CN103022258A - 一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法,利用射频磁控溅射技术制备铝电极薄膜,并给出了室温条件下的工艺参数,本发明在室温下直接制备具有较好绒面、低电阻率(平均电阻率为2.4x10-6欧姆.cm)和高漫反射率(平均漫反射率高达70%)的金属Al背电极、本发明提出的制备方法工艺简单实用,同时还避免了高温对塑料等柔性衬底的影响,具有较高的实用价值。

Description

一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法
技术领域
本发明涉及太阳能光伏发电领域,具体是一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法。
背景技术
传统的硅薄膜太阳能电池是以玻璃为衬底,为了增加对太阳光的二次吸收,增大太阳光的利用率,提高薄膜太阳能电池的短路电流,研究者们在薄膜的绒面制备方面进行了大量的研究。然而使用柔性衬底时,在衬底上直接制备绒面背电极,提高漫反射率,便成了提高薄膜太阳能电池光吸收效率的最佳途径。许多常规方法如选择反应溅射法制备Al电极时,Al电极容易被氧化,很难得到绒面的Al电极。且Al电极导电性好、材料丰富、价格低廉,本发明提出一种新的制备方法和工艺参数来制备低电阻率、高漫反射率的绒面Al电极。
发明内容
本发明的目的在于提供一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法。
本发明一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法通过下述技术方案予以实现:一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法,其特征在于利用射频磁控溅射技术制备,溅射功率为350-450W、工作气压为0.4-0.7Pa时制备的薄膜更适合做柔性硅基薄膜太阳能电池的金属背电极。
1、          本发明的优点为:本发明通过实验得出结论,在溅射功率低于400W时,工作气压为0.6Pa时,薄膜的沉积速率较低,平均约在3.3nm/min; 在溅射功率为400W时,工作气压为0.6Pa时,薄膜的沉积速率为41.5nm/min;但在溅射功率高于为400W时,薄膜的沉积速率较低由于溅射粒子 的动能增大而开始逐步降低。
2、          在电子显微镜下,同样得出结论在溅射功率为400W、工作气压为0.6Pa时,薄膜表面岛及岛的高度(粗糙程度)为最佳。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法技术方案作进一步描述。
一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法,其特征在于利用射频磁控溅射技术制备,溅射功率为350-450W、工作气压为0.4-0.7Pa时制备的薄膜更适合做柔性硅基薄膜太阳能电池的金属背电极。
如权利要求1所述的柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法,其特征在于铝靶直径为80mm,厚度为5mm,纯度为5N;衬底采用PI薄膜,衬底托盘以3.5r/min的速度顺时针方向旋转,靶基距固定为15cm;溅射气体为高纯氩气,流量为15sccm;在沉积薄膜前用氢等离子体对衬底清洗15min,然后用挡板遮住衬底,预溅射3min,在获得稳定的溅射状态时候,然后拿开挡板开始沉积薄膜,沉积时间为35min。
1、      本发明利用射频磁控溅射技术制备,溅射功率为400W、工作气压为0.6Pa时制备的薄膜更适合做柔性硅基薄膜太阳能电池的金属背电极。
2、      具体实施方法是:铝靶直径为80mm,厚度为5mm,纯度为5N。衬底采用PI薄膜,衬底托盘以3.5r/min的速度顺时针方向旋转,靶基距固定为15cm,。溅射气体为高纯氩气,流量为15sccm。在沉积薄膜前用氢等离子体对衬底清洗15min,然后用挡板遮住衬底,预溅射3min,在获得稳定的溅射状态时候,然后拿开挡板开始沉积薄膜,沉积时间为35min。
实验结果
3、          本发明通过实验得出结论,在溅射功率低于400W时,工作气压为0.6Pa时,薄膜的沉积速率较低,平均约在3.3nm/min; 在溅射功率为400W时,工作气压为0.6Pa时,薄膜的沉积速率为41.5nm/min;但在溅射功率高于为400W时,薄膜的沉积速率较低由于溅射粒子 的动能增大而开始逐步降低。
4、          在电子显微镜下,同样得出结论在溅射功率为400W、工作气压为0.6Pa时,薄膜表面岛及岛的高度(粗糙程度)为最佳。

Claims (2)

1.一种柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法,其特征在于利用射频磁控溅射技术制备,溅射功率为350-450W、工作气压为0.4-0.7Pa时制备的薄膜更适合做柔性硅基薄膜太阳能电池的金属背电极。
2.如权利要求1所述的柔性衬底光伏电池绒面铝电极的制备方法,其特征在于铝靶直径为80mm,厚度为5mm,纯度为5N;衬底采用PI薄膜,衬底托盘以3.5r/min的速度顺时针方向旋转,靶基距固定为15cm;溅射气体为高纯氩气,流量为15sccm;在沉积薄膜前用氢等离子体对衬底清洗15min,然后用挡板遮住衬底,预溅射3min,在获得稳定的溅射状态时候,然后拿开挡板开始沉积薄膜,沉积时间为35min。
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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