CN102858784A - 新的氟化化合物、包含该氟化化合物的组合物以及使用该组合物制备膜的方法 - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 73
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 52
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 46
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 15
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 27
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 22
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 claims description 19
- -1 Irgacure 819 Chemical compound 0.000 claims description 15
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 10
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 4
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloropropane Chemical compound CC(Cl)CCl KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FIOCEWASVZHBTK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-oxo-2-phenylacetyl)oxyethoxy]ethyl 2-oxo-2-phenylacetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FIOCEWASVZHBTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 3,6-dihydro-1,2-dioxine Chemical compound C1OOCC=C1 JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 3-octanone Chemical compound CCCCCC(=O)CC RHLVCLIPMVJYKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical class OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N [2-pyridin-3-yl-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound FC(C1=CC(=CC(=N1)C=1C=NC=CC=1)CN)(F)F ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAHIZENKTPRYSN-UHFFFAOYSA-N [2-[3-(phenoxymethyl)phenoxy]-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound O(C1=CC=CC=C1)CC=1C=C(OC2=NC(=CC(=C2)CN)C(F)(F)F)C=CC=1 SAHIZENKTPRYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 244000145845 chattering Species 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- NPSSWQJHYLDCNV-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;hydrochloride Chemical compound Cl.OC(=O)C=C NPSSWQJHYLDCNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
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Abstract
本发明涉及一种新的氟化化合物、包含该氟化化合物的组合物以及使用该组合物制备膜的方法，更具体而言，涉及一种具有在硅烷核心中取代有一个或多个氟和基于丙烯酸酯的官能团的结构的新化合物、一种包含该化合物和光引发剂的组合物以及一种使用该组合物制备膜的方法。如果使用包含根据本发明的化合物的组合物，则可以制得折射率低、反射率降低和透射率增加的膜。
Description
技术领域
本发明涉及一种新的氟化化合物、一种包含该氟化化合物的组合物以及使用该组合物制备膜的方法。本申请要求于2010年2月4日在KIPO申请的韩国专利申请号10-2010-0010653的优先权，该专利申请的公开内容以引用的方式全部纳入本说明书中。
背景技术
根据显示器和信息通信技术(例如目前普及的因特网和电子商务)的发展，需要具有大容量的光学通信、光学信息处理和高分辨率的显示器。具体而言，在显示器二极管中，防止由于外部光源的反射而发生的反射现象的AR(防反射)层的制备是重要技术之一，该AR层利用两层的折射率差来消散和干扰从界面反射的光线，且该AR层通常由低折射材料和高折射材料的多层结构或折射率分布不对称的梯度单层结构形成。由于当低折射层的折射率降低时防反射更有效，所以控制低折射层的折射率的技术非常重要。
作为低折射光学材料，因为基于氟的单体和由其制得的基于氟的聚合物在可见光和IR区域的波长下具有低折射率和低吸收损失，所以它们作为用于控制折射率的材料已经引起了极大关注。
例如，美国专利号4,985,473、6,306,563和6,323,361公开了包含具有环氧基或不饱和基团的全氟化丙烯酸酯衍生物的组合物和使用该组合物制备的光学二极管。由该组合物可以制备具有低损失和低各向异性的薄膜，但由于制得的薄膜具有低极性，所以对基板的附着性较低，与为了控制折射率和改善性能而加入的染料的相容性低，因此透射率低且在改善其功能方面存在困难。
另外，难以制备具有多价官能团的单体。作为与基板相互作用的官能团，已知在分子中包含具有高极性的碳酸酯(-O-C(＝O)-O-)或氨基甲酸酯(-NH-C(＝O)-O-)官能团的化合物(韩国专利特许公开号2003-0097532)，但由于该化合物具有1.4或大于1.4的相对高的单体折射率，所以难以使用这些化合物作为低折射薄膜。
发明内容
技术问题
已经做出本发明以提供具有低折射率且可以进行光聚合的化合物。
另外，已经做出本发明以提供包含上述化合物的组合物和使用该组合物的低折射膜。
技术方案
本发明的一个示例性实施方案提供了一种由下面式1表示的化合物和制备该化合物的方法。
[式1]
{[(A-R1O)aSi(OR4)4-a-b]b-(X(1-b)-R2)}cSi(OR3-B)4-c
其中，R1和R3可以彼此相同或不同，且各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R2是碳原子数为1～20的亚烷基，或者是取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R4可以彼此相同或不同，且各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链烷基，取代的氟的数目为1～36；
A和B可以彼此相同或不同，且各自独立地为基于丙烯酸酯或基于甲基丙烯酸酯的官能团；
X是F或H；
a是1～3的整数，b是0或1，c是1～3的整数。
本发明的另一个示例性实施方案提供了一种组合物，基于组合物的总重量，该组合物包含i)0.1～99.9重量份的选自由式1表示的化合物中的一种或多种化合物，和ii)0.01～30重量份的光引发剂。本发明的组合物可以还包含iii)0.1～99重量份的选自粘合剂、含有不饱和基团的共聚单体和溶剂中的一种或多种。
本发明的又一个示例性实施方案提供了由上述组合物制得的膜和制备该膜的方法。
有益效果
根据本发明的示例性实施方案，如果使用包含根据本发明示例性实施方案的化合物的组合物，由于折射率低，透射率、反射率、对基板的附着性和与染料的相容性优异，对通常使用的有机溶剂的耐化学性优异，因此可以提供具有优异可靠性的成形体和光学二极管。
附图说明
图1是图示说明了根据本发明实施例39制备的组合物的光聚合动态。
具体实施方式
在下文中，将详细描述本发明。
本发明涉及一种由下面式1表示的化合物，其中，在硅烷核心中取代有一个或多个氟和基于丙烯酸酯的官能团。
[式1]
{[(A-R1O)aSi(OR4)4-a-b]b-(X(1-b)-R2)}cSi(OR3-B)4-c
其中，R1和R3可以彼此相同或不同，且各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R2是碳原子数目为1～20的亚烷基，或着是取代有氟且碳原子数目为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R4可以彼此相同或不同，且各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链烷基，取代的氟的数目为1～36；
A和B可以彼此相同或不同，且各自独立地为基于丙烯酸酯或基于甲基丙烯酸酯的官能团；
X是F或H；
a是1～3的整数，b是0或1，c是1～3的整数。
式1的化合物可以由下面式1-a或式1-b来表示。
[式1-a]
{[(A-R1O)aSi(OR4)3-a]-(R2)}cSi(OR3-B)4-c
[式1-b]
(X-R2)}cSi(OR3-B)4-c
其中，R1～R4、A、B、X、a和c与式1中的定义相同。
如下将示出对应于式1的化合物的详细实施例，但不限于此。
在所述化合物中，通过包含基于丙烯酸酯的官能团，光聚合是可行的，通过增加氟的含量降低了折射率。另外，通过使用可以与基板相互作用的硅烷核心材料，可以改善在光固化后的附着能力，可以增加氟化烷基链的反应性，并且可以改善对界面的附着性能。
此外，所述化合物具有热聚合性能。
下面将描述制备由式1表示的化合物的方法，但不限于此。
即，由式1表示的化合物通过使用下面式2的化合物、以及下面式3的化合物或者一种或多种芳族醇化合物来制备，并且可以在不使用溶剂的情况下或使用选自MC(二氯甲烷，CH2Cl2)、DMF(二甲基甲酰胺)、THF(四氢呋喃)、DMSO(二甲亚砜)、EA(乙酸乙酯)、IPA(异丙醇)和EC(碳酸亚乙酯)中的一种或多种溶剂，在-20～110℃，且优选-10～70℃的温度下搅拌10分钟至48小时或更长时间来制备。
[式2]
{[(Y)aSi(OR4)4-a-b]b-(X(1-b)-R2)}cSi(Z)4-c
其中，X是F或H；
Y和Z各自独立地为卤素原子，
R2是碳原子数为1～20的亚烷基，或者是取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R4可以彼此相同或不同，且各自独立地为其中取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链烷基，取代的氟的数目为1～36；
a是1～3的整数，b是0或1，c是1～3的整数。
[式3]
R5-C
其中，R5是取代有羟基和氟且碳原子数为1～20的直链或支链烷基，取代的氟的数目为1～36；
C是基于丙烯酸酯或基于甲基丙烯酸酯的官能团。
下面将示出对应于式2和式3的化合物的详细实例，但不限于此。
化合物2-1～2-11可以购自Sigma Aldrich，Co.，Ltd.、Gelest Inc.和Merck，Co.，Ltd。
作为化合物3-1的起始原料的取代有氟的二醇购自Exfluor Chem.，Co.，Ltd，化合物3-4的分支氟化二醇链根据US 5,204,441来合成。另外，使丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯取代的合成方法参照论文[Chem.Mater，2005，17(5)962]来进行。
使用上述方法制得的根据本发明示例性实施方案的式1的化合物具有1.39或小于1.39的非常低的折射率。另外，如果将加入该化合物和光引发剂的组合物暴露于热或光(UV、可见光和IR)，则制得低折射透明薄膜。
更优选根据本发明的示例性实施方案的化合物(如式1-b所示)包含至少两个硅烷基，如果使用包含式1-b的化合物的组合物，则折射率低，由于折射率低，透射率、反射率、对基板的附着性和与染料的相容性优异，且对通常使用的有机溶剂的耐化学性优异，因此可以提供具有优异可靠性的成形体和光学二极管。
另外，下文将描述包含根据本发明的示例性实施方案的式1的化合物的组合物。
根据本发明的示例性实施方案的组合物，基于该组合物的总重量，可以包含i)0.1～99.9重量份的选自由式1表示的化合物中的一种或多种化合物，和ii)0.01～30重量份的光引发剂，且该组合物可以还包含iii)0.1～99重量份的选自粘合剂、含有不饱和基团的共聚单体和溶剂中的一种或多种。
特别是，在根据本发明的示例性实施方案的组合物中，由式1表示的化合物可以包括：由式1-a表示的化合物；由式1-b表示的化合物；或由式1-a表示的化合物和由式1-b表示的化合物的混合物。
所述光引发剂包括自由基引发剂和酸产生引发剂，可以使用本领域中通常使用的引发剂，但所述光引发剂不特别限于此。优选的是，可以使用选自如下中的一种或多种引发剂：由Union Carbide，Co.，Ltd.生产的CyracureUVI-6990和Cyracure UVI-6974产品；由Degusa，Co.，Ltd.生产的Degacure；由AsahiDenka，Co.，Ltd.生产的SP-55、SP-150和SP-170产品；由Ciba-Geigy，Co.，Ltd.生产的Irgacure 261、Irgacure 184、Irgacure 819、Irgacure 907、Irgacure2959、Irgacure 500、Irgacure 127、Irgacure 754、Irgacure 369、Irgacure 651和Irgacure 2100产品；由Fluca，Co.，Ltd.生产的Darocure 1173、Darocure 4265、Darocure 4265、Darocure 1664、Darocure MBF和Darocure TPO产品。
基于所述组合物的总重量，所述光引发剂的含量是0.01～30重量份，且优选是0.01～20重量份。如果该含量低于0.01重量份，则存在反应可能较慢或者分子量可能降低的问题，而如果该含量高于30重量份，则存在聚合速度可能变慢或难以进行聚合的问题，因此优选将该含量保持在上述范围内。
作为所述粘合剂，可以使用本领域中通常使用的粘合剂，但不限于此。优选的是，可以使用选自氟树脂、PES(聚醚砜)、聚苯乙烯、聚乙二醇、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚酯、聚硅氧烷、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)和PDMS(聚二甲基硅氧烷)中的一种或多种。
基于所述组合物的总重量，所述粘合剂的含量是0.1～99重量份，且优选是30～90重量份。如果在上述范围内使用粘合剂，优点在于薄膜均匀。
作为所述含有不饱和基团的共聚单体，可以使用选自本领域中众所周知的不饱和化合物、基于丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的化合物、取代有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的氟化烷基链化合物、由已知方法合成的单体(ref.E.kim.S.Cho.D.Yeu，S.Shin.Chem.Mater.2005，17，962或韩国专利特许公开号2003-0097532)、根据美国专利号4,985,473，6,306,563和6,323,361的已知方法制备的单体及其组合中的一种或多种。
所述不饱和基团是指乙烯基、乙炔基和环氧基。
基于所述组合物的总重量，所述含有不饱和基团的共聚单体的含量是0.1～99重量份，且优选是20～95重量份。如果该含有不饱和基团的共聚单体在上述含量范围内使用，则优点在于可以控制折射率且薄膜变得均匀。
在所述组合物中还可以使用本领域众所周知的有机溶剂。作为所述溶剂，可以使用选自四氢呋喃、氯仿、四氯化碳和四氯乙烷中的一种或多种，或者可以使用选自三氟乙醇、甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、甲基异甲醇(methylisocarbinol)、丙酮、2-丁酮、乙基戊基甲酮、二丙酮醇、异丙酮(isopropanone)、环己酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、乙醚、二异丙醚、1，4-二氧杂环己烷、3，4-二氢-2H-吡喃、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、乙二醇二甲醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸异丁酯、乙酸戊酯、乳酸乙酯、碳酸亚乙酯、芳香烃(例如苯、甲苯、二甲苯)、己烷、庚烷、异辛烷和环己烷、二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、二氯丙烷、氯苯、二甲亚砜和N-甲基-2-吡咯烷酮中的一种或多种。
基于所述组合物的总重量，所述溶剂的含量是0.1～99重量份，且优选是10～95重量份。如果溶剂在上述范围内使用，则优点在于可以控制薄膜的厚度。
包含根据本发明的示例性实施方案的式1的化合物的组合物的折射率是1.38～1.44。
此外，本发明提供了通过在-20～110℃下干燥根据本发明的示例性实施方案的组合物、形成膜并对其照射光而制得的低折射薄膜，以及制备该膜的方法。
根据本发明的示例性实施方案，聚合物薄膜或聚合物成形体可以通过将根据本发明示例性实施方案的组合物加入到模具中，或者将该组合物涂布到支撑物(例如玻璃基板和树脂膜)上，在常温至80℃下干燥该组合物，及对其照射光(例如UV、可见光、电子束、X射线和γ射线)来制备。
在此种情形中，所述涂布可以是例如辊涂法、旋涂法、棒涂法、喷涂法和深涂法(deep coating)的方法，且薄膜的厚度通常可以在0.01μm～3mm的范围内。
由于制得的聚合物薄膜和成形体具有低折射率，与染料的优异的相容性和对基板的附着性能，对常用的有机溶剂的特别优异的耐化学性，所以可以提供具有优异可靠性的防反射膜和光学二极管。
通过下面实施例将详细地描述本发明。然而，提出这些实施例用于说明，而不应解释成限制本发明的范围。
<实施例>
<物理性能的测量方法>：
1)折射率：使用由SAIRON Tech，Co.，Ltd.制造的SPA-400在650mm波长的光源下测定制得的化合物或组合物的折射率。
2)透射率：通过使用在PET膜上涂层厚度为100nm的膜，利用由Avantes，Co.，Ltd.制造的AvaSec-2048来测定透射率。
3)光聚合特性：使用由Bruker，Co.，Ltd.制造的红外光谱仪Tensor 37测定不饱和基团的C＝C振动波数的密度变化。
<制备例1>化合物3-1的制备
在250ml的圆底烧瓶中，将0.047mol的1H，1H，5H，5H-全氟-1，5-戊二醇和100ml的无水THF彼此混合。在氮气气氛下向上述圆底烧瓶中加入0.047mol的三乙胺。在搅拌一个小时后，向其中缓慢加入0.047mol的甲基丙烯酰氯。反应混合物在室温下搅拌3天。在反应完成后，沉淀物通过过滤器被过滤，向其中加入100ml的二氯甲烷，使用溶解有碳酸氢钠的水溶液对其萃取。
通过萃取工艺从过滤的溶液中除去溶剂，通过硅胶柱色谱法使用石油醚和四氢呋喃的展开溶剂(1∶2)对该溶液进行纯化。
最终得到的物质表明55％的收率。
<制备例2>化合物3-4的制备
除了氯化物和2，2，3，3，4，4，5，5-八氟-1，6-己二醇彼此反应之外，按照与制备例1相同的方式进行制备例2，由此制得化合物3-4，且最终得到的物质的收率为65％。
<制备例3>化合物3-5的制备
除了丙烯酰氯和2，2，3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，9，9-十六氟-1，10-癸二醇彼此反应之外，按照与制备例1相同的方式进行制备例3，由此制得化合物3-5，且最终得到的物质的收率为62％。
<实施例1>化合物1-4的制备
通过使用制备例1中制得的物质，将0.5mol的式2-3的氯硅烷和1.5mol的式3-7的氟化甲基丙烯酸烷基酯在氮气气氛下加入到50ml的圆底烧瓶中，在不向其中加入有机溶剂的情况下搅拌7小时。在此种情形中反应温度持续地保持在0℃。通过硅胶柱色谱法使用石油醚和二氯甲烷的展开溶剂(1∶2)纯化制得的物质。
最终制得的物质表明90％的收率。
<实施例2～12>化合物1-1～1-11的制备
根据实施例1的方法来合成所述物质，所合成的物质和反应条件描述在下面表1中。
所合成的最终物质的收率、1H NMR和19F NMR描述于下面表1中。
[表1]
<实施例13～27>低折射组合物的制备
通过使用下面表2所示的由实施例制得的物质、组分和溶剂以及所述制备方法制备组合物。测定所制得的组合物的折射率，并描述于下面表2中。
[表2]
在表2中所述的式4～式7的化合物如下所示。
<实施例28>制备低折射膜的方法
通过在PET膜上涂布实施例16制备的组合物，以1,500rpm进行旋涂30秒，在烘箱中在60℃下干燥该组合物2分钟，照射高压汞灯的紫外线5分钟来制备100nm的低折射膜。
所制得的膜的透射率是96％，反射率是4％。
<实施例29～42>
与实施例28相似，通过在玻璃、硅晶片或PET基板上涂布实施例13～27中制备的组合物，以200～2,000rpm进行旋涂，在烘箱中在60～90℃下干燥该组合物60～120分钟，照射高压汞灯的紫外线、可见光或红外线3～180分钟来制备50nm～10μm的低折射膜。测定结果示于下面表3中。
制得的膜的透射率是90～99％，反射率是1～10％，当测定透射率时PET膜用作基板。
[表3]
如表3所述，如果使用根据本发明的示例性实施方案的组合物来制备膜，可以看出，可以制得具有高透射率和低反射率的低反射膜。
此外，下面图1图示说明根据实施例39获得的IR光谱，可以看出，对应于单体中显示的不饱和基团的C＝C双键振动的1,640cm-1位置的峰，在通过光照制得膜之后消失了。
Claims (22)
1.一种由下面式1表示的化合物：
[式1]
{[(A-R1O)aSi(OR4)4-a-b]b-(X(1-b)-R2)}cSi(OR3-B)4-c
其中，R1和R3可以彼此相同或不同，且各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R2是碳原子数为1～20的亚烷基，或者是取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R4可以彼此相同或不同，且各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链烷基，取代的氟的数目为1～36；
A和B可以彼此相同或不同，且各自独立地为基于丙烯酸酯或基于甲基丙烯酸酯的官能团；
X是F或H；
a是1～3的整数，b是0或1，c是1～3的整数。
2.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述式1由下面式1-a表示：
[式1-a]
{[(A-R1O)aSi(OR4)3-a]-(R2)}cSi(OR3-B)4-c
其中，R1和R3可以彼此相同或不同，且各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R2是碳原子数为1～20的亚烷基，或者是取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R4可以彼此相同或不同，且各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链烷基，取代的氟的数目为1～36；
A和B可以彼此相同或不同，且各自独立地为基于丙烯酸酯或基于甲基丙烯酸酯的官能团；
a是1～3的整数，c是1～3的整数。
3.根据权利要求2所述的化合物，其中，该化合物是下面化合物中的任何一种：
[化合物1-1]
4.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述式1由下面式1-b表示：
[式1-b]
(X-R2)}cSi(OR3-B)4-c
其中，R3各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R2是碳原子数为1～20的亚烷基，或者是取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
B各自独立地为基于丙烯酸酯或基于甲基丙烯酸酯的官能团；
X是F或H；
c是1～3的整数。
5.根据权利要求4所述的化合物，其中，所述化合物是下面化合物中的任何一种：
6.根据权利要求1所述的化合物，其中，该化合物通过使用下面式2的化合物、以及下面式3的化合物或者一种或多种芳族醇化合物来制备：
[式2]
{[(Y)aSi(OR4)4-a-b]b-(X(1-b)-R2)}cSi(Z)4-c
其中，X是F或H；
Y和Z各自独立地为卤素原子，
R2是碳原子数为1～20的亚烷基，或者是取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链亚烷基，取代的氟的数目为1～36；
R4可以彼此相同或不同，且各自独立地为取代有氟且碳原子数为1～20的直链或支链烷基，取代的氟的数目为1～36；
a是1～3的整数，b是0或1，c是1～3的整数，
[式3]
R5-C
其中，R5是取代有羟基和氟且碳原子数为1～20的直链或支链烷基，取代的氟的数目为1～36；
C是基于丙烯酸酯或基于甲基丙烯酸酯的官能团。
7.一种组合物，基于该组合物的总重量，包含：
i)0.1～99.9重量份的选自根据权利要求1所述的化合物中的一种或多种化合物，和
ii)0.01～30重量份的光引发剂。
8.一种组合物，基于该组合物的总重量，包含：
i)0.1～99.9重量份的根据权利要求2所述的化合物，和
ii)0.01～30重量份的光引发剂。
9.根据权利要求8所述的组合物，还包含：
0.1～99.9重量份的根据权利要求4所述的化合物。
10.一种组合物，基于该组合物的总重量，包含：
i)0.1～99.9重量份的根据权利要求4所述的化合物，和
ii)0.01～30重量份的光引发剂。
11.根据权利要求7所述的组合物，还包含：
iii)0.1～99重量份的选自粘合剂、含有不饱和基团的共聚单体和溶剂中的一种或多种。
12.根据权利要求7所述的组合物，其中，所述光引发剂是选自CyracureUVI-6990、Cyracure UVI-6974、Degacure、SP-55、SP-150、SP-170、Irgacure261、Irgacure 184、Irgacure 819、Irgacure 907、Irgacure 2959、Irgacure 500、Irgacure 127、Irgacure 754、Irgacure 369、Irgacure 651、Irgacure 2100、Darocure1173、Darocure 4265、Darocure 4265、Darocure 1664、Darocure MBF和DarocureTPO中的一种或多种。
13.根据权利要求11所述的组合物，其中，所述粘合剂是选自氟树脂、PES(聚醚砜)、聚苯乙烯、聚乙二醇、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚酯、聚硅氧烷、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)和PDMS(聚二甲基硅氧烷)中的一种或多种。
14.根据权利要求11所述的组合物，其中，所述含有不饱和基团的共聚单体是选自如下化合物中的一种或多种：基于丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的化合物；和取代有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的氟化烷基链化合物。
15.根据权利要求11所述的组合物，其中，所述溶剂是选自四氢呋喃、氯仿、四氯化碳、四氯乙烷、甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、甲基异甲醇、丙酮、2-丁酮、乙基戊基甲酮、二丙酮醇、异丙酮、环己酮、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、乙醚、二异丙醚、1，4-二氧杂环己烷、3，4-二氢-2H-吡喃、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、乙二醇二甲醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸异丁酯、乙酸戊酯、乳酸乙酯、碳酸亚乙酯、苯、甲苯、二甲苯、己烷、庚烷、异辛烷、环己烷、二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、二氯丙烷、氯苯、二甲亚砜和N-甲基-2-吡咯烷酮中的一种或多种。
16.根据权利要求7所述的组合物，其中，所述组合物的折射率为1.38～1.44。
17.一种成形体，该成形体是使用根据权利要求7所述的组合物制备的。
18.根据权利要求17所述的成形体，其中，该成形体是膜。
19.根据权利要求18所述的成形体，其中，所述膜的厚度是0.01μm～3mm。
20.一种使用权利要求7所述的组合物制备成形体的方法。
21.根据权利要求20所述的制备成形体的方法，其中，所述成形体是膜。
22.根据权利要求20所述的制备成形体的方法，其中，所述膜通过涂布所述组合物并照射光而形成。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2010-0010653 | 2010-02-04 | ||
| KR20100010653 | 2010-02-04 | ||
| PCT/KR2011/000696 WO2011096701A2 (ko) | 2010-02-04 | 2011-02-01 | 신규한 불소화 화합물, 이를 포함하는 조성물 및 이를 이용한 필름의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102858784A true CN102858784A (zh) | 2013-01-02 |
| CN102858784B CN102858784B (zh) | 2015-07-01 |
Family
ID=44355945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201180011718.5A Active CN102858784B (zh) | 2010-02-04 | 2011-02-01 | 新的氟化化合物、包含该氟化化合物的组合物以及使用该组合物制备膜的方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8835664B2 (zh) |
| EP (1) | EP2532669B1 (zh) |
| JP (1) | JP5654050B2 (zh) |
| KR (1) | KR101251778B1 (zh) |
| CN (1) | CN102858784B (zh) |
| TW (1) | TWI424988B (zh) |
| WO (1) | WO2011096701A2 (zh) |
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- 2011-02-01 EP EP11739997.2A patent/EP2532669B1/en active Active
- 2011-02-01 KR KR1020110010259A patent/KR101251778B1/ko active IP Right Grant
- 2011-02-01 US US13/577,036 patent/US8835664B2/en active Active
- 2011-02-01 CN CN201180011718.5A patent/CN102858784B/zh active Active
- 2011-02-01 TW TW100103971A patent/TWI424988B/zh active
- 2011-02-01 WO PCT/KR2011/000696 patent/WO2011096701A2/ko active Application Filing
- 2011-02-01 JP JP2012551917A patent/JP5654050B2/ja active Active
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI424988B (zh) | 2014-02-01 |
| EP2532669A2 (en) | 2012-12-12 |
| US20120308802A1 (en) | 2012-12-06 |
| JP5654050B2 (ja) | 2015-01-14 |
| WO2011096701A2 (ko) | 2011-08-11 |
| CN102858784B (zh) | 2015-07-01 |
| KR20110090830A (ko) | 2011-08-10 |
| TW201141833A (en) | 2011-12-01 |
| KR101251778B1 (ko) | 2013-04-08 |
| WO2011096701A3 (ko) | 2012-01-05 |
| EP2532669B1 (en) | 2015-04-01 |
| JP2013518969A (ja) | 2013-05-23 |
| US8835664B2 (en) | 2014-09-16 |
| EP2532669A4 (en) | 2013-07-17 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |