光板用保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置に関する。
最近、液晶表示装置(以下、LCDということがある。)が、薄型で、軽量であり、また消費電力が小さいことからCRTの代わりに広く使用されるようになっている。偏光板は、LCDの普及に伴いその需要が急増している。その使用分野も、従来の電卓や時計などの小型品から、自動車用計器、PCのモニター、テレビといった大型品へ拡大されつつある。
表示装置は、常時長時間に亘って使用状態にあることが多いので、偏光板は、温湿度変化を有する環境下での長期使用でもLCDの画像品質が劣化しないような、長期の耐久性が要求されるようになってきた。
偏光板は、一般に偏光能を有する偏光膜の両面又は片面に、接着剤層を介して偏光板用保護フィルム(以下、保護層と称することもある)が貼り合わせられている。偏光膜の素材としてはポリビニルアルコール(以下、PVAということもある)が主に用いられており、PVAフィルムを一軸延伸してから、ヨウ素又は二色性染料で染色するか、あるいは染色してから延伸し、更にホウ素化合物で架橋することにより偏光膜が形成される。保護層としては、光学的に透明で複屈折性が小さいこと、表面が平滑であること等から、主にセルローストリアセテート(以下、TACということもある)が用いられている。
セルローストリアセテートを保護層として用いた場合、長期使用時に、温度や湿度の変化による偏光膜のサイズ変化が原因で、表示画像のムラが発生する場合があり、改善が望まれている。これらのムラ発生の要因としては、様々な温湿度環境下に曝された際に、偏光子に用いられているPVAが水分の出入りに伴って大きく寸度変化を起こす。PVAの環境による寸度変化は、歪み応力として光学補償シートや粘着剤、液晶セル等の部材へ伝わり、この応力によって各部材が光学特性の変動を引き起こし、光漏れが発生することが分かっている。そのため、偏光板用保護フィルムの透湿度を低下させ、偏光板の水分の出入りを抑制することによって、偏光板の耐久性の向上や光漏れによるムラの発生を抑えることが期待されている。
透湿性を低下させた保護フィルムとしては、例えば、疎水性の高い樹脂としてノルボルネン系樹脂からなるシートが有用であることが報告されている(特許文献1参照)。
しかしながら、ノルボルネン系樹脂からなるシートは、透湿性が十分小さく、湿度の変化を受けづらいが、偏光子との接着性が不十分、生産性が低い、ハードコート層の塗工が困難という課題がある。
これらの問題に対し、接着性を改良する技術が提案されているが(特許文献2〜3参照)、より高温や高湿の条件での耐久性が求められる状況ではいまだ十分なレベルではない。
また、他の手段として、ポリエチレンテレフタラート等のポリエステル樹脂や、ポリカーボネート樹脂等の他の疎水性の樹脂からなるシートを用い、更に接着性を改良させた保護フィルムの技術が提案されている(特許文献4〜8参照)。
しかし、これらの技術を利用しても、より高温、高湿の過酷な条件下での耐久性に対する高い要求に対しても、接着性が十分なレベルではない。
特開平10−101907号公報 特開2001−174637号公報 特開2001−305345号公報 特開2004−219620号公報 特開2002−90546号公報 特開平8−271733号公報 特開平8−240716号公報 特開2005−275216号公報
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、偏光板加工時の生産性が高い偏光板用保護フィルム、及びそれを用いた偏光板、並びに該偏光板を用いることにより、様々な環境において表示画像の品質を長期にわたって高品位に保つことができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
本発明者らは、鋭意検討の結果、透明基材フィルム上に、主成分としてビニルアルコール系重合体からなり、平均粒子半径が0.1〜10μmの層状無機化合物を含有する層と、ハードコート性を有する層の少なくとも2層の積層体からなることを特徴とする偏光板用保護フィルムによって、前記課題が解決されることを知見した。
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
<1> 透明基材フィルム上に、少なくともビニルアルコール系樹脂および層状無機化合物を含む被覆層と、ハードコート性を有するハードコート層とが隣接して積層され、前記被覆層と、前記ハードコート層の界面が化学的に結合していることを特徴とする偏光板用保護フィルムである。
<2> JIS K5600−5−6に定められた剥離試験に基づいて測定した被覆層と、ハードコート層との密着性が、分類2以下である<1>に記載の偏光板用保護フィルムである。
<3> ビニルアルコール系樹脂の少なくとも一部が、ビニル部分、オキシラニル部分、及びアジリジニル部分の少なくともいずれかを有する基で、少なくとも一個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコールからなる<1>から<2>のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
<4> 被覆層の厚みが、1μm〜10μmである<1>から<3>のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
<5> 層状無機化合物の平均粒子半径が、0.1μm〜10μmである<1>から<4>のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
<6> 層状無機化合物が、ビニルアルコール系樹脂に対して、1〜100質量%含有される<1>から<5>のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
<7> ビニルアルコール系樹脂の鹸化度が、95モル%以上である<1>から<6>のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
<8> 透明基材フィルムが、セルロースアシレート類を含む<1>から<7>のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
<9> 60℃、40%相対湿度における透湿度(WVTR40)が30g/m・日以下である<1>から<8>のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムである。
<10> 偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方に設けられた<1>から<9>のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムとを有することを特徴とする偏光板である。
<11> <10>に記載の偏光板と、液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置である。
本発明によれば、偏光板加工時の生産性が高い偏光板用保護フィルム、及びそれを用いた偏光板、並びに該偏光板を用いることにより、様々な環境において表示画像の品質を長期にわたって高品位に保つことができる液晶表示装置を提供することができる。
以下、本発明の保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置について、詳細に説明するが、本発明の偏光板用保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置は下記記載の形態に限られるものではない。
(偏光板用保護フィルム)
本発明の偏光板用保護フィルムは、透明基材(以下、透明基材フィルムということがある。)上に、ビニルアルコール系樹脂と、層状無機化合物とを含有する被覆層、及びハードコート性を有するハードコート層の少なくとも2層が少なくともこの順に積層され、前記被覆層と、前記ハードコート層との界面が化学的に結合していることが好ましい。
<偏光板用保護フィルムの物性>
<<透湿性>>
次に透湿性につき詳述する。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」(高分子実験講座4 共立出版)の285頁〜294頁:蒸気透過量の測定(質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法)に記載の方法を適用することができる。
本発明では調湿条件を60℃40%RHに変更した以外はJIS Z−0208に従って、算出することが好ましい。この際、恒温恒湿装置にいれたカップを適当な時間間隔で取り出して秤量する操作を繰り返し、二つの連続する秤量で、それぞれ単位時間あたりの質量増加を求め、それが5%以内で一定になるまで評価を続けることが好ましい。
また、試料の吸湿等による影響を除外するため、吸湿剤の入れていないブランクのカップを測定し、透湿度の値を補正することが好ましい。
また、透湿度測定の際には、ビニルアルコール系重合体と平均粒子半径が0.1〜10μmの層状無機化合物を含有する層と、ハードコート性を有する層が透明基材フィルムよりもカップ側、言い換えると、ビニルアルコール系重合体と平均粒子半径が0.1〜10μmの層状無機化合物を含有する層と、ハードコート性を有する層の反対側の透明基材フィルムと、60℃40%RH雰囲気が接する様にサンプルを設置して測定することが好ましい。
本発明の偏光板用保護フィルムの60℃、40%相対湿度における透湿度(WVTR40)は、30g/m・日以下であることが好ましく、20g/m・日以下であることがより好ましく、10g/m・日以下であることが特に好ましい。
本発明の偏光板用保護フィルムの透湿度がこの範囲であれば、偏光板としての性能(偏光度、直交単板透過率)が悪化することがなく、長期使用時に、温度や湿度の変化による偏光膜のサイズ変化が原因で、表示画像のムラの発生を抑制できる。
<<ヘイズ>>
本発明の偏光板用保護フィルムのヘイズは、1.5%以下であることが好ましく、1.2%以下が更に好ましく、1.0%以下が最も好ましい。また本発明の偏光板用保護フィルムは実質的に無色であることが好ましい。「実質的に無色」であるとは、L,a,b表色系で表したa,bの絶対値が3.0以下であることをいう。該絶対値は、2.5以下が更に好ましく、2以下が特に好ましい。実質的に無色であることで、偏光板としたときに色味がニュートラルグレーを示し、カラー表示において支障をきたすなどの不具合を生じないので好ましい。
<透明基材フィルム>
前記透明基材フィルムは、透明なフィルムであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択され、例えば、セルロースアシレート、ノルボルネン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリエチレン、ポリプロピレン、ラクトン環含有のポリマーが使用できる。光学的に均一なこと、表面が平滑なこと、偏光板を作製する上での二次加工性がよいことから、セルロースアシレート系フィルムが好ましい。
本発明に用いられるセルロースアシレートは、炭素数2〜22程度の脂肪族カルボン酸エステル又は芳香族カルボン酸エステルであり、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平10−45804号公報、同8−231761号公報、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。或いは、特開2002−179701号公報、特開2002−265639号公報、特開2002−265638号公報に記載の芳香族カルボン酸とセルロースとのエステルも好ましく用いられる。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルローストリアセテートと後述するセルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは混合して用いることも出来る。
セルロースアシレートの置換度(DS)は、セルロースの構成単位(β1→4グリコシド結合しているグルコース)に存在している三つの水酸基がアシル化されている割合を意味する。置換度は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、ASTM−D817−91に準じて実施する。
本発明のセルロースアシレートはアシル基の疎水性と水酸基の親水性を適度にバランスさせることにより、レターデーションの湿度依存性と寸度安定性を両立させるものである。すなわち、アシル基中のアルキル鎖が平均的に短かすぎる、及び/あるいは水酸基比率が高すぎるとレターデーションの湿度依存性は大きくなってしまう。また、アシル基中のアルキル鎖が平均的に長すぎる、及び/あるいは水酸基比率が高すぎるとTgが低下し、
寸度安定性が悪化してしまう。
したがって、本発明で好ましく用いられるセルローストリアセテートはアセチル化度が2.83以上2.91以下で炭素数3以上の他のアシル基を有しないものが好ましい。アセチル化度は2.84以上2.89以下が更に好ましい。
また、セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基の置換度をYとした時、下記数式(a)、及び数式(b)を同時に満たすセルロースエステルである。
2.6≦X+Y≦2.9・・・・・・・・・・・・・数式(a)
0≦X≦2.5・・・・・・・・・・・・・・・・・数式(b)
ここで、上記数式(a)、及び数式(b)を同時に満たすセルロースエステルの中でも、1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9のセルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)が好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することができる。
透明基材フィルムの厚みは、30〜120μmが好ましく、40〜80μmがより好ましい。基材フィルムの厚みが該下限値以上であれば、フィルム強度が弱くなるなどの問題が生じにくく、該上限値以下であれば、質量が増加しすぎて、特に20インチ以上の大型テレビに用いた場合に不利になるなどの弊害が生じにくいので好ましい。
[紫外線吸収剤]
本発明の透明基材フィルム、後述する被覆層、下塗り層、及びハードコート層のいずれかに、下記一般式(1)で表される紫外線吸収剤を2種類以上含有することが好ましい。
なお、下記一般式(1)中、R、R、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子、又は一価の有機基を表し、R、R及びRの少なくとも1つは総炭素数4〜20の無置換の分岐、又は直鎖のアルキル基を表し、R、R及びRはそれぞれ互いに異なる。
また、該紫外線吸収剤に関する下記数式(A)で表されるオクタノール/水分配係数(以下logP)の平均値(以下平均logP)と、セルロースアシレートのアシル化度DSとが、下記数式(B)の関係を満たすセルロースアシレートフィルムが透明基材フィルムとして用いられることがより好ましい。
ここで、下記数式(A)において、Wは、n番目の紫外線吸収剤の質量分率を表し、(logP)は、n番目の紫外線吸収剤の「logP」を表す。
5.0×DS−6.7≦平均logP≦5.0×DS−5.1・・・・数式(B)
前記紫外線吸収剤のlogPの平均値は、(5.0×DS−6.7)以上(5.0×DS−5.1)以下であり、(5.0×DS−6.5)以上(5.0×DS−5.2)以下が好ましい。logPの平均値が大きすぎると、面状が悪化し、logPの平均値が小さすぎると高温高湿下での紫外線吸収剤の保留性が悪化する。
また、上記一般式(1)で表される化合物は、330〜360nmの波長範囲に吸収極大を有するものである。
前記紫外線吸収剤は、揮散性の観点から分子量が250〜1,000であることが好ましく、260〜800であることがより好ましく、270〜800であることが更に好ましく、300〜800であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
前記紫外線吸収剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
[化合物の添加量]
上述の紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対して、0.01〜10質量%であることが好ましく、0.1〜5質量%であることがより好ましく、0.2〜3質量%であることが更に好ましい。
[化合物の添加方法]
また、これら紫外線吸収剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
次に、上記一般式(1)で表される紫外線吸収剤について詳しく説明する。
、R、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子、又は一価の有機基を表し、R、R及びRの少なくとも1つは総炭素数4〜20の無置換の分岐、又は直鎖のアルキル基を表し、R、R及びRはそれぞれ互いに異なる。
置換基としては、例えばアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、置換又は未置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)が挙げられる。
また、他の置換基としては、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよく、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよいが、R、R及びRの少なくとも1つは総炭素数4〜20の無置換の分岐、又は直鎖のアルキル基を表し、R、R及びRはそれぞれ互いに異なる。
及びRとしては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換、又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であることがより好ましく、水素原子、炭素1〜12アルキル基であることが更に好ましく、炭素数1〜12のアルキル基(好ましくは炭素数4〜12)であることが特に好ましい。
としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、置換、又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であることがより好ましく、水素原子、炭素1〜12アルキル基であることが更に好ましく、水素原子、メチル基であることが特に好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
及びRとしては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換、又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子であることが更に好ましく水素原子、塩素原子であることが特に好ましい。
以下に、一般式(I)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
<<可塑剤>>
本発明の透明基材フィルムに用いることのできる可塑剤としては、例えば多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤等が用いられるが、特に好ましくは多価アルコール系可塑剤、グリコレート系可塑剤である。
また、リン酸エステル系可塑剤の添加量は、フィルムに対して16質量%以下とすることが好ましく、10質量%以下とすることがより好ましく、6質量%以下とすることが特に好ましい。
多価アルコールエステルは、2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環、又はシクロアルキル環を有することが好ましい。
本発明に用いられる多価アルコールは、次の一般式(2)で表される。
ただし、下記一般式(2)において、Rは、n価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/又はフェノール性水酸基を表す)
上記一般式(2)で示される多価アルコールとしては、例えば、以下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
具体的には、アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等が挙げられる。
これらの中でも、特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等が用いられる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものが挙げられるが、本発明はこれに限定されるものではない。
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖、又は側鎖を有する脂肪酸が用いられることが好ましい。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が挙げられる。
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体が挙げられる。
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体が挙げられる。特に安息香酸が好ましい。
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1,500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環、又はシクロアルキル環を有するグリコレート系可塑剤が用いられることが好ましい。
好ましいグリコレート系可塑剤としては、例えばブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、フタル酸エステル系では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジベンジルフタレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤として、トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレート等が用いられる。
これらの可塑剤は単独あるいは2種以上混合して用いることができる。可塑剤の使用量は、セルロースエステルに対して4〜20質量%が好ましく、6〜16質量%がより好ましく、8〜13質量%が更に好ましい。可塑剤の添加量が多すぎるとフィルムが柔らかくなりすぎるため吸水弾性率が低下し、添加量が少なすぎるとフィルムの透湿性が低下する。
本発明の透明基材フィルムには、前記の可塑剤の他に、基材の耐久性や透湿性、弾性率等のフィルム物性、及び光学特性値を制御する目的で種々の添加剤を使用することができ、例えば特開2006−30937号公報[0054]〜[0134]、特開2003−12859号公報、特開2002−20410号公報、特開2003−222723号公報[0031〜0044]、及び特開2002−22956号公報[0045〜0058]に記載の化合物を使用することができる。
<被覆層>
前記被覆層は、前記透明基材フィルム上に形成される層であり、ビニルアルコール系樹脂と、層状無機化合物とを含有する被覆層からなる。
<<ビニルアルコール系樹脂>>
ビニルアルコール系樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコールなどの単独重合体や、エチレン−ビニルアルコール共重合体などが例示できる。また、これらのビニルアルコール系重合体は、単独で又は二種以上組み合わせて使用することもできる。
本発明のビニルアルコール系樹脂は、ビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する重合性基を有することが好ましい。好ましいポリマーは、一般式(I)又は(III)の特定のポリビニルアルコールである。
本発明のポリビニルアルコールは、下記の一般式(I)、及び(III)によって一般に表わされる。
一般式(I)において、L11は、エーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合又はエステル結合を表わし、R11は、アルキレン基又はアルキレンオキシ基を表わし、L12は、R11とQ11とをつなぐ連結基を表わし、Q11は、ビニル、オキシラニル又はアジリジニルを表わし、x1+y1+z1=100の条件にて、x1は10〜99.9モル%、y1は0.01〜80モル%、及びz1は0〜70モル%であり、好ましくは、x1は95〜99.9モル%、y1は0.01〜5モル%、及びz1は0〜4.99モル%であり、そしてk及びhは、それぞれ0又は1である)で表わされる。
一般式(I)において、R11は、一般に炭素原子数1〜24のアルキレン基、少なくとも一個の隣接しないCH基が−O−、−CO−、−NH−、−NR−(Rは炭素原子数1〜4のアルキル又は炭素原子数6〜15のアリールを表わす)、−S−、−SO−又は炭素原子数6〜15のアリーレンで置き換わった炭素原子数3〜24のアルキレン基、又はアルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ハロゲン、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、アルキルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アリールスルホニルオキシ、アルキルカルボニルチオ、アリールカルボニルチオ、アルキルスルホニルチオ、アリールスルホニルチオ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、カルボキシあるいはスルホで置換された上記アルキレン基いずれかを表わす。
11は、−R−、−R−(O−R−OR−、−R−CO−R−、−R−NH−R−、−R−NR−R−、−R−S−R−、−R−SO−R−、又は−R−A−R−(但し、R、R、R、R及びRは、それぞれ炭素原子数1〜24のアルキレンを表わし、Rは、炭素原子数1〜12のアルキル又は炭素原子数6〜15のアリールを表わし、Aは炭素原子数6〜24のアリーレンを表わし、そしてtは、0〜4の整数を表わす)を表わすことが好ましい。
更に、R11は、−R−、又は−R−(O−CHCH−(但し、R及びRは、それぞれ炭素原子数1〜12のアルキレンそしてtは0〜2の整数である。)を表わすことが好ましく、特にR11は、炭素原子数1〜12のアルキレンが好ましい。
上記アルキレン基は置換基を有していてもよい。その例としては、炭素原子数1〜24のアルキル基、炭素原子数6〜24のアリール基、炭素原子数1〜24のアルコキシ基、炭素原子数6〜24のアリールオキシ基、炭素原子数1〜24のアルキルチオ基、炭素原子数6〜24のアリールチオ基、ハロゲン(F、Cl、Br)、炭素原子数2〜24のアルキルカルボニル基、炭素原子数7〜24のアリールカルボニル基、炭素原子数1〜24のアルキルスルホニル基、炭素原子数6〜24のアリールスルホニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、炭素原子数2〜24のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数7〜24のアリールカルボニルオキシ基、炭素原子数1〜24のアルキルスルホニルオキシ基、炭素原子数6〜24のアリールスルホニルオキシ基、炭素原子数2〜24のアルキルカルボニルチオ基、炭素原子数7〜24のアリールカルボニルチオ基、炭素原子数1〜24のアルキルスルホニルチオ基、炭素原子数6〜24のアリールスルホニルチオ基、炭素原子数2〜24のアルキルカルボニルアミノ基、炭素原子数7〜24のアリールカルボニルアミノ基、炭素原子数1〜24のアルキルスルホニルアミノ基、炭素原子数6〜24のアリールスルホニルアミノ基、カルボキシ基、あるいはスルホ基が挙げられる。
上記アルキレン基の好ましい置換基としては、炭素原子数1〜24のアルキル(特に炭素原子数1〜12)、炭素原子数6〜24のアリール(特に炭素原子数6〜14)、炭素原子数2〜24のアルコキシアルキル(特に炭素原子数2〜12)が挙げられる。
アルキルの例としては、メチル、エチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、n−ドデシル、i−プロピル、i−ブチル、sec−ブチル、t−アミル及び2−エチルヘキシルが挙げられる。
1〜4個のアルコキシで置換されたアルキルの例としては、2−メトキシエチル、2−(2−メトキシエトキシ)エチル、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]エチル、2−n−ブトキシエチル、2−エトキシエチル、2−(2−エトキシエトキシ)エチル、3−メトキシプロピル、3−エトキシプロピル、3−n−プロピルオキシプロピル及び2−メチルブチルオキシメチルが挙げられる。アリールの例としては、フェニル、2−トリル、3−トリル、4−トリル、2−アニシル、3−アニシル、4−アニシル、2−ビフェニル、3−ビフェニル、4−ビフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、1−ナフチル及び2−ナフチルが挙げられる。また、複素環基の例としては、ピリジル、ピリミジル、チアゾリル及びオキサゾリルが挙げられる。
一般式(I)において、L12は、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−CO−O−CO−、−NRCO−、−CONR−、−NR−、−NRCONR−、−NRCO−O−、又は−OCONR−(但し、Rは水素原子又は低級アルキル基表わす)を表わすことが好ましい。
また、−(L12−Q12は、ビニル、ビニルオキシ、アクリロイル、メタクリロイル、クロトノイル、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、クロトノイルオキシ、ビニルフェノキシ、ビニルベンゾイルオキシ、スチリル、1,2−エポキシエチル、1,2−エポキシプロピル、2,3−エポキシプロピル、1,2−イミノエチル、1,2−イミノプロピル又は2,3−イミノプロピルであることが好ましい。
更に、ビニル、ビニルオキシ、アクリロイル、メタクリロイル、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、クロトノイルオキシ、ビニルベンゾイルオキシ、1,2−エポキシエチル、1,2−エポキシプロピル、2,3−エポキシプロピル、1,2−イミノエチル、1,2−イミノプロピル又は2,3−イミノプロピルが好ましい。特に、アクリロイル、メタクリロイル、アクリロイルオキシ及びメタクリロイルオキシが好ましい。
x1+y1+z1=100の条件にて、x1は50〜99.9モル%が好ましく、95〜99.9モル%がより好ましい。また、y1は0.01〜50モル%が好ましく、0.01〜5モル%がより好ましい。また、z1は0.01〜50モル%が好ましく、0.01〜4.99モル%がより好ましい。
上記一般式(I)において、L11がアセタール結合である場合、一般式(I)のポリビニルアルコールは、下記の一般式(Ia)によって表わすことができる。
なお、下記一般式(Ia)において、L11、R11、L12、Q11、x1、y1、z1、k、及びhは、一般式(I)と同義である。
本発明のポリビニルアルコールは、下記の一般式(III)によっても表わすことできる。
上記一般式(III)において、L31は、エーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合又はエステル結合を表わし;A31は、アリーレン基、又はハロゲン、アルキル、アルコキシ又は置換アルコキシで置換されたアリーレン基を表わし(置換されたアルコキシの置換基としてはアルコキシ、アリール、ハロゲン、ビニル、ビニルオキシ、アクリロイル、メタアクリロイル、クロトノイル、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、クロトノイルオキシ、ビニルフェノキシ、ビニルベンゾイルオキシ、スチリル、1,2−エポキシエチル、1,2−エポキシプロピル、2,3−エポキシプロピル、1,2−イミノエチル、1,2−イミノプロピル又は2,3−イミノプロピルが挙げられる);R31は、R11と同一の基を表わし;L32は、L12と同一の基を表わし;Q31は、Q11と同一の基を表わし;x2+y2+z2=100の条件にて、x2は10〜99.9モル%、y2は0.01〜80モル%、及びz2は0〜70モル%であり、好ましくは、x2は95〜99.9モル%、y2は0.01〜5モル%、及びz2は0〜4.99モル%であり、;そしてk1及びh1は、それぞれ0又は1である。
特に、A31は、炭素原子数6〜24のアリーレン基、又はハロゲン、炭素原子数1〜4のアルキルあるいは炭素原子数1〜4のアルコキシで置換された炭素原子数6〜24のアリーレン基であることが好ましい。
31の基において、アリーレン基の炭素原子数は、一般に6〜24個であり、6〜12個が好ましい。アリーレン基の例としては、1,4−フェニレン、1,3−フェニレン、1,2−フェニレン及び1,5−ナフチレンを挙げることができ、特に1,4−フェニレンが好ましい。アリーレン基の置換基としては、ハロゲン原子(F、Cl、Br又はI)、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、そして炭素原子数1〜4のアルコキシ、炭素原子数6〜15のアリール、ハロゲン、ビニル、ビニルオキシ、オキシラニル(1,2−エポキシエチル、1,2−エポキシプロピル、2,3−エポキシプロピル)、アジリジニル(1,2−イミノエチル、1,2−イミノプロピル又は2,3−イミノプロピル)、アクリロイル、メタクリロイル、クロトノイル、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、クロトノイルオキシ、ビニルフェノキシ、ビニルベンゾイルオキシ又はスチリルで置換された炭素原子数1〜4のアルコキシ基が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数1〜4のアルキル基又は炭素原子数1〜4のアルコキシ基であり、特にF、Cl又はメチルが好ましい。x2+y2+z2=100の条件にて、x2は50〜99.9モル%が、y2は0.01〜50モル%が、及びz2は0.01〜50モル%が好ましく、更には、x2は5〜99.9モル%が、y2は0.01〜5モル%が、及びz2は0〜4.99モル%が好ましい。
上記一般式(III)において、L31がアセタール結合である場合、一般式(III)のポリビニルアルコールは、下記の一般式(IIIa)によって表わすことができる。
なお、下記一般式(IIIa)において、A31、R31、L32、Q31、x2、y2、z2、k1、及びh1は、一般式(III)と同義である。
ここで、ビニルアルコール系重合体の鹸化度は、前述の範囲から選択できるが、95モル%以上が好ましい。
また、ビニルアルコール系重合体の重合度は、透湿度、塗布性の点から、100〜5,000が好ましく、200〜4,000がより好ましく、200〜3,000が更に好ましい。
本発明のポリビニルアルコールの例を下記一般式(V−1)〜(V−11)に示す。
上記一般式V−1において、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−2において、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−3において、n、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−4において、n、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−5において、n、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−6において、Y、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−7において、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−8において、n、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−9において、Y、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−10において、n、x、y及びzの例を下記に示す。
上記一般式V−11において、n、x、y及びzの例を下記に示す。
<<層状無機化合物>>
前記被覆層が透明基材フィルム上に形成された偏光板用保護フィルムの透湿性を低下させるため、上記被覆層中に層状無機化合物を分散させることが好ましい。本発明における層状無機化合物とは、原子が共有結合等によって強く結合して密に配列したシートが、ファンデルワールス力、静電気力などの弱い力によってほぼ平行に積み重なった構造を持ち、層間に溶媒を配位又は吸収することにより膨潤、又はヘキ開する性質を示す無機化合物をいう。
このような無機化合物としては、膨潤性の含水ケイ酸塩、例えば、スメクタイト群粘土鉱物(モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、スチブンサイトなど)、バーミキュライト群粘土鉱物(バーミキュライトなど)、カオリン型鉱物(ハロイサイト、カオリナイト、エンデライト、ディッカイトなど)、フィロケイ酸塩(タルク、パイロフィライト、マイカ、マーガライト、白雲母、金雲母、テトラシリリックマイカ、テニオライトなど)、ジャモン石群鉱物(アンチゴライトなど)、緑泥石群鉱物(クロライト、クックアイト、ナンタイトなど)などが例示できる。これらの膨潤性層状無機化合物は、天然物でも合成物でもよい。
また、かかる層状無機化合物は、上記の如き層状無機化合物に有機化処理を施したものであってもよい。有機化処理にはオニウムイオンを持つ化合物を層状無機化合物に含有させることで有機化させることができ、具体的には、有機オニウムイオンからなる有機化剤を層状無機化合物に添加し処理することにより行われるのである。
上記有機オニウムイオンについては特に限定されるものではないが、モノアルキルの1級〜4級のアンモニウムイオン、ジアルキルの2級〜3級のアンモニウムイオン、トリアルキルの3級〜4級のアンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイオン等を挙げることができ、アルキル鎖長としては炭素数が4〜30のものが好ましく、6〜20のものがより好ましく、8〜18のものが特に好ましい。
アルキル鎖以外にも、エチレンオキサイドを構成単位とする、ポリエチレングリコール鎖を持つ1級〜4級のアンモニウムイオン(モノエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコールのアンモニウムイオンでもよい。)でもよく、或いは高級脂肪酸の1〜4級のアンモニウムイオン、高級脂肪酸エステルの1〜4級のアンモニウムイオン、高級アルコールの1〜4級のアンモニウムイオンでもよい。又、これらの複数種の分子鎖を持つものでもよい。更には、脂肪酸アシドにこれらの分子鎖を付加させた2〜4級のアンモニウムイオンでもよい。
また、これらの層状無機化合物は、単独で又は二種以上組み合わせても使用できる。
層状無機化合物は、ガスバリア性と基材−ガスバリア層間の密着性とを両立させる点から、微粒子化処理されているのが好ましい。微粒子化処理された膨潤性層状無機化合物は、通常、板状又は扁平状であり、平面形状は特に制限されず、無定形状などであってもよい。
微粒子化処理された膨潤性層状無機化合物の平面形状の平均粒子径は、例えば、0.1〜10μmが好ましく、0.5〜8μmがより好ましく、0.8〜6μmが更に好ましい。粒径が0.1μmより小さいと、透湿度低減効果が充分でなく、粒径が10μmより大きいと、ヘイズ値の増加、表面粗さの増加などが生じ、好ましくない。
なお、ここでいう平面形状の平均粒子半径とは、一般的な粒度分布計、例えば、光散乱方式の粒度分布計(日機装社製「マイクロトラックUPA」)で測定される平面形状の平均粒子径分布値の平均値である。
前記層状無機化合物の濃度は、ビニルアルコール系樹脂に対して、2〜20質量%が好ましく、3〜10質量%がより好ましい。層状無機化合物の濃度が2質量%より少ないと、透湿度低減効果が充分でなく、層状無機化合物の濃度が20質量%より多いと、ヘイズ値の増加、脆性の悪化などが生じ、好ましくない。
[層状無機化合物の分散処理]
層状無機化合物は層間が確実にヘキ開した状態でバインダー中に分散することにより、透湿経路長を長くして透湿度を減少させる。
したがって、層状無機化合物の各層間が、適切にヘキ開された状態を得るための分散処理が非常に重要である。
そのため、層状無機化合物のシート同士の間隔(X線回折法により求めることができる)で、粒子の平均粒径(粒子が板状の場合には、平面方向の平均粒子径)を除した値が100〜10,000の範囲にあることが好ましく,500〜9,000の範囲にあることがより好ましく,1,000〜8,000の範囲にあることが特に好ましい。
分散処理は、溶液中で複数回高圧分散処理されるのが好ましい。処理圧力は10MPa以上がよく、より好ましくは20Mpa以上である。また、分散処理済みの素材も上市されており、これらを使用することもできる。
溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、有機化処理していない層状無機化合物に関しては、水又は水溶性溶媒(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどの低級アルコールやアセトンなど)が例示でき、水が特に好ましい。
また、消泡性を付与するために、水と低級アルコールの混合溶媒も好ましく用いることができる。
高圧分散の処理方法としては、例えば、膨潤性層状無機化合物を溶媒に膨潤させた後、高圧ホモジナイザーにより攪拌することにより、高圧分散する方法が挙げられる。
塗布液の調整方法は特に限定されないが、前述の被覆層のバインダー成分を溶媒に均一に溶解させた後に層状粒子を均一に分散させた溶媒と混合する方法が有効に用いられる。
また、溶液作製後は不溶解物を除去するため、層状無機化合物の最大粒径よりも大きい網目を有するフィルターを用いて濾過することが好ましい。
−有機化処理した層状無機化合物−
層状無機化合物を親水性の低い化合物中に分散させる場合、有機溶媒に分散可能な層状無機化合物を用いることが好ましく、有機化処理してある層状無機化合物がより好ましい。
これらの層状無機化合物の例としては、アルキルアミン等の有機化剤により有機化処理した層状化合物である。
また、被覆層の強度をより強固にし、かつ透湿性をより低減する目的では、重合性基を含有した有機化剤により有機化処理することが好ましい。
市販品として使用できる有機化処理した層状無機化合物としては、ソマシフMAE・MTE・MEE・MPE(いずれもコープケミカル(株)製合成マイカ)、ルーセンタイトSAN、STN、SEN、SPN(いずれもコープケミカル(株)製合成スメクタイト)等が用いられる。
また、有機化していない層状無機化合物、例えば市販品であれば、ルーセンタイトME−100コープケミカル(株)製合成マイカ)、ルーセンタイトSWN(コープケミカル(株)製合成スメクタイト)を有機化処理することも好ましい。
有機化剤としては、4級アンモニウム塩が好ましく、特に限定はないが、下記一般式(3)で表される4級アンモニウム塩がより好ましい。
なお、下記一般式(3)中、Raは(CH)mH、又は(CH)mRcH又は(CHRc)mHで示され、mは2以上の整数、Rcは任意の構造又はなくてもよく、RbはCH、nは0又は1〜3の整数を表す。AはCl又はBrを表す。
上記一般式(3)において、nは0〜3が好ましく、0〜2がより好ましく、0〜1が更に好ましい。nが多いと分散性が悪化し、好ましくない。Raに関しては、全ての基が同じ構造であっても、異なる構造をとってもよい。
mは2以上であり、Raのうちの少なくとも1つの基は、mが、4以上が特に好ましく、8以上がより好ましく、8〜30が更に好ましい。mが大きいほど分散性がよくなり好ましいが、大きすぎると層状無機化合物に対する有機物の割合が大きくなりすぎて好ましくない。
Raは中に、分子間の相互作用が大きくなる構造を有することも好ましい。分子間の相互作用が大きくなる構造としては−OH、―CHCHO−、−CHO(CH)−などが挙げられる。
有機化処理に用いる4級アンモニウム塩として、例えば、ジメチルジオクタデシルアンモニウムブロミド、トリメチルオクタデシルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ジメチルベンジルオクタデシルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ポリオキシプロピレントリメチルアンモニウムクロリド、ジ(ポリオキシプロピレン)ジメチルアンモニウムクロリド、ジ(ポリオキシエチレン)ドデシルメチルアンモニウムクロリド、トリ(ポリオキシプロピレン)メチルアンモニウムクロリド、トリ(ポリオキシプロピレン)メチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。
有機化処理された層状無機化合物を用いる方法としては、層状化合物を有機溶媒中に十分に分散しておき、疎水性バインダーを溶媒中に溶解及び/又は分散させたの溶液を添加する方法のほか、疎水性バインダーの溶液中へ、上記の分散した有機化処理された層状無機化合物溶液を添加する方法等が用いられる。
また、疎水性バインダーに層状無機化合物を直接添加する方法として、疎水性バインダーの溶融状態で層状無機化合物を添加し、混練等の方法により疎水性バインダー中へ分散しながら添加する方法も用いることができる。
[架橋剤]
本発明においては、被覆層を構成する樹脂組成物の成分として、PVA系重合体及び層状無機化合物に更にPVA系重合体の架橋剤を添加することができ、これにより接着層の耐水性を向上させることができる。この目的に使用できる架橋剤としては特に制限なく、公知のいずれの架橋剤も好ましく使用することができる。架橋剤の例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリアミドポリ尿素、ジメチロール尿素、ジメチロールメラミン、多価エポキシ化合物、ジアルデヒド化合物、多価イソシアネート樹脂、アジリジン化合物、ポリアミドアミンエピクロルヒドリン化合物、活性化ビニル化合物、ジカーボネート化合物、ヒドラジノ基含有化合物、コロイダルシリカ、ジルコニウム塩、多価金属塩、ホウ酸、リン酸、ポリアクリル酸、ジカルボン酸、アジピン酸無水物、コハク酸無水物、テトライソプロピルチタネート、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトン)チタネートなどのチタン化合物等を挙げることができ、このほか、3−グリシドプロピルメトキシシラン等のカップリング剤、パーオキサイド等のラジカル発生剤等の使用も可能である。
上記した架橋剤の中でも、活性化ビニル化合物、ジカーボネート化合物、コロイダルシリカ、ジルコニウム塩、多価金属塩、ホウ酸、リン酸、ポリアクリル酸、ジカルボン酸、アジピン酸無水物、コハク酸無水物、テトライソプロピルチタネート、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトン)チタネートなどのチタン化合物は粘度と接着強度などのバランスに優れており、好ましい。
架橋剤の添加量は、(架橋剤/(PVA系重合体+架橋剤))で0.5質量%以上であることが好ましく、1質量%以上がより好ましく、2質量%以上が特に好ましい。PVA系重合体と架橋剤の両者に対する架橋剤の質量比率が0.5質量%未満の場合には、架橋剤を添加したことにより効果が発現しない。また、PVA系重合体と架橋剤の両者に対する架橋剤の質量比率は50質量%以下であることが好ましく、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が特に好ましい。架橋剤の質量比率が50質量%を越えると、樹脂組成物から形成される接着層の透明性及び耐水性などが低下する傾向がある。
<<被覆層の厚み>>
前記被覆層の厚みは、1〜10μmが好ましく、3〜8μmがより好ましい。前記被覆層の厚みが10μmより大きいと、被覆層の脆性が悪化したり、乾燥の負荷が大きくなるため好ましくなく、前記被覆層の厚みが1μmより小さいと、偏光板用保護フィルムとして所望の透湿度が到達できず、長期使用時に、表示画像のムラの発生を抑制できない。
<<被覆層用塗布液の調製>>
ビニルアルコール系樹脂と、層状無機化合物とを含む被覆層用塗布液の調製方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択され、ビニルアルコール系樹脂を溶解させた溶液に、予め溶媒に分散させておいた層状無機化合物を加え、その後高圧分散する方法、又は、層状無機化合物の分散液中にビニルアルコール系樹脂を入れ、その後ビニルアルコール系樹脂を溶解する方法等を有効に用いることができる。
また、水分散性樹脂と水膨潤性層状無機化合物からなる層の製膜方法としては、例えば、塗布液をダイレクト・グラビア法、リバース・グラビア法、ダイコート法、コンマコート法などのコート法によりセルロースアシレート基板上に製膜する方法などが挙げられる。
[塗布溶媒]
本発明の第1の保護フィルムに設けられる被覆層としての塗布膜を形成するための塗布組成物の溶媒としては、例えば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、イソブタノール、オクタノールを1種又は2種以上混合して使用することが好ましい。これらの中でも、塗布液の消泡性の観点から、水とアルコール系溶媒を混合して使用することが特に好ましい。
前記溶媒を2種以上混合する場合には、透明基材フィルムを溶解する少なくとも一種類以上の溶剤と、透明基材フィルムを溶解しない少なくとも一種類以上の溶剤を含有することが好ましい。
このような態様にすることで、透明基材フィルムへの隣接層成分の過剰な染み込み防止と、隣接層と透明基材フィルムとの密着性確保の両立を図ることができる。
また、透明基材フィルムを溶解する溶剤のうちの少なくとも一種類が、透明基材フィルムを溶解しない溶剤のうちの少なくとも一種類よりも高沸点であることがより好ましく、透明基材フィルムを溶解する溶剤のうち最も沸点の高い溶剤と、透明基材フィルムを溶解しない溶剤のうち、最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が30℃以上であることが更に好ましく、該沸点温度差が40℃以上であることが特に好ましい。
このとき、溶媒量は、固形分濃度が3〜20質量%になるように調整することが好ましい。
[基材層との密着性]
本発明の保護フィルムに設けられる被覆層の塗布膜を形成する際には、基材層(透明基材フィルム)との密着性が課題となる。密着性を向上させるためには、基材層上に後述の下塗り層を設けてからその上に被覆層塗布膜を形成することも好ましく用いられるが、層数が増えることによる、生産性減少、コスト増加、層厚増加などの問題が生じるため、本発明においては基材フィルムの片面又は両面に、親水化処理、凹凸処理などの前処置を施すのがより好ましい。
前処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理(湿式)、鹸化処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられるが、コロナ放電処理、グロー放電処理、鹸化処理(湿式)が特に好ましく、鹸化処理が更に好ましい。
[微粒子]
また、本発明では、被覆層形成用塗布液中に微粒子を添加してもよい。微粒子を添加することで硬度向上、透明基材フィルムとの密着性向上、透湿度低減などの効果が得られる。
微粒子としては、無機微粒子、有機微粒子、有機−無機複合微粒子のいずれも使用できる。無機微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子、酸化インジウム粒子などが挙げられる。
一般に、無機微粒子は、単に混合するだけでは凝集体を形成したり、硬化後の被覆層にひび割れが生じたりしやすくなる場合がある。本発明では無機微粒子と有機成分との親和性を増すため、無機微粒子表面を、有機セグメントを含む表面修飾剤で処理することができる。
微粒子の充填量は、ビニルアルコール系樹脂に対して、2〜20質量%が好ましい。
被覆層形成用塗布液中に、無機の層状化合物を上述の内容のように添加することもできる。層状化合物としては、合成雲母、合成スメクタイトが好ましく用いられる。
<<ハードコート層>>
本発明の偏光板用保護フィルムには、当該偏光板用保護フィルムの物理的強度を付与するために、透明基材フィルムの一方の面にハードコート性を有する層(以下、ハードコート層ということがある)が設けられることが好ましい。
前記ハードコート層の塗設面は、被覆層上であることが好ましく、透明基材フィルム上に、被覆層と、ハードコート性を有するハードコート層とが、この順で積層される。また、前記ハードコート層上に低屈折率層が設けられることがより好ましく、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムが構成されることが更に好ましい。また、ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
前記ハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、1.48〜2.00であることが好ましく、1.49〜1.90であることがより好ましく、1.50〜1.80であることが更に好ましい。
本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも1層設けられているので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
ハードコート層の厚さは、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、0.5μm〜50μm程度が好ましく、1〜20μmがより好ましく、2〜15μmが更に好ましく、3〜10μmが特に好ましい。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、2H以上であることが好ましく、3H以上であることがより好ましく、4H以上であることが更に好ましい。
特に、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明基材フィルム上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
ハードコート性を有する層の(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等を含むモノマーやオリゴマーと、前記ビニルアルコール系重合体と平均粒子半径が0.1〜10μmの層状無機化合物を含有する層におけるビニルアルコール系重合体のビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有するが重合反応することにより、界面が化学的に結合していることが好ましい。
また、上記の重合性不飽和基を有するモノマーの代わり、又はそれに加えて、架橋性の官能基をバインダーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアネート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。
また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を有するモノマーとして利用できる。
ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。
すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が1.0〜10.0μm、好ましくは1.5〜7.0μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子、又は樹脂粒子を含有してもよい。
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマー、又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び/又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
ハードコート層のヘイズは、反射防止フィルムに付与させる機能によって異なる。
画像の鮮明性を維持し、表面の反射率を抑えて、ハードコート層の内部及び表面にて光散乱機能を付与しない場合は、ヘイズ値は低い程よく、具体的には10%以下が好ましく、5%以下がより好ましく、2%以下が更に好ましい。
一方、表面の反射率を抑える機能に加えて、ハードコート層の表面散乱にて、防眩機能を付与する場合は、表面ヘイズが5%〜15%であることが好ましく、5%〜10%であることがより好ましい。
また、ハードコート層の内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値(全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値)は10%〜90%であることが好ましく、15%〜70%であることがより好ましく、20%〜50%であることが更に好ましい。
本発明のフィルムは、目的に応じて、表面ヘイズ、及び内部ヘイズを自由に設定可能である。
また、ハードコート層の表面凹凸形状については、画像の鮮明性を維持する目的で、クリアな表面を得る為には、表面粗さを示す特性のうち、例えば中心線平均粗さ(Ra)を0.10μm以下とすることが好ましく、0.09μm以下とすることがより好ましく、0.08μm以下とすることが更に好ましい。
本発明の偏光板用保護フィルムにおいては、該偏光板用保護フィルムの表面凹凸にはハードコート層の表面凹凸が支配的であり、ハードコート層の中心線平均粗さを調節することにより、反射防止フィルムとしての中心線平均粗さを上記範囲とすることができる。
画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。クリアな反射防止フィルムの透過画像鮮明度は60%以上が好ましい。
透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は、70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましい。
本発明の偏光板用保護フィルムが液晶表示装置の表面に用いられる場合に、周辺の物体の反射像が表面に映り込んで、表示画像の視認性を低下させることがあり、これを防ぐためには、ハードコート層の表面に凹凸を付け、光を表面で散乱する性能(防眩性)を付与することが好ましい。
ハードコート層としては、表面及び/又は内部に光散乱性を付与した、光散乱性層とすることが好ましい(表面に散乱性を付与した場合は、防眩層ということがある)。
<<防眩層>>
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。したがって、本発明ではハードコート層の一実施態様として用いることができる。
防眩性を付与する方法としては、特開平6−16851号公報に記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開2000−206317号公報に記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開2000−338310号公報に記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子及び透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開2000−275404号公報に記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法、特開2000−275404号公報に記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法、特開2005−195819号公報に記載のように複数のポリマーの混合溶液から溶媒が蒸発する過程で相分離することを利用して表面凹凸を形成する方法、などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。
[透光性粒子]
本発明で用いることができる防眩層の1つの好ましい態様は、ハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、及び溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものである。前記防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
上記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球形あるいは不定形のいずれも使用できる。
また、粒子径の異なる2種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、133ppi以上の高精細ディスプレイに防眩性反射防止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。
「ギラツキ」は、防眩性反射防止防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。
上記マット粒子は、形成された防眩性ハードコート層中のマット粒子量が、10〜1,000mg/m含有されることが好ましく、100〜700mg/m含有されることがより好ましい。
防眩層の膜厚は、1〜20μmが好ましく、2〜10μmがより好ましい。前記範囲内とすることで、ハードコート性、カール、脆性を満足することができる。
一方、防眩層の中心線平均粗さ(Ra)を0.09〜0.40μmの範囲が好ましい。0.40μmを超えると、ギラツキや外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生する。また、透過画像鮮明度の値は、5〜60%とするのが好ましい。
防眩層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましく、3H以上であることが更に好ましい。
<<被覆層とハードコート層との密着性>>
本発明のビニルアルコール系重合体と層状無機化合物を含有する層と、前記ハードコートを有する層の界面は化学的に結合しており、本発明のビニルアルコール系重合体のビニル部分、オキシラニル部分又はアジリジニル部分を有する重合性基と、ハードコート層の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが電離放射線による架橋反応、又は、重合反応により化学的に結合されることが好ましい。
また、界面が化学的に結合されていることは、密着性試験によって確認することができる。
[密着性試験]
密着性試験は、JIS K 5600−5−6のクロスカット法(1mm幅100マス)に準ずる方法により測定し、評価することができ、ビニルアルコール系重合体と層状無機化合物を含有する層と、ハードコート性を有する層の界面のはがれであるかどうかは、フィルム断面の走査型電子顕微鏡により確認することができる。JIS K 5600−5−6の分類(剥離しにくいもの:分類0〜剥離しやすいもの:5)の6段階評価で、分類2以下であることが好ましく、更には分類0であることが好ましい。
<<反射防止層>>
また、本発明の第1の保護フィルムには、反射率を低減することを目的として、前記ハードコート層上に反射防止層を設けることが好ましい。該反射防止層は、少なくとも低屈折率層を有し、必要に応じて、ハードコート層側に、中屈折率層及び高屈折率層の少なくともいずれかの層と、前記低屈折率層とがこの順に設けられた複数の層からなる反射防止層が設けられることが、反射率低減の面から更に好ましい。
なお、ハードコート層を設けずに反射防止層を設けることもできるが、保護フィルムの物理的強度向上のために、ハードコート層を介在させることが好ましい。ハードコート層は、2層以上の積層構造をなしてもよい。
[高屈折率層、及び中屈折率層]
本発明の保護フィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、後述の低屈折率層とともに光学干渉を利用すると反射防止性を高めることができる。
本明細書では、この高屈折率層、及び中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明基材フィルムとの関係で言えば屈性率は、透明基材フィルム>低屈折率層、高屈折率層>透明基材フィルムの関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、及び低屈折率層を、反射防止層と総称して呼ぶことがある。
高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止層を作製するためには、高屈折率層の屈折率は1.55〜2.40であることが好ましく、1.60〜2.20がより好ましく、1.65〜2.10が更に好ましく、1.80〜2.00が特に好ましい。
透明基材フィルムから近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、高屈折率層の屈折率は、1.65〜2.40であることが好ましく、1.70〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層に用いられる無機粒子の具体例としては、TiO、ZrO、Al、In、ZnO、SnO、Sb、ITOとSiO等が挙げられる。TiO及びZrOが高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは、表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し10〜90質量%であることが好ましく、15〜80質量%であることがより好ましく、15〜75質量%であることが更に好ましい。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明基材フィルムの屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素(例えば、Br,I,Cl等)を含む電離放射線硬化性化合物、S,N,P等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いられる。
高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、30〜200nmが好ましく、50〜170nmがより好ましく、60〜150nmが更に好ましい。
高屈折率層のヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。5%以下であることが好ましく、3%以下がより好ましく、1%以下が更に好ましい。高屈折率層は、前記透明基材フィルム上に直接、又は、他の層を介して構築することが好ましい。
[低屈折率層]
本発明のフィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を用いることが好ましい。
低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.46であることが好ましく、1.25〜1.46であることがより好ましく、1.30〜1.40であることが更に好ましい。
低屈折率層の厚さは、50〜200nmであることが好ましく、70〜100nmであることがより好ましい。
低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがより好ましく、1%以下であることが更に好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましく、3H以上であることが更に好ましい。
また、保護フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90度以上であることが好ましく、95度以上がより好ましく、100度以上が更に好ましい。
低屈折率層の組成の好ましい態様としては、(1)架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物、(2)含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を含む組成物、(3)2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物、が挙げられる。
本発明の偏光板用保護フィルムを2枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の少なくとも一方として用いて偏光板を作成する際には、前記の偏光板用保護フィルムを、被覆層とは反対側の透明基材フィルムの表面、即ち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。親水化処理としては、下記の鹸化処理を行うことが好ましい。また、本発明で被覆層を形成する前の前処理として鹸化処理を行う場合も以下の方法を用いることが好ましい。
[鹸化処理]
(1)アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中に偏光板用保護フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は0.5〜3mol/Lであり、特に好ましくは1〜2mol/Lである。好ましいアルカリ液の液温は30〜75℃、特に好ましくは40〜60℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、光散乱フィルムや反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、透明支持体の防眩層や反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。
偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に防眩層や低屈折率層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは10度〜50度、より好ましくは30度〜50度、更に好ましくは40度〜50度となる。50度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、10度未満では、該ダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
(2)アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を防眩層や低屈折率層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では(1)の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
前記(1)、(2)のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の防眩性反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行ってもよい。更に、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との貼り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率よく偏光板を作成することができる。
(3)防眩層や反射防止層をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記(2)と同様に、防眩層及び/、又は低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、防眩層、低屈折率層へのダメージなしに偏光板用保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記(2)の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
(4)防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
防眩層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に防眩層上に低屈折率層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、特に低屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
(5)予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに被覆を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接、又は他の層を介して被覆層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、被覆層と鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、被覆層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから防眩層、又は他の層を形成することで対処できる。また、防眩層、又は他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
以下に、本発明の偏光板用保護フィルムを用いた偏光板及び該偏光板を用いた液晶表示装置について説明する。
(偏光板)
本発明の偏光板は、偏光子と、偏光板用保護フィルムとを有する。本発明の偏光板用保護フィルムは偏光子の少なくとも一方の側に用いればよく、本発明の偏光板用保護フィルムとは反対側の保護フィルムとして光学補償フィルムを用いることも好ましく、該光学補償フィルムが支持体上に光学補償層を形成した光学フィルムであることも好ましい。また、反対側の保護フィルムの上に粘着剤を介して光学補償フィルムを貼り付けて用いることも好ましい。
<偏光子>
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール(PVA)と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平11−248937に記載されているように、PVAやポリ塩化ビニルを脱水、及び脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子を使用してもよい。
PVAは、ポリ酢酸ビニルを鹸化したポリマー素材であるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有してもよい。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性PVAを用いてもよい。
PVAの鹸化度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶解性等の観点から、80〜100mol%が好ましく、90〜100mol%がより好ましい。
また、PVAの重合度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、1,000〜10,000が好ましく、1,500〜5,000がより好ましい。
PVAのシンジオタクティシティーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特許第2978219号公報に記載されているように、耐久性を改良するため55%以上が好ましいが、特許第3317494号公報に記載されているように、45〜52.5%も好ましく用いることができる。PVAはフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。
PVAフィルムの製造方法としては、PVA系樹脂を水又は有機溶媒に溶解した原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、通常5〜20質量%であり、この原液を流延法により製膜することによって、膜厚10〜200μmのPVAフィルムを製造できる。
PVAフィルムの製造は、特許第3342516号公報、特開09−328593号公報、特開2001−302817号公報、及び特開2002−144401号公報に記載の製造方法を参考にして行うことができる。
PVAフィルムの結晶化度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特許第3251073号公報に記載されている平均結晶化度(Xc)50〜75質量%のPVAフィルムや、面内の色相バラツキを低減させるため、特開2002−236214号公報に記載されている結晶化度38%以下のPVAフィルムを用いてもよい。
PVAフィルムの複屈折(△n)は、小さいことが好ましく、特許第3342516号公報に記載されている複屈折が1.0×10−3以下のPVAフィルムを好ましく用いることができる。但し、特開2002−228835号に記載されているように、PVAフィルムの延伸時の切断を回避しながら高偏光度を得るため、PVAフィルムの複屈折を0.02以上0.01以下としてもよいし、特開2002−060505号に記載されているように、(nx+ny)/2−nzの値を、0.0003以上0.01以下としてもよい。
PVAフィルムの面内レターデーションReは、0nm以上100nm以下が好ましく、0nm以上50nm以下がより好ましい。
また、PVAフィルムの(膜)厚さ方向のレターデーションRthは、0nm以上500nm以下が好ましく、0nm以上300nm以下がより好ましい。
この他、本発明の偏光板としては、特許3021494号公報に記載されている1、2−グリコール結合量が1.5モル%以下のPVAフィルム、特開2001−316492号公報に記載されている5μm以上の光学的異物が100cm当たり500個以下であるPVAフィルム、特開2002−030163号公報に記載されているフィルムのTD方向の熱水切断温度斑が1.5℃以下であるPVAフィルム、更にグリセリンなどの3〜6価の多価アルコ−ルを1〜100質量部あたり、特開平06−289225号公報に記載されている可塑剤を15質量%以上混合した溶液から製膜したPVAフィルムが好ましく用いられる。
PVAフィルムの延伸前のフィルム膜厚としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、1μm〜1mmが好ましく、20〜200μmがより好ましい。また、特開2002−236212号公報に記載されているように、水中において4倍から6倍の延伸を行った時に発生する応力が10N以下となるような薄いPVAフィルムを使用してもよい。
二色性分子はI やI などの高次のヨウ素イオン、もしくは二色性染料が好ましく使用される。その中でも、本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編、CMC出版や工業材料、第28巻、第7号、p39〜p45に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液及び/もしくはホウ酸水溶液にPVAを浸漬し、PVAに吸着・配向した状態で生成することができる。
二色性分子として二色性染料を用いる場合は、アゾ系色素が好ましく、その中でもビスアゾ系とトリスアゾ系色素がより好ましい。二色性染料は水溶性のものが好ましく、このため二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入され、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として好ましく用いられる。
このような二色性染料の具体例としては、例えば、C.I.DirectRed37、CongoRed(C.I.DirectRed28)、C.I.DirectViolet12、C.I.DirectBlue90、C.I.DirectBlue22、C.I.DirectBlue1、C.I.DirectBlue151、C.I.DirectGreen1等のベンジジン系、C.I.DirectYellow44、C.I.DirectRed23、C.I.DirectRed79等のジフェニル尿素系、C.I.DirectYellow12等のスチルベン系、C.I.DirectRed31等のジナフチルアミン系、C.I.DirectRed81、C.I.DirectViolet9、C.I.DirectBlue78等のJ酸系が挙げられる。
これ以外にも、C.I.DirectYellow8、C.I.DirectYellow28、C.I.DirectYellow86、C.I.DirectYellow87、C.I.DirectYellow142、C.I.DirectOrange26、C.I.DirectOrange39、C.I.DirectOrange72、C.I.DirectOrange106、C.I.DirectOrange107、C.I.DirectRed2、C.I.DirectRed39、C.I.DirectRed83、C.I.DirectRed89、C.I.DirectRed240、C.I.DirectRed242、C.I.DirectRed247、C.I.DirectViolet48、C.I.DirectViolet51、C.I.DirectViolet98、C.I.DirectBlue15、C.I.DirectBlue67、C.I.DirectBlue71、C.I.DirectBlue98、C.I.DirectBlue168、C.I.DirectBlue202、C.I.DirectBlue236、C.I.DirectBlue249、C.I.DirectBlue270、C.I.DirectGreen59、C.I.DirectGreen85、C.I.DirectBrown44、C.I.DirectBrown106、C.I.DirectBrown195、C.I.DirectBrown210、C.I.DirectBrown223、C.I.DirectBrown224、C.I.DirectBlack1、C.I.DirectBlack17、C.I.DirectBlack19、C.I.DirectBlack54等が、更に特開昭62−70802号公報、特開平1−161202号公報、特開平1−172906号公報、特開平1−172907号公報、特開平1−183602号公報、特開平1−248105号公報、特開平1−265205号公報、及び特開平7−261024号公報に記載の二色性染料等が好ましく使用される。各種の色相を有する二色性分子を製造するため、これらの二色性染料は2種以上を配合してもかまわない。二色性染料を用いる場合、特開2002−082222号公報に記載されているように、吸着厚みが4μm以上であってもよい。
フィルム中の該二色性分子の含有量は、少なすぎると偏光度が低く、また、多すぎても単板透過率が低下することから通常、フィルムのマトリックスを構成するポリビニルアルコール系重合体に対して、0.01質量%から5質量%の範囲に調整される。
偏光子の好ましい膜厚としては、5〜40μmが好ましく、10〜30μmがより好ましい。また、特開2002−174727号に記載されているように、偏光子の厚さと後述する保護膜の厚さとの比を、0.01≦A(偏光子膜厚)/B(保護膜膜厚)≦0.8の範囲とすることも好ましい。
<偏光板の作製>
本発明の偏光板用保護フィルムは、偏光子の少なくとも1面に張り合わせることで偏光板を構成する。偏光子の他の面は、透湿度が800〜3,000g/m・dayの偏光板用保護フィルムを張り合わることが好ましく、更に好ましくは1,000〜1,700g/m・dayである。通常使用されているTACは好適に用いられる。
通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、溶液製膜法で製造され、且つ10〜100%の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。
更には、本発明の偏光板において、片面が本発明の偏光板用保護フィルムであるのに対して他方の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであってもよい。
偏光子の2枚の保護フィルムのうち、本発明の偏光板用保護フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
本発明の偏光板用保護フィルムは、液晶表示装置等とともに用いられる際には、液晶セルと反対側の視認側に配置することが好ましい。
(液晶表示装置)
本発明のフィルム、偏光板は、液晶表示装置等の液晶表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。
前記液晶セルは、TN(TwistedNematic)モード、VA(verticallyaligned)モード、OCB(opticallycompensatedbend)モード、IPS(in−phaseswitching)モード、又はECB(electricallycontrolledbirefringence)モードであることが好ましい。以下、上記各モードについて説明する。
<TNモード>
TNモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に60〜120゜にねじれ配向している。
TNモードの液晶セルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
<VAモード>
VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of Tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)及び(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
<OCBモード>
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend)液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
<IPSモード>
IPSモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはProc.IDRC(Asia Display ’95),p.577−580及び同p.707−710に記載されている。
<ECBモード>
ECBモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ECBモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平5−203946号公報に詳細が記載されている。
<輝度向上フィルム>
輝度向上フィルムとしては、光源(バックライト)からの出射光を透過偏光と反射偏光、又は散乱偏光に分離するような機能を有する偏光変換素子が用いられる。かかる輝度向上フィルムは、反射偏光、又は散乱偏光のバックライトからの再帰光を利用して、直線偏光の出射効率を向上できる。
例えば、異方性反射偏光子が挙げられる。異方性反射偏光子としては、一方の振動方向の直線偏光を透過し、他方の振動方向の直線偏光を反射する異方性多重薄膜が挙げられる。異方性多重薄膜としては、例えば、3M製のDBEFが挙げられる(例えば、特開平4−268505号公報等参照。)。
また、異方性反射偏光子としては、コレステリック液晶層とλ/4板の複合体が挙げられる。かかる複合体としては、日東電工製のPCFが挙げられる(特開平11−231130号公報等参照。)。
また、異方性反射偏光子としては、反射グリッド偏光子が挙げられる。反射グリッド偏光子としては、金属に微細加工を施し可視光領域でも反射偏光を出すような金属格子反射偏光子(米国特許第6288840号明細書等参照。)、金属の微粒子を高分子マトリック中に入れて延伸したようなもの(特開平8−184701号公報等参照。)が挙げられる。
また、異方性散乱偏光子が挙げられる。異方性散乱偏光子としては、3M製のDRPが挙げられる(米国特許第5825543号明細書参照)。
更に、ワンパスで偏光変換できるような偏光素子が挙げられる。例えば、スメクテイックCを用いたものなどが挙げられる(特開2001−201635号公報等参照。)。異方性回折格子が用いられる。
本発明の偏光板は輝度向上フィルムといっしょに用いることができる。輝度向上フィルムを用いる場合には、偏光板と輝度向上フィルムを密着することが偏光板への水分の浸入を防ぎ、光漏れを抑制するためより好ましい。偏光板と輝度向上フィルムとは貼り合わせる接着剤としては特に制限されない。例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものを用いることが好ましい。
<タッチパネル>
本発明のフィルムは、特開平5−127822号公報、特開2002−48913号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
<有機EL素子>
本発明のフィルムは、有機EL素子等の基板(基材フィルム)や保護フィルムとして用いることができる。
本発明のフィルムを有機EL素子等に用いる場合には、特開平11−335661号、特開平11−335368号、特開2001−192651号、特開2001−192652号、特開2001−192653号、特開2001−335776号、特開2001−247859号、特開2001−181616号、特開2001−181617号、特開2002−181816号、特開2002−181617号、特開2002−056976号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開2001−148291号、特開2001−221916号、特開2001−231443号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
<合成例1>
<<ポリマー1の合成>>
攪拌器を装着した300ml三つ口フラスコにポリビニルアルコール(商品名:PVA−103;(株)クラレ製;鹸化度98〜99モル%)14.7g及びモレキュラーシーブ4Aを用いて予め脱水したジメチルスルホキシド100mlを加えて、室温下撹拌しながら溶解した。
その後、70℃に昇温しメタクリロイルオキシエチルイソシアネート0.776gのジメチルスルホキシド15ml溶液を滴下した。
そのまま2時間、撹拌を続けた後ペーパータオルを用いて濾過し、ゴミ等の不純物を除去した後、酢酸エチル1.25リットルに撹拌しながら滴下して、ポリマーを沈澱させた。
沈澱物(ポリマー)を濾取し、メタノール600mlに浸して撹拌洗浄したのち、再び濾取し、乾燥して、塊状のポリマー1を14.0g(収率91%)得た。
NMRスペクトル(溶媒DMSO−d
得られたポリマー1には、主鎖プロトン、水酸基プロトン、アセチル基プロトンの他に、原料のPVA−103では認められない下記プロトンが弱い強度で認められた。
δ=5.7、6.1ppm:ビニル基プロトンに帰属
<<ポリマー1の可視吸収スペクトル測定、及びメタクリロリル基の導入率yの決定>>
50mlメスフラスコにポリマー1を0.015g正確に秤取し、蒸留水を加えて、0.03%水溶液を調製した。この溶液を用いて、その可視吸収スペクトルを、可視吸紫外可視分光光度計(UV−2200、(株)島津製作所製)にて測定した。
極大吸収波長(λmax)=202nm
吸光度(202nm)=0.839
一方、同様にして、ポリマー1の原料に用いたポリビニルアルコール(PVA−103、(株)クラレ製)の吸収スペクトルを測定した。202nmの吸光度は0.504であった。更に、上記合成に用いたメタクリロイル基を有するイソシアネート化合物をメタノールと反応させた場合に得られるウレタン化合物1×10−4Mメタノール溶液を調製し、同様に吸収スペクトルを測定した。
極大吸収波長(λmax)=202nm
吸光度=0.903
分子吸光係数(ε)=8.42×10−1・cm
したがって、ポリマー1のλmax=202nmの吸光度の増加は、ポリビニルアルコールのヒドキシル基に、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートが導入されたことよることが明らかである。その導入率(y)を、上記吸光度の測定値より決定した(y=1.7)。
<被覆層用塗布液の調製>
<<被覆層用塗布液a−1の調製>>
下記の組成の被覆層用塗布液a−1を調製した。
具体的には、層状無機化合物を、水に添加した後、高圧分散機を用いて30Mpaで3回高圧分散処理を行い、水中に分散させ、その後、上記ポリマー1を90℃の水で2時間攪拌することによって溶解させた後、室温に冷却し、メタノール、アセトンを加え、塗布液を孔径100μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して被覆層用塗布液a−1を作製した。
[被覆層用塗布液a−1の組成]
・ポリマー1・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・7質量部
・層状無機化合物MEB−3(コープケミカル(株)製)
(合成マイカ 固形分8%水分散液)・・・・・・・・・・・・・・・4.4質量部
・グルタルアルデヒド・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・1質量部
・パラトルエンスルホン酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.1質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・80質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・10質量部
・アセトン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・10質量部
<<被覆層用塗布液a−2〜a−26、及びb−1〜b−2の調製>>
上記被覆層用塗布液a−1の調製方法と同様にして、表12に示す様な混合比で被覆層用塗布液a−2〜a−26、及びb−1〜b−2を調製した。
なお、各被覆層用塗布液a−2〜a−26、及びb−1〜b−2の組成に関しては表12に示した。
また、層状無機化合物の詳細について、表13に示した。
ポリマーPPは、ポリマー1の合成例において、ポリマー1の原料に用いたポリビニルアルコール(PVA−103、(株)クラレ製)を、ポリビニルアルコール(PVA−203、(株)クラレ製)に変更した以外は、ポリマー1と同様に合成し、x=86.3モル%、y=1.7モル%、z=12モル%のポリビニルアルコールであることを確認した。
また、親水性ポリエステルPEは、下記組成のものを使用した。
[親水性ポリエステルPEの組成]
・テレフタル酸ジメチル・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・20モル%
・イソフタル酸ジメチル・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・10モル%
・5−スルホイソフタル酸ジメチルNa塩・・・・・・・・・・・・・・・10モル%
・1,4−シクロへキサンジカルボン酸・・・・・・・・・・・・・・・・10モル%
・エチレングリコール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・50モル%
<ハードコート層用塗布液の調製>
<<ゾル液1の調製>>
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた1,000mlの反応容器に、アクリロキシオキシプロピルトリメトキシシラン187g(0.80mol)、メチルトリメトキシシラン27.2g(0.20mol)、メタノール320g(10mol)とKF0.06g(0.001mol)を仕込み、攪拌下室温で水15.1g(0.86mol)をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で3時間攪拌した後、メタノール還溜下2時間加熱攪拌した。
この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液1を120g得た。このようにして得た物質をGPC測定した結果、質量平均分子量は1,500であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1,000〜20,000の成分は30%であった。
またH−NMRの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式(4)で表される構造であった。
更に、29Si−NMR測定による縮合率αは0.56であった。この分析結果から、本シランカップリング剤ゾルは直鎖状構造部分が大部分であることが分かった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは5%以下の残存率であった。
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液を調製した。
[ハードコート層用塗布液の組成]
・PET−30・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・40.0g
・DPHA・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・10.0g
・イルガキュア184・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・2.0g
・SX−350(30%)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・2.0g
・架橋アクリルースチレン粒子(30%)・・・・・・・・・・・・・・・13.0g
・FP−13・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.06g
・ゾル液1・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・11.0g
・トルエン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・38.5g
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・PET−30:ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(日本化薬(株)製)
・イルガキュア184:重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
・SX−350:平均粒径3.5μm架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.60、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10,000rpmで20分分散後使用)
・架橋アクリル−スチレン粒子:平均粒径3.5μm(屈折率1.55、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10,000rpmで20分分散後使用)
<低屈折率層用塗布液の調製>
ポリシロキサン及び水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)13g、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)1.3g、前記ゾル液0.65g、及びメチルエチルケトン4.4g、シクロヘキサノン1.2gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.45であった。
(実施例1)
<偏光板用保護フィルムの作製>
<<被覆層の塗設>>
トリアセチルセルロース(TAC−T80UZ、富士フイルム(株)製)を1mol/Lのアルカリ溶液、50℃で鹸化処理を施した。
その後、トリアセチルセルロースの鹸化処理面上にスロットダイを有するコーターを用いて、塗布液a−1を乾燥後の膜厚が8μmになるように塗布した。その後、搬送速度5m/分の条件で塗布し、110℃3分間乾燥して、巻き取った。
<<ハードコート層の塗設>>
被覆層を塗設した偏光板用保護フィルムをロール形態で巻き出して、スロットダイを有するコーターを用いて、ハードコート層用塗布液1をバックアップロール上の偏光板用保護フィルムのビニルアルコール系樹脂層と同じ側の面上に直接押し出して塗布した。搬送速度30m/分の条件で塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの防眩性を有する防眩層を形成し、巻き取った。
<<低屈折率層の塗設>>
上記ハードコート層が形成された偏光板用保護フィルムをロール形態で巻き出して、スロットダイを有するコーターを用いて、低屈折率層用塗布液をバックアップロール上の偏光板用保護フィルムのハードコート層を塗布してある面上に直接押し出して塗布した。
120℃で150秒乾燥の後、更に140℃で8分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度0.1%の雰囲気下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量300mJ/cmの紫外線を照射し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、巻き取り、ハードコート層が形成された偏光板用保護フィルムに、更に低屈折率層を形成した。
<アルカリ処理>
上記ハードコート層が形成された偏光板用保護フィルムを55℃の1.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液中に120秒間浸漬した後、水洗乾燥した。
<<透湿度の測定>>
偏光板用保護フィルムの透湿度の測定法は、「高分子の物性II」(高分子実験講座4 共立出版)の285頁〜294頁:蒸気透過量の測定(質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法)に記載の方法を適用することができる。
本発明では調湿条件を60℃40%RHに変更した以外はJIS Z−0208に従って、算出した。この際、恒温恒湿装置にいれたカップを適当な時間間隔で取り出して秤量する操作を繰り返し、二つの連続する秤量で、それぞれ単位時間あたりの質量増加を求め、それが5%以内で一定になるまで評価を続けた。
また、試料の吸湿等による影響を除外するため、吸湿剤の入れていないブランクのカップを測定し、透湿度の値を補正した。
また、透湿度測定の際には、ビニルアルコール系重合体と平均粒子半径が0.1〜10μmの層状無機化合物を含有する層と、ハードコート性を有する層が透明基材フィルムよりもカップ側、言い換えると、ビニルアルコール系重合体と平均粒子半径が0.1〜10μmの層状無機化合物を含有する層と、ハードコート性を有する層の反対側の透明基材フィルムと、60℃40%RH雰囲気が接する様にサンプルを設置して、測定した。
上記の様にして作製した偏光板用保護フィルムの透湿度を測定したところ、60℃40%相対湿度における透湿度は5.2g/m・日であった。
<偏光板用保護フィルムの評価>
<<脆性の評価>>
作製した偏光板用保護フィルムの脆性として、フィルム試料を35mm×140mmに切断し、温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間放置した後、筒状に丸めたときにひび割れが発生し始める曲率直径を測定し、下記評価基準に基づき評価した。評価結果を表14に示す。
[評価基準]
○:曲率直径50mm以下で問題がない
△:曲率直径50mm以下でひび割れ発生するが、60mmで問題がない
×:曲率直径60mm以上でひび割れ発生し、実用上問題がある
<<密着性の評価>>
作製された偏光板用保護フィルムに対して、被覆層と、ハードコート層の界面との密着性をJIS K 5600−5−6のクロスカット法(1mm幅100マス)に準ずる方法により測定し、評価した。
具体的には、塗布層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを1mm間隔で入れて合計100個の正方形の升目を刻み、日東電工(株)製のポリエステル粘着テープ(NO.31B)を圧着し、24時間放置後引き剥がす試験を同じ場所で繰り返し3回行い、剥がれの有無を目視で観察し、評価した。
評価基準としては、下記のように、剥離しにくいもの(分類0)〜剥離しやすいもの(分類5)の6段階で評価した。評価結果を表14に示す。
[評価基準]
○:分類0
△:分類1〜2
×:分類3〜5
(実施例2〜22、及び比較例1〜4)
<偏光板用保護フィルムの作製>
塗布液、及び被覆層の膜厚を表14に示すように変えた以外は、実施例1と同様にして実施例2〜22、及び比較例1〜4の偏光板用保護フィルムを作製した。また、実施例1と同様にして、作製した保護フィルムの評価結果を表14に示した。
(実施例23)
実施例16における被覆層用塗布液a−16の代わりに、表12に示す被覆層用塗布液a−21と、被覆層用塗布液a−22とを、それぞれ1.7μm、4.3μmの膜厚となるように、逐次又は同時に、透明基材フィルム、被覆層用塗布液a−21、及び被覆層用塗布液a−22の順で積層されるように塗布を行い、その他は実施例16と同様にして偏光板用保護フィルムを作製し、評価した結果、実施例16と同様に良好な結果が得られた。
(実施例24)
実施例17における被覆層用塗布液a−17液の代わりに、表12に示す被覆層用塗布液a−23と、被覆層用塗布液a−24とを、それぞれ2.2μm、3.8μmの膜厚となるように、逐次又は同時に、透明基材フィルム、被覆層用塗布液a−23、及び被覆層用塗布液a−24の順で積層されるように塗布を行い、その他は実施例17と同様にして偏光板用保護フィルムを作製し、評価した結果、実施例17と同様に良好な結果が得られた。
なお、実施例24の変形例として、透明基材フィルム、被覆層用塗布液a−2624、及び被覆層用塗布液a−23の順で積層されるように塗布を行って偏光板用保護フィルムを作製し、評価した結果、実施例17と同様に良好な結果が得られた。
<偏光子の作製>
厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを沃素1質量部、沃化カリウム2質量部、ホウ酸4質量部を含む水溶液に浸漬し50℃で4倍に延伸し偏光子を作製した。
<他の偏光板用保護フィルムの作製>
また、光学異方性層が塗布されているWVフィルム(富士フイルム(株)製)を55℃の1.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液中に120秒間浸漬した後、水洗乾燥した。
(偏光板の作製)
実施例1〜24、及び比較例1〜4の偏光板用保護フィルムのビニルアルコール系樹脂面、又は基材フィルムの鹸化面と、上記鹸化したWVフィルムの光学異方性層が塗布されていない面に、上記偏光子を、完全鹸化型ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤として貼合し、その後70℃で乾燥させ、偏光板を作製した。実施例1〜24、比較例1〜4は、ビニルアルコール系樹脂層が塗布されていない面が偏光子側になるようにして貼り合わせることによって、偏光板を作製した。
(液晶表示装置の作製)
<TN型液晶表示装置の作製>
TN型液晶セルを使用した液晶表示装置(MDT−191S、三菱電機(株)製)に設けられている偏光板を剥がし、代わりに実施例1〜24、及び比較例1〜4の偏光板用保護フィルムを用いた上記偏光板を、視認側に貼り付けた。なお、この貼り付けにあたっては、製品に貼られていた偏光板と透過軸が一致するように粘着剤を介して貼り付けた。
<光漏れ評価(周辺ムラ評価)>
作製した液晶表示装置を60℃5%で20日間処理後に、25℃60%の環境下に取り出し、取り出しから30分後に液晶表示装置を黒表示させ、黒表示させてから1時間後に輝度計にて輝度分布を計り、パネル中央部と偏光板長辺端部の中央の輝度差を測定し、下記評価基準に基づき評価した。評価結果を表14に示す。
[評価基準]
○:0.1cd/cmより小さく問題ない
△:0.1cd/cm〜0.3cd/cmで、目視で確認できるが、実用上は問題ない
×:0.3cd/cm〜0.5cd/cmで実用上問題がある
××:0.5cd/cmより大きく問題がある
また、WVフィルムをTD80(富士フイルム(株)製)とした以外は上記と同様にして、偏光板を作製した。その後、VAモード、IPSモードの液晶表示装置において、偏光板を、位相差膜を残したまま剥がし、代わりに作製した偏光板を偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けた。
作製した液晶表示装置の光漏れを上記と同様に測定した結果、本発名の偏光板用保護フィルムを有する偏光板は何れも良好な結果が得られた。また、本発明の偏光板は、耐擦傷性、防塵性が良好で、低反射率、表面散乱性による映り込みも低減できる、画像表示装置の表面に用いるのに好ましい性能を示した。
表14に示すように、実施例1〜24の偏光板用保護フィルムは、比較例1〜4の偏光板用保護フィルムよりも密着性が高く、実施例1〜24の偏光板用保護フィルムを用いた液晶表示装置は、比較例1〜24の偏光板用保護フィルムを用いた液晶表示装置よりも環境変化による光漏れ量の変化が小さいという良好な結果が得られた。
また、TN型液晶セルを使用した液晶表示装置(MDT−191S、三菱電機(株)製)に設けられている偏光板を剥がし、代わりに実施例1〜24の偏光板用保護フィルムを用いた上記偏光板を、視認側のみに貼り付けても、表14と同様な効果を得た。

Claims (11)

  1. 透明基材フィルム上に、側鎖に重合性基を有するビニルアルコール系樹脂及び層状無機化合物を少なくとも含む塗布液を塗布してなる被覆層と、ハードコート性を有するハードコート層とが隣接して積層され、前記側鎖に重合性基を有するビニルアルコール系樹脂における該重合性基とハードコート層の材料とが重合反応してなることを特徴とする偏光板用保護フィルム。
  2. JIS K5600−5−6に定められた剥離試験に基づいて測定した被覆層と、ハードコート層との密着性が、分類2以下である請求項1に記載の偏光板用保護フィルム。
  3. ビニルアルコール系樹脂が、少なくとも一個のヒドロキシル基がビニル部分、オキシラニル部分、及びアジリジニル部分の少なくともいずれかを有する基で置換されてなるポリビニルアルコール系樹脂である請求項1から2のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
  4. 被覆層の厚みが、1μm〜10μmである請求項1から3のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
  5. 層状無機化合物の平均粒子径が、0.1μm〜10μmである請求項1から4のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
  6. 層状無機化合物が、ビニルアルコール系樹脂に対して、1〜100質量%含有される請求項1から5のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
  7. ビニルアルコール系樹脂の鹸化度が、95モル%以上である請求項1から6のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
  8. 透明基材フィルムが、セルロースアシレート類を含む請求項1から7のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
  9. 60℃、40%相対湿度における透湿度(WVTR40)が30g/m・日以下である請求項1から8のいずれかに記載の偏光板用保護フィルム。
  10. 偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方に設けられた請求項1から9のいずれかに記載の偏光板用保護フィルムとを有することを特徴とする偏光板。
  11. 請求項10に記載の偏光板と、液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置。
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