CN102917885B - 平版印刷版原版、其制版方法和新聚合物化合物 - Google Patents
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- 0 CN(*)C(N*)=O Chemical compound CN(*)C(N*)=O 0.000 description 2
- NDRNRUMBCFBZOJ-UHFFFAOYSA-N CC(C(OCCNC(N(C)CCCOC(C)=O)=O)=O)=C Chemical compound CC(C(OCCNC(N(C)CCCOC(C)=O)=O)=O)=C NDRNRUMBCFBZOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAQYYPBQYUXOBK-UHFFFAOYSA-N CC(CC(C)(C)CCNC(OCCOC(C1C(C)C1)=O)=O)CNC(OCCOC(C(C)=C)=O)=O Chemical compound CC(CC(C)(C)CCNC(OCCOC(C1C(C)C1)=O)=O)CNC(OCCOC(C(C)=C)=O)=O JAQYYPBQYUXOBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAUJXKVRDGRICD-UHFFFAOYSA-N CC(CCCCCCOC(C(C)=C)=O)(C(CCCCCOC(C)=O)=N)O Chemical compound CC(CCCCCCOC(C(C)=C)=O)(C(CCCCCOC(C)=O)=N)O UAUJXKVRDGRICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEIPZIVBYMERBX-UHFFFAOYSA-N CC(CCN)CC(C)(C)CNC(OCCOC(C(C)=C)=O)=O Chemical compound CC(CCN)CC(C)(C)CNC(OCCOC(C(C)=C)=O)=O PEIPZIVBYMERBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUBFGEYWTXBHKK-UHFFFAOYSA-N CC(NCCCCCCOCCC(C)=O)NCCOC(C1C(C)C1)=O Chemical compound CC(NCCCCCCOCCC(C)=O)NCCOC(C1C(C)C1)=O IUBFGEYWTXBHKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWGYANPWTOAPTP-UHFFFAOYSA-N CCC(C1C(CCCCCN(C)C(NCCOC(C(C)=C)=O)=O)CC1)=O Chemical compound CCC(C1C(CCCCCN(C)C(NCCOC(C(C)=C)=O)=O)CC1)=O MWGYANPWTOAPTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
Abstract
平版印刷版原版包括:载体;和图像记录层,所述图像记录层含有(A)聚合引发剂、(B)增感染料和(C)可聚合化合物,并且所述图像记录层或任选地设置在载体与图像记录层之间的下涂层包含(D)聚合物化合物,所述聚合物化合物包含(a1)带有具有由下式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元,以及(a2)带有具有如本文所定义的式(a2-1)、(a2-2)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)中的至少一种结构的侧链的重复单元。
Description
发明领域
本发明涉及平版印刷版原版,使用所述平版印刷版原版的制版方法以及新聚合物化合物。更具体地,本发明涉及能够通过用激光图像曝光进行直接制版的平版印刷版原版,涉及平版印刷版原版的制版方法和新聚合物化合物。
背景技术
通常,平版印刷版由在印刷过程中接受墨的亲油性图像区域和接受润版水的亲水性非图像区域组成。平版印刷是一种利用水和油性墨彼此排斥的属性的印刷方法,并且包括将平版印刷版的亲油性图像区域作为墨接受区域并且将其亲水性非图像区域作为润版水接受区域(不接受墨的区域),从而在平版印刷版的表面上产生墨附着性的差异,将墨仅沉积到图像区域,然后将墨转移到印刷材料例如纸上。
为了制备平版印刷版,采用包含亲水性载体的平版印刷版原版(PS版),该亲水性载体上设置有亲油性光敏树脂层(图像记录层)。具体地,通过掩模例如制版胶片将PS版曝光,然后例如使用碱性显影剂进行显影处理,以通过溶解将对应非图像区域的不需要的图像记录层移除,同时留下对应图像区域的图像记录层,从而获得平版印刷版。
由于近来在该技术领域中的进步,当前平版印刷版可以通过CTP(计算机直接制版)技术获得。具体地,使用激光或激光二极管对平版印刷版原版直接进行扫描曝光而不使用制版胶片,并且显影以获得平版印刷版。
随着上述进步,有关平版印刷版原版的问题已经转移到例如,在对应CTP技术的成像性能、印刷性能或物理性能方面的改善。同样,随着对于全球环境日益增长的关注,作为有关平版印刷版原版的另一个问题是,伴随湿处理例如显影处理的废液排放的环境问题变得明显。
响应于环境问题,已经探寻了显影或制版的简化或者无处理化。作为简单制版的一种方法,称为“机上显影”的方法得以实践。具体地,根据所述方法,在平版印刷版原版曝光后,在不进行传统显影的情况下将平版印刷版原版原样安装在印刷机上,并且在印刷步骤的早期进行图像记录层的不必要区域的移除。
而且,作为简单显影的方法,实施了称作“胶显影(gum development)”的方法,其中不使用传统的强碱性显影剂而使用近中性pH的润饰剂或胶液进行图像记录层的多余区域的移除。
在如上所述的制版操作的简化中,鉴于可加工性,使用能够在明亮房间中或者在黄色灯和光源下处理的平版印刷版原版的系统是优选的。因此,作为光源,使用发射波长为760至1,200nm的红外线的半导体激光器,或固体激光器,例如,YAG激光器。也使用UV激光器。
作为能够进行机上显影的平版印刷版原版,例如,在JP-A-2002-287334(如本文所使用的术语“JP-A”意指“未审查的已公布日本专利申请”)中描述了具有设置在载体上的图像记录层(光敏层)的平版印刷版原版,所述图像记录层含有红外吸收剂、自由基聚合引发剂和可聚合化合物。同样,作为能够进行胶显影的平版印刷版原版,例如,已知如EP-A-1751625或EP-A-1868036中描述的其中用具有接近于中性的pH的润饰液或胶液进行显影的平版印刷版原版。
在这种简单处理型平版印刷版原版中,迄今使用具有高亲水性的表面的载体以便使得在印刷机上用具有低pH的显影液或润版水(通常接近中性)显影成为可能,并且作为结果,图像区倾向于在印刷的过程中由润版水从载体移除,以使得不能获得足够的印刷耐久性。相反,当载体的表面呈现疏水时,墨在印刷过程中也附着在非图像区上以引起印刷污点。因此,极其难以获得印刷耐久性与耐污性之间的良好平衡,并且需要进一步的提高。
考虑到以上问题,在JP-A-2005-125749或JP-A-2006-239860中,提出了一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版能够在不进行碱显影的情况下形成图像,并且包含在其上具有对激光敏感的可光聚合层的亲水载体,其中在可光聚合层或其他层中含有共聚物,所述共聚物含有(a1)具有至少一个烯键式不饱和键的重复单元和(a2)具有能够与载体的共聚物的表面相互作用的至少一个官能团的重复单元,并且描述了获得不仅在印刷耐久性上而且在耐污性上都出色的平版印刷版。
而且,在JP-A-2008-213177中,提出了一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包含载体,所述载体在其上按以下顺序具有由亲水聚合物组成的亲水层和图像形成层,所述亲水聚合物含有能够直接与载体的表面化学连接的反应性基团和能够与载体的表面通过交联结构化学连接的反应性基团的至少一种,以及具有正电荷和负电荷并且化学连接至载体的表面的局部结构,并且描述获得了在非图像区的亲水性上及其维持上出色并且在图像区与载体之间的粘附性上也出色的平版印刷版。
此外,在JP-T-2008-510634(如本文所使用的术语“JP-T”意指PCT专利申请的已公开日本翻译)中,提出了一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括在其上具有共聚物的下涂层的载体,所述共聚物含有(1)膦酸基和/或磷酸酯基和(2)酸基和/或具有乙二醇或聚乙二醇侧链的基团。
然而,关于JP-A-2005-125749或JP-A-2006-239860中提出的平版印刷版原版,所制备的平版印刷版的耐污性不足,并且当从平版印刷版原版的制备经过一段时间之后使用平版印刷版原版时,因为出现污点而出现进一步的问题,换言之,经过一段时间之后的耐污性不足。
同样,对于JP-A-2008-213177中提出的平版印刷版原版,未获得在不经过一段时间的耐污性和经过一段时间之后的耐污性两者上都足够好的结果。此外,在JP-A-2008-213177中描述的亲水聚合物受到制备条件限制,例如,受限于必须在聚合反应使用非水性溶剂,以便将能够通过交联结构与载体的表面化学连接的反应性基团引入至聚合物中,以及大的环境负担的限制。
此外,JP-T-2008-510634中提出的平版印刷版原版具有耐污性不足的问题。
发明概述
因此,本发明的目标是提供一种能够基于例如来自计算机的数字,通过使用发射紫外线、可见光或红外线的固体激光器或半导体激光器的图像记录进行直接制版的平版印刷版原版,尤其是,提供一种可以在印刷机上或用具有11以下的pH的水溶液显影的平版印刷版原版,其在显影性,尤其是在经过一段时间之后的显影性上是出色的,并且可以一种提供展现高印刷耐久性和良好的耐污性(包括在经过一段时间之后的耐污性)的平版印刷版,提供一种平版印刷版原版的制版方法,并且提供一种在平版印刷版原版中使用的新聚合物化合物。
作为深入研究的结果,发明人发现上述目标可以通过使用下面描述的平版印刷版原版实现。
具体地,本发明包括以下各项。
(1)一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括:载体和图像记录层,所述图像记录层含有(A)聚合引发剂、(B)增感染料和(C)可聚合化合物,其中所述图像记录层或任选地设置在所述载体与所述图像记录层之间的下涂层含有(D)聚合物化合物,所述聚合物化合物含有(a1)带有具有由下式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元和(a2)带有具有以下所示的式(a2-1)、(a2-2)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)中的至少一种结构的侧链的重复单元:
在式(a1-1)中,R11表示氢原子、烷基、芳基、杂环基、磺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基或氨基甲酰基,R12、R13和R14各自独立地表示氢原子、烷基或芳基,L1表示连接基团,Y1表示选自由以下各项组成的组的单键或二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置;
在上式中,M21和M22各自独立地表示氢原子、属于碱金属或碱土金属的金属原子或铵,R21至R23各自独立地表示氢原子或烷基,Y2表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
(2)如上面的(1)描述的所述的平版印刷版原版,其中所述重复单元(a2)带有具有由式(a2-1)或(a2-2)表示的结构的侧链。
(3)如上面的(1)或(2)中描述的所述的平版印刷版原版,其中所述聚合物化合物(D)还包含(a3)带有具有由下式(a3-1)或(a3-2)表示的结构的侧链的重复单元:
在式(a3-1)中,R31和R32各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基,或者R31和R32可以彼此结合以形成环结构,L31表示连接基团,A-表示具有阴离子的结构,Y3表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。在式(a3-2)中,L32表示连接基团,E+表示具有阳离子的结构,Y3表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
(4)如上面的(1)至(3)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中在重复单元(a3)中的具有两性离子结构的侧链具有由式(a3-1)表示的结构,并且在式(a3-1)中,A-表示磺酸根。
(5)如上面的(1)至(4)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述聚合物化合物(D)还带有具有由下式(a4-1)表示的聚亚氧烷基结构的侧链:
在式(a4-1)中,R41表示氢原子或烷基,R42表示氢原子、烷基或芳基,a表示1至5的整数,l表示2至150的整数,Y4表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
(6)如上面的(1)至(5)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中在所述下涂层中含有所述聚合物化合物(D)。
(7)一种制备平版印刷版的方法,所述方法包括:将如在以上(1)至(6)的任一项中描述的平版印刷版原版图像式曝光,和然后通过在印刷机上提供印刷墨和润版水而移除图像记录层的未曝光区域。
(8)一种制备平版印刷版的方法,所述方法包括:将如上面的(1)至(6)中的任一项所述的平版印刷版原版图像式曝光,和之后通过自动显影处理机在具有2至11的pH的显影液的存在下移除所述图像记录层的未曝光区。
(9)一种聚合物化合物,所述聚合物化合物至少含有以下所示的(a1)至(a3)。
(a1)带有具有由以下所示的式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元:
在式(a1-1)中,R11表示氢原子、烷基、芳基、杂环基、磺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基或氨基甲酰基,R12、R13和R14各自独立地表示氢原子、烷基或芳基,L1表示连接基团,Y1表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
(a2)带有具有由式(a2-1)和(a2-2)中的至少一个表示的结构的侧链的重复单元:
在上式中,M21和M22各自独立地表示氢原子、属于碱金属或碱土金属的金属原子或铵,Y2表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至聚合物化合物的主链的位置。
(a3)带有具有由下式(a3-1)表示的两性离子结构的侧链的重复单元:
在式(a3-1)中,R31和R32各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基,或者R31和R32可以彼此结合以形成环结构,L31表示连接基团,A-表示磺酸根,Y3表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至聚合物化合物的主链的位置。
(10)如上面的(9)中所述的聚合物化合物,所述聚合物化合物还含有以下所示的(a4):
(a4)带有具有由下式(a4-1)表示的聚亚氧烷基结构的侧链的重复单元:
在式(a4-1)中,R41表示氢原子或烷基,R42表示氢原子、烷基或芳基,a表示1至5的整数,l表示2至150的整数,Y4表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
(11)如上面的(9)或(10)所述的聚合物化合物,所述聚合物化合物至少含有由以下所示的式(A1)至(A3)表示的重复单元:
在式(Al)中,R101至R103各自独立地表示氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子,并且T表示由以下所示的(a1-1)表示的结构:
在式(a1-1)中,R11表示氢原子、烷基、芳基、杂环基、磺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基或氨基甲酰基,R12、R13和R14各自独立地表示氢原子、烷基或芳基,L1表示连接基团,Y1表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置;
在式(A2)中,R201至R203各自独立地表示氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子,并且Q表示由下式(a2-1)和(a2-2)中的至少任一个表示的结构:
在式(a2-1)和(a2-2)中,M21和M22各自独立地表示氢原子、属于碱金属或碱土金属的金属原子或铵,Y2表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置;
在式(A3)中,R301至R303各自独立地表示氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子,并且G表示由下式(a3-1)表示的结构:
在式(a3-1)中,R31和R32各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基,或者R31和R32可以彼此结合以形成环结构,L31表示连接基团,A-表示磺酸根,Y3表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
可以推测本发明的效果可能因为以下原因出现。因为带有具有由式(a1-1)表示的结构的侧链的聚合物化合物(D)具有高亲水性,所以在非图像区中获得迄今尚未获得的具有高亲水性的载体表面。另一方面,在图像区中,图像记录层中的可聚合化合物经历与特定聚合物化合物的自由基聚合以获得非常高的粘附性。作为结果,据信能够提供在耐污性和经时稳定性上非常出色并且在显影性和印刷耐久性上出色的平版印刷版原版和制备平版印刷版的方法。还相信,归因于得自式(a1-1)的骨架中的脲结构的氢键,聚合物化合物彼此聚集以在载体上形成坚固的膜以提高印刷耐久性。
此外,带有具有由式(a1-1)表示的结构的侧链的聚合物化合物可以使用带有具有胺结构的侧链的聚合物化合物作为前体合成。因为胺化合物通常具有高亲核反应性,所以即使在质子溶剂中也可以进行所需的反应。作为结果,即使向在非质子溶剂中具有低溶解性但在质子溶剂例如醇或水中具有高溶解性的聚合物化合物中,也可以在质子溶剂中通过采用胺结构的反应性将可聚合基团引入,从而可以合成具有高亲水性并且含有可自由基聚合基团的聚合物化合物。
附图简述
图1是示意地显示自动显影处理机的结构的视图。
实施方案描述
根据本发明的平版印刷版原版包括载体和图像记录层,所述图像记录层含有(A)聚合引发剂、(B)增感染料和(C)可聚合化合物,其中图像记录层或任选地设置在载体与图像记录层之间的下涂层含有(D)聚合物化合物,所述聚合物化合物含有(a1)带有具有由以下所示的式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元和(a2)带有具有由以下所示的式(a2-1)至(a2-6)中的至少任一种结构的侧链的重复单元(在下文中,也称为特定聚合物化合物)。
下面详细描述特定聚合物化合物、平版印刷版原版的其他要素和制版方法。
<(D)特定聚合物化合物>
(a1)带有具有由式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元
根据本发明的特定聚合物化合物含有带有具有由式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元。
在式(a1-1)中,R11表示氢原子、烷基、芳基、杂环基、磺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基或氨基甲酰基,R12、R13和R14各自独立地表示氢原子、烷基或芳基,L1表示连接基团,Y1表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至聚合物化合物的主链的位置。
更具体地,由R11表示的烷基可以是直链的、支链的和环状的,取代的或未取代的烷基中的任一种。烷基包括直链或支链的烷基(优选具有1至30个碳原子的取代的或未取代的烷基,例如,甲基、乙基、正丙基、异丙基、叔丁基、正辛基、二十烷基、2-氯乙基、2-氰基乙基或2-乙基己基)、环烷基(优选具有3至30个碳原子的取代的或未取代的环烷基,例如,环己基、环戊基或4-正十二烷基环己基)、双环烷基(优选具有5至30个碳原子的取代的或未取代的双环烷基,换言之,通过从具有5至30个碳原子的双环烷烃去掉一个氢原子形成的单价基,例如,二环[1,2,2]庚-2-基或二环[2,2,2]辛-3-基)以及具有更多环状结构,例如,三环结构的环烷基。在下文中描述的取代基中包含的烷基(例如,烷基硫基中的烷基)也具有与如上所述相同的含义。
由R11表示的芳基优选表示具有6至30个碳原子的取代的或未取代的芳基,例如,苯基、对-甲苯基、萘基、间氯苯基或邻十六烷酰氨基苯基)。由R11表示的杂环基优选为通过从5元或6元、取代的或未取代的、芳香或非芳香杂环化合物去掉一个氢原子形成的单价基,更优选具有3至30个碳原子的5元或6元芳香杂环基。例如,2-呋喃基、2-噻吩基、2-嘧啶基或2-苯并噻唑基是示例。由R11表示的烷基磺酰基优选是具有1至30个碳原子的取代的或未取代的烷基磺酰基,并且由R11表示的芳基磺酰基优选为具有6至30个碳原子的取代的或未取代的芳基磺酰基。例如,甲基磺酰基、乙基磺酰基、苯磺酰基或对甲苯磺酰基是示例。由R11表示的酰基优选为甲酰基、具有1至30个碳原子的取代的或未取代的烷基羰基,具有7至30个碳原子的取代的或未取代的芳基羰基,或者其中杂环基用其碳原子连接至羰基的具有4至30个碳原子的取代的或未取代的杂环羰基。例如,乙酰基、新戊酰基、2-氯乙酰基、硬脂酰基、苯甲酰基、对正辛氧基苯基羰基、2-吡啶基羰基或2-呋喃基羰基是示例。由R11表示的芳氧基羰基优选为具有7至30个碳原子的取代的或未取代的芳氧基羰基。例如,苯氧基羰基、邻氯苯氧基羰基、间硝基苯氧基羰基或对叔丁基苯氧基羰基是示例。由R11表示的烷氧基羰基优选为具有2至30个碳原子的取代的或未取代的烷氧基羰基。例如,甲氧基羰基、乙氧基羰基、叔丁氧基羰基或正十八烷氧基羰基是示例。由R11表示的氨基甲酰基优选为具有1至30个碳原子的取代的或未取代的氨基甲酰基。例如,氨基甲酰基、N-甲基氨基甲酰基、N,N-二甲基氨基甲酰基、N,N-二-正辛基氨基甲酰基或N-(甲磺酰基)氨基甲酰基是示例。
在它们之中,R11优选为氢原子或烷基。在烷基中,甲基和乙基是特别优选的。
由R12、R13或R14表示的烷基和芳基优选分别是对于R11描述的烷基和芳基。
由L1表示的连接基团优选为选自以下各项的连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且具有30个以下的碳原子,所述30个以下的碳原子包括在下文中描述的可能存在的取代基的碳原子的数目。连接基团更优选为亚烷基(具有优选1至20个碳原子,更优选1至10个碳原子)或亚芳基(具有优选5至15个碳原子,更优选6至10个碳原子),例如,亚苯基或亚二甲苯基。其具体实例包括以下所示的连接基团。
-CH2- -CH2CH2- -CH2CH2CH2- -CH2CH2CH2CH2-
-CH2CH2CH2CH2CH2- -CH2CH2CH2CH2CH2CH2-
在它们之中,从耐污性的角度,L1优选为具有2至5个碳原子的直链亚烷基,更优选具有2或3个碳原子的直链亚烷基,并且最优选具有2个碳原子的直链亚烷基。
连接基团可以具有取代基。取代基的实例包括卤素原子(例如,F、Cl、Br或I)、羟基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、酰氧基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基和二芳基氨基。
Y1表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合。
下面给出由Y1表示的基团的组合的具体实例。在以下所示的具体实例的每一个中,左侧连接至主链。
L1:-CO-O-二价脂族基-
L2:-CO-O-二价芳族基-
L3:-CO-NH-二价脂族基-
L4:-CO-NH-二价芳族基-
二价脂族基包括亚烷基、取代的亚烷基、亚烯基、取代的亚烯基、亚炔基、取代的亚炔基和多亚烷氧基。在它们之中,亚烷基、取代的亚烷基、亚烯基和取代的亚烯基是优选的,并且亚烷基和取代的亚烷基是更优选的。
在二价脂族基中,链结构是比环状结构优选的,并且进一步直链结构是比具有支链的链结构更优选的。二价脂族基中包含的碳原子的数目优选为1至20,更优选1至15,再更优选1至12,还再更优选1至10,并且最优选1至8。
用于二价脂族基的取代基的实例包括卤素原子(例如,F、Cl、Br或I)、羟基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、酰氧基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基和二芳基氨基。
二价芳族基包括可以具有取代基的亚芳基。具体地,取代的或未取代的亚苯基,亚萘基和亚蒽基是示例。在它们之中,亚苯基是优选的。
除对于以上二价脂族基描述的取代基之外,用于二价芳族基的取代基的实例包括烷基。
由式(a1-1)表示的结构的具体实例包括以下所示的结构。
具有至少一个可自由基聚合反应性基团的根据本发明的带有具有由式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元(a1)优选为由以下所示的式(A1)表示的重复单元:
在式(A1)中,R101至R103各自独立地表示氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子,并且T表示由上面描述的式(a1-1)表示的结构。优选的实施方案也与在上面的式(a1-1)中描述的那些相同。
在特定聚合物化合物中,每单位质量的特定聚合物化合物优选以1至50重量%,更优选1至30重量%,最优选1至20重量%含有带有具有由式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元(a1)。
(a2)带有具有能够与载体的表面相互作用的结构的侧链的重复单元
根据本发明的特定聚合物化合物含有重复单元(a2),所述重复单元(a2)带有具有由以下所示的式(a2-1)、(a2-2)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)表示的能够与载体的表面相互作用的任意结构的侧链,以便增强对载体的粘附性。
在式(a2-1)至(a2-6)中,M21和M22各自独立地表示氢原子、属于碱金属或碱土金属的金属原子或铵,R21至R23各自独立地表示氢原子或烷基,Y2表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至聚合物化合物的主链的位置。
由R21至R23中的任一个表示的烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、辛基、异丙基、叔丁基、异戊基、2-乙基己基、2-甲基己基和环戊基。
Y2表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合。
在下面给出由Y2表示的基团的组合的具体实例。在以下所示的具体实例的每一个中,左侧连接至主链。
L1:-CO-O-二价脂族基-
L2:-CO-O-二价芳族基-
L3:-CO-NH-二价脂族基-
L4:-CO-NH-二价芳族基-
二价脂族基和二价芳族基分别与上面用于Y1的二价脂族基和二价芳族基相同,并且用于二价脂族基和二价芳族基的取代基的实例也与对于上面的Y1描述的那些相同。
Y2优选为单键、-CO-、二价脂族基、二价芳族基或上面描述的L1至L4中的任一个,更优选单键、二价芳族基或L1至L4中的任一个,并且最优选单键、L1或L2。
从耐污性和印刷耐久性的角度,能够与载体的表面相互作用的结构优选为由式(a2-1)、(a2-2)或(a2-6)表示的结构,更优选由式(a2-1)或(a2-2)表示的结构,并且最优选由式(a2-2)表示的结构。在式(a2-1)或(a2-2)中,M21和M22两者都优选为氢原子、钠原子或钾原子,并且最优选为钠原子。
具体地,示例以下所示的结构。
具有至少一个能够与载体的表面相互作用的结构的重复单元(a2)优选为由以下所示的式(A2)表示的重复单元。
在式(A2)中,R201至R203各自独立地表示氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子,并且Q表示选自由上面描述的式(a2-1)至(a2-6)表示的结构的能够与载体的表面相互作用的结构。优选的实施方案也与上面在式(a2-1)至(a2-6)中描述的那些相同。
从耐污性和印刷耐久性的角度,基于特定聚合物化合物的全部重复单元,根据本发明的特定聚合物化合物中具有至少一个能够与载体的表面相互作用的官能团的重复单元(a2)的含量优选在2至95重量%的范围内,更优选在3至50重量%的范围内,最优选在5至25重量%的范围内。
(a3)带有具有两性离子结构的侧链的重复单元
根据本发明的特定聚合物化合物优选含有带有具有两性离子结构的侧链的重复单元,以便使得非图像区中载体的表面具有高亲水性。具有两性离子结构的侧链优选由以下所示的式(a3-1)或(a3-2)表示:
在式(a3-1)中,R31和R32各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基,或者R31和R32可以彼此结合以形成环结构,L31表示连接基团,A-表示具有阴离子的结构,Y3表示连接至聚合物化合物的主链的二价连接基团,并且*表示连接至聚合物化合物的主链的位置。
通过R31和R32彼此连接形成的环结构可以含有杂原子,例如,氧原子,并且优选为5元至10元环,并且更优选5元或6元环。
包括在下文中描述的可能存在的取代基的碳原子的数目的R31和R32的每一个的碳原子的数目为优选1至30,更优选1至20,特别优选1至15,并且最优选1至8。
由R31和R32的每一个表示的烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、辛基、异丙基、叔丁基、异戊基、2-乙基己基、2-甲基己基和环戊基。
由R31和R32的每一个表示的烯基的实例包括乙烯基、烯丙基、异戊二烯基(例如,二甲基烯丙基或香叶基)和油烯基。
由R31和R32的每一个表示的炔基的实例包括乙炔基、炔丙基和三甲基硅烷基乙炔基。
由R31和R32的每一个表示的芳基的实例包括苯基、1-萘基和2-萘基。杂环基的实例包括呋喃基、硫代苯基和吡啶基。
这些基团可以具有取代基。取代基的实例包括卤素原子(例如,F、Cl、Br或I)、羟基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、酰氧基、单烷基氨基、二烷基氨基、单芳基氨基和二芳基氨基。
考虑到效果和容易获得,R31和R32各自特别优选表示氢原子、甲基或乙基,并且各自最优选表示甲基或乙基。
由Y3表示的二价连接基团包括单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-NH-、二价脂族基、二价芳族基和它们的组合。
在下面给出由Y3表示的基团的组合的具体实例。在以下所示的具体实例的每一个中,左侧连接至主链。
L1:-CO-O-二价脂族基-
L2:-CO-O-二价芳族基-
L3:-CO-NH-二价脂族基-
L4:-CO-NH-二价芳族基-
L5:-CO-二价脂族基-
L6:-CO-二价芳族基-
L7:-CO-二价脂族基-CO-O-二价脂族基-
L8:-CO-二价脂族基-O-CO-二价脂族基-
L9:-CO-二价芳族基-CO-O-二价脂族基-
L10:-CO-二价芳族基-O-CO-二价脂族基-
L11:-CO-二价脂族基-CO-O-二价芳族基-
L12:-CO-二价脂族基-O-CO-二价芳族基-
L13:-CO-二价芳族基-CO-O-二价芳族基-
L14:-CO-二价芳族基-O-CO-二价芳族基-
L15:-CO-O-二价芳族基-O-CO-NH-二价脂族基-
L16:-CO-O-二价脂族基-O-CO-NH-二价脂族基-
上面描述的二价脂族基和二价芳族基与在上文中对于Y1描述的二价脂族基和二价芳族基描述相同。用于二价脂族基和二价芳族基的取代基的实例也与对于Y1描述的那些相同。
Y3优选为单键、-CO-、二价脂族基、二价芳族基或上面描述的L1至L4中的任一个。此外,从耐污性的角度,Y3优选为L1或L3,并且更优选L3。此外,L3中的二价脂族基优选为具有2至4个碳原子的直链亚烷基,并且考虑到合成,它最优选为具有3个碳原子的直链亚烷基。
L31具有与L1相同的含义。从耐污性的角度,L31优选为具有3至5个碳原子的直链亚烷基,更优选具有4或5个碳原子的直链亚烷基,并且最优选具有4个碳原子的直链亚烷基。
在式(a3-1)中,A-优选表示羧酸根、磺酸根、膦酸根或次膦酸根。
具体地,以下所示的阴离子是示例。
在上面的式中,R33具有与上面叙述的R31和R32相同的含义。
从耐污性的角度,A-最优选为磺酸根。此外,在式(a3-1)中,其中L31是具有4至5个碳原子的直链亚烷基并且A-是磺酸根的组合是优选的,并且其中L31是具有4个碳原子的直链亚烷基并且A-是磺酸根的组合是最优选的。
其中Y3是L1或L3,R31和R32各自表示乙基或甲基,L31是具有4至5个碳原子的直链亚烷基并且A-是磺酸根的组合是优选的。
此外,其中Y3是L3,R31和R32各自表示甲基,L31是具有4个碳原子的直链亚烷基并且A-是磺酸根的组合是更优选的。
具体地,以下所示的结构式是优选的。
在式(a3-2)中,L32表示连接基团并且优选选自由以下各项组成的组:-CO-、-O-、-NH-、二价脂族基、二价芳族基和它们的组合。其具体实例和优选的实例与上面对于由L31表示的连接基团描述的那些相同。
Y3具有与式(a3-1)中的Y3相同的含义,并且其优选的实例也与对于Y3描述的那些相同。
E+表示具有阳离子的结构。E+优选表示具有铵、碘或锍的结构,更优选具有铵或的结构,并且特别优选具有铵的结构。具有阳离子的结构的实例包括三甲基铵基、三乙基铵基、三丁基铵基、苄基二甲基铵基、二乙基己基铵基、(2-羟乙基)二甲基铵基、吡啶基、N-甲基咪唑基、N-吖啶基、三甲基磷基、三乙基磷基和三苯基磷基。
L32、Y3和E+的最优选的组合是其中L32是具有2至4个碳原子的亚烷基,Y3是L1或L3并且E+是三甲基铵基或三乙基铵基的组合。
具体地,以下所示的结构是示例。
在本发明中,具体地,具有两性离子结构的重复单元优选由以下所示的式(A3)表示。
在式(A3)中,R301至R303各自独立地表示氢原子,具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子。G表示具有两性离子结构的侧链并且优选为由上面描述的式(a3-1)或(a3-2)表示的结构。对于式(a3-1)和(a3-2)优选的实例和组合与上面描述的那些相同。
在式(A3)中,用于G的特别优选的侧链是由式(a3-1)表示的结构。
从耐污性的角度,基于特定聚合物化合物的全部重复单元,根据本发明的特定聚合物化合物中具有两性离子结构的重复单元(a3)的含量优选在5至95重量%的范围内,更优选在5至80重量%的范围内,再更优选在10至60重量%的范围内,最优选在15至45重量%的范围内。
(a4)具有聚亚氧烷基结构的重复单元
根据本发明的特定聚合物化合物优选还含有(a4)带有具有聚亚氧烷基结构的侧链的重复单元。聚亚氧烷基结构优选为由以下所示的式(a4-1)表示的聚亚氧烷基结构。
在式(a4-1)中,R41表示氢原子或烷基,R42表示氢原子、烷基或芳基,a表示1至5的整数,l表示2至150的整数,Y4表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至聚合物化合物的主链的位置。
在式(a4-1)中,由R41或R42表示的烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、辛基、异丙基、叔丁基、异戊基、2-乙基己基、2-甲基己基和环戊基。由R42表示的芳基的实例包括苯基、1-萘基和2-萘基。
R41最优选为氢原子。R42优选为氢原子或甲基,并且更优选甲基。
从耐污性的角度,a优选为1或2,并且最优选1。从耐污性的角度,l表示2至150的整数,并且优选为9至150,更优选9至100,再更优选20至100,特别优选50至100。
Y4表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合。二价脂族基和二价芳族基与上面对于Y1描述的那些相同。
Y4最优选为由以下所示的L17表示的连接基团。
L17:-CO-O-
在L17中,左侧连接至主链。
Y4、R41和R42的最优选的组合是其中Y4是L17、R41是氢原子并且R42是甲基的组合。
聚亚氧烷基结构包括以下所示的具体实例。
在具体实例中,包括小数的n值表示具有不同亚氧烷基重复单元数的化合物的混合物中的重复单元数的平均值。
在本发明中,具体地,具有聚亚氧烷基结构的重复单元优选由以下所示的式(A4)表示。
在式(A4)中,R401至R403各自独立地表示氢原子,具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子。J表示由上面描述的式(a4-1)表示的聚亚氧烷基结构,并且优选的实施方案也与对于式(a4-1)描述的那些相同。
从机上显影性和耐污性的角度,基于特定聚合物化合物的全部重复单元,根据本发明的特定聚合物化合物中具有聚亚氧烷基结构的重复单元(a4)的含量优选在5至95重量%的范围内,更优选在20至80重量%的范围内,最优选在20至49重量%的范围内。
虽然根据本发明的特定聚合物化合物能够通过任意迄今已知的方法合成,但是自由基聚合方法以及随后的聚合物的侧链中的氨基与具有自由基聚合反应性基团的异氰酸酯的脲化反应优选用于其合成。在采用聚合物的侧链中的氨基与具有自由基聚合反应性基团的异氰酸酯的脲化反应的情况下,从耐污性的角度,优选的是通过反应使尽可能多的氨基消失。作为残留在聚合物的侧链的胺数,0.2mmol/g以下是优选的,0.10mmol/g以下是更优选的并且0.05mmol/g以下是再更优选的。
通常的自由基聚合方法描述在例如,Shin Kobunshi Jikkengaku 3,(新聚 合物试验方法3),由The Society of Polymer Science,Japan编辑,1996年3月28日出版(Kyoritsu Shuppan Co.,Ltd.);Kobunshi no Gosei to Hanno 1,(聚 合物的合成和反应1),由The Society of Polymer Science,Japan,1992年五月出版(Kyoritsu Shuppan Co.,Ltd.);Shin Jikken Kagaku Koza 19,Kobunshi Kagaku(I),(新实验化学讲座19,聚合物化学(I)),由The Chemical Society ofJapan编辑,1980年11月20日出版(Maruzen Co.,Ltd.);和Busshitsu Kogaku Koza,Kobunshi Gosei Kagaku,(材料工程讲座,聚合物合成化学),1995年9月出版(Tokyo Denki University Press)中,并且可以采用这些方法。
此外,特定聚合物化合物(D)可以是含有除上面描述的重复单元之外的其他重复单元的共聚物。能够用于特定聚合物化合物的共聚的单体包括选自以下各项的单体,例如,丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类、丙烯酰胺类、甲基丙烯酰胺类、苯乙烯类、丙烯腈和甲基丙烯腈。
具体地,作为丙烯酸酯类,丙烯酸烷基酯(优选在其烷基中具有1至20个碳原子),例如,丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸叔辛酯、丙烯酸氯乙酯、丙烯酸2,2-二甲基羟基丙酯、丙烯酸5-羟基戊酯、单丙烯酸三羟甲基丙烷酯、单丙烯酸季戊四醇酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸甲氧基苄酯、丙烯酸糠酯或丙烯酸四氢糠酯)和丙烯酸芳基酯(例如,丙烯酸苯基酯)是示例。
作为甲基丙烯酸酯类,甲基丙烯酸烷基酯(优选在其烷基中具有1至20个碳原子),例如,甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸氯苄酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸5-羟基戊酯、甲基丙烯酸2,2-二甲基-3-羟基丙酯、单甲基丙烯酸三羟甲基丙烷酯、单甲基丙烯酸季戊四醇酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸糠酯或甲基丙烯酸四氢糠酯)和甲基丙烯酸芳基酯(例如,甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲苯酯或甲基丙烯酸萘酯)是示例。
作为苯乙烯类,苯乙烯、烷基苯乙烯(例如,甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙苯乙烯、二乙苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯或乙酰基氧基甲基苯乙烯)、烷氧基苯乙烯(例如,甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯或二甲氧基苯乙烯)或含有卤素的苯乙烯(例如,氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯或4-氟-3-三氟甲基苯乙烯)是示例。
作为其他具体实例,例如,丙烯腈、甲基丙烯腈、甲基丙烯酸、丙烯酸和2-丙烯酰基酰胺基-2-甲基丙磺酸是示例。
根据本发明的特定聚合物化合物的重均分子量(Mw)可以根据平版印刷版原版的性能设计适当地设定。重均分子量优选为2,000至1,000,000,更优选2,000至500,000,并且最优选10,000至500,000。在上面描述的范围内,获得足够的印刷耐久性和耐污性。
特定聚合物化合物的具体实例与其重均分子量一起在下面给出,但本发明不应被理解为限定于此。聚合物化合物中的组成比通过重量百分数表示。
通过结合至图像记录层或设置在载体与图像记录层之间的下涂层中而使用根据本发明的特定聚合物化合物。在结合至图像记录层中的情况下,基于图像记录层的总重量,其含量优选为0.1至20重量%,更优选0.2至10重量%,最优选0.5至5重量%。在结合至下涂层中的情况下,基于下涂层的总重量,其含量为优选10至100重量%,更优选20至100重量%,最优选50至100重量%。
在上面描述的范围内,可以获得根据本发明的特定聚合物化合物在显影性、印刷耐久性、耐污性和经时稳定性上的效果。
(图像记录层)
用于在本发明中使用的图像记录层含有(A)聚合引发剂、(B)增感染料和(C)可聚合化合物。
<(A)聚合引发剂>
作为用于本发明的聚合引发剂,优选使用自由基聚合引发剂。作为自由基聚合引发剂,可以不带有限制地使用本领域技术人员已知的自由基聚合引发剂。详细地,例如,三卤甲基化合物、羰基化合物、有机过氧化物、偶氮化合物、叠氮化合物、金属茂化合物、六芳基联咪唑化合物、有机硼化合物、二砜化合物、肟酯化合物、盐和铁芳烃配合物是示例。其中,选自由以下各项组成的组的至少一种化合物是优选的:六芳基联咪唑化合物、盐、三卤甲基化合物和金属茂化合物,并且六芳基联咪唑化合物是特别优选的。可以适当地以它们的两种或以上的组合使用自由基聚合引发剂。
六芳基联咪唑化合物包括,例如,JP-B-45-37377(如本文所使用的术语“JP-B”意指“已审查日本专利公布”)和JP-B-44-86516中描述的洛粉碱二聚物,详细地,
2,2′-双(o-氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、
2,2′-双(o-溴苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、
2,2′-双(o,p-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、
2,2′-双(o-氯苯基)-4,4′,5,5′-四(m-甲氧基苯基)联咪唑、
2,2′-双(o,o′-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、
2,2′-双(o-硝基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、
2,2′-双(o-甲基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑和
2,2′-双(o-三氟甲基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑。
六芳基联咪唑化合物特别优选与下面描述的在350至450nm的波长范围内具有最大吸收的增感染料一起使用。
优选在本发明中使用的盐包括锍盐、碘盐和重氮盐。尤其是,优选使用二芳基碘盐和三芳基锍盐。盐特别优选与在750至1,400nm的波长范围内具有最大吸收的红外吸收剂一起使用。
作为其他自由基聚合引发剂,优选使用JP-A-2007-206217的第[0071]至[0129]段中描述的聚合引发剂。
根据本发明优选单独地或以其两种以上的组合使用聚合引发剂。
基于图像记录层的总固体含量的重量,在根据本发明的图像记录层中使用的聚合引发剂的量优选为0.01至20重量%,更优选0.1至15重量%,再更优选1.0至10重量%。
<(B)增感染料>
根据本发明的图像记录层含有增感染料。可以不带有特别限制地使用增感染料,只要它在图像曝光下吸收光形成激发态并且对上面描述的聚合引发剂以电子传递、能量传递或产生热的形式提供能量,从而改善聚合引发功能即可。尤其是,优选使用在波长范围350至450nm或750至1,400nm具有最大吸收的增感染料。
在波长范围350至450nm具有最大吸收的增感染料的实例包括部花青染料、苯并吡喃、香豆素、芳族酮和蒽。
在具有在波长范围350至450nm内的最大吸收的增感染料中,考虑到高灵敏度,由下面所示的式(I)表示的染料是更优选的。
在式(I)中,A表示可以具有取代基的芳香环基或者可以具有取代基的杂环基,X表示氧原子、硫原子或=N(R3),并且R1、R2和R3各自独立地表示单价非金属原子团,或者A和R1或者R2和R3可以彼此结合以形成脂族或芳族环。
下面将更详细描述式(I)。R1、R2和R3各自独立地表示单价非金属原子团,优选表示取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的烯基、取代的或未取代的芳基、取代的或未取代的芳香杂环残基、取代的或未取代的烷氧基、取代的或未取代的烷硫基、羟基或卤素原子。
现在,在下面描述式(I)中的A。A表示可以具有取代基的芳环基或可以具有取代基的杂环基。可以具有取代基的芳环基和可以具有取代基的杂环基分别与对于式(I)中R1、R2和R3中的任一个描述的取代的或未取代的芳基和取代的或未取代的芳环残基相同。
增感染料的具体实例包括JP-A-2007-58170的[0047]至[0053]段中描述的化合物。
此外,也可以使用下面所示的由式(II)或(III)表示的增感染料。
在式(II)中,R1至R14各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、氰基或卤素原子,条件是R1至R10中的至少一个表示具有2个以上碳原子的烷氧基。
在式(III)中,R15至R32各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、氰基或卤素原子,条件是R15至R24中的至少一个表示具有2个以上碳原子的烷氧基。
作为这些增感染料的具体实例,优选使用EP-A-1349006和WO2005/029187中描述的化合物。
此外,JP-A-2007-171406、JP-A-2007-206216、JP-A-2007-206217、JP-A-2007-225701、JP-A-2007-225702、JP-A-2007-316582和JP-A-2007-328243中描述的增感染料也是优选使用的。
接下来,在下面详细描述在本发明中优选使用的在波长范围750至1,400具有最大吸收的增感染料(在下文中,也称作“红外吸收剂”)。所使用的红外吸收剂优选为染料或颜料。
作为染料,可以使用可商购的染料和描述在文献中已知染料,例如,由日本合成有机化学学会编制的Senryo Binran(染料手册(Dye Handbook)),(1970)。详细地,染料包括偶氮染料、金属配合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳染料、醌亚胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸(squarylium)染料、吡喃盐和金属硫醇盐配合物。
在染料中,花青染料、方酸染料、吡喃染料、硫醇镍配合物和假吲哚花青染料是特别优选的。花青染料和假吲哚花青染料是更优选的。作为染料的特别优选实例,由下面所示的式(a)表示的花青染料是实例。
式(a):
在式(a)中,X1表示氢原子、卤素原子、-N(R9)(R10)、-X2-L1或以下所示的基团。R9和R10,可以相同或不同,各自表示具有6至10个碳原子的可以具有取代基的芳香烃基、具有1至8个碳原子的烷基或者氢原子,或者R9和R10可以彼此结合而形成环,并且优选表示苯基。X2表示氧原子或硫原子,L1表示具有1至12个碳原子的烃基、含有杂原子(氮原子、硫原子、氧原子、卤素原子或硒原子)的芳香环基或具有1至12个碳原子并且含有杂原子的烃基。Xa-具有与在下文中定义的Za-相同的含义。Ra表示氢原子或选自烷基、芳基、取代或未取代氨基以及卤素原子的取代基。
R1和R2各自独立地表示具有1至12个碳原子的烃基。考虑到用于图像记录层的涂布液的保存稳定性,优选R1和R2各自表示具有两个以上碳原子的烃基。还优选的是,R1和R2彼此结合以形成环,并且在形成环的情况下,形成5元环或6元环是特别优选的。
Ar1和Ar2,其可以相同或不同,各自表示可以具有取代基的芳香烃基。芳香烃基的优选实例包括苯环基和萘环基。所述取代基的优选实例包括具有12个以下碳原子的烃基、卤素原子以及具有12个以下碳原子的烷氧基。Y1和Y2,其可以相同或不同,各自表示硫原子或具有12个以下碳原子的二烷基亚甲基。R3和R4,其可以相同或不同,各自表示具有20个以下碳原子的烃基,其可以具有取代基。该取代基的优选实例包括具有12个以下碳原子的烷氧基、羧基和磺基。R3、R6、R7和R8,其可以相同或不同,各自表示氢原子或具有12个以下碳原子的烃基。从原材料的可获得性角度看,氢原子是优选的。Za-表示抗衡阴离子。然而,当由式(a)表示的花青染料在其结构中具有阴离子取代基并且不需要中和电荷时,Za-是不需要的。从用于图像记录层的涂布液的保存稳定性角度看,抗衡离子Za-的优选实例包括卤素离子、高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子和磺酸根离子,并且其特别优选的实例包括高氯酸根离子、六氟磷酸根离子和芳基磺酸根离子。
可以优选用于本发明的由式(a)表示的花青染料的具体实例包括在JP-A-2001-133969的第[0017]至[0019]段中描述的化合物。
此外,其他特别优选的实例包括在JP-A-2002-278057中描述的特定的假吲哚花青染料。
用于在本发明中使用的颜料的实例包括可商购的颜料和在由PigmetTechnology Society of Japan汇编的Colour Index (C.I.),Saishin Ganryo Binran (Handbook of the Newest Pigments)(1977);Saishin Ganryo Oyou Gijutsu (Newest Application on Technologies for Pigments),CMC Publishing Co.,Ltd.(1986);和Insatsu Ink Gijutsu (Pringting Ink Technology),CMC PublishingCo.,Ltd.(1984)中描述的颜料。
相对于每100重量份的图像记录层的总固体含量,所加入的增感染料的量优选为0.05至30重量份,更优选0.1至20重量份,最优选0.2至10重量份。
<(C)可聚合化合物>
用于根据本发明的图像记录层的可聚合化合物是具有至少一个烯键式不饱和双键的可加成聚合化合物,并且它是选自具有至少一个,优选两个以上末端烯键式不饱和双键的化合物。可聚合化合物具有以下化学形式:例如,单体,预聚物,具体地,二聚物、三聚物或低聚物,或其混合物。单体的实例包括不饱和羧酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸或马来酸)及其酯或酰胺。优选地,使用不饱和羧酸与多元醇化合物的酯和不饱和羧酸与多价胺化合物的酰胺。还优选使用具有亲核取代基例如羟基、氨基或巯基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能异氰酸酯或环氧化合物的加成反应产物,或者不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能羧酸的脱水缩合反应产物。此外,还优选使用具有亲电取代基例如异氰酸酯基或环氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇、胺或硫醇的加成反应产物,或者具有可离去取代基例如卤素原子或甲苯磺酰氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇、胺或硫醇的取代反应产物。此外,还可以使用其中将上述不饱和羧酸替换为不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等的化合物。这些化合物描述在包括以下各项的参考文献中:JP-T-2006-508380、JP-A-2002-287344、JP-A-2008-256850、JP-A-2001-342222、JP-A-9-179296、JP-A-9-179297、JP-A-9-179298、JP-A-2004-294935、JP-A-2006-243493、JP-A-2002-275129、JP-A-2003-64130、JP-A-2003-280187和JP-A-10-333321。
作为多元醇化合物与不饱和羧酸的酯的单体的具体实例包括,作为丙烯酸酯,例如乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷(EO)改性的三丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯低聚物。作为甲基丙烯酸酯,例举例如1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、双[对-(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)-苯基]二甲基甲烷和双[对-(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷。作为多价胺化合物与不饱和羧酸的酰胺的单体的具体实例包括亚甲基双丙烯酰胺、亚甲基双甲基丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双甲基丙烯酰胺、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、亚二甲苯基双丙烯酰胺和亚二甲苯基双甲基丙烯酰胺。
利用异氰酸酯与羟基之间的加成反应产生的氨基甲酸酯型可加成聚合化合物也是优选使用的,并且其具体实例包括,在JP-B-48-41708中描述的,通过将由以下所示的式(b)表示的含有羟基的乙烯基单体添加到每个分子具有两个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物获得的每个分子具有两个以上可聚合乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物。
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (b)
其中R4和R3各自独立地表示H或CH3。
而且,优选使用如在JP-A-51-37193、JP-B-2-32293、JP-B-2-16765、JP-A-2003-344997和JP-A-2006-65210中描述的氨基甲酸酯丙烯酸酯,在JP-B-58-49860、JP-B-56-17654、JP-B-62-39417、JP-B-62-39418、JP-A-2000-250211和JP-A-2007-94138中描述的具有环氧乙烷骨架的氨基甲酸酯化合物,以及在美国专利7,153,632、JP-T-8-505958、JP-A-2007-293221和JP-A-2007-293223中描述的具有亲水性基团的氨基甲酸酯化合物。
在上述的化合物中,从涉及机上显影性能的亲水性和涉及印刷耐久性的聚合能力之间具有优异的平衡的角度,异氰脲酸环氧乙烷改性的丙烯酸酯,例如,三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯或双(丙烯酰氧基乙基)羟乙基异氰脲酸酯是特别优选的。
可以根据最终的平版印刷版原版的特性设计而适当地确定使用可聚合化合物的方法的细节,例如,结构、单独或组合使用或者加入量的选择。基于图像记录层的总固体含量,所述可聚合化合物优选在5至75重量%的范围内,更优选在10至70重量%的范围内,特别优选在15至60重量%的范围内使用。
<(E)其他组分>
如果需要,根据本发明的图像记录层还可以含有其他组分。
(1)聚合物粘合剂
在根据本发明的图像记录层中,聚合物粘合剂可以用于提高图像记录层的膜强度的目的。在本发明中可以使用的聚合物粘合剂可以选自之前已知的那些而没有限制,并且具有成膜性的聚合物是优选的。它们之中,丙烯酸类树脂、聚乙烯醇缩醛树脂和聚氨酯树脂是优选的。
作为优选用于本发明的聚合物粘合剂,可以例举在其主链或侧链,优选在其侧链中具有用于提高图像区域的膜强度的可交联官能团的聚合物,如JP-A-2008-195018中所描述的。由于该可交联官能团,在聚合物分子之间形成交联以促进固化。
作为可交联官能团,烯键式不饱和基团,例如,(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基或苯乙烯基,或者环氧基是优选的。可以通过聚合物反应或共聚合将可交联官能团引入到聚合物中。例如,可以利用丙烯酸类聚合物或在其侧链中具有羧基的聚氨酯与甲基丙烯酸缩水甘油酯之间的反应,或者具有环氧基的聚合物与含有烯键式不饱和基团的羧酸例如甲基丙烯酸之间的反应。
基于1g的聚合物粘合剂,该粘合剂聚合物中的可交联基团的含量优选为0.1至10.0mmol,更优选0.25至7.0mmol,最优选0.5至5.5mmol。
还优选的是用于本发明的聚合物粘合剂含有亲水性基团。亲水性基团有助于对图像记录层赋予机上显影性。尤其是,可交联基团与亲水性基团的共存使得可以在印刷耐久性与显影性之间保持良好的平衡。
亲水性基团包括例如羟基,羧基,环氧烷(alkylene oxide)结构,氨基,铵基,酰胺基,磺基和磷酸基。它们之中,含有具有2或3个碳原子的1至120个环氧烷单元的环氧烷结构是优选的,并且含有具有2或3个碳原子的2至120个环氧乙烷单元的环氧烷结构是优选的。为了将亲水性基团引入到聚合物粘合剂中,可以使具有亲水性基团的单体发生共聚。
聚合物可以按需要以细粒的形式使用,例如,WO 2003/087939中,并且其平均粒径为优选30至1,000nm,并且更优选60至300nm。
为了控制吸墨性,可以将亲油性基团例如烷基,芳基,芳烷基或烯基引入到根据本发明的聚合物粘合剂中。具体地,使含亲油性基团的单体,例如,甲基丙烯酸烷基酯发生共聚。
用于本发明的聚合物粘合剂的具体实例(1)至(11)在下面给出,但本发明不应被理解为局限于此。下面给出的聚合物粘合剂中的重复单元的比例通过摩尔比表示。
根据本发明的聚合物粘合剂的重均分子量(Mw)优选为2,000以上,更优选5,000以上,并且还更优选10,000至300,000。
根据本发明,如果需要,可以使用亲水性聚合物,例如,JP-A-2008-195018中描述的聚丙烯酸或聚乙烯醇。此外,将亲油性聚合物粘合剂与亲水性聚合物粘合剂一起使用。
基于图像记录层的总固体含量,聚合物粘合剂的含量优选为5至90重量%,更优选5至80重量%,再更优选10至70重量%。
(2)疏水化前体
根据本发明,可以使用疏水化前体以提高机上显影性。用于在本发明中使用的疏水化前体是在施加热时能够将图像记录层转变为疏水性的细粒。所述细粒优选为选自疏水热塑性聚合物细粒、热反应性聚合物细粒、具有可聚合基团的聚合物细粒、具有包封的疏水性化合物的微胶囊和微凝胶(交联的聚合物细粒)中的至少一种细粒。其中,具有可聚合基团的聚合物细粒和微凝胶是优选的。
作为疏水热塑性聚合物细粒,优选示例的是在例如研究发现(Research Disclosure),第33303期,一月(1992),JP-A-9-123387,JP-A-9-131850,JP-A-9-171249,JP-A-9-171250和欧洲专利931,647中所述的疏水热塑性聚合物细粒。
构成聚合物细粒的聚合物的具体实例包括下列单体的均聚物或共聚物和它们的混合物:例如,乙烯,苯乙烯,氯乙烯,丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯,甲基丙烯酸甲酯,甲基丙烯酸乙酯,偏二氯乙烯,丙烯腈,乙烯基咔唑或具有聚亚烷基结构的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。在它们中,更优选苯乙烯,含有苯乙烯和丙烯腈的共聚物和聚甲基丙烯酸甲酯。
用于本发明的疏水热塑性聚合物细粒的平均粒度优选为0.01至2.0μm。
用于本发明的热反应性聚合物细粒包括具有热反应性基团的聚合物细粒,并且通过由于热反应而进行的交联以及其中所含官能团的改变而形成疏水化的区域。
作为用于本发明的具有热反应性基团的聚合物细粒的热反应性基团,虽然进行任何反应的官能团都可以使用,只要形成化学键即可,但是优选可聚合基团。例如,进行自由基聚合反应的烯键式不饱和基团(例如丙烯酰基,甲基丙烯酰基,乙烯基或烯丙基),阳离子可聚合基团(例如乙烯基,乙烯基氧基,环氧基或氧杂环丁烷基),进行加成反应的异氰酸酯基或其嵌段形式,环氧基,乙烯基氧基和作为其反应伙伴的具有活性氢原子的官能团(例如氨基,羟基或羧基),进行缩合反应的羧基和作为其反应伙伴的羟基或氨基,以及进行开环加成反应的酸酐和作为其反应伙伴的氨基或羟基是优选示例的。
作为用于本发明的微胶囊,示例的是,如描述在例如JP-A-2001-277740和JP-A-2001-277742中的具有包封的全部或部分的图像记录层构成组分的微胶囊。图像记录层的构成组分可以存在于微胶囊的外部。含有如下微胶囊的图像记录层是更优选的实施方案:疏水性构成组分包封在微胶囊内,而亲水性组分存在于微胶囊的外部。
根据本发明的图像记录层可以是含有交联的树脂粒子即微凝胶的实施方案。微凝胶在其内部或表面上中的至少之一可以含有图像记录层的构成组分的一部分。特别地,考虑到成像灵敏度和印刷耐久性,优选在其表面上含有可自由基聚合基团的反应性微凝胶的实施方案。
作为图像记录层的构成组分的微胶囊化或微凝胶化的方法,可以使用已知的方法。
微胶囊或微凝胶的平均粒度优选为0.01至3.0μm,更优选0.05至2.0μm,特别优选0.10至1.0μm。在上述范围内,可以实现良好的分辨率和良好的经时稳定性。
基于图像记录层的总固体含量,疏水化前体的含量优选在5至90重量%的范围内。
(3)亲水性低分子量化合物
根据本发明的图像记录层可以含有亲水性低分子量化合物,以提高机上显影性能,而不伴随印刷耐久性的降低。
亲水性低分子量化合物包括水溶性有机化合物,例如,二醇化合物例如乙二醇、二甘醇、三甘醇、丙二醇、一缩二丙二醇或三丙二醇,或它们的醚和酯衍生物;多羟基化合物如甘油、季戊四醇或三(2-羟乙基)异氰脲酸酯;有机胺化合物,例如三乙醇胺、二乙醇胺或单乙醇胺,或者它们的盐;有机磺酸化合物,例如烷基磺酸、甲苯磺酸或苯磺酸,或它们的盐;有机氨基磺酸化合物,例如烷基氨基磺酸、或它们的盐;有机硫酸化合物,例如烷基硫酸或烷基醚硫酸,或它们的盐;有机膦酸化合物,例如苯基膦酸,或它们的盐;有机羧酸,例如酒石酸、草酸、柠檬酸、苹果酸、乳酸、葡糖酸或氨基酸,或它们的盐以及甜菜碱化合物。
根据本发明,优选将选自多元醇化合物、有机硫酸盐化合物、有机磺酸盐化合物和甜菜碱化合物中的至少一种化合物结合至图像记录层中。
有机磺酸盐化合物的具体实例包括烷基磺酸盐,例如正丁基磺酸钠、正己基磺酸钠、2-乙基己基磺酸钠、环己基磺酸钠或正辛基磺酸钠;含有环氧乙烷链的烷基磺酸盐,例如5,8,11-三氧杂十五烷-1-磺酸钠、5,8,11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠、13-乙基-5,8,11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠或5,8,11,14-四氧杂二十四烷-1-磺酸钠;芳基磺酸盐,例如苯磺酸钠、对甲苯磺酸钠、对-羟基苯磺酸钠、对-苯乙烯磺酸钠、间苯二甲酸二甲基-5-磺酸钠、1-萘磺酸钠、4-羟基萘磺酸钠、1,5-萘二磺酸二钠或1,3,6-萘三磺酸三钠,以及JP-A-2007-276454的第[0026]至[0031]和JP-A-2009-154525的第[0020]至[0047]段中描述的化合物。所述盐也可以是钾盐或锂盐。
有机硫酸盐化合物包括聚环氧乙烷的烷基、烯基、炔基、芳基或杂环单醚的硫酸盐。环氧乙烷单元的数量优选为1至4。该盐优选为钠盐,钾盐或锂盐。其具体实例包括JP-A-2007-276454的第[0034]至[0038]段中描述的化合物。
作为甜菜碱化合物,优选其中在氮原子上的烃取代基中包含的碳原子数为1至5的化合物。它们的具体实例包括乙酸三甲基铵、乙酸二甲基丙基铵、3-羟基-4-三甲基铵基丁酸盐、4-(1-吡啶基)丁酸盐、1-羟基乙基-1-咪唑基乙酸盐、三甲基铵甲磺酸盐、二甲基丙基铵甲磺酸盐、3-三甲基铵基-1-丙磺酸盐和3-(1-吡啶基)-1-丙磺酸盐。
由于亲水性低分子量化合物的疏水部分结构小并且几乎没有表面活性功能,因此防止了由于润版水渗透进入图像记录层的曝光区域(图像区域)中而导致的图像区域中的疏水性和膜强度降低,从而可以优选地保持图像记录层的墨接受性能和印刷耐久性。
基于图像记录层的总固体含量,添加到图像记录层中的亲水性低分子量化合物的量优选为0.5至20重量%,更优选1至15重量%,还更优选2至10重量%。在上述范围内,获得了良好的机上显影性能和印刷耐久性。
亲水性低分子量化合物可以单独使用或者作为其两种以上的混合物使用。
(4)感脂化剂(oil sensitizing agent)
为了改善墨接受性能,可以在图像记录层中使用感脂化剂,例如化合物,含氮低分子量化合物或含铵基的聚合物。特别地,在将无机层状化合物结合到保护层中的情况下,感脂化剂起着该无机层状化合物的表面覆盖剂的作用并且防止在印刷过程中归因于无机层状化合物的墨接受性能的劣化。
作为化合物的优选实例,示例JP-A-2006-297907和JP-A-2007-50660中所述的化合物。化合物的具体实例包括碘化四丁基溴化丁基三苯基溴化四苯基1,4-双(三苯基基)丁烷二(六氟磷酸盐)、1,7-双(三苯基基)庚烷硫酸盐和1,9-双(三苯基基)壬烷萘-2,7-二磺酸盐。
作为含氮低分子量化合物,列举的是胺盐和季铵盐。而且,列举的是咪唑盐、苯并咪唑盐、吡啶盐和喹啉盐。在含氮低分子量化合物中,优选使用季铵盐和吡啶盐。含氮低分子量化合物的具体实例包括六氟磷酸四甲基铵、六氟磷酸四丁基铵、对甲苯磺酸十二烷基三甲基铵、六氟磷酸苄基三乙基铵、六氟磷酸苄基二甲基辛基铵、六氟磷酸苄基二甲基十二烷基铵以及JP-A-2008-284858的第[0021]至[0037]段和JP-A-2009-90645的第[0030]至[0057]段中描述的化合物。
含铵基的聚合物可以是结构中含有铵基的任何聚合物,并且优选是含有5至80摩尔%的在其侧链中具有铵基的(甲基)丙烯酸酯作为共聚合组分的聚合物。其具体实例包括JP-A-2009-208458的第[0089]至[0105]段中描述的聚合物。
关于含铵基的聚合物,其根据下述测量方法测定的折合比浓粘度值(单位:ml/g)优选为5至120,更优选10至110,特别优选15至100。当以重均分子量为单位计算上述折合比浓粘度值时,10,000至150,000是优选的,17,000至140,000是更优选的,并且20,000至130,000是特别优选的。
<折合比浓粘度的测量方法>
在20ml的测量烧瓶中称量1.0g的聚合物并且将该测量烧瓶用N-甲基吡咯烷酮填充至计量线。将所得溶液在30℃恒温浴中静置30分钟,置入乌氏粘度计(粘度计常数:0.010cSt/s)并且测量该溶液在30℃的跑下(runningdown)时间。对相同的样品进行两次测试,并且确定测量的平均值。还以同样的方式对空白(仅N-甲基吡咯烷酮)进行测试。根据下示式计算折合比浓粘度。
含铵基的聚合物的具体实例在下面给出。
(1)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯对甲苯磺酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比:10/90,Mw:45,000)
(2)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比:20/80,Mw:60,000)
(3)2-(乙基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯对甲苯磺酸盐/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩尔比:30/70,Mw:45,000)
(4)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(摩尔比:20/80,Mw:60,000)
(5)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯甲基硫酸盐/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩尔比:40/60,Mw:70,000)
(6)2-(丁基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比:25/75,Mw:65,000)
(7)2-(丁基二甲基铵基)乙基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比:20/80,Mw:65,000)
(8)2-(丁基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯13-乙基-5,8,11-三氧杂-1-十七烷磺酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯共聚物(摩尔比:20/80,Mw:75,000)
(9)2-(丁基二甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3,6-二氧杂庚酯/2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比:15/80/5,Mw:65,000)
基于图像记录层的总固体含量,感脂化剂的含量优选为0.01至30.0重量%,更优选0.1至15.0重量%,还更优选1至10重量%。
(5)链转移剂
图像记录层优选还含有链转移剂。作为链转移剂,例如,使用在其分子中具有SH、PH、SiH或GeH的化合物。化合物给出氢至低活性自由基物种以产生自由基或者被氧化并且去质子化以产生自由基。
尤其是,优选使用硫醇化合物(例如,2-巯基苯并咪唑,2-巯基苯并噻唑,2-巯基苯并唑,3-巯基三唑或5-巯基四唑)作为在图像记录层中的链转移剂。
基于图像记录层的总固体含量,链转移剂的含量优选为1至10重量%。
(6)其它
可以对图像记录层进一步添加其它组分,例如表面活性剂、着色剂、印出剂、聚合抑制剂、高级脂肪酸衍生物、增塑剂、无机细粒或无机层状化合物。具体地,优选使用描述在例如JP-A-2008-284817的[0114]至[0159]段,JP-A-2006-91479的[0023]至[0027]段和美国专利公开2008/0311520的[0060]段中的化合物及其添加量。
(F)图像记录层的形成
根据本发明的图像记录层,是如在JP-A-2008-195018的第[0142]至[0143]段中所述,通过以下方法形成的:将上述必要构成组分中的每一个分散或溶解在溶剂中以制备涂布溶液,并且通过已知的方法例如棒涂机涂布而将该溶液涂布在载体上,并且干燥。涂布并干燥后在载体上形成的图像记录层的涂布量(固体含量)可以根据预期目的改变,但是通常优选为0.3至3.0g/m2。在上述范围内,可以获得图像记录层的良好的灵敏度和良好的膜性能。
优选的是图像记录层的未曝光区可以通过在图像曝光之后提供具有2至11的pH的显影液移除。这种图像记录层可以通过适当地调节图像记录层的相应组分的种类和量的至少一种构建。
还优选的是图像记录层的未曝光区可以在图像曝光之后通过在印刷机上印刷墨和润版水的至少一种移除。这种图像记录层可以通过适当地调节图像记录层的相应组分的种类和量的至少一种构建。
在涂布液中使用的溶剂包括,例如,2-丁酮、乙二醇单甲基醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸2-甲氧基乙酯、乙酸1-甲氧基-2-丙酯和γ-丁内酯,但是不应将本发明理解为限于此。溶剂可以单独使用或者作为混合物使用。涂布液的固体含量浓度优选为1至50重量%。
在涂布并干燥之后载体上的图像记录层的涂布量(固体含量)优选为0.3至3.0g/m2。可以使用多种方法用于涂布。方法的实例包括刮条涂布、旋涂、喷涂、幕涂、浸涂、气刀涂布、刮板涂布和辊涂。
(下涂层)
在根据本发明的平版印刷版原版中,优选在图像记录层和载体之间设置下涂层(也称为中间层)。下涂层增强在曝光区域中载体和图像记录层之间的粘合并且使得在未曝光区域中从载体移除图像记录层变得容易,从而在不伴随有印刷耐久性下降的情况下对显影性能的改善做出贡献。
在提供下涂层的情况下,使用上面描述的特定聚合物化合物(D)作为用于下涂层的化合物。在图像记录层含有特定聚合物化合物(D)的情况下,不需要提供下涂层,并且当提供下涂层时,不限制用于下涂层的聚合物化合物。
除聚合物化合物之外,下涂层可以含有已知的螯合剂、仲或叔胺、聚合抑制剂、含有氨基或具有聚合抑制能力的官能团以及能够与铝载体表面相互作用的基团的化合物等(例如1,4-二氮杂双环[2,2,2]辛烷(DABCO)、2,3,5,6-四羟基-对醌、氯醌、磺基邻苯二甲酸、羟基乙基乙二胺三乙酸、二羟基乙基乙二胺二乙酸或羟基乙基亚氨基二乙酸)。
根据已知方法涂布下涂层。下涂层的涂布量(固体含量)优选为0.1至100mg/m2,并且更优选1至30mg/m2。
(保护层)
在根据本发明的平版印刷版原版中,优选的是在图像记录层上设置保护层(外涂层)。保护层除了用于通过阻挡氧的方式限制对图像形成的抑制反应的功能之外,具有用于防止,例如,图像记录层中的划擦或由用高照度激光束曝光引起的消蚀的出现的功能。
关于具有这种性质的保护层,描述在,例如,美国专利3,458,311和JP-B-55-49729中。作为用于在保护层中使用的具有低氧渗透性的聚合物,可以适当地选择使用任何水溶性聚合物和水不溶性聚合物。如果需要,聚合物可以以其两种以上的混合物使用。具体地,例如,聚乙烯醇、改性的聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、水溶性纤维素衍生物和聚(甲基)丙烯腈是示例。
作为改性的聚乙烯醇,优选使用具有羧基或磺基的酸改性的聚乙烯醇。具体地,JP-A-2005-250216和JP-A-2006-259137中描述的改性的聚乙烯醇是优选的示例。
对于保护层还优选的是含有无机层状化合物,例如,如JP-A-2005-119273中描述的天然云母或合成云母以便增加阻氧性。
此外,保护层可以含有已知的添加剂,例如,用于赋予柔韧性的增塑剂、用于改进涂布性的表面活性剂或用于控制表面滑动性的细无机粒子。也可以将对于图像记录层描述的感脂化剂结合至保护层中。
根据已知方法涂布保护层。在干燥之后的涂布量方面,保护层的涂布量优选在0.01至10g/m2的范围内,更优选在0.02至3g/m2的范围内,最优选在0.02至1g/m2的范围内。
(载体)
作为用于根据本发明平版印刷版原版的载体,使用已知的载体。特别是,优选根据已知方法进行粗糙化处理和阳极氧化处理的铝板。
并且,如有需要,可以适当地选择并且对铝板施加在JP-A-2001-253181和JP-A-2001-322365中所述的阳极氧化膜微孔的扩大处理或封闭处理,或者例如使用如美国专利2,714,066,3,181,461,3,280,734和3,902,734中所述的碱金属硅酸盐的表面亲水化处理,或美国专利3,276,868,4,153,461和4,689,272中所述的聚乙烯基膦酸的表面亲水化处理。
载体优选具有0.10至1.2μm的中心线平均粗糙度。
如果需要,根据本发明的载体可以具有设置在其背表面上的含有JP-A-5-45885中所述的有机聚合物粘合剂或者JP-A-6-35174中所述的硅的烷氧基化合物的背涂层。
[制版方法]
将根据本发明的平版印刷版原版图像式曝光并且之后进行显影处理,以制备平版印刷版。显影处理包括(1)用碱显影液(具有高于11的pH)显影的方法,(2)用具有2至11的pH的显影液显影的方法,以及(3)通过在印刷机上提供润版水和/或墨显影的方法(机上显影)。根据本发明,(2)用具有2至11的pH的显影液显影的方法或(3)通过在印刷机上提供润版水和/或墨显影的方法(机上显影)是优选的。
<机上显影方法>
通过将图像式曝光过的平版印刷版原版安装在印刷机上而不进行任何显影处理并提供含油墨和水性组分以开始印刷,从而进行机上显影。具体地,在印刷过程的早期阶段,图像记录层的未曝光区通过用含油墨和/或水性组分溶解或分散而移除,并且随之露出载体的亲水表面以形成非图像区。另一方面,通过曝光固化的图像记录层形成具有亲油表面的含油墨接收区(图像区)。作为结果,水性组分附着至露出的亲水表面上,并且含油墨附着至图像记录层的曝光区,以使得可以进行传统的印刷。
可以在将平版印刷版原版安装在印刷机上之后在印刷机上进行图像式曝光,或者可以使用排板机(platesetter)等分开地进行图像式曝光。可以分别采用用于传统平版印刷的印刷墨和润版水作为含油墨和水性组分。
虽然可以首先将润版水或者印刷墨中的任一种提供在平版印刷版原版的表面上,但是从防止润版水被所移除的图像记录层的组分污染的角度看,优选的是首先提供印刷墨。
<用具有2至11的pH的显影液显影的方法>
根据如方法(1)的使用碱显影液的传统的显影过程,将保护层在预水洗步骤中移除,进行碱显影,在后水洗步骤中将碱通过用水洗涤移除,进行胶液处理并在干燥步骤中进行干燥。相反,在使用具有2至11的pH的显影液进行根据本发明的平版印刷版原版的显影,将保护层和图像记录层的未曝光区一起移除以使得可以将所得到的平版印刷版立即安装在印刷机上以进行印刷。通过将表面活性剂和/或油去敏化性质的水溶性聚合物结合至这种具有2至11的pH的显影液中,同时进行显影和胶液处理,以使得后水洗步骤不是特别需要的,并且在用一个溶液进行显影和胶液处理之后,可以进行干燥步骤。优选的是在显影和胶液处理之后,将过量的显影液使用挤压辊移除,之后进行干燥。具体地,可以进行由用一个溶液的显影和胶液处理以及干燥组成的相当地简化的处理工艺(胶液显影)。
根据本发明的显影在通常0至60℃,优选15至40℃的液温使用例如以下方法进行:将经图像式曝光的平版印刷版原版浸渍在显影液中并用刷摩擦的方法,或者其中通过喷雾将显影液喷洒至经图像式曝光的平版印刷版原版并且将曝光后的平版印刷版原版用刷摩擦的方法。
具有2至11的pH的显影剂优选为含有水作为主要成分的水溶液(基于显影剂的重量含有60重量%以上的水)。尤其是,含有表面活性剂(例如,阴离子、非离子、阳离子或两性表面活性剂)的水溶液或者含有水溶性聚合物的水溶液是优选的。含有表面活性剂和水溶性聚合物两者的水溶液也是优选的。显影液的pH更优选为5至10.7,再更优选6至10.5,并且最优选7.5至10.3。
对用于在显影液中使用的阴离子表面活性剂没有特别地限定,并且其包括,例如,脂肪酸盐、松香酸盐、羟烷基磺酸盐、烷基磺酸盐、二烷基磺基丁二酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基二苯基醚(二)磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺基苯醚盐、N-烷基-N-油烯基牛磺酸钠盐、N-烷基磺基丁二酸单酰胺二钠盐、石油磺酸盐、硫酸化的蓖麻油、硫酸化的牛脂油、脂肪酸烷基酯的硫酸酯盐、烷基硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚硫酸酯盐、脂肪酸单甘油酯硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸酯盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚硫酸酯盐、烷基磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸酯盐、苯乙烯-马来酸酐共聚物的部分皂化产物,烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化产物和萘磺酸酯甲醛缩合物。在这些化合物中,烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐和烷基二苯基醚(二)磺酸盐是特别优选使用的。
对用于在显影液中使用的阳离子表面活性剂没有特别地限定,并且可以使用迄今已知的阳离子表面活性剂。例如,烷基胺盐、季铵盐、烷基咪唑啉盐、聚氧乙烯烷基胺盐和聚乙烯聚胺衍生物是示例。
对于用于在显影液中使用的非离子表面活性剂没有特别地限定,并且其包括,例如,聚乙二醇型高级醇环氧乙烷加合物、烷基苯酚环氧乙烷加合物、烷基萘酚环氧乙烷加合物、苯酚环氧乙烷加合物、萘酚环氧乙烷加合物、脂肪酸环氧乙烷加合物、多羟基醇脂肪酸酯环氧乙烷加合物、高级烷基胺环氧乙烷加合物、脂肪酸酰胺环氧乙烷加合物、脂肪的环氧乙烷加合物、聚丙二醇环氧乙烷加合物、二甲基硅氧烷-环氧乙烷嵌段共聚物、二甲基硅氧烷-(环氧丙烷-环氧乙烷)嵌段共聚物、多羟基醇型甘油的脂肪酸酯、季戊四醇的脂肪酸酯、山梨糖醇和脱水山梨糖醇的脂肪酸酯、蔗糖的脂肪酸酯、多羟基醇的烷基醚以及链烷醇胺的脂肪酸酰胺。这些化合物中,具有芳环和环氧乙烷链的那些是优选的,并且烷基取代的或未取代的苯酚环氧乙烷加合物和烷基取代的或未取代的萘酚环氧乙烷加合物是更优选的。
对于用于在显影液中使用的两性表面活性剂没有特别地限定,并且其包括,例如,氧化胺型,例如,烷基二甲基氧化胺,甜菜碱型,例如,烷基甜菜碱,以及氨基酸型,例如,烷氨基脂肪酸的钠盐。尤其是,优选使用可以具有取代基的烷基二甲基氧化胺,可以具有取代基的烷基羧基甜菜碱和可以具有取代基的烷基磺基甜菜碱。该化合物的具体实例描述在,例如,JP-A-2008-203359的第[0255]至[0278]段中和JP-A-2008-276166的第[0028]至[0052]段中。更优选的化合物的具体实例包括2-烷基N-羧基甲基N-羟乙基咪唑啉甜菜碱、烷基二氨基乙基甘氨酸盐酸盐、月桂基二甲基氨基乙酸甜菜碱、N-月桂酰胺丙基二甲基甜菜碱和N-月桂酰胺丙基二甲基氧化胺。
可以组合使用两种以上的表面活性剂。显影液中表面活性剂的含量优选为0.01至20重量%,并且更优选0.1至10重量%。
用于在具有2至11的pH的显影液中使用的水溶性聚合物包括,例如,大豆多糖、改性淀粉、阿拉伯树胶、糊精、纤维素衍生物(例如、羧甲基纤维素、羧乙基纤维素或甲基纤维素)或其改性产物、支链淀粉、聚乙烯醇或其衍生物、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酰胺、丙烯酰胺共聚物、乙烯基甲醚/马来酸酐共聚物、乙酸乙烯酯/马来酸酐共聚物和苯乙烯/马来酸酐共聚物。
作为大豆多糖,可以使用已知的大豆多糖。例如,作为商业产品,SOYAFIVE(商品名,由Fuji Oil Co.,Ltd.制造)是可得的并且可以使用不同级别的产品。优选使用的大豆多糖为在其10重量%水溶液中具有10至100mpa/秒的范围内的粘度的大豆多糖。
作为改性淀粉,可以使用已知的改性淀粉。改性淀粉可以例如通过以下方法制备:将例如,玉米、土豆、木薯、大米或小麦的淀粉,例如,用酸或酶分解至每分子葡萄糖残基数为5至30的程度,并且之后在碱中将氧化丙烯加至其上。
可以组合使用两种以上的水溶性聚合物化合物。显影液中水溶性聚合物的含量优选为0.1至20重量%,并且更优选0.5至10重量%。
在用于本发明中使用的具有2至11的pH的显影液中,可以进一步结合pH缓冲剂。
作为本发明使用的pH缓冲剂,不带有特别限制地使用在2至11的pH下展现出pH缓冲剂功能的pH缓冲剂。在本发明中,优选使用弱碱性缓冲剂,并且包括,例如,(a)碳酸根离子和碳酸氢根离子,(b)硼酸根离子,(c)水溶性胺化合物以及水溶性胺化合物的离子,以及它们的组合。详细地,例如,(a)碳酸根离子与碳酸氢根离子的组合,(b)硼酸根离子,或(c)水溶性胺化合物和水溶性胺化合物的离子的组合在显影液中展现出pH缓冲剂功能,以用于防止即使当长期使用显影液时pH的波动。作为结果,例如,由pH的波动导致的显影性的下降以及显影浮渣的出现受到抑制。碳酸根离子和碳酸氢根离子的组合是特别优选的。
为了使碳酸根离子和碳酸氢离子在显影液中存在,可以将碳酸盐和碳酸氢盐加入至显影液或者可以通过将碳酸盐或碳酸氢盐加入至显影液并且之后调节pH而产生碳酸根离子和碳酸氢根离子。对所使用的碳酸盐或氢碳酸盐没有特别地限制并且它优选为其碱金属盐。碱金属的实例包括锂、钠和钾并且钠是特别优选的。可以单独使用或者以其两种以上的组合使用碱金属。
当采用(a)碳酸根离子与碳酸氢根离子的组合作为pH缓冲剂时,在显影液中碳酸根离子和碳酸氢根离子的总量优选为0.05至5摩尔/l,更优选0.1至2摩尔/l,特别优选0.2至1摩尔/l。
显影液可以含有有机溶剂。作为所要含有的有机溶剂,例如,脂族烃(例如,己烷、庚烷、Isopar E、Isopar H、Isopar G(由Esso Chemical Co.,Ltd.制备))、芳族烃(例如,甲苯或二甲苯)、卤代烃(二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烯或单氯苯)或极性溶剂是示例。极性溶剂的实例包括:醇(例如,甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、1-丁醇、1-戊醇、1-己醇、1-庚醇、1-辛醇、2-辛醇、2-乙基-1-己醇、1-壬醇、1-癸醇、苄醇、乙二醇单甲醚、2-乙氧基乙醇、二甘醇单乙醚、二甘醇单己醚、三甘醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、聚乙二醇单甲醚、聚丙二醇、四甘醇、乙二醇单丁醚、乙二醇单苄醚、乙二醇单苯醚、丙二醇单苯醚、甲基苯基甲醇、正戊醇或甲基戊醇);酮(例如,丙酮、甲基乙基酮、乙基丁基酮、甲基异丁基酮或环己酮);酯(例如,乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、乙酸苄酯、乳酸甲酯、乳酸丁酯、乙二醇单丁基乙酸酯、聚乙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸二甘醇酯、邻苯二甲酸二乙酯或乙酰丙酸丁酯)以及其他(例如,磷酸三乙酯、磷酸三甲苯酯、N-苯基乙醇胺、N-苯基二乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、4-(2-羟乙基)吗啉、N,N-二甲基乙酰胺或N-甲基吡咯烷酮)。
可以组合使用两种以上有机溶剂。
此外,当有机溶剂不溶于水中时,可以通过在水中使用表面活性剂等将其溶解化。在显影液含有有机溶剂的情况下,从安全性和易燃性的角度,有机溶剂的浓度适宜地少于40重量%。
除上述组分以外,具有2至11的pH的显影液还可以含有防腐剂,螯合剂,消泡剂,有机酸,无机酸,无机盐等。具体地,优选使用JP-A-2007-206217的段落[0266]至[0270]中描述的化合物。
可以将上述显影液用作用于经曝光的平版印刷版原版的显影液和显影补充液,并且优选应用至在下文中描述的自动处理机。在使用自动处理机进行显影处理的情况下,根据处理量处理溶液变得疲劳,并且因此可以使用补充液或新显影液恢复处理能力。
根据本发明使用具有2至11的pH的显影液的显影处理优选通过配备有用于显影液的供应装置和摩擦构件的自动处理机进行。使用旋转刷辊作为摩擦构件的自动处理机是特别优选的。此外,在显影处理装置之后,自动处理机优选设置有用于移除过量显影液的装置,例如,压辊或干燥装置,例如,热空气装置。
此外,在由根据本发明的从平版印刷版原版制备平版印刷版的制版过程中,如果需要,可以在曝光之前或在曝光过程中或者在曝光与显影之间将平版印刷版原版的整个表面加热。通过加热,图像记录层中的成像反应加速,并且获得例如,在灵敏度和印刷耐久性以及灵敏度的稳定性上提高的益处。为了增加图像强度和印刷耐久性,同样有效的是在显影之后进行完全后加热或显影之后图像的完全曝光。通常,优选在150℃以下的温和条件下进行显影之前的加热。当温度过高时,有时会出现其中未曝光区也被固化的问题。另一方面,可以使用非常强的条件进行显影之后的加热。通常,在100至500℃的温度范围内进行热处理。当温度过低时,可能不能获得足够的增强图像的效果,而当其过高时,有时会出现载体的劣化和图像区的热分解。
<图像曝光>
在上述显影处理之前,将平版印刷版原版用激光通过具有线图像、网点图像等的透明原版图像式曝光,或者,例如,通过基于数字数据的激光束的扫描的图像式曝光。
曝光光源的波长优选为350至450nm或750至1,400nm。在用350至450nm的光曝光的情况下,使用具有图像记录层的平版印刷版原版,所述图像记录层含有最大吸收在这样的波长范围内的增感染料。在用750至1,400nm的光曝光的情况下,使用含有红外吸收剂的平版印刷版原版,所述红外吸收剂是最大吸收在这样的波长范围内的增感染料。优选使用半导体激光器作为350至450nm的光源。优选使用发射红外线的固体激光器或半导体激光器作为750至1,400nm的光源。曝光机构可以是内鼓系统、外鼓系统和平层系统中的任何一种。
关于红外线激光器,输出优选为100mW以上,对每个像素的曝光时间优选在20微秒内,并且辐照能量优选为10至300mJ/cm2。
关于激光曝光,为了缩短曝光时间,优选使用多束激光装置。
在需要用显影液显影处理的平版印刷版原版的情况下,将平版印刷版原版图像式曝光并进行显影处理以制备平版印刷版,并且将所得到的平版印刷版安装在印刷机的印版滚筒上以进行印刷。
在机上显影型平版印刷版原版的情况下,将平版印刷版原版图像式曝光并且之后将其按原样安装在印刷机的印版滚筒上以开始印刷。在使用装备有激光曝光设备的印刷机的情况下,将平版印刷版原版安装在印刷机的印版滚筒上,然后进行图像式曝光。
实施例
将参考以下实施例更详细地描述本发明,但是不应将本发明理解为限于此。在实施例中,聚合物化合物的分子量可以表示为重均分子量(Mw)。根据本发明的特定聚合物化合物和比较聚合物化合物的重复单元的比例以重量百分比表示,并且其他聚合物化合物的重复单元的比例以摩尔百分数表示。
[特定聚合物化合物的合成例]
合成例1:特定聚合物化合物(1)的合成
(1)N-氨基乙基甲基丙烯酰胺的合成
向100ml的甲醇和96g的去离子水的混合物中溶解24.04g(0.4mol)的乙二胺并且向溶液加入104g(0.52mol)的5.0M盐酸,同时用冰冷却。向混合物滴加61.65g的甲基丙烯酸酐,同时保持在-10℃,并且在滴加完成之后,将混合物在-10℃搅拌2小时。之后,将400ml的乙酸乙酯加入至混合物以进行萃取并收集水层。向水层加入21g(0.52mol)的氢氧化钠,将沉淀的白色晶体通过过滤移除,并且用400ml的乙腈进行萃取处理。将乙腈溶液在40g的硫酸镁上干燥2小时并且将乙腈蒸出以获得14.4g(产率:28%)的N-氨基乙基甲基丙烯酰胺。
(2)LIGHT-ESTER P-1M的分离纯化
对通过将40.0g的LIGHT-ESTER P-1M(由Kyoeisha Chemical Co.,Ltd.生产)溶解在100g的去离子水中制备的水溶液用100g的二甘醇二丁基醚进行两次分离纯化,以获得LIGHT-ESTER P-1M的水溶液(浓度:10.5重量%)。
(3)聚合步骤
向配备有冷凝器和搅拌器的200ml烧瓶装入27.32g的去离子水并在氮流下加热至55℃。将由0.71g的上面合成的N-氨基乙基甲基丙烯酰胺、20.01g的上面提纯的LIGHT-ESTER P-1M的水溶液、6.83g的3-磺酸丙基[3-(甲基丙烯酰氧基)乙基]二甲基铵(由Sigma-Aldrich Corp.制造)、0.386g的聚合引发剂(VA046B,由Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造)和9.41g的去离子水组成的溶液在2小时的期间内滴加至200ml烧瓶中的去离子水中。在滴加完成之后,将混合物在55℃搅拌2小时,向其加入0.386g的聚合引发剂(VA046B,由Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造)并在55℃再搅拌2小时以获得特定聚合物化合物(1)的前体。
向50.0g的特定聚合物化合物(1)的前体加入1.38g的氢氧化钠以溶解,并且将溶液升温至40℃,向其加入7.23g的KARENZ MOI(由Showa DenkoK.K.制造)并在40℃搅拌6小时。之后,将所沉淀的白色晶体通过过滤移除,并且向所得到的溶液加入8.83g的AMBERLYST R15(由Sigma-Aldrich Corp.制造)。将混合物在室温搅拌2小时,并且之后将AMBERLYST R15通过过滤移除以获得特定聚合物化合物(1)。通过凝胶渗透色谱(GPC)方法使用聚乙二醇作为标准物质测量从而获得的特定聚合物化合物(1)的重均分子量(Mw),并且发现为150,000。
合成例2:特定聚合物化合物(33)的合成
(1)4-磺酸丁基[3-(甲基丙烯酰基氨基)丙基]二甲基铵的合成
在380ml的乙腈中溶解130g(0.764mol)的N-[3-(二甲基氨基)丙基]甲基丙烯酰胺、104g的丁烷磺内酯和234mg的4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶氧化物(4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxy),并且将溶液在70℃加热6小时。在使其冷却之后,向反应混合物加入1,350ml的丙酮和150ml的甲醇,并且将混合物在室温搅拌一小时。将所沉淀的晶体通过过滤收集并且用丙酮彻底洗涤以获得200.0g(产率:85%)的4-磺酸丁基[3-(甲基丙烯酰基氨基)丙基]二甲基铵。
(2)聚合步骤
向配备有冷凝器和搅拌器的200ml烧瓶装入40.85g的去离子水,并且在氮流下加热至55℃。将由1.07g的上面合成的N-氨基乙基甲基丙烯酰胺、29.92g的上面提纯的LIGHT-ESTER P-1M的水溶液、4.71g的上面合成的4-磺酸丁基[3-(甲基丙烯酰基氨基)丙基]二甲基铵、5.50g的BREMMERPME4000(由NOF Corp.制造)、0.386g的聚合引发剂(VA046B,由Wako PureChemical Industries,Ltd.制造)和14.07g的去离子水组成的溶液在2小时的期间内滴加至200ml烧瓶中的去离子水中。在滴加完成之后,将混合物在55℃搅拌2小时,向其加入0.386g的聚合引发剂(VA046B,由Wako PureChemical Industries,Ltd.制造),并且在55℃再搅拌2小时以获得特定聚合物化合物(33)的前体。
向50.0g的特定聚合物化合物(33)的前体加入1.36g的氢氧化钠,并且将溶液升温至40℃,向其加入7.25g的KARENZ MOI(由Showa Denko K.K.制造)并在40℃搅拌6小时。之后,将所沉淀的白色晶体通过过滤移除,并向所得到的溶液加入8.67g的AMBERLYST R15(由Sigma-Aldrich Corp.制造)。将混合物在室温搅拌2小时,并且之后将AMBERLYST R15通过过滤移除,以获得特定聚合物化合物(33)。通过凝胶渗透色谱(GPC)方法使用聚乙二醇作为标准物质测量从而获得的特定聚合物化合物(33)的重均分子量(Mw),并发现其为210,000。
合成例3:特定聚合物化合物(84)的合成
(1)N-(2-氨基乙基)甲基丙烯酰胺单磷酸酯的合成
向2升3颈烧瓶装入27.0g的乙二胺(由Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造)、225g的离子交换水和225g的甲醇,并将混合物冷却至5℃的内部温度。向混合物加入114.3g的苯甲酸(由Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造),并将118.08g的甲基丙烯酸酐(由Sigma-Aldrich Corp.制造)在一小时的期间内滴加至其中,同时将内部温度保持在5℃以下。在滴加完成之后,在将内部温度保持在5℃以下的同时将混合物搅拌3小时,恢复到室温并向其加入85重量%磷酸水溶液(由Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造)以将反应溶液的pH调节至3.0。
向反应溶液加入1064.1g的乙酸乙酯和327g的离子交换水以进行萃取纯化,并收集水层。将水层用一升的乙酸乙酯洗涤两次并且之后用一升的己烷洗涤一次,并且之后用13.5mg的4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶基-N-氧化物(4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl-N-oxyl)洗涤,以获得366.0g(产率:45%)的N-(2-氨基乙基)甲基丙烯酰胺单磷酸盐(12.5重量%水溶液)。
(2)聚合步骤
向配备有冷凝器和搅拌器的500ml烧瓶装入41.72g的去离子水并在氮流下加热至55℃。将由7.30g的上面合成的N-(2-氨基乙基)甲基丙烯酰胺单磷酸盐的水溶液、26.12g的上面提纯的LIGHT-ESTER P-1M的水溶液、6.38g的上面合成的4-磺酸丁基[3-(甲基丙烯酰基氨基)丙基]二甲基铵、8.21g的BREMMER PME4000(由NOF corp.制造)、0.385g的聚合引发剂(VA046B,由Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造)和14.51g的去离子水组成的溶液在2小时的期间内滴加至500ml烧瓶中的去离子水中。在滴加完成之后,将混合物在55℃搅拌2小时,向其加入0.385g的聚合引发剂(VA046B,由WakoPure Chemical Industries,Ltd.制造)并且将温度升高至80℃,之后搅拌2小时以获得特定聚合物化合物(84)的前体。
向100.0g的特定聚合物化合物(84)的前体加入11.2g的30重量%氢氧化钠水溶液和10mg的4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶基-N-氧化物并且将溶液升温至55℃,向其加入3.13g的KARENZ MOI(由Showa Denko K.K.制造)并搅拌3小时。在使其冷却至室温之后,通过加入204g的叔丁基甲基醚和48.7g的去离子水进行萃取纯化以获得特定聚合物化合物(84)。通过凝胶渗透色谱(GPC)方法使用聚乙二醇作为标准物质测量从而获得的特定聚合物化合物(84)的重均分子量(Mw)并发现为240,000。
通过1H-NMR测量(400MHz,D2O)确认在以上合成例1至3的每个中所获得的聚合物化合物的结构,并且作为结果,在δ=5.7ppm和6.2ppm附近观察到引入至聚合物的侧链中的甲基丙烯酰氧基的烯型质子的信号。
通过改变用于上面描述的合成例中的重复单元的单体组分并且如果需要进一步使用现有合成方法,合成在实施例中使用的特定聚合物化合物。
实施例1至33、74至98和124至126和比较例1至6
1.机上显影型-1的平版印刷版原版(下涂层含有特定聚合物化合物的情况)
(1)载体的制备
使用10重量%的铝酸钠水溶液在50℃对厚度为0.3mm的铝板(材料:JISA 1050)进行脱脂处理30秒,以便移除其表面上的辊轧油,然后使用3个植入有直径为0.3mm的尼龙硬毛束的尼龙刷以及中值尺寸为25μm的浮石的水性悬浮液(比重=1.1g/cm3)将铝板表面砂目化,接着用水充分洗涤。通过在45℃的25重量%氢氧化钠水溶液中浸渍9秒而蚀刻该板,用水洗涤,然后在60℃的20重量%硝酸水溶液中浸渍20秒,并且用水洗涤。砂目化表面的蚀刻量是约3g/m2。
然后使用60Hz的交流电,在该板上连续进行电化学粗糙化处理。使用的电解溶液是1重量%硝酸水溶液(含有0.5重量%铝离子)且电解溶液的温度为50℃。使用提供具有梯形波形的方波交流电的交流电源,使得对于电流值从0达到峰值所需的时间TP为0.8msec且占空比为1∶1,并且使用碳电极作为对电极进行电化学粗糙化处理。使用铁氧体作为辅助阳极。以电流峰值计的电流密度为30A/dm2,并且从电源流出的电流的5%分向辅助阳极。以铝板起阳极作用时的电量计,在该硝酸电解中的电量为175C/dm2。然后用水通过喷射洗涤该板。
之后使用温度为50℃的0.5重量%盐酸水溶液(含有0.5重量%的铝离子)作为电解溶液并且在以铝板起阳极作用时的电量计电量为50C/dm2的条件下,以与上面硝酸电解相同的方式对该板进行电化学粗糙化处理。然后使用水通过喷射洗涤该板。
然后在15A/dm2的电流密度使用15重量%硫酸水溶液(含有0.5重量%铝离子)作为电解溶液对板进行阳极氧化处理,以形成2.5g/m2的直流阳极氧化膜;用水洗涤并干燥以制备载体(1)。
其后,为了确保非图像区域的亲水性,使用2.5重量%的3号硅酸钠水溶液在60℃对载体(1)进行硅酸盐处理10秒,随后用水洗涤以获得载体(2)。Si的粘附量为10mg/m2。使用直径为2um的触针测量载体(2)的中心线平均粗糙度(Ra)并且发现为0.51um。
(2)下涂层的形成
将具有以下所示的组成的下涂层用的涂布溶液(1)涂布在上述载体(2)上,以获得20mg/m2的干涂布量以制备具有下涂层的载体。
<用于下涂层的涂布液(1)>
表1中所示的特定聚合物化合物或比较聚合物化合物 0.50g
水 500.00g
<比较聚合物化合物>
(3)图像记录层的形成
将具有以下所示组成的用于图像记录层的涂布溶液(1)通过棒涂布在如上所述形成的下涂层上,并且在烘箱中在100℃干燥60秒,以形成具有1.0g/m2的干涂布量的图像记录层。
用于图像记录层的涂布溶液(1)通过下列方法制备:在临涂布前将以下所示的感光液(1)与以下所示的微凝胶液(1)混合之后搅拌。
<感光液(1)>
<微凝胶液(1)>
以下所示的微凝胶(1) 2.640g
去离子水 2.425g
粘合剂聚合物(1)、红外吸收剂(1)、聚合引发剂(1)、化合物(1)、亲水性低分子量化合物(1)、感脂化剂(含铵基的聚合物)和氟系表面活性剂(1)的结构如下所示。
红外吸收剂(1) 聚合引发剂(1)
氟系表面活性剂(1)
亲水低分子量化合物(1)
化合物(1)
<微凝胶(1)的制备>
通过将4.46g的具有如下所示的结构的多官能异氰酸酯(由MitsuiChemicals,Inc.制造,75重量%乙酸乙酯溶液)、10g的通过三羟甲基丙烷(6mol)和二异氰酸二甲苯酯(18mol)的加成并且进一步与甲基封端的聚氧乙烯(1mol)(氧乙烯重复单元的数目:90)加成获得的加合物(由Mitsui Chemicals,Inc.制造,50重量%乙酸乙酯溶液)、3.15g的三丙烯酸季戊四醇酯(SR444,由日本化药株式会社(Nippon Kayaku Co.,Ltd.)制造)以及0.1g的PIONINA-41C(由竹本油脂株式会社(Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.)制造)溶解在17g的乙酸乙酯中,制备油相组分。作为水相组分,制备40g的PVA-205(由Kuraray Co.,Ltd.制造)的4重量%水溶液。将油相组分和水相组分混合并且使用均化器在12,000rpm下将其乳化10分钟。将所得到的乳液加入至25g的去离子水并且在室温下搅拌30分钟并且之后在50℃下搅拌3小时。使用蒸馏水将所获得的微凝胶液稀释以便具有15重量%的固体含量浓度以制备微凝胶(1)。通过光散射法测量微凝胶的平均粒度并且发现其为0.2μm。
多官能异氰酸酯
(4)保护层的形成
将具有如下所示的组成的用于保护层的涂布液(1)通过棒涂布在上述图像记录层上,并且将其在烘箱中在120℃下干燥60秒以形成具有0.15g/m2的干涂布量的保护层,从而分别制备用于实施例1至33的平版印刷版原版(1)至(33)、用于实施例74至98的平版印刷版原版(74)至(98)、用于实施例124至126的平版印刷版原版(124)至(126)以及用于比较例1至6的平版印刷版原版(R-1)至(R-6)。
<用于保护层的涂布液(1)>
<无机层状化合物的分散体(1)的制备>
向193.6g的离子交换水加入6.4g的合成云母(SOMASIF ME-100,由CO-OP Chemical Co.,Ltd.制造)并且将混合物使用均化器分散直至平均粒度(根据激光散射法)成为3μm以制备无机层状化合物的分散体(1)。从而分散的无机粒子的纵横比为100以上。
(5)评价
通过配备有红外线半导体激光器的由FUJIFILM Corp.生产的LUXELPLATESETTER T-6000III,将从而获得的平版印刷版原版的每一个在下列条件下进行曝光:1,000rpm的外鼓转速,70%的激光输出,以及2,400dpi的分辨率。曝光后的图像含有实心图像和20μm-点FM丝网的50%网点图。
在未经显影处理的情况下将曝光的平版印刷版原版安装在印刷机(LITHRONE 26,由Komori Corp.生产)的印版滚筒上。使用润版水(ECOLITY-2(由FUJIFILM Corp.生产)/自来水=2/98(体积比))和VALUES-G(N)黑墨(由Dainippon Ink&Chemicals,Inc.生产),根据LITHRONE 26的标准自动印刷启动方法施用润版水和墨以10,000张/小时的印刷速度在Tokubishi铜版纸(76.5kg)上进行印刷。
<机上显影性>
测定直至在印刷机上完成图像记录层未曝光区域的机上显影达到没有墨转印到非图像区域中的印刷纸上的状态所需的印刷纸的数量,以评价机上显影性能。
<过一段时间后的机上显影性>
使所获得的平版印刷版原版在设定在60℃的温度和60%的相对湿度的控制温度和湿度的室内静置4天,并且之后以与如上所述相同的方式进行曝光、机上显影和印刷。测量直至在印刷机上图像记录层的未曝光区的机上显影完成以达到其中在非图像区墨不转移至印刷纸的状态所需的印刷纸的数量,以评价机上显影性。
<印刷耐久性>
在进行上述机上显影性能评价后,继续印刷。随着印刷纸数的增加,图像记录层逐渐磨耗而导致印刷纸上墨密度的降低。测定其中通过使用Gretag密度计测量印刷纸上FM丝网的50%网点的网点面积比获得的值比在第100张印刷纸上测量的值降低5%的印刷纸的数量,以评价印刷耐久性。
<耐污性>
在如上所述进行10,000张的印刷之后,停止印刷并且将平版印刷版在印刷机上静置一小时。之后,重新开始印刷并且测定附着在非图像区上的墨的密度以评价耐污性。以在十个分数的标度视觉进行评价。随着分数增加,耐污性变好。因为墨在非图像区上的附着并非必然均匀出现,因此使用视觉观察的分数进行耐污性的评价。
基于以下指导确定视觉观察的分数:在其中出现非图像区上墨的附着的面积比为0%的情况下分数为10,在比例为1至10%的情况下分数为9,在比例为11至20%的情况下分数为8,在比例为21至30%的情况下分数为7,在比例为31至40%的情况下分数为6,在比例为41至50%的情况下分数为5,在比例为51至60%的情况下分数为4,在比例为61至70%的情况下分数为3,在比例为71至80%的情况下分数为2,在比例为81至90%的情况下分数为1并且在比例为91至100%的情况下分数为0。
<过一段时间后的耐污性>
使所获得的平版印刷版原版在设定在60℃的温度和60%的相对湿度的控制温度和湿度的室内静置4天,并且之后以与如上所述相同的方式进行曝光、机上显影和印刷。在进行10,000张的印刷之后,停止印刷并且将平版印刷版在印刷机上静置一小时。之后,重新开始印刷并且测定附着在非图像区上的墨的密度以评价耐污性。以在十个分数的标度视觉进行评价。视觉观察的标准与上面描述的耐污性中描述的那些相同。随着分数增加,耐污性变好。所获得的结果在表1中给出。
实施例34至66、99至123和127至129和比较例7至11
2.机上显影型-2的平版印刷版原版(图像记录层含有特定聚合物化合物的情况)
(1)图像记录层的形成
将具有以下所示的组成的用于图像记录层的涂布液(2)通过棒涂布在如上所述形成的载体(2)上,并且在烘箱中在100℃干燥60秒以形成具有1.0g/m2的干涂布量的图像记录层。
通过下列方法制备用于图像记录层的涂布液(2):将以下所示的感光液(2)与以下所示的微凝胶液(1)在刚好涂布之前混合,之后搅拌。
<感光液(2)>
<微凝胶液(1)>
上面给出的微凝胶(1) 2.640g
去离子水 2.425g
(2)保护层的形成
将保护层以与实施例1中相同的方式形成在上面描述的图像记录层上,从而分别制备用于实施例34至66的平版印刷版原版(34)至(66),用于实施例99至123的平版印刷版原版(99)至(123),用于实施例127至129的平版印刷版原版(127)至(129)和用于比较例7至11的平版印刷版原版(R-7)至(R-11)。
(3)评价
以与实施例1至33、74至98和124至126中相同的方式评价机上显影性、经过一段时间之后的机上显影性、印刷耐久性、耐污性和经过一段时间之后的耐污性。所获得的评价结果在表2中给出。
实施例67至73和比较例12
3.简单处理型平版印刷版原版
(1)平版印刷版原版的制备
将具有以下所示的组成的用于下涂层的涂布液(2)涂布在如上所述形成的载体(1)上,并且在100℃干燥一分钟以制备下涂层。用于下涂层的溶液的涂布量为10mg/m2。
<用于下涂层的涂布液(2)>
表4中所示的特定聚合物化合物或比较聚合物化合物 0.50g
水 500.00g
将具有以下所示的组成的用于图像记录层的涂布液(3)涂布在下涂层上以使得具有1.4g/m2的干涂布量,并且在100℃干燥一分钟以形成图像记录层。
<用于图像记录层的涂布液(3)>
[颜料:15重量%;分散剂(甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸(摩尔比:80/20)共聚物)(Mw:60,000):10重量%;溶剂(环己酮/乙酸甲氧基丙酯/1-甲氧基-2-丙醇=15重量%/20重量%/40重量%)]
氟系非离子表面活性剂(MEGAFAC F780F,由0.016重量份Dainippon Ink&Chemicals Inc.制造)
2-丁酮 47重量份
丙二醇单甲醚 45重量份
(上面给出的同分异构体的混合物)
将具有以下所示的组成的用于保护层的涂布液(2)使用棒涂布在图像记录层上以使得具有0.50g/m2的干涂布量,并在125℃干燥70秒以形成保护层,从而分别制备实施例67至73的平版印刷版原版(67)至(73)和比较例12的平版印刷版原版(R-12)。
<用于保护层的涂布液(2)>
以下所示的云母分散液 0.6g
磺酸改性的聚乙烯醇[GOSERAN CKS-50,由Nippon 0.8g
Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.制造(皂化度:99摩尔%;平均聚合度:300;改性度:约0.4摩尔%)]
表面活性剂(EMALEX 710,由Nihon Emulsion Co.,Ltd. 0.002g制造)
水 13.g
(云母分散液的制备)
在368g的水中加入32g的合成云母(SOMASIF ME-100,由CO-OPChemical Co.,Ltd.制造;纵横比:1,000以上),并将混合物使用均化器分散直至平均粒径(通过激光散射方法测量)成为0.5μm,以获得云母分散液。
(2)曝光、显影和印刷
通过由FUJIFILM Electronic Imaging Ltd.(FFEI)制造的紫色半导体激光制版器(platesetter)Vx9600(具有InGaN半导体激光器(发射波长:405nm±10nm/输出:30mW))对每个平版印刷版原版进行图像曝光。以2,438dpi的分辨率使用FM屏(TAFFETA 20,由富士胶片株式会社(FUJIFILM Corp.)制造)以0.05mJ/cm2的版表面曝光量进行图像绘制,以使得具有50%的网点面积比。
对曝光的平版印刷版原版在100℃进行预加热30秒,并且之后在具有如图1中所示的结构的自动显影处理机中使用具有以下所示的组成的显影液进行显影处理。
自动显影处理机包括用于显影平版印刷版原版(在下文中,也称为“PS版”)4的显影单元6和用于干燥经显影的PS版4的干燥单元10。插入槽形成在自动显影处理机的侧板中(在图1中的左侧)并且通过插入槽插入的PS版4由设置在自动显影处理机的侧板内侧的输入辊16传送至显影单元6中。在显影单元6的显影槽20中,以在输送方向上从上游侧的顺序设置输送辊22、刷辊24和挤压辊26并且将垫辊28设置在其间的合适位置。将PS版4浸渍在显影液中,同时通过输送辊22输送,并且PS版4的保护层和图像记录层的未曝光区通过刷辊24的旋转移除以进行显影处理。将进行了显影处理的PS版4通过挤压辊(输出辊)26传送至干燥单元10中。
在干燥单元10中,将导向辊36和串型辊对38以在输送方向上从上游侧的顺序设置。在干燥单元10中,干燥工具,例如,还设置热空气提供工具或热生成工具(未显示)。将排出口设置在干燥单元10中并且将由干燥工具干燥的PS版4通过排出口排出,从而完成PS版通过自动显影处理机的处理。在实施例中使用的自动显影处理机配备有具有50mm的外径并且植有聚对苯二甲酸丁二醇酯纤维(刷毛直径:200μm,刷毛长度:17mm)的一个刷辊,并且所述刷辊以200rpm(刷毛尖端处圆周速度:0.52m/秒)在与平版印刷版原版的输送方向相同的方向旋转。显影液的温度为30℃。以100cm/分钟的输送速度进行平版印刷版原版的传送。在显影处理之后,将平版印刷版在干燥单元中干燥。干燥的温度为80℃。
将所获得的平版印刷版安装在印刷机(SOR-M,由Heidelberg制造)上,并且使用润版水(EU-3(刻蚀液,由FUJIFILM Corp.制造))/水/异丙醇=1/89/10(以体积比计))和TRANS-G(N)黑色墨(由Dainippon Ink&Chemicals,Inc.制造)以每小时6,000张的印刷速度进行印刷。
(显影液)
在实施例和比较例中使用的显影液1的组成如下所示。在显影液中,NEWCOL B13是聚氧乙烯β-萘基醚(氧乙烯基的平均数:n=13,由NipponNyukazai Co.,Ltd.制造),并且所使用的阿拉伯树胶具有200,000的重均分子量(Mw)。
表3:显影液1(pH:9.8)
(3)评价
按以下方式评价印刷耐久性、耐污性、过一段时间后的耐污性和显影性。所获得的结果在表4中给出。
<印刷耐久性>
随着印刷张数增加,图像记录层逐渐磨损以导致墨接受性上的下降,从而导致印刷纸上墨密度的降低。对于通过以相同的曝光量曝光的平版印刷版,确定直至墨密度(反射密度)从印刷开始的墨密度降低0.1时所获得的印刷材料的数目以评价印刷耐久性。印刷耐久性的评价表示为如下面使用比较例12作为标准(1.0)定义的相对印刷耐久性。随着相对印刷耐久性的值增加,印刷耐久性变高。
相对印刷耐久性=(对象平版印刷版原版的印刷耐久性)/(标准平版印刷版原版的印刷耐久性)
<耐污性>
选出从印刷开始第20张的所印刷的材料并且测量附着在非图像区上的墨的密度以评价耐污性。以在十个分数的标度视觉进行评价。随着分数增加,耐污性变好。因为墨在非图像区上的附着并非必然均匀出现,因此使用视觉观察的分数进行耐污性的评价。
基于以下指导确定视觉观察的分数:在其中出现非图像区上墨的附着的面积比为0%的情况下分数为10,在比例为1至10%的情况下分数为9,在比例为11至20%的情况下分数为8,在比例为21至30%的情况下分数为7,在比例为31至40%的情况下分数为6,在比例为41至50%的情况下分数为5,在比例为51至60%的情况下分数为4,在比例为61至70%的情况下分数为3,在比例为71至80%的情况下分数为2,在比例为81至90%的情况下分数为1并且在比例为91至100%的情况下分数为0。
<过一段时间后的耐污性>
使所获得的平版印刷版原版在设定在60℃的温度和60%的相对湿度的控制温度和湿度的室内静置4天,并且之后以与如上所述相同的方式进行曝光、机上显影和印刷。选取从印刷开始后第20张的印刷材料并测量附着在非图像区上的墨密度以评价耐污性。以在十个分数的标度视觉进行评价。视觉观察的标准与上面描述的耐污性中描述的那些相同。随着分数增加,经过一段时间之后的耐污性变好。
<显影性>
对于通过在改变输送速度的同时进行显影获得的平版印刷版,通过Macbeth密度计测量非图像区的青色密度。确定非图像区的青色密度变得等于铝载体的青色密度时的输送速度并且将其认为是显影性。显影性的评价表示为如下使用比较例12作为标准(1.0)定义的相对显影性。随着相对显影性的值增加,显影性更好并且性能是更优选的。
相对显影性=(对象平版印刷版原版的输送速度)/(标准平版印刷版原版的输送速度)
<过一段时间后的显影性>
使所获得的平版印刷版原版在设定在60℃的温度和60%的相对湿度的控制温度和湿度的室内静置4天,并且之后以与如上所述相同的方式进行曝光和显影,并且通过Macbeth密度计测量非图像区的青色密度。确定非图像区的青色密度变得等于铝载体的青色密度时的输送速度并且将其认为是显影性。显影性的评价表示为如下使用比较例12作为标准(1.0)定义的相对显影性。随着相对显影性的值增加,过一段时间后的显影性更好,并且性能是更优选的。
相对显影性=(对象平版印刷版原版的输送速度)/(标准平版印刷版原版的输送速度)
工业实用性
根据本发明,可以提供一种能够进行所谓的直接制版的平版印刷版原版,其中所述制版使用各种激光器基于例如来自计算机的数字信号直接进行并且表现出高的生产率,可以在印刷机上显影,或用pH为11以下的水溶液显影,防止了在过去一段时间以后的显影性质劣化,并且可以提供表现出高印刷耐久性和良好耐污性(包括在过去一段时间以后的耐污性)的平版印刷版。
本申请基于在2010年3月31日提交的日本专利申请2010-125336、在2011年2月22日提交的日本专利申请2011-036385以及在2011年4月27日提交的日本专利申请2011-099721,所述专利申请的全部内容通过引用结合在此,就像详细阐述的一样。
Claims (11)
1.一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括:
载体;和
图像记录层,所述图像记录层包含(A)聚合引发剂、(B)增感染料和(C)可聚合化合物,
其中所述图像记录层或任选地设置在所述载体与所述图像记录层之间的下涂层包含(D)聚合物化合物,所述聚合物化合物包含(a1)带有具有由下式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元和(a2)带有具有下式(a2-1)、(a2-2)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)中的至少一种结构的侧链的重复单元:
其中R11表示氢原子、烷基、芳基、杂环基、磺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基或氨基甲酰基,R12、R13和R14各自独立地表示氢原子、烷基或芳基,L1表示连接基团,Y1表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置;
其中M21和M22各自独立地表示氢原子、属于碱金属或碱土金属的金属原子或铵,R21至R23各自独立地表示氢原子或烷基,Y2表示单键或选自由以下各 项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
2.如权利要求1中所述的平版印刷版原版,其中所述重复单元(a2)带有具有由式(a2-1)或式(a2-2)表示的结构的侧链。
3.如权利要求1或2中所述的平版印刷版原版,其中所述聚合物化合物(D)还包含(a3)带有具有由下式(a3-1)或(a3-2)表示的结构的侧链的重复单元:
其中,在式(a3-1)中,R31和R32各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基,或者R31和R32可以彼此结合以形成环结构,L31表示连接基团,A-表示具有阴离子的结构,Y3表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置;在式(a3-2)中,L32表示连接基团,E+表示具有阳离子的结构,Y3表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
4.如权利要求3所述的平版印刷版原版,其中在重复单元(a3)中的具有两性离子结构的侧链具有由式(a3-1)表示的结构,并且在式(a3-1)中,A-表示磺酸根。
5.如权利要求1或2中所述的平版印刷版原版,其中所述聚合物化合物(D)还带有具有由下式(a4-1)表示的聚亚氧烷基结构的侧链:
其中R41表示氢原子或烷基,R42表示氢原子、烷基或芳基,a表示1至5的整数,l表示2至150的整数,Y4表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组 合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
6.如权利要求1或2中所述的平版印刷版原版,其中在所述下涂层中含有所述聚合物化合物(D)。
7.一种制备平版印刷版的方法,所述方法包括:
将如权利要求1或2中所述的平版印刷版原版图像式曝光;和
通过在印刷机上提供印刷墨和润版水而移除所述图像记录层的未曝光区。
8.一种制备平版印刷版的方法,所述方法包括:
将如权利要求1或2中所述的平版印刷版原版图像式曝光;和
通过自动显影处理机在具有2至11的pH的显影液的存在下移除所述图像记录层的未曝光区。
9.一种聚合物化合物,所述聚合物化合物至少包含以下(a1)至(a3):
(a1)带有具有由以下所示的式(a1-1)表示的结构的侧链的重复单元:
其中R11表示氢原子、烷基、芳基、杂环基、磺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基或氨基甲酰基,R12、R13和R14各自独立地表示氢原子、烷基或芳基,L1表示连接基团,Y1表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置;
(a2)带有具有由下式(a2-1)和(a2-2)中的至少一个表示的结构的侧链的重复单元:
其中,M21和M22各自独立地表示氢原子、属于碱金属或碱土金属的金属原子或铵,Y2表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置;
(a3)带有具有由下式(a3-1)表示的两性离子结构的侧链的重复单元:
其中R31和R32各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基,或者R31和R32可以彼此结合以形成环结构,L31表示连接基团,A-表示磺酸根,Y3表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
10.如权利要求9中所述的聚合物化合物,所述聚合物化合物还包含以下(a4):
(a4)带有具有由下式(a4-1)表示的聚亚氧烷基结构的侧链的重复单元:
其中R41表示氢原子或烷基,R42表示氢原子、烷基或芳基,a表示1至5的整数,l表示2至150的整数,Y4表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
11.如权利要求9或10中所述的聚合物化合物,所述聚合物化合物至少包含由下式(A1)至(A3)表示的重复单元:
其中,在式(A1)中,R101至R103各自独立地表示氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子,并且T表示由下式(a1-1)表示的结构:
其中,在式(a1-1)中,R11表示氢原子、烷基、芳基、杂环基、磺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基或氨基甲酰基,R12、R13和R14各自独立地表示氢原子、烷基或芳基,L1表示连接基团,Y1表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置;
在式(A2)中,R201至R203各自独立地表示氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子,并且Q表示由下式(a2-1)和(a2-2)中的至少一个表示的结构:
其中M21和M22各自独立地表示氢原子、属于碱金属或碱土金属的金属原子或铵,Y2表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置;
在式(A3)中,R301至R303各自独立地表示氢原子、具有1至6个碳原子的烷基或卤素原子,并且G表示由下式(a3-1)表示的结构:
其中R31和R32各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂环基,或者R31和R32可以彼此结合以形成环结构,L31表示连接基团,A-表示磺酸根,Y3表示单键或选自由以下各项组成的组的二价连接基团:-CO-、-O-、-HN-、二价脂族基、二价芳族基和这些基团的组合,并且*表示连接至所述聚合物化合物的主链的位置。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010-125336 | 2010-05-31 | ||
JP2010125336 | 2010-05-31 | ||
JP2011-036385 | 2011-02-22 | ||
JP2011036385 | 2011-02-22 | ||
JP2011099721A JP5690645B2 (ja) | 2010-05-31 | 2011-04-27 | 平版印刷版原版、その製版方法、及び、新規高分子化合物。 |
JP2011-099721 | 2011-04-27 | ||
PCT/JP2011/062854 WO2011152539A1 (en) | 2010-05-31 | 2011-05-30 | Lithographic printing plate precursor, plate making method thereof and novel polymer compound |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102917885A CN102917885A (zh) | 2013-02-06 |
CN102917885B true CN102917885B (zh) | 2015-02-18 |
Family
ID=45066894
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201180026674.3A Active CN102917885B (zh) | 2010-05-31 | 2011-05-30 | 平版印刷版原版、其制版方法和新聚合物化合物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8637221B2 (zh) |
EP (1) | EP2576231B1 (zh) |
JP (1) | JP5690645B2 (zh) |
CN (1) | CN102917885B (zh) |
BR (1) | BR112012030651B1 (zh) |
WO (1) | WO2011152539A1 (zh) |
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EP2711774B1 (en) | 2011-05-20 | 2017-03-29 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Photosensitive resin composition |
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JP2009047754A (ja) * | 2007-08-14 | 2009-03-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
JP5183268B2 (ja) * | 2008-03-27 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP5376289B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-12-25 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法 |
-
2011
- 2011-04-27 JP JP2011099721A patent/JP5690645B2/ja active Active
- 2011-05-30 BR BR112012030651-0A patent/BR112012030651B1/pt active IP Right Grant
- 2011-05-30 CN CN201180026674.3A patent/CN102917885B/zh active Active
- 2011-05-30 WO PCT/JP2011/062854 patent/WO2011152539A1/en active Application Filing
- 2011-05-30 EP EP11789940.1A patent/EP2576231B1/en active Active
-
2012
- 2012-11-29 US US13/688,379 patent/US8637221B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2576231A1 (en) | 2013-04-10 |
EP2576231A4 (en) | 2015-09-30 |
JP5690645B2 (ja) | 2015-03-25 |
EP2576231B1 (en) | 2018-05-02 |
US20130089818A1 (en) | 2013-04-11 |
BR112012030651A2 (pt) | 2017-06-27 |
WO2011152539A1 (en) | 2011-12-08 |
CN102917885A (zh) | 2013-02-06 |
BR112012030651B1 (pt) | 2020-05-26 |
JP2012187907A (ja) | 2012-10-04 |
US8637221B2 (en) | 2014-01-28 |
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C06 | Publication | ||
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