CN102905884A - 具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法及聚合物构件 - Google Patents

Abstract

本发明的目的在于，提供容易控制表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法、和通过该制造方法得到的聚合物构件。本发明的具有表面凹凸结构的聚合物构件（10）的制造方法的特征在于，其具有如下的工序A和工序B，工序A：层叠各层，使得在能够吸收聚合性单体（2）的单体吸收层（5）与具有凹凸表面（1a）的凹凸转印材料层（1）的凹凸表面（1a）之间配置有含有聚合性单体（2）的聚合性组合物层（4），工序B：聚合聚合性单体（2）；聚合性组合物层（4）含有对聚合性单体（2）和聚合聚合性单体而得到的聚合物不相容的不相容性物质（3）；进行工序B之前，使聚合性组合物层（4）中的聚合性单体（2）的一部分吸收到单体吸收层（5）中。

Description

具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法及聚合物构件

技术领域

本发明涉及具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法、以及聚合物构件。

背景技术

在构件表面上不均匀分布有与该构件的主成分不同的物质的聚合物构件作为附加光学功能、电功能等新功能的构件备受期待。然而，在作为聚合物构件的基材的片、薄膜等的表面上不容易形成例如具有微粒的层、或阻燃层。例如，关于基材表面上微粒层（包含微粒的层）的形成，可以在将聚合物成分作为粘结剂溶解于有机溶剂而成的溶液中使微粒分散后，将该分散液涂覆在基材上，再通过热干燥使有机溶剂挥发，从而得到微粒层。由此，能够在基材表面上形成基于微粒的凹凸。但是，在基材溶解于有机溶剂等时、或在基材的耐热性低而容易在热干燥中熔融、变形时，难以实施该方法；另外，在基材表面像粘合剂层那样富有粘合性时，难以在基材表面上涂覆分散有前述微粒的分散液。进而，使用前述分散液时，必须干燥有机溶剂，另外，即使使用水分散液来代替前述分散液也必须干燥水；前述微粒层的形成方法从环境、节能的观点来看也是不优选的。另外，前述微粒层的形成中使用的分散液中的聚合物成分为与基材不同的材料时，若密合性不充分，则有微粒层从与基材的界面上剥离的担心。

另外，基材表面上的微粒层的形成也可以如下进行：在脱模处理过的薄膜上形成微粒层，再将其转印到基材片上；基材与微粒层的亲和性、相容性低时，基材与微粒层的粘接性缺乏，容易产生层间剥脱等问题。进而，基材与微粒层两者几乎没有粘接性时，难以将两者粘贴在一起，因此需要先在其中一者或两者上涂布粘接剂等再粘贴在一起。

另一方面，作为在住宅、旅馆、公共设施等而广范围中使用的内饰用的壁纸，一般为如下壁纸：在将氯乙烯树脂涂覆在原纸上并干燥而得到的阻燃片上印刷发泡糊剂层从而形成后，加热使发泡糊剂层发泡而成的壁纸（参照专利文献1等）。根据该壁纸的制造方法，通过在上述发泡糊剂层的印刷中使用丝网印刷法或凹版印刷法，能够厚积发泡糊剂，能够表现有厚重感的凹凸图案。但是，上述阻燃片中使用的氯乙烯树脂等卤素系树脂存在焚烧时会产生有害性气体的问题、或者会产生二噁英的问题，导致使用开始受到限制。因此，在对壁纸赋予阻燃性的基础上进一步赋予凹凸图案开始变得困难。

本发明人等现已发现，将含有对聚合性单体和使聚合性单体聚合而得到的聚合物不相容的不相容性物质的聚合性组合物层设置在能够吸收前述聚合性单体的单体吸收层的至少一面上，在聚合性组合物层内使不相容性物质移动，从而得到不相容性物质不均匀分布的聚合性组合物层，然后，通过聚合前述聚合性单体，能够得到具有不相容性物质不均匀分布聚合物层与单体吸收层的层叠结构的聚合物构件。另外，发现通过使用颗粒作为不相容性物质，能够在与不相容性物质不均匀分布聚合物层的单体吸收层相反一侧的面（外表面）上形成基于颗粒的凹凸（专利文献2）。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-132577号公报

专利文献2：日本特开2008-6817号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，前述方法中，虽然能够将不相容性物质不均匀分布聚合物层的表面制成凹凸结构，但难以控制凸部或凹部的形状、大小等凹凸结构。

因此，本发明提供容易控制表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法，以及通过该制造方法所得到的聚合物构件，所述制造方法是在构件表面上不均匀分布与该构件的主成分不同的物质、且具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明涉及聚合物构件的制造方法，其特征在于，

其为具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法；

其具有如下的工序A和工序B，工序A：层叠各层，使得在能够吸收聚合性单体的单体吸收层与具有凹凸表面的凹凸转印材料层的前述凹凸表面之间配置有前述含有聚合性单体的聚合性组合物层；工序B：聚合所述聚合性单体；

前述聚合性组合物层还含有对前述聚合性单体和聚合前述聚合性单体而得到的聚合物不相容的不相容性物质；

进行所述工序B之前，使前述聚合性组合物层中的前述聚合性单体的一部分吸收到前述单体吸收层中。

根据本发明的聚合物构件的制造方法，不仅可以在构件表面上不均匀分布属于与该构件的主成分（母材成分）不同的物质的不相容性物质，而且能够使该不相容性物质向凹凸转印材料层侧移动，因而，在不相容性物质不均匀分布的构件表面上，凹凸结构的控制变得容易。由此，例如，能够容易地形成用于画面的防眩光（antiglare）而形成有规则的（均匀）或不规则（不均匀）的凹凸的光学薄膜、或赋予了阻燃性和凹凸图案的壁纸等。

前述工序A优选为如下工序：在前述凹凸转印材料层的前述凹凸表面上涂覆含有前述聚合性单体和前述不相容性物质的聚合性组合物而形成前述聚合性组合物层后，在前述聚合性组合物层上层叠前述单体吸收层的工序。这是因为能够对聚合性组合物层正确地进行凹凸转印材料层的凹凸形状的转印。

前述工序B优选为如下工序：使前述聚合性组合物层中的聚合性单体、和前述单体吸收层中的聚合性单体这两者聚合的工序。这是因为能够提高固化后的聚合性组合物层与单体吸收层的密合性。

优选前述凹凸转印材料层的前述凹凸表面的轮廓算数平均偏差Ra为0.007μm以上，并且轮廓最大高度Rz为0.036μm以上。

另外，本发明的聚合物构件是通过上述本发明的制造方法而得到的聚合物构件。根据本发明的聚合物构件，基于与上述同样的理由，在不相容性物质不均匀分布的构件表面上，凹凸结构的控制变得容易。

附图说明

图1的A~D为表示本发明的聚合物构件的制造方法的一个例子的各工序剖视图。

图2为实施例1的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面和凹凸表面的扫描电子显微镜照片。

图3为实施例2的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面和凹凸表面的扫描电子显微镜照片。

图4为实施例3的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面的扫描电子显微镜照片。

图5为比较例1的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面的扫描电子显微镜照片。

具体实施方式

以下参照附图对本发明的实施方式进行说明。所参照的图1的A~D为表示本发明的聚合物构件的制造方法的一个例子的各工序剖视图。

首先，如图1的A所示，在具有凹凸表面1a的凹凸转印材料层1上形成含有聚合性单体2和不相容性物质3的聚合性组合物层4。对聚合性组合物层4的形成方法没有特别限定，可以例示出如下方法：制备含有聚合性单体2和不相容性物质3的聚合性组合物（涂覆液），使用常用的涂布机将其涂覆在凹凸转印材料层1上的方法。相对于100重量份的聚合性单体2，前述涂覆液中的不相容性物质3的含量例如为0.1~200重量份左右。作为常用的涂布机，可以例示出逗点辊涂机、模辊涂机、凹版辊涂机、逆转辊涂机、辊舐式涂布机、浸渍辊涂机、棒涂机、刮刀涂布机、喷涂机等。聚合性组合物层4的厚度例如为1~1000μm左右。

接着，在聚合性组合物层4上形成能够吸收聚合性单体2的单体吸收层5（图1的B）。对单体吸收层5的形成方法没有特别限定，可以例示出如下方法：预先制作包含能够吸收聚合性单体2的材料的单体吸收性片，再将该片粘贴在聚合性组合物层4上的方法。单体吸收层5的厚度例如为1~1000μm左右。

需要说明的是，本实施方式中，在凹凸转印材料层1上依次层叠聚合性组合物层4和单体吸收层5，但本发明不限定于此，也可以在单体吸收性片上依次层叠聚合性组合物层和凹凸转印材料层。或者，也可以预先形成由聚合性组合物形成的片，再将该片用单体吸收性片和凹凸转印材料层（模具等）夹持。但是，从正确进行凹凸转印材料层的凹凸形状的转印的观点来看，优选像上述实施方式那样在凹凸转印材料层1上依次层叠聚合性组合物层4和单体吸收层5。

然后，使聚合性组合物层4中的聚合性单体2的一部分吸收到单体吸收层5中，并如图1的C所示，使不相容性物质3向凹凸转印材料层1侧移动，使不相容性物质3偏布在聚合性组合物层4与凹凸转印材料层1的界面或该界面附近（以下，该工序也称为“不均匀分布化工序”）。

上述不均匀分布化工序中，不相容性物质3的不均匀分布化现象推测是由单体吸收层5的膨润引起的。即，可以认为，单体吸收层5吸收聚合性单体2而膨润；另一方面，由于不相容性物质3难以被单体吸收层5吸收，因而不相容性物质3以残余在聚合性组合物层4中的形式不均匀分布。

其中，在聚合性组合物层4上层叠单体吸收层5后，仅在常温（例如25℃左右）下放置也会出现不相容性物质3的不均匀分布化现象。即，上述的不均匀分布化工序为在常温下放置1~180分钟左右、优选在常温下放置30~60分钟的工序即可。为了使不相容性物质3高密度地不均匀分布，优选在聚合性组合物层4上层叠单体吸收层5，然后将该层叠体在超过25℃且200℃以下的温度下加热1秒~120分钟。

接着，如图1的D所示，使聚合性组合物层4中的聚合性单体2聚合而形成聚合物20，剥去凹凸转印材料层1，得到具有不均匀分布有不相容性物质3的不均匀分布层40、并具有凹凸表面40a的聚合物构件10。将聚合性单体2聚合时，优选也使单体吸收层5（图1的C）中的聚合性单体2聚合而形成基底层50。这是因为能够提高聚合工序后的单体吸收层5（即基底层50）与不均匀分布层40之间的密合性。为了使聚合性组合物层4中的聚合性单体2和单体吸收层5中的聚合性单体2这两者聚合，例如在光聚合的情况下，可以通过透光性材料形成聚合性组合物层4和单体吸收层5这两者。

在本发明中，从所得到的聚合物构件10的机械强度的观点来看，将聚合性单体2聚合后的聚合性组合物层4（即不均匀分布层40）优选含有1重量%以上将聚合性单体2聚合而得到的聚合物20，更优选含有5重量%以上。另外，从容易进行不相容性物质3的不均匀分布化的观点来看，优选以30重量%以下的范围含有聚合物20，更优选以20重量%以下的范围含有。为了将不均匀分布层40中的聚合物20控制在上述范围内，可以调整在聚合性组合物层4上层叠单体吸收层5后的放置时间、控制单体吸收层5的单体吸收量。

通过光聚合进行聚合性单体2的聚合时，只要聚合性单体2通过光照射聚合、固化，得到不均匀分布层40，就对光源、照射能量、照射方法、照射时间等没有特别制限。作为光聚合中使用的活性能量线，例如可列举出α线、β线、γ线、中子线、电子线等电离性辐射线、或紫外线等，从制造成本的观点来看，尤其优选紫外线。作为活性能量线的光源，例如可列举出黑光灯、化学灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。

凹凸转印材料层1的凹凸表面1a可以具有剥离性，也可以不具有剥离性。即，本发明中，在聚合性单体2的聚合工序之后可以剥离凹凸转印材料层1，也可以不剥离。关于剥离性的赋予，方法可例示出：在凹凸转印材料层1上涂布有机硅系脱模剂等脱模处理剂（剥离处理剂）而形成脱模处理层（剥离处理层）的方法、或通过氟系聚合物等低粘接性材料形成凹凸转印材料层1的方法。

对于凹凸转印材料层1的形成材料，在聚合性单体2的聚合工序中，使用光聚合法时，为了避免因空气中的氧气造成反应受到抑制，优选使用难以透过氧气的材料。另外，使用光聚合法的情况下，从凹凸转印材料层1侧进行光照射时，优选使用透光性的材料。

作为凹凸转印材料层1的形成材料的具体例子，可列举出由氟系聚合物（例如，聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯、四氟乙烯·六氟丙烯共聚物、氯氟乙烯·偏二氟乙烯共聚物等）形成的低粘接性材料、由非极性聚合物（例如，聚乙烯、聚丙烯等烯烃系树脂等）形成的低粘接性材料、以及聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯、聚氯乙烯、聚酰亚胺、聚酰胺、人造丝等塑料系材料（合成树脂）、纸类（优质纸、日本纸、牛皮纸、玻璃纸、合成纸、面漆纸（topcoat paper）等）、或将由这些材料形成的片层压而成的材料、将这些材料通过共挤出等多层化的材料（例如2~3层的层叠体）等。另外，也可以使用不锈钢等金属。其中，从透光性的观点来看，优选塑料系材料（尤其是聚对苯二甲酸乙二醇酯）。

关于凹凸转印材料层1的形状，只要具有凹凸表面1a就没有特别限定，可以使用薄膜状、片状、板状等各种形状的凹凸转印材料层。凹凸表面1a为例如，梨皮面、砂纹、绢纹、棋盘格（check）、钻石、木纹、平纹、冰雹、发纹、卷波、龟甲、圆点、蔓藤花纹、波浪、石纹等凹凸表面即可。凹凸表面1a的形成方法可列举对由上述列举的材料形成的基材表面实施压花加工等方法。另外，使用金属作为凹凸转印材料层1的材料时，也可以在金属基材表面上通过光刻法等形成抗蚀图案，通过刻蚀在该表面上形成凹凸。根据该方法，能够形成具有均匀的凹凸结构的凹凸表面1a。另外，将所得到的聚合物构件用于壁纸时，也可以使用用于形成壁纸图案的铸模（模具）作为凹凸转印材料层1。此外，凹凸表面1a不仅可以在凹凸转印材料层1的一个面上形成，也可以在两个面上形成。

本发明中，凹凸转印材料层是用于对聚合物构件赋予期望的凹凸形状的层，不包括表面平滑的层。因此，不包括具有如JIS B 0601：2001所规定的轮廓算数平均偏差Ra不足0.007μm、且JIS B 0601：2001所规定的轮廓最大高度Rz不足0.036μm的表面形状的薄膜（例如、三菱化学聚酯薄膜公司制造的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，商品名“MRN38”）等那样的表面平滑的层。从上述观点来看，优选凹凸转印材料层1的凹凸表面1a的上述轮廓算数平均偏差Ra为0.007μm以上，并且上述轮廓最大高度Rz为0.036μm以上。其中，上述轮廓算数平均偏差Ra和上述轮廓最大高度Rz都没有优选的上限，通常，上述轮廓算数平均偏差Ra为500μm以下，上述轮廓最大高度Rz为1000μm以下。

聚合性组合物层4含有能够通过光聚合、热聚合的聚合性单体2、和不相容性物质3。另外，聚合性组合物层4可以包含光聚合引发剂等聚合引发剂。

聚合性单体2为能够无需考虑自由基聚合、阳离子聚合等反应机理而利用光能、热能聚合的化合物。关于这种聚合性单体2，例如可列举出：形成丙烯酸系聚合物的丙烯酸系单体等自由基聚合性单体；形成环氧系树脂的环氧系单体、形成氧杂环丁烷系树脂的氧杂环丁烷系单体、形成乙烯醚系树脂的乙烯醚系单体等阳离子聚合性单体；形成聚氨酯系树脂的多异氰酸酯和多元醇的混合物；形成聚酯系树脂的多元羧酸与多元醇的混合物等。其中，聚合性单体2可以单独使用或组合使用两种以上。其中，从聚合速度快、生产率有优势的观点来看，优选使用丙烯酸系单体。

另外，前述丙烯酸系聚合物、环氧系树脂、氧杂环丁烷系树脂、乙烯醚系树脂、聚氨酯系树脂、聚酯系树脂可以分别是丙烯酸系压敏性粘接剂（粘合剂）的基础聚合物、环氧系压敏性粘接剂的基础聚合物、氧杂环丁烷系压敏性粘接剂的基础聚合物、乙烯醚系压敏性粘接剂的基础聚合物、聚氨酯系压敏性粘接剂的基础聚合物、聚酯系压敏性粘接剂的基础聚合物。即，聚合性组合物层4可以是粘合剂组合物层。因此，本发明中，通过固化聚合性组合物层4而形成的不均匀分布层40（参照图1的D）可以是不均匀分布有不相容性物质3的粘合剂层。

其中，上述“粘合剂组合物”是指“包含粘合剂成分的组合物”。例如，有时将包含聚合性单体2、颗粒（不相容性物质3）和光聚合引发剂的聚合性组合物层4称为“粘合剂组合物层”。因此，使用属于适宜材料的丙烯酸系单体作为聚合性单体2时，聚合性组合物层4也可以是含颗粒光聚合性丙烯酸系粘合剂组合物层。

作为丙烯酸系单体，可以适宜地使用具有烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯。其中，优选烷基的碳数为2~14的（甲基）丙烯酸烷基酯，更优选烷基的碳数为2~10的（甲基）丙烯酸烷基酯。需要说明的是，上述的“（甲基）丙烯酸”表示“丙烯酸”和/或“甲基丙烯酸”，其他也同样。

作为具有烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯，具有直链或支链状的烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯、具有环状的烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯均可适宜地使用。

作为具有直链或支链状的烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯，例如可列举出（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸异丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸异丁酯、（甲基）丙烯酸仲丁酯、（甲基）丙烯酸叔丁酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲基）丙烯酸异戊酯、（甲基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸庚酯、（甲基）丙烯酸辛酯、（甲基）丙烯酸2-乙基己酯、（甲基）丙烯酸异辛酯、（甲基）丙烯酸壬酯、（甲基）丙烯酸异壬酯、（甲基）丙烯酸癸酯、（甲基）丙烯酸异癸酯、（甲基）丙烯酸十一烷基酯、（甲基）丙烯酸十二烷基酯、（甲基）丙烯酸十三烷基酯、（甲基）丙烯酸十四烷基酯、（甲基）丙烯酸十五烷基酯、（甲基）丙烯酸十六烷基酯、（甲基）丙烯酸十七烷基酯、（甲基）丙烯酸十八烷基酯、（甲基）丙烯酸十九烷基酯、（甲基）丙烯酸二十烷基酯等烷基的碳数为1~20的（甲基）丙烯酸烷基酯。

作为具有环状的烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯，例如可列举出（甲基）丙烯酸环戊酯、（甲基）丙烯酸环己酯、（甲基）丙烯酸异冰片酯等。

丙烯酸系单体可以单独使用或组合使用两种以上。需要说明的是，上述丙烯酸系单体是用作丙烯酸系聚合物的主要单体成分（单体主成分）的单体。关于丙烯酸系单体的单体比率（单体成分中的含量），例如相对于形成丙烯酸系聚合物的单体成分总量，优选为60重量%以上，更优选为80重量%以上。即，相对于聚合性单体2的总量，优选包含60重量%以上的丙烯酸系单体，更优选包含80重量%以上。

另外，作为聚合性单体2，可以使用含极性基团单体、多官能性单体等各种共聚性单体。例如，聚合性组合物层4为含不相容性物质丙烯酸系聚合性组合物层（含不相容性物质丙烯酸系粘合剂组合物层）时，通过使用共聚性单体作为聚合性单体2的一个成分，例如能够提高含不相容性物质丙烯酸系粘合剂组合物层对被粘物的粘接力，或能够提高聚合物层的内聚力。上述共聚性单体可以单独使用或组合使用两种以上。

作为上述含极性基团单体，例如可列举出（甲基）丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸、异巴豆酸等含羧基单体或其酸酐（马来酸酐等）；（甲基）丙烯酸羟乙酯、（甲基）丙烯酸羟丙酯、（甲基）丙烯酸羟丁酯等（甲基）丙烯酸羟烷基酯、乙烯醇、烯丙醇等含羟基单体；（甲基）丙烯酰胺、N,N-二甲基（甲基）丙烯酰胺、N-羟甲基（甲基）丙烯酰胺、N-甲氧基甲基（甲基）丙烯酰胺、N-丁氧基甲基（甲基）丙烯酰胺等含酰胺基单体；（甲基）丙烯酸氨基乙酯、（甲基）丙烯酸二甲基氨基乙酯、（甲基）丙烯酸叔丁基氨基乙酯等含氨基单体；（甲基）丙烯酸缩水甘油酯、（甲基）丙烯酸甲基缩水甘油酯等含缩水甘油基单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基单体；N-乙烯基-2-吡咯烷酮、（甲基）丙烯酰基吗啉、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基吡啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基噁唑等含杂环乙烯系单体；（甲基）丙烯酸甲氧基乙酯、（甲基）丙烯酸乙氧基乙酯等（甲基）丙烯酸烷氧基烷基酯系单体；乙烯基磺酸钠等含磺酸基单体；2-羟乙基丙烯酰磷酸酯等含磷酸基单体；环己基马来酰亚胺、异丙基马来酰亚胺等含酰亚胺基单体；2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等含异氰酸酯基单体等。上述之中，适宜的是含羧基单体或其酸酐，尤其适宜的是丙烯酸。

作为上述多官能性单体，例如可列举出二（甲基）丙烯酸己二醇酯、二（甲基）丙烯酸丁二醇酯、（聚）乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、（聚）丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二（甲基）丙烯酸新戊二醇酯、二（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、三（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、六（甲基）丙烯酸二季戊四醇酯、三（甲基）丙烯酸三羟甲基丙酯、三（甲基）丙烯酸四羟甲基甲酯、（甲基）丙烯酸烯丙酯、（甲基）丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、N,N-亚甲基双丙烯酰胺等。

如上所述，聚合性组合物层4可以包含聚合引发剂。通过使用聚合引发剂，在不均匀分布化工序后将聚合性单体2聚合时，能够维持不相容性物质3不均匀分布的状态并容易地使聚合性组合物层4固化。本发明中，作为聚合性单体2的聚合方法，利用使用光聚合引发剂（光引发剂）的基于活性能量线的固化反应时，能够更容易地维持不相容性物质3的不均匀分布状态，因而是优选的。

作为光聚合引发剂，没有特别限制，例如可以使用苯偶姻醚系光聚合引发剂、苯乙酮系光聚合引发剂、α-酮醇系光聚合引发剂、芳香族磺酰氯系光聚合引发剂、光活性肟系光聚合引发剂、苯偶姻系光聚合引发剂、苯偶酰苄系光聚合引发剂、二苯甲酮系光聚合引发剂、缩酮系光聚合引发剂、酰基氧化膦系光聚合引发剂、噻吨酮系光聚合引发剂等。光聚合引发剂可以单独使用或组合使用两种以上。

具体而言，作为苯偶姻醚系光聚合引发剂，例如可列举出苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻丙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚等。作为苯乙酮系光聚合引发剂，例如可列举出1-羟基环己基苯基酮[例如，商品名：“IRGACURE184”（CibaSpecialty Chemicals Inc.制造）等]、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-叔丁基二氯苯乙酮等。作为α-酮醇系光聚合引发剂，例如可列举出2-甲基-2-羟基苯丙酮、1-[4-（2-羟基乙基）苯基]-2-甲基丙烷-1-酮等。作为芳香族磺酰氯系光聚合引发剂，例如可列举出2-萘磺酰氯等。作为光活性系肟光聚合引发剂，例如可列举1-苯基-1,1-丙二酮-2-（O-乙氧基羰基）-肟等。作为苯偶姻系光聚合引发剂，例如可列举出苯偶姻等。作为苯偶酰系光聚合引发剂，例如可列举出苯偶酰等。作为二苯甲酮系光聚合引发剂，例如可列举出二苯甲酮、苯甲酰基苯甲酸、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、聚乙烯基二苯甲酮、α-羟基环己基苯基酮等。作为缩酮系光聚合引发剂，例如可列举出2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮[例如，商品名“IRGACURE651”（Ciba Specialty Chemicals Inc.制造）等]等。作为酰基氧化膦系光聚合引发剂，例如可列举出商品名“Lucirin TPO”（BASF公司制造）等。作为噻吨酮系光聚合引发剂，例如可列举出噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、十二烷基噻吨酮等。

作为光聚合引发剂的用量，没有特别限制，例如，相对于100重量份的聚合性单体2为0.01~5重量份（优选为0.05~3重量份）的范围。

作为不相容性物质3，只要是对聚合性单体2和使聚合性单体2聚合而得到的聚合物20不相容的物质，就没有特别限定，可以是无机物也可以是有机物，在不均匀分布化工序中，为了容易地进行不相容性物质3的不均匀分布化，优选为不溶解于单体吸收层5的物质。另外，不相容性物质3可以是颗粒（微粒、微粒粉末等）等固体，可以具有流动性。

其中，物质是否对聚合性单体和使聚合性单体聚合而得到的聚合物为不相容性物质的判断可以如下进行：通过目视、光学显微镜、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、X线衍射等，通过上述物质的聚集体以何种程度的大小分散于聚合性单体中、或分散于将聚合性单体聚合而得到的聚合物中，从而判断。例如，也可以将上述物质溶解在聚合性单体中，将聚合性单体聚合而在聚合物化后的状态下进行判断；也可以将聚合性单体聚合而得到的聚合物溶解于溶剂后，向其中添加上述物质，搅拌后，在除去溶剂的状态下进行判断；将聚合性单体聚合而得到的聚合物为热塑性聚合物时，可以加热熔解该聚合物，向其中配混上述物质，冷却后进行判断。其判断基准为：上述物质或其聚集体可以近似于球或立方体、不定形状等的球体状时，可以判断具有5nm以上的直径（最大直径）的物质是不相容性物质。另外，可以近似于棒状或薄层状、长方体状等柱体状时，可以判断最长的边的长度为10nm以上的物质是不相容性物质。

使用无机物作为不相容性物质3时，例如可以使用二氧化硅、碳酸钙、粘土、氧化钛、滑石、层状硅酸盐、层状粘土矿物等粘土矿物、金属（例如镍、铝、铁、镁、铜等）、钛酸钡，氮化硼，氮化硅、氮化铝，玻璃，玻璃珠、玻璃空心球，氧化铝空心球，陶瓷空心球，钛白，炭黑等无机物。

作为上述层状粘土矿物，例如可列举出蒙脱石，贝得石，锂蒙脱石，皂石，绿脱石、硅镁石（stevensite）等蒙皂石；云母；蛭石；膨润土；水硅钠石（kanemite）、水钠硅石（kenyaite）、马水硅钠石（makatite）等层状硅酸钠等。这种层状粘土矿物可以是以天然矿物的形式产出的层状粘土矿物，也可以是通过化学合成法而制造的层状粘土矿物。另外，上述层状粘土矿物可以作为阻燃性赋予剂来使用。这种情况下，所得到的聚合物构件例如可以用作对表面赋予阻燃性的壁纸。

另外，使用有机物作为不相容性物质3时，例如可以使用丙烯酸系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚醚、芴衍生物化合物、有机硅、天然橡胶、合成橡胶[尤其是含有苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯橡胶（SIS）、苯乙烯-异丁烯-苯乙烯橡胶（SIBS）、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯橡胶（SBS）、苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯橡胶（SEBS）等苯乙烯成分的合成橡胶]等聚合物类或其低聚物类；松香系增粘树脂、萜烯系增粘树脂、酚醛系增粘树脂、烃系增粘树脂、酮系增粘树脂、聚酰胺系增粘树脂、环氧系增粘树脂、弹性体系增粘树脂等增粘剂类（增粘树脂类）等有机物。

另外，作为不相容性物质3，也可以使用表面活性剂、抗氧化剂、有机颜料、增塑剂、或溶剂（有机溶剂）、水、水溶液（盐水溶液、酸水溶液等）等液体。

使用颗粒作为不相容性物质3时，例如可以使用由上述列举的无机物形成的无机颗粒；聚酯珠、尼龙珠、有机硅珠、聚氨酯珠、偏二氯乙烯珠、丙烯酸空心球等有机颗粒；交联丙烯酸颗粒、交联苯乙烯颗粒、三聚氰胺树脂颗粒、苯并胍胺树脂颗粒、聚酰胺树脂颗粒等树脂颗粒；无机-有机复合物颗粒等。其中，颗粒为实心体、空心体（空心球）均可。另外，颗粒可以单独使用或组合使用两种以上。

单体吸收层5具有能够吸收用作聚合性单体2的单体的至少一种的单体吸收面。当然，单体吸收层5的整体可以由能够吸收上述单体的至少一种的材料来形成。例如可以将使用能够吸收上述单体的至少一种的材料形成的单体吸收性片作为单体吸收层5使用。

作为单体吸收性片，例如可列举出：仅由能够吸收上述单体的至少一种材料构成的无基材单体吸收性片、或基材上设有由能够吸收上述单体的至少一种的材料形成的层（单体吸收材料层）的带基材单体吸收性片。其中，单体吸收性片为无基材单体吸收性片时，可以使用任一面作为单体吸收面。另一方面，带基材单体吸收性片的情况下，单体吸收材料层的表面成为单体吸收面。

作为无基材单体吸收性片、单体吸收材料层的形成材料，例如可列举出纸制片（牛皮纸、皱纹纸、日本纸等）；纤维系片（布、无纺布、网等）；多孔薄膜；聚合物（丙烯酸系聚合物、聚氨酯树脂、乙烯-醋酸乙烯基共聚物、环氧树脂等）；天然橡胶；合成橡胶等。其中，上述形成材料可以单独使用或组合使用两种以上。

另外，单体吸收层5只要能够吸收用作聚合性单体2的单体的至少一种，其弹性模量就没有特别限制。所以，作为单体吸收层5，可以使用粘合剂层、聚合物层等弹性模量低的层、或塑料片、硬涂层、着色涂膜层等弹性模量高的层。

本发明中，从与聚合性单体2的亲和性高、吸收速度快的观点来看，可以适宜地使用聚合物作为形成单体吸收层5的材料。即，单体吸收层5可以适宜地使用由聚合物形成的单体吸收材料层，另外，作为单体吸收性片，可以适宜地使用含有聚合物的片。

作为可以用于单体吸收层5的聚合物，没有特别限制，例如使用含不相容性物质丙烯酸系聚合性组合物层作为聚合性组合物层4时，优选丙烯酸系聚合物作为形成单体吸收层5的聚合物。

另外，单体吸收层5可以由如下聚合物形成：使从形成聚合性组合物层4的聚合性组合物中仅除去不相容性物质3的组合物聚合而得到的聚合物。

使用塑料系带基材单体吸收性片时，对于所使用的塑料系基材，也可以通过拉伸处理等控制伸长率等变形性。另外，关于带基材单体吸收性片的基材，在单体吸收材料层通过活性能量线固化时，优选使用不阻碍活性能量线的透射的基材。另外，带基材单体吸收性片的基材的表面由于与单体吸收材料层的密合性高，因此，可以实施常用的表面处理，例如，基于电晕处理、铬酸处理、臭氧暴露、火焰暴露、高压电击暴露、离子化辐射线处理等化学或物理方法的氧化处理等，也可以实施基于底涂剂、剥离剂等的涂覆处理等。

本发明中所得到的聚合物构件10由于容易控制表面的凹凸形状，因此可以作为使入射光散射来防止眩光的防眩薄膜、或抑制反射的反射抑制薄膜等用于显示器的表面等。或者，也可以用于赋予了阻燃性和凹凸图案的室内用壁纸等。

实施例

以下，对本发明的实施例与比较例一并进行说明。但本发明不受下述的实施例的限定性解释。需要说明的是，实施例和比较例的物性等由如下所示的方法来评价。

＜表面粗糙度的测定方法＞

对于凹凸转印材料和聚合物片的凹凸表面，根据JIS B0601：2001，通过高亮度非接触三维表面形状粗糙度计（VeecoInstruments Inc.制造，WykoNT9100）测定轮廓算数平均偏差Ra和轮廓最大高度Rz。测定在倍率5.7倍下进行。

＜截面观察的方法＞

使用扫描电子显微镜（Hitachi High-Tech FieldingCorporation.制造，S-3400N型）进行聚合物片的截面观察。

＜HAZE的测定方法＞

以聚合物片的凹凸表面作为测定面（光入射面），通过HAZEMETER（村上色彩技术研究所制造，HM-150）测定HAZE值和总透光率。

（覆盖薄膜）

覆盖薄膜使用一面通过有机硅系脱模剂进行过脱模处理的、厚度38μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜（商品名“MRN38”，三菱化学聚酯薄膜公司制造）。

（纸隔离膜A）

将表面经过有机硅系剥离剂处理和压花处理（轮廓算数平均偏差Ra：3.9μm、轮廓最大高度Rz：23.0μm）的纸隔离膜用作纸隔离膜A。

（纸隔离膜B）

将表面经过有机硅系剥离剂处理和压花处理（轮廓算数平均偏差Ra：12.6μm、轮廓最大高度Rz：75.0μm）的纸隔离膜用作纸隔离膜B。

（模具）

模具使用日本特开2004-226431号公报中记载的冲压金属（凹部直径：100μm、凹部间距：250μm、凹部深度：10μm、轮廓算数平均偏差Ra：1.34μm、轮廓最大高度Rz：4.35μm）。

（带基材单体吸收性片A的制作）

在具备搅拌机、温度计、氮气导入管和冷却管的四口可拆式烧瓶中使作为单体成分的丙烯酸环己酯：100重量份、光聚合引发剂（商品名“IRGACURE651”，Ciba Sp ecialty Chemicals Inc.制造）：0.1重量份、和光聚合引发剂（商品名“IRGACURE 184”、Ciba Specialty Chemicals Inc.制造）：0.1重量份搅拌至均匀后，通过氮气进行1小时的鼓泡来除去溶解氧。然后，通过黑光灯从烧瓶外侧照射紫外线来进行聚合，达到合适的粘度时关灯，停止吹入氮气，得到部分聚合了的部分聚合组合物（聚合率7%）。将向所得到的部分聚合组合物：100重量份中均匀地混合二丙烯酸1,6-己二醇酯：0.1重量份而成的光聚合性浆液组合物涂布在厚度38μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一个面上，使固化后的厚度为100μm，形成光聚合性浆液组合物层。然后，在该层上以脱模处理过的面相接的方式粘贴上述覆盖薄膜，使用黑光从覆盖薄膜侧照射紫外线（照度：5mW/cm²）3分钟，使该层固化而形成单体吸收材料层，从而制作通过上述覆盖薄膜保护单体吸收材料层表面的带基材单体吸收性片A。其中，上述部分聚合组合物的聚合率由残余单体的除去前后的该组合物的重量变化来求出。残余单体的除去通过将该组合物在130℃的烘箱中干燥2小时来进行。

（含不相容性物质聚合性组合物A的制备）

将层状粘土矿物（商品名“SPN”，Co-op Chemical Co.,Ltd.制造）：30重量份、丙烯酸环己酯（CHA）：100重量份、光聚合引发剂（商品名“IRGACURE651”，Ciba Specialty ChemicalsInc.制造）：1重量份、光聚合引发剂（商品名”IRGACURE 184”，Ciba Specialty Chemicals Inc.制造）：1重量份、和二丙烯酸1,6-己二醇酯：0.1重量份均匀混合，得到含不相容性物质聚合性组合物A。

（含不相容性物质聚合性组合物B的制备）

将作为高折射率材料的芴衍生物（商品名“OGSOLEA-0200”，Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.制造）：100重量份、丙烯酸2-乙基己酯：25重量份、光聚合引发剂（商品名“IRGACURE651”，Ciba Specialty Chemicals Inc.制造）：1重量份、光聚合引发剂（商品名”IRGACURE 184”，Ciba SpecialtyChemicals Inc.制造）：1重量份、和二丙烯酸1,6-己二醇酯：0.1重量份混合均匀，得到含不相容性物质聚合性组合物B。

（实施例1）

用涂布机将含不相容性物质聚合性组合物A涂覆在纸隔离膜A上，形成50μm的厚度的含不相容性物质聚合性组合物层后，在该含不相容性物质聚合性组合物层上粘附剥去覆盖薄膜的带基材单体吸收性片A的单体吸收材料层侧。在25℃下放置5分钟（不均匀分布化工序）后，用黑光从带基材单体吸收性片A侧照射紫外线（照度：5mW/cm²）10分钟，剥去纸隔离膜A，得到表面具有凹凸结构的聚合物片。将实施例1的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面和凹凸表面的扫描电子显微镜照片示于图2。

（实施例2）

用涂布机将含不相容性物质聚合性组合物A涂覆在纸隔离膜B上，形成50μm的厚度的含不相容性物质聚合性组合物层后，在该含不相容性物质聚合性组合物层上粘附剥去覆盖薄膜的带基材单体吸收性片A的单体吸收材料层侧。在25℃下放置5分钟（不均匀分布化工序）后，用黑光从带基材单体吸收性片A侧照射紫外线（照度：5mW/cm²）10分钟，剥去纸隔离膜B，得到表面具有凹凸结构的聚合物片。将实施例2的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面和凹凸表面的扫描电子显微镜照片示于3。

（实施例3）

用涂布机将含不相容性物质聚合性组合物B涂覆在上述模具上，形成50μm的厚度的含不相容性物质聚合性组合物层后，在该含不相容性物质聚合性组合物层上粘附剥去覆盖薄膜的带基材单体吸收性片A的单体吸收材料层侧。在25℃下放置5分钟（不均匀分布化工序）后，用黑光从带基材单体吸收性片A侧照射紫外线（照度：5mW/cm²）10分钟，剥去模具，得到表面具有凹凸结构的聚合物片。将实施例3的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面的扫描电子显微镜照片示于4。

（比较例1）

用涂布机将含不相容性物质聚合性组合物A涂覆在三菱化学聚酯薄膜公司制造的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜（商品名“MRN38”，轮廓算数平均偏差Ra：0.006μm、轮廓最大高度Rz：0.035μm）上，形成50μm的厚度的含不相容性物质聚合性组合物层后，在该含不相容性物质聚合性组合物层上粘附剥去覆盖薄膜的带基材单体吸收性片A的单体吸收材料层侧。在25℃下放置5分钟（不均匀分布化工序）后，用黑光从带基材单体吸收性片A侧照射紫外线（照度：5mW/cm²）10分钟，剥去上述聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，得到比较例1的聚合物片。比较例1的聚合物片中的不均匀分布层的表层截面的扫描电子显微镜照片如图5所示。

对上述实施例和比较例的聚合物片进行上述的评价，结果示于表1。

[表1]

附图标记说明

1     凹凸转印材料层

1a    凹凸表面

2     聚合性单体

3     不相容性物质

4     聚合性组合物层

5     单体吸收层

10    聚合物构件

20    聚合物

40    不均匀分布层

40a   凹凸表面

50    基底层

Claims (5)

1.一种聚合物构件的制造方法，其特征在于，其为具有表面凹凸结构的聚合物构件的制造方法；

其具有如下的工序A和工序B，

工序A：层叠各层，使得在能够吸收聚合性单体的单体吸收层与具有凹凸表面的凹凸转印材料层的所述凹凸表面之间配置有含有所述聚合性单体的聚合性组合物层，

工序B：聚合所述聚合性单体；

所述聚合性组合物层还含有对所述聚合性单体和聚合所述聚合性单体而得到的聚合物不相容的不相容性物质；

进行所述工序B之前，使所述聚合性组合物层中的所述聚合性单体的一部分吸收到所述单体吸收层中。

2.根据权利要求1所述的聚合物构件的制造方法，其中，所述工序A为如下工序：在所述凹凸转印材料层的所述凹凸表面上涂覆含有所述聚合性单体和所述不相容性物质的聚合性组合物而形成所述聚合性组合物层后，在所述聚合性组合物层上层叠所述单体吸收层的工序。

3.根据权利要求1或2所述的聚合物构件的制造方法，其中，所述工序B为使所述聚合性组合物层中的聚合性单体、和所述单体吸收层中的聚合性单体这两者聚合的工序。

4.根据权利要求1~3中的任一项所述的聚合物构件的制造方法，其中，所述凹凸转印材料层的所述凹凸表面的轮廓算数平均偏差Ra为0.007μm以上，并且轮廓最大高度Rz为0.036μm以上。

5.一种聚合物构件，其是通过权利要求1~4中的任一项所述的制造方法得到的。

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