CN102460242A - 光学薄膜的制造方法、光学薄膜、层叠偏振片及图像显示装置 - Google Patents

光学薄膜的制造方法、光学薄膜、层叠偏振片及图像显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种包含具有nx＞nz＞ny的折射率分布的双折射层的光学薄膜的制造方法，其工序数量少，并且杂质的混入得以减少，生产率高。所述制造方法是包含双折射层的光学薄膜的制造方法，其特征在于，包括以下工序：涂膜形成工序，在收缩性薄膜上涂布含有厚度方向的双折射率(Δnxz)为0.0007以上的非液晶材料的双折射层形成材料，从而形成涂膜；以及双折射层形成工序，通过上述收缩性薄膜的收缩使上述涂膜收缩，从而形成具有nx＞nz＞ny的折射率分布的双折射层。

Description

光学薄膜的制造方法、光学薄膜、层叠偏振片及图像显示装置
技术领域
本发明涉及光学薄膜的制造方法、光学薄膜、层叠偏振片及图像显示装置。
背景技术
在手机或个人电脑、液晶电视等各种图像显示中一直在使用利用了双折射性的高对比度的液晶显示装置(LCD)。近年来，LCD不断高精细化，其用途也涉及许多方面。与此相伴，对于LCD，需要视角的扩大等显示品质的提高。可以使用例如具有nx＞nz＞ny的折射率分布的光学薄膜来实现上述视角的扩大。作为上述光学薄膜的制造方法，提出了下述方法(专利文献1)，即，在树脂薄膜的单面或双面上通过丙烯酸系粘接剂等来粘接收缩性薄膜，从而形成层叠体，并对上述层叠体进行加热拉伸处理，同时在与上述拉伸方向正交的方向赋予收缩力。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平5-157911号公报
发明内容
发明要解决的课题
但是，上述制造方法需要树脂薄膜的制造工序、在收缩薄膜上的粘接剂涂布工序、树脂薄膜与收缩性薄膜的贴合工序、拉伸收缩工序、和收缩性薄膜的剥离工序这些众多的工序，因此生产率低。另外，在上述制造方法中，在上述贴合工序产生贴合不良或杂质混入，因此生产率进一步降低。而且，在上述制造方法中，在上述剥离工序产生糊剂残留，因此生产率进一步降低。另外，在上述制造方法中，产生粘接特性不良、例如粘接力的不均匀性或剥离引起的取向性不良，因此光学薄膜的品质降低。
因此，本发明的目的在于提供一种包含具有nx＞nz＞ny的折射率分布的双折射层的光学薄膜的制造方法，其工序数量少，而且杂质的混入得以减少，且生产率高。
用于解决课题的手段
为了达成上述目的，本发明的光学薄膜的制造方法，其是包含双折射层的光学薄膜的制造方法，其特征在于，包含以下工序：
涂膜形成工序：在收缩性薄膜上直接涂布含有下述式表示的厚度方向的双折射率(Δnxz)为0.0007以上的非液晶性材料的双折射层形成材料，从而形成涂膜；以及
双折射层形成工序：通过上述收缩性薄膜的收缩使上述涂膜收缩，从而形成具有nx＞nz＞ny的折射率分布的双折射层。
Δnxz＝nx’-nz’
nx’：以上述非液晶性材料作为固化层时的层的面内的折射率为最大的方向(慢轴方向)的折射率，
nz’：与上述nx’的方向正交以及与上述固化层的面内的与上述nx’的方向正交的方向(快轴方向)正交的上述固化层的厚度方向的折射率，
nx：上述双折射层的面内的折射率为最大的方向(慢轴方向)的折射率，
ny：上述双折射层的面内的与上述nx的方向正交的方向(快轴方向)的折射率，
nz：与上述nx及上述ny中的各方向正交的上述双折射层的厚度方向的折射率。
发明的效果
在本发明的制造方法中，在收缩性薄膜上不通过粘接剂等而是直接涂布双折射层形成材料。因此，根据本发明，由于不需要以往的制造方法中的树脂薄膜与收缩性薄膜的贴合工序，因而生产率提高。进而，根据本发明，由于没有上述贴合工序，因此贴合不良或杂质混入得以减少，从而生产率进一步提高。而且，根据本发明，由于也不会产生由粘接特性不良导致的取向不良，因此，可以提供高品质的光学薄膜。另外，根据本发明，由于双折射表现性高，能够使双折射层变薄，并且由于在收缩性薄膜上不通过粘接剂等而是直接涂布双折射层形成材料，因此会产生能够实现光学薄膜的薄型化这一附带效果。另外，根据本发明，由于工序数量少，杂质的混入也被减少，因此还会产生可以获得取向轴精度高的光学薄膜这一附带效果。
附图说明
图1是表示本发明的光学薄膜的构成的一个例子的剖面图。
图2是表示混入了杂质的光学薄膜的照片。
图3是表示观测到了亮点的层叠偏振片的照片。
具体实施方式
在上述双折射率(Δnxz)的定义中，上述固化层是指，例如通过使在基材上直接涂布将上述非液晶性材料溶解在溶剂中所得到的溶液而形成的涂膜固化，不进行拉伸及收缩而形成的层，其厚度没有任何限制。上述双折射率(Δnxz)为0.0007以上，优选为0.0007～0.05的范围，更优选为0.001～0.04的范围。
在本发明的制造方法中，上述非液晶性材料优选为选自由聚芳酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚芳基醚酮、聚酰胺酰亚胺、聚酯酰亚胺、聚乙烯醇、聚富马酸酯、聚醚砜及聚砜构成的组中的至少一种。
在本发明的制造方法中，上述聚芳酯优选含有下述通式(I)表示的重复单元。
在上述式(I)中，
A及B各自表示取代基，它们为卤素原子、碳原子数为1～6的烷基、取代或无取代的芳基，A及B可以相同或不同，
a及b表示所对应的A及B的取代数，各自为1～4的整数，
D为共价键、CH2基、C(CH3)2基、C(CZ3)2基(其中，Z为卤素原子)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH2CH3)2基、N(CH3)基，
R1是碳原子数为1～10的直链或支链的烷基、取代或无取代的芳基，
R2是碳原子数为2～10的直链或支链的烷基、取代或无取代的芳基，
R3、R4、R5及R6分别是氢原子、碳原子数为1～4的直链或支链的烷基，R3、R4、R5及R6可以相同或不同，但R3、R4、R5及R6不全为氢原子，
p1是0～3的整数，
p2是1～3的整数，
n是2以上的整数。
在本发明的制造方法中，上述双折射层形成工序中的上述涂膜的收缩倍率优选为0.50～0.99倍的范围，更优选为0.60～0.98倍的范围，进一步优选为0.75～0.95倍的范围。
在本发明的制造方法中，上述双折射层形成工序中，可以通过上述收缩性薄膜的收缩使上述涂膜收缩，并且，将上述收缩性薄膜与上述涂膜的层叠体在与上述收缩方向正交的方向上拉伸。这种情况下，上述层叠体的拉伸倍率优选为1.01～3.0倍的范围，更优选为1.05～2.0倍的范围，进一步优选为1.10～1.50倍的范围。
在本发明中，“正交”包含实质上正交的情况，上述实质上正交的情况是指，例如为90°±2°的范围，优选为90°±1°的范围。
本发明的制造方法中，上述收缩性薄膜优选为由选自由聚烯烃、聚酯、丙烯酸树脂、聚酰胺、聚碳酸酯、降冰片烯树脂、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、纤维素树脂、聚醚砜、聚砜、聚酰亚胺、聚丙烯酸、醋酸酯树脂、聚芳酯、聚乙烯醇及液晶聚合物构成的组中的至少一种形成材料形成的拉伸薄膜。
在本发明的制造方法中，优选在上述双折射层形成工序中，通过加热使上述收缩性薄膜收缩。
在本发明的制造方法中，优选将上述双折射层的厚度设为20μm以下。上述厚度更优选设为1μm～20μm的范围，进一步优选设为3μm～15μm的范围。
本发明的光学薄膜，其是包含双折射层的光学薄膜，其特征在于，
上述双折射层包含上述通式(I)表示的重复单元，
上述双折射层的正面相位差为100～500nm的范围。
本发明的光学薄膜中，上述双折射层的正面相位差优选为100～300nm的范围，更优选为130～290nm的范围。对于上述正面相位差，在将在上述双折射层的面内的折射率为最大的方向(慢轴方向)的折射率记作nx，将在上述双折射层的面内的与上述nx正交的方向(快轴方向)的折射率记作ny，将上述双折射层的厚度记作d(nm)时，通过(nx-ny)×d算出上述正面相位差。
本发明的层叠偏振片，其是包含偏振片和光学薄膜的层叠偏振片，其特征在于，上述光学薄膜是上述本发明的光学薄膜，上述偏振片的吸收轴与上述光学薄膜的慢轴正交或平行。
本发明的图像显示装置，其是包含层叠偏振片的图像显示装置，其特征在于，上述层叠偏振片是上述本发明的层叠偏振片。
接着，对本发明进行详细说明。但本发明并不受以下记载的限制。
本发明的光学薄膜是通过在收缩性薄膜上直接涂布双折射层形成材料而形成涂膜，并通过上述收缩性薄膜的收缩使上述涂膜收缩而制造的。
作为上述收缩性薄膜的形成材料，没有特别的限制，从适于后述的收缩处理的角度出发，优选为热塑性树脂。具体地说，例如可以列举出聚乙烯或聚丙烯(PP)等聚烯烃树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯树脂、丙烯酸树脂、聚酰胺、聚碳酸酯、降冰片烯树脂、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、三乙酰纤维素等纤维素树脂、聚醚砜、聚砜、聚酰亚胺、聚丙烯酸、醋酸酯树脂、聚芳酯、聚乙烯醇及它们的混合物等。另外，还可以使用液晶聚合物等。上述收缩性薄膜优选为由1种或2种以上的上述形成材料形成的单轴或双轴拉伸薄膜。上述收缩性薄膜例如也可以使用市售品。作为上述市售品，例如可以列举出東洋紡績株式会社制造的“スペ一スクリ一ン”、Gunze株式会社制造的“フアンシ一ラツプ”、Toray株式会社制造的“トレフアン”、Toray株式会社制造的“ルミラ一”、JSR株式会社制造的“ア一トン”、日本Zeon株式会社制造的“ゼオノア”、旭化成株式会社制造的“サンテツク”等。
上述收缩性薄膜的厚度没有特别限制，例如为10～300μm的范围，优选为20～200μm的范围，更优选为40～150μm的范围。对于上述收缩性薄膜的表面，为了提高与上述双折射层的粘附性等，也可以实施表面处理。作为上述表面处理，例如可以列举出铬酸处理、臭氧暴露、火焰暴露、高压电击暴露、电离辐射处理等化学或物理处理。另外，在上述收缩性薄膜的表面上也可以形成由底涂剂(例如粘着物质)的涂布形成的底涂层。
上述双折射层形成材料包含上述双折射率(Δnxz)为0.0007以上的非液晶性材料。
作为上述非液晶性材料，例如可以列举出聚芳酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚芳基醚酮、聚醚酮、聚酰胺酰亚胺、聚酯酰亚胺、聚乙烯醇、聚富马酸酯、聚醚砜、聚砜及它们的混合物等。
如上所述，上述聚芳酯优选包含上述式(I)表示的重复单元。
上述式(I)中，作为上述无取代芳基，例如可以列举出苯基、联苯基、三联苯基、萘基、联萘基、三苯基苯基等。此外，作为上述取代芳基，可以列举出上述无取代芳基的氢原子中的1个以上被碳原子数为1～10的直链或支链的烷基、碳原子数为1～10的直链或支链的烷氧基、硝基、氨基、甲硅烷基、卤素原子、卤代烷基、苯基取代而得到的基团等。此外，作为上述卤素原子，可以列举出氟、氯、溴、碘等。
上述式(I)中，优选R1为甲基、且R2为碳原子数为2～4的直链或支链的烷基，特别优选R2为乙基或异丁基。如果为这种方式，则在甲苯或二甲苯等低极性溶剂中的溶解性优异，并且双折射的表现性高，耐热性优异(玻璃化转变温度高)。
上述式(I)中，优选R3、R4、R5及R6中的至少一个为碳原子数为1～4的直链或支链的烷基，更优选R3、R4、R5及R6全部为碳原子数为1～4的直链或支链的烷基，特别优选R3、R4、R5及R6全部为甲基。此时，R2也可以为甲基。
本发明中，从降低环境负荷的观点出发，上述聚芳酯优选为化学结构中不具有卤素原子的非卤代聚芳酯。上述聚芳酯通过如前所述将R1～R6特定组合，从而即使在化学结构中不含卤素原子，也可具有对溶剂的高溶解性。
上述聚芳酯也可以是具有上述式(I)中A、B、D、R1～R6、p1、p2及n不同的2种以上的单体单元的聚合物，即共聚物。
此外，从兼顾对溶剂的溶解性和双折射表现性的观点出发，上述式(I)中，优选D为共价键、且p1＝0、p2＝1，即，优选为上述聚芳酯具有下述通式(II)表示的结构。进而，优选为具有使用对苯二甲酸衍生物作为酸成分的下述通式(III)表示的结构的共聚物、或具有下述通式(IV)表示的使用对苯二甲酸衍生物和间苯二甲酸衍生物的共聚物的结构的共聚物。从对通用溶剂的溶解性的观点出发，特别优选为具有下述通式(IV)表示的结构的共聚物。
Figure BDA0000119415430000071
另外，上述式(II)～(IV)中，B、R1～R6及b与上述式(I)中相同，B’、R7、R8、R9～R12及b’分别与B、R1、R2、R3～R6及b相同，n、l、m均为2以上的整数。此外，上述式(IV)中，为了方便起见，将上述聚芳酯表示为嵌段共聚物，但并不限定于此，也可以是无规共聚物。
上述式(IV)表示的聚芳酯中，酸成分中来自对苯二甲酸衍生物的结构的含有率、即l/(l+m)优选为0.3以上。如果将l/(l+m)设定为上述范围，则双折射的表现性更高，耐热性更优异。l/(l+m)更优选为0.5以上，进一步优选为0.6以上。
上述聚芳酯中，上述式(I)～(IV)表示的结构的含有率没有特别的限制，优选为50摩尔％以上，更优选为75摩尔％以上，进一步优选为80摩尔％以上。
上述聚芳酯的重均分子量(Mw)是通过利用四氢呋喃溶剂的凝胶渗透色谱法(聚苯乙烯标准)测定得到的值，优选为3,000～1,000,000的范围。通过将Mw设定为上述范围，溶剂溶解性等操作性优异，并且可以获得高强度、且高温环境下的光学特性的变化得到抑制的光学薄膜。Mw更优选为5,000～1,000,000的范围，进一步优选为10,000～500,000的范围，最优选为50,000～350,000的范围。
上述聚芳酯的玻璃化转变温度没有特别的限制，但从耐热性的观点出发，优选为100℃以上，更优选为120℃以上，进一步优选为150℃以上。此外，从成型性、加工性的观点出发，上述玻璃化转变温度优选为300℃以下，更优选为250℃以下。
上述聚芳酯的制造方法没有特别的限制，可以采用公知的方法。一般而言，上述聚芳酯可以通过使双酚化合物与二羧酸或其衍生物缩聚来制造。
作为上述缩聚法，例如可以列举出：利用脱醋酸的熔融缩聚法；利用脱酚的熔融缩聚法；在有机碱的存在下，使双酚化合物与二酰氯(dicarboxylic acid chloride)在有机溶剂体系中反应的脱盐酸均相聚合法；使双酚化合物与二酰氯在碱水溶液与水非混合性有机溶剂的2相体系中反应的界面缩聚法；使用双酚化合物和二羧酸，并使用缩合剂在反应体系中生成活性中间体的直接缩聚法等。这些之中，从透明性、耐热性的提高及高分子量化的观点出发，优选为界面缩聚法。
通过上述界面缩聚法来制造上述聚芳酯时，使用单体(双酚化合物及二酰氯)、有机溶剂、碱、催化剂等。
作为上述双酚化合物，例如可以列举出2，2-双(4-羟基苯基)丁烷、2，2-双(4-羟基苯基)-4-甲基-戊烷、3，3-双(4-羟基苯基)戊烷、2，2-双(4-羟基苯基)己烷、1，1-双(4-羟基苯基)-1-苯基甲烷、双(4-羟基苯基)二苯基甲烷等。
作为上述二酰氯，例如可以列举出对苯二甲酰氯、间苯二甲酰氯、邻苯二甲酰氯、4，4’-二苯基二酰氯等无取代芳香族氯化物、以及在它们中具有作为上述式(I)中的A及B的例子所示出的取代基等的氯化物等。
作为上述有机溶剂，没有特别的限制，但优选为与水的混合性低、并且可溶解上述聚芳酯的溶剂，例如可以合适地使用二氯甲烷、氯仿、1，2-二氯乙烷等卤素系溶剂、甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂、或茴香醚等。此外，这些溶剂可以混合2种以上使用。
作为上述碱，例如可以列举出氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂等。上述碱的使用量例如为上述双酚化合物的2～5摩尔倍(1～2.5摩尔当量)。
作为上述催化剂，优选使用相转移催化剂，例如可以使用四丁基溴化铵、三辛基甲基氯化铵、苄基三乙基氯化铵等季铵盐；四苯基氯化鏻、三苯基甲基氯化鏻等季鏻盐；聚乙二醇、聚乙二醇单甲基醚、聚乙二醇二甲基醚、二苯并-18-冠醚-6、二环己基-18-冠醚-6等聚氧乙烯化合物等。这些当中，从反应后的除去等处理容易性的角度来看，适合使用四烷基卤化铵类。此外，根据需要可以任意使用抗氧化剂、分子量调节剂等。
作为调节上述聚芳酯的分子量的方法，例如可以列举出改变羟基与羧基的官能团比而使它们进行反应的方法；反应时添加单官能的物质作为分子量调节剂的方法等。作为上述分子量调节剂，例如可以列举出苯酚、甲酚、对叔丁基苯酚等一元酚类；苯甲酰氯、甲磺酰氯、氯甲酸苯酯等单酰氯类；甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、戊醇、己醇、十二烷醇、硬脂醇、苄基醇、苯乙醇等一元醇类等。此外，通过在缩聚反应后使单酰氯反应，能够将末端酚封端，且能够抑制因酚的氧化所导致的着色。此外，缩聚反应中也可以并用抗氧化剂。
当采用上述界面缩聚法时，缩聚反应后为水相及有机相的混合状态，除聚芳酯、有机溶剂、水以外，还包含催化剂和残留单体等杂质。使用上述卤素系溶剂来实施上述界面缩聚法时，一般而言，作为除去水溶性杂质的方法，采用反复进行分离、除去水相的分液操作而进行水洗的方法。此外，在水洗后，可以根据需要使用丙酮、甲醇等成为上述聚芳酯的不良溶剂的水混合性有机溶剂进行再沉淀。通过进行上述再沉淀，能够实现脱水、脱溶剂，并能够将上述聚芳酯作为粉体而取出，进而还能够减少双酚化合物等之类的疏水性杂质。作为上述水混合性有机溶剂，优选使用与水的相容性低、并且不会溶解0.5重量％以上的上述聚芳酯的溶剂。此外，在能够通过加热干燥而容易地除去的方面，上述水混合性有机溶剂的沸点优选为120℃以下。作为这种水混合性有机溶剂的优选的例子，根据上述聚芳酯的种类的不同，溶解性也不同，不能一概而论，例如可以列举出环己酮、异佛尔酮等酮类；甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇等醇类等。
界面缩聚反应时的单体加入浓度及后处理时的聚芳酯浓度越高，则生产率越优异，越优选。相对于包括水相及有机相在内的反应后的总液量的聚芳酯量优选为1重量％以上，更优选为3重量％以上，进一步优选为5重量％以上。
反应温度没有特别的限制，优选为-5～50℃的范围。如果反应温度在上述范围内，则容易调节反应中的粘度、温度，水解或氧化着色等副反应也少。反应温度更优选为5～35℃的范围，进一步优选为10～30℃的室温左右。
此外，为了抑制副反应，考虑伴随缩聚反应的放热，也可以预先将温度设定为较低，为了逐渐地进行反应，也可以逐渐地添加碱或二酰氯。这种碱或二酰氯的添加可以在低于10分钟等短时间内进行，但为了抑制放热，优选用10～120分钟进行添加，更优选用15～90分钟进行添加。此外，为了抑制氧化着色，优选在氮气等不活泼气体气氛下进行反应。
添加碱或二酰氯后的反应时间根据单体的种类或碱的使用量、碱的浓度等的不同而不同，不能一概而论，例如为10分钟～10小时的范围，优选为30分钟～5小时的范围，更优选为1～4小时的范围。
如上所述得到的聚芳酯在结束界面缩聚反应后进行分液、水洗，可以直接作为树脂溶液使用，也可以使用不良溶剂进行粉体化后使用。此外，从环境负荷的观点出发，上述聚芳酯中的卤素系溶剂含量优选为1000ppm(0.1重量％)以下，更优选为300ppm(0.03重量％)以下，进一步优选为100ppm(0.01重量％)以下，特别优选为50ppm(0.005重量％)以下。上述聚芳酯由于溶剂溶解性优异，在卤素系溶剂以外的溶剂中也可溶，所以通过在缩聚反应时使用除卤素系溶剂以外的溶剂(例如甲苯、环己烷、茴香醚等)，也能够减少上述聚芳酯中的卤素系溶剂含量。
上述双折射层形成材料优选进一步包含溶解上述非液晶性材料的溶剂。作为上述溶剂，根据上述非液晶性材料的种类可以适当确定，例如可以列举出氯仿、二氯甲烷、甲苯、二甲苯、环己酮、环戊酮等。上述溶剂可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
特别是，从降低环境负荷的观点出发，优选使用非卤素系溶剂作为上述溶剂，可以合适地使用芳香族烃类或酮类、酯类等，其中，优选使用甲苯、二甲苯、环戊酮，最优选使用甲苯。此外，也可以适当地使用含有上述非卤素系溶剂的混合溶剂。在使用上述混合溶剂时，优选以整体的50重量％以上的比例含有上述非卤素系溶剂，更优选以整体的80重量％以上的比例含有上述非卤素系溶剂。其中，优选以整体的50重量％以上的比例含有甲苯，更优选以整体的80重量％以上的比例含有甲苯。此时，作为除甲苯以外的溶剂，可以使用环戊酮、环己酮、4-甲基-2-戊酮(甲基异丁基酮，MIBK)、N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)、二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基亚砜(DMSO)等。使用上述聚芳酯作为上述非液晶性材料时，上述聚芳酯因溶剂溶解性优异，因而在这些低极性的溶剂中也可溶。
上述双折射层形成材料的调制方法没有特别的限定，可以使用公知的方法，例如可以为下述方法，即，在上述溶剂的搅拌下，将成形为粉末状、粒状或片状等的上述非液晶性材料缓慢加入而使其溶解，以达到所希望的浓度。
上述双折射层形成材料中的上述非液晶性材料的浓度没有特别的限制，例如为了形成适合涂布的粘度，上述浓度优选为1～30重量％，更优选为1～20重量％。这里，“适合涂布的粘度”是指，具有在涂布时不会产生条纹状的涂敷不均匀等缺陷的流动性的粘度。上述粘度因上述收缩性薄膜的种类、涂布速度、涂布厚度等的不同而不相同，不能一概而论，但例如优选为400mPa·秒以下。光学薄膜的厚度为20μm以下时，具有容易产生条纹状缺陷的倾向，因此，特别优选将粘度设定为上述范围。粘度更优选为300mPa·秒以下。另外，为了容易地将光学薄膜调整为所希望的厚度，因此粘度优选为1mPa·秒以上。此外，这里所说的粘度是指25℃下的测定值。
对于上述双折射层形成材料，根据需要可以进一步包含添加剂。作为上述添加剂，例如可以列举出抗老化剂、抗紫外线剂、光学各向异性调整剂、增塑剂、红外线吸收剂、填料等。上述添加剂可以为固体，也可以为液体。即，上述添加剂在其熔点或沸点方面没有特别的限定。
在上述收缩性薄膜上直接涂布上述双折射层形成材料而形成涂膜。作为上述双折射层形成材料的涂布方法，例如可以列举出旋涂法、辊涂法、流涂法、打印法、浸涂法、流延成膜法、绕线棒涂布法、凹版印刷法等。另外，在上述涂布时，根据需要也可以采用多层涂布。
接着，通过上述收缩性薄膜的收缩使上述涂膜收缩。优选在上述收缩之前或与上述收缩同时进行对上述涂膜的干燥。上述干燥例如可以是自然干燥，也可以是吹送风的风干，还可以是加热干燥，或将它们组合的方法。干燥条件可以根据上述收缩性薄膜的种类、上述非液晶性材料及上述溶剂的种类、上述非液晶性材料的浓度等适当确定，干燥温度例如为25～300℃的范围，优选为50～200℃的范围，进一步优选为60～180℃的范围。另外，上述干燥可以在规定温度下进行，也可以一边逐步地升高或降低温度一边进行，在上述收缩之前实施时，优选在不会引起上述收缩性薄膜的收缩的温度条件下实施上述干燥。另外，干燥时间也没有特别限制，例如为10秒钟～60分钟的范围，优选为30秒钟～30分钟的范围。
接着，通过实施加热处理而使上述收缩性薄膜收缩。通过上述收缩性薄膜的收缩而使上述涂膜收缩，由此可以形成具有nx＞nz＞ny的折射率分布的双折射层。作为上述加热处理的条件，没有特别的限制，可以根据上述收缩性薄膜的种类等适当确定，例如加热温度为25～300℃的范围，优选为50～200℃的范围，更优选为60～180℃的范围。上述涂膜的收缩倍率及上述双折射层的厚度如前所述。
如前所述，在本发明中，通过使上述涂膜收缩，可以形成具有nx＞nz＞ny的折射率分布的双折射层。此时，也可以通过上述收缩性薄膜的收缩使上述涂膜收缩，并将上述收缩性薄膜与上述涂膜的层叠体在与上述收缩方向正交的方向上拉伸。上述收缩和拉伸可以分开实施，但优选同时实施。通过同时实施，能够维持通过上述收缩和拉伸所表现出的取向性，而不会使该取向性缓和。此时，优选在上述收缩性薄膜的宽度方向(TD方向)拉伸、在上述收缩性薄膜的长度方向(MD方向)收缩。作为拉伸上述层叠体的方法，可以使用辊拉伸机、拉幅拉伸机和双轴拉伸机等任意合适的拉伸机。上述层叠体的拉伸倍率如前所述。
按照以上那样，可以在上述收缩性薄膜上形成具有nx＞nz＞ny的折射率分布的双折射层。可以一边搬运上述收缩性薄膜一边以连续生产的方式制造本发明的光学薄膜，也可以以间歇式生产的方式制造。本发明的光学薄膜在以间歇式生产的方式制造时，可以使用剪切为规定尺寸的上述收缩性薄膜。上述双折射层可以以与上述收缩性薄膜的层叠体的形式直接用作本发明的光学薄膜，也可以以从上述收缩性薄膜剥离后的双折射层单层的形式用作本发明的光学薄膜。另外，也可以通过将在上述收缩性薄膜上形成的上述双折射层通过粘接剂等与其它基材粘接的所谓转印法来制造本发明的光学薄膜。另外，上述转印由于在形成上述双折射层之后进行，即使在上述转印时混入了杂质，也不会像在以往的制造方法中的双折射层形成前的树脂薄膜与收缩性薄膜贴合时混入了杂质的情况那样降低生产率。本发明的光学薄膜的厚度优选为1～20μm的范围，更优选为3～20μm的范围，进一步优选为5～15μm的范围。本发明的光学薄膜中，上述双折射层的正面相位差如前所述。
图1表示本发明的光学薄膜的构成的一个例子的剖面图。如图所示，该光学薄膜10具有在收缩性薄膜11上形成了双折射层12的构成。
本发明的层叠偏振片由于使用本发明的光学薄膜，所以观测不到因杂质混入所导致的亮点，也观测不到因取向不良所导致的漏光。此外，本发明的光学薄膜例如能够制成20μm以下的薄膜。因此，本发明的层叠偏振片能够轻量化。另外，本发明的层叠偏振片由于不会产生翘曲，所以耐久性优异。
对于本发明的图像显示装置，除了使用本发明的层叠偏振片以外，其它构成与以往的图像显示装置相同。例如在为LCD时，将液晶单元的光学部件、以及根据需要使用的照明系统(背光灯等)的各构成构件适当组装而装入驱动电路中等，由此可以制造LCD。本发明的图像显示装置由于使用本发明的层叠偏振片，所以能够降低显示不良。
本发明的图像显示装置可以用于任意合适的用途中。该用途例如为电脑监视器、笔记本型电脑、复印机等OA机器；手机、钟表、数码相机、便携式信息终端(PDA)、便携式游戏机等便携式机器；摄像机、电视、微波炉等家用电器；商业店铺用信息用途监视器等展示机器；监视用监视器等警备机器；护理用监视器、医疗用监视器等护理和医疗设备等。
实施例
下面，对本发明的实施例与比较例一并进行说明。但本发明并不受到下述的实施例和比较例的限制。另外，下述实施例和比较例中的各种特性通过下述的方法进行评价和测定。
(双折射层的折射率)
对于双折射层的折射率，除实施例4以外，从收缩性薄膜上剥离双折射层，使用王子计测仪器株式会社制造的商品名“KOBRA-WPR”测定双折射层的折射率。另外，在收缩性薄膜没有相位差的实施例4中，以收缩性薄膜与双折射层的层叠体的状态测定双折射层的折射率。
(双折射层的厚度)
对于双折射层的厚度，使用大塚电子株式会社制造的薄膜用分光光度计(商品名：MCPD2000)测定双折射层的厚度。
(光学薄膜的取向轴精度)
对于光学薄膜的取向轴精度，使用王子计测仪器株式会社制造的商品名为“KOBRA21ADH”进行测定，并按照下述的判定基准进行评价。
判定基准
G：上述取向轴精度处于-1.0°～+1.0°的范围内。
NG：上述取向轴精度未处于-1.0°～+1.0°的范围内。
(光学薄膜的外观)
光学薄膜的外观是通过目视判定的。如图2所示的那样，在明显看到杂质混入的情况下，判定为因杂质混入而导致的不良。
判定基准
G：杂质的混入被降低，良好。
NG：因杂质混入而导致不良。
(层叠偏振片的亮点)
进行搭载了光学薄膜的层叠偏振片的亮点观察。所述亮点观察是通过在配置于正交尼科耳中的一对偏振片之间插入光学薄膜、并使用Olympus公司制造的微分干涉显微镜来进行的。如图3所示的那样，在观察到了亮点的情况下，判断为因亮点而导致不良。
判定基准
G：未观察到亮点，良好。
NG：观察到亮点，因亮点而导致不良。
[实施例1]
(非液晶性材料的合成)
在具备搅拌装置的反应容器中，将2，2-双(4-羟基苯基)-4-甲基戊烷2.70g及苄基三乙基氯化铵0.06g溶解于氢氧化钠溶液25mL中。边搅拌边向该溶液中一次性添加将对苯二甲酰氯2.03g溶解于30mL的氯仿中而得到的溶液，在室温下搅拌90分钟，制成缩聚溶液。然后，将上述缩聚溶液静置分离而分离出含有聚芳酯的氯仿溶液。接着，将上述分离液用醋酸水洗涤，再用离子交换水洗涤后，投入到甲醇中而使聚芳酯析出。通过将析出的聚芳酯过滤，并在减压下干燥，从而得到白色的聚芳酯3.41g(收率为92％)。上述聚芳酯的上述双折射率(Δnxz)为0.023。
(光学薄膜的制造)
将得到的聚芳酯(10g)溶解于甲苯(73g)中，调制双折射层形成材料。接着，在收缩性薄膜(PP的双轴拉伸薄膜、500×200mm、厚度为60μm)上，使用涂敷器(applicator)直接涂布上述双折射层形成材料，从而形成了涂膜。接着，将上述涂膜在110℃下干燥5分钟，制作了上述收缩性薄膜与上述涂膜的层叠体。其后，使用间歇式同时双轴拉伸机，在155℃下，通过使上述层叠体收缩至0.75倍来使上述涂膜收缩，同时将上述层叠体在与上述收缩方向正交的方向上拉伸至1.2倍，从而形成了双折射层。接着，将上述双折射层从上述收缩性薄膜上剥离。上述双折射层的厚度为10.0μm，nx＝1.654，ny＝1.626，nz＝1.640。这样，获得了本实施例的光学薄膜。
[实施例2]
(非液晶性材料的合成)
按照与实施例1的非液晶性材料的合成同样的步骤得到了聚芳酯。
(光学薄膜的制造)
将得到的聚芳酯(10g)溶解于甲苯(73g)中，调制双折射层形成材料。接着，在收缩性薄膜(PP的双轴拉伸薄膜、500×200mm、厚度为60μm)上，使用涂敷器直接涂布上述双折射层形成材料，从而形成了涂膜。接着，将上述涂膜在110℃下干燥5分钟。其后，使用间歇式同时双轴拉伸机，在155℃下，使上述涂膜在一个方向上收缩至0.95倍，从而形成了双折射层。接着，将上述双折射层从上述收缩性薄膜上剥离。上述双折射层的厚度为10.3μm，nx＝1.642，ny＝1.639，nz＝1.640。这样，获得了本实施例的光学薄膜。
[实施例3]
(非液晶性材料的合成)
按照与实施例1的非液晶性材料的合成同样的步骤得到了聚芳酯。
(光学薄膜的制造)
将得到的聚芳酯(10g)溶解于甲苯(73g)中，调制双折射层形成材料。接着，在收缩性薄膜(Amorphous PET(APET)的单轴拉伸薄膜、500×200mm、厚度为143μm)上，使用涂敷器直接涂布上述双折射层形成材料，从而形成了涂膜。作为上述APET的单轴拉伸薄膜，使用三菱树脂株式会社制造的商品名“NOVACLEAR”。接着，将上述涂膜在60℃下干燥5分钟。其后，使用间歇式同时双轴拉伸机，在80℃下使上述涂膜在一个方向上收缩至0.75倍，从而形成了双折射层。接着，将上述双折射层从上述收缩性薄膜上剥离。上述双折射层的厚度为8.8μm，nx＝1.653，ny＝1.628，nz＝1.639。这样，获得了本实施例的光学薄膜。
[实施例4]
(非液晶性材料的合成)
按照与实施例1的非液晶性材料的合成同样的步骤得到了聚芳酯。
(光学薄膜的制造)
将得到的聚芳酯(10g)溶解于甲苯(73g)中，调制双折射层形成材料。接着，在收缩性薄膜(丙烯酸树脂的单轴拉伸薄膜、500×200mm、厚度为93μm)上，使用涂敷器直接涂布上述双折射层形成材料，从而形成了涂膜。接着，将上述涂膜在150℃下干燥5分钟，同时使用间歇式同时双轴拉伸机，使其在一个方向上收缩至0.8倍，从而形成了双折射层。上述双折射层的厚度为12.3μm，nx＝1.647，ny＝1.633，nz＝1.640。这样，获得了本实施例的光学薄膜。
[实施例5]
(非液晶性材料的准备)
作为非液晶性材料，准备聚乙烯醇(日本酢ビ·ポバ一ル株式会社制造的商品名“J40”)。上述聚乙烯醇的上述双折射率(Δnxz)为0.0007。
(光学薄膜的制造)
将上述聚乙烯醇(10g)溶解于水(157g)中，调制双折射层形成材料。接着，在收缩性薄膜(Amorphous PET(APET)的单轴拉伸薄膜、500×200mm、厚度为143μm)上，使用涂敷器直接涂布上述双折射层形成材料，从而形成了涂膜。作为上述APET的单轴拉伸薄膜，使用与实施例3相同的单轴拉伸薄膜。接着，将上述涂膜在80℃下干燥5分钟，同时使用间歇式同时双轴拉伸机，使其在一个方向上收缩至0.60倍，从而形成了双折射层。接着，将上述双折射层从上述收缩性薄膜上剥离。上述双折射层的厚度为10.0μm，nx＝1.529，ny＝1.514，nz＝1.517。这样，获得了本实施例的光学薄膜。
[实施例6]
(非液晶性材料的合成)
在具备搅拌装置的反应容器中，将2，2-双(4-羟基苯基)-丁烷2.14g及苄基三乙基氯化铵0.06g溶解于1mol/L氢氧化钠溶液25mL中。边搅拌边向该溶液中一次性添加将对苯二甲酰氯1.02g及间苯二甲酰氯1.02g溶解于30mL的氯仿中而得到的溶液，在室温下搅拌90分钟，制成缩聚溶液。然后，将上述缩聚溶液静置分离而分离出含有聚芳酯的氯仿溶液。接着，将上述分离液用醋酸水洗涤，再用离子交换水洗涤后，投入到甲醇中而使聚芳酯析出。通过将析出的聚芳酯过滤，并在减压下干燥，从而得到白色的聚芳酯3.31g(收率为90％)。上述聚芳酯的上述双折射率(Δnxz)为0.024。
(光学薄膜的制造)
将得到的聚芳酯(10g)溶解于甲苯(73g)中，调制双折射层形成材料。接着，在收缩性薄膜(PP的双轴拉伸薄膜、500×200mm、厚度为60μm)上，使用涂敷器直接涂布上述双折射层形成材料，从而形成了涂膜。接着，将上述涂膜在110℃下干燥5分钟，制作了上述收缩性薄膜与上述涂膜的层叠体。其后，使用间歇式同时双轴拉伸机，在155℃下，通过使上述层叠体收缩至0.75倍来使上述涂膜收缩，同时将上述层叠体在与上述收缩方向正交的方向上拉伸至1.2倍，从而形成了双折射层。接着，将上述双折射层从上述收缩性薄膜上剥离。上述双折射层的厚度为7.30μm，nx＝1.676，ny＝1.643，nz＝1.654。这样，获得了本实施例的光学薄膜。
[实施例7]
(非液晶性材料的合成)
在具备搅拌装置的反应容器中，将2，2-双(3，5-二甲基-4-羟基苯基)-丁烷2.70g及苄基三乙基氯化铵0.06g溶解于1mol/L氢氧化钠溶液25mL中。边搅拌边向该溶液中一次性添加将对苯二甲酰氯2.03g溶解于30mL的氯仿中而得到的溶液，在室温下搅拌90分钟，制成缩聚溶液。然后，将上述缩聚溶液静置分离而分离出含有聚芳酯的氯仿溶液。接着，将上述分离液用醋酸水洗涤，再用离子交换水洗涤后，投入到甲醇中而使聚芳酯析出。通过将析出的聚芳酯过滤，并在减压下干燥，从而得到白色的聚芳酯3.51g(收率为92％)。上述聚芳酯的上述双折射率(Δnxz)为0.026。
(光学薄膜的制造)
将得到的聚芳酯(10g)溶解于甲苯(73g)中，调制双折射层形成材料。接着，在收缩性薄膜(PP的双轴拉伸薄膜、500×200mm、厚度为60μm)上，使用涂敷器直接涂布上述双折射层形成材料，从而形成了涂膜。接着，将上述涂膜在110℃下干燥5分钟，制作了上述收缩性薄膜与上述涂膜的层叠体。其后，使用间歇式同时双轴拉伸机，在155℃下，通过使上述层叠体收缩至0.75倍来使上述涂膜收缩，同时将上述层叠体在与上述收缩方向正交的方向上拉伸至1.2倍，从而形成了双折射层。接着，将上述双折射层从上述收缩性薄膜上剥离。上述双折射层的厚度为7.32μm，nx＝1.593，ny＝1.566，nz＝1.575。这样，获得了本实施例的光学薄膜。
[实施例8]
(非液晶性材料的合成)
在具备搅拌装置的反应容器中，将2，2-双(3-甲基-4-羟基苯基)-4-甲基戊烷2.98g及苄基三乙基氯化铵0.06g溶解于1mol/L氢氧化钠溶液25mL中。边搅拌边向该溶液中一次性添加将对苯二甲酰氯2.03g溶解于30mL的氯仿中而得到的溶液，在室温下搅拌90分钟，制成缩聚溶液。然后，将上述缩聚溶液静置分离而分离出含有聚芳酯的氯仿溶液。接着，将上述分离液用醋酸水洗涤，再用离子交换水洗涤后，投入到甲醇中而使聚芳酯析出。通过将析出的聚芳酯过滤，并在减压下干燥，从而得到白色的聚芳酯3.41g(收率为91％)。上述聚芳酯的上述双折射率(Δnxz)为0.023。
(光学薄膜的制造)
将得到的聚芳酯(10g)溶解于甲苯(73g)中，调制双折射层形成材料。接着，在收缩性薄膜(PP的双轴拉伸薄膜、500×200mm、厚度为60μm)上，使用涂敷器直接涂布上述双折射层形成材料，从而形成了涂膜。接着，将上述涂膜在110℃下干燥5分钟，制作了上述收缩性薄膜与上述涂膜的层叠体。其后，使用间歇式同时双轴拉伸机，在155℃下，通过使上述层叠体收缩至0.75倍来使上述涂膜收缩，同时将上述层叠体在与上述收缩方向正交的方向上拉伸至1.2倍，从而形成了双折射层。接着，将上述双折射层从上述收缩性薄膜上剥离。上述双折射层的厚度为8.12μm，nx＝1.607，ny＝1.579，nz＝1.587。这样，获得了本实施例的光学薄膜。
[比较例1]
在聚碳酸酯薄膜(200×100mm、厚度为65μm、上述双折射率(Δnxz)＝0.00029)的两面上使用丙烯酸系粘接剂粘接相同尺寸的收缩性薄膜(双轴拉伸PP、厚度为60μm)，得到了层叠体。其后，使用间歇式同时双轴拉伸机，在150℃下，通过使上述层叠体收缩至0.90倍来使上述聚碳酸酯薄膜收缩，同时将上述层叠体在与上述收缩方向正交的方向上拉伸至1.4倍，从而形成了双折射层。接着，将上述双折射层从上述收缩性薄膜上剥离。上述双折射层的厚度为60.1μm，nx＝1.589，ny＝1.581，nz＝1.585。这样，获得了本比较例的光学薄膜。
[比较例2]
在降冰片烯树脂薄膜(200×100mm、厚度为130μm、上述双折射率(Δnxz)＝0.00018)的两面上使用丙烯酸系粘接剂粘接相同尺寸的收缩性薄膜(双轴拉伸PP、厚度为60μm)，得到了层叠体。其后，使用间歇式同时双轴拉伸机，在150℃下，通过使上述层叠体收缩至0.80倍来使上述涂膜收缩，同时将上述层叠体在与上述收缩方向正交的方向上拉伸至1.5倍，从而形成了双折射层。接着，将上述双折射层从上述收缩性薄膜上剥离。上述双折射层的厚度为131.4μm，nx＝1.521，ny＝1.519，nz＝1.520。这样，获得了本比较例的光学薄膜。
对于实施例和比较例的各光学薄膜，对各种特性进行测定或评价。其结果示于下述表1中。
Figure BDA0000119415430000211
如上述表1所示的那样，在实施例中，能够使双折射层薄至20μm以下，在取向轴精度、外观和亮点方面获得了良好的结果。与此相对，在比较例中，双折射层的厚度大大超过20μm，在取向轴精度、外观和亮点方面也不良。
如上所述，在搭载了各实施例中得到的光学薄膜的层叠偏振片中，未观测到杂质混入导致的亮点，而且也没有观测到取向不良导致的漏光。而且，通过将上述层叠偏振片搭载在图像显示装置中，可以提供没有显示不良的图像显示装置。
产业上的可利用性
根据本发明的光学薄膜的制造方法，可以制造工序数量少、杂质的混入得以减少了的、包含具有nx＞nz＞ny的折射率分布的双折射层的光学薄膜。因此，本发明的光学薄膜例如可以合适地用于LCD等图像显示装置等中，其用途不受限制，可以适用于较广的领域。

Claims (12)

1.一种光学薄膜的制造方法，其是包含双折射层的光学薄膜的制造方法，其特征在于，包括以下工序：
涂膜形成工序：在收缩性薄膜上直接涂布含有下述式表示的厚度方向的双折射率Δnxz为0.0007以上的非液晶性材料的双折射层形成材料，从而形成涂膜；以及
双折射层形成工序：通过所述收缩性薄膜的收缩使所述涂膜收缩，从而形成具有nx＞nz＞ny的折射率分布的双折射层，
Δnxz＝nx’-nz’
nx’：以所述非液晶性材料作为固化层时的层的面内的折射率为最大的方向即慢轴方向的折射率，
nz’：与所述nx’的方向正交以及与所述固化层的面内的与所述nx’的方向正交的方向即快轴方向正交的所述固化层的厚度方向的折射率，
nx：所述双折射层的面内的折射率为最大的方向即慢轴方向的折射率，
ny：所述双折射层的面内的与所述nx的方向正交的方向即快轴方向的折射率，
nz：与所述nx及所述ny中的各方向正交的所述双折射层的厚度方向的折射率。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述非液晶性材料为选自由聚芳酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚芳基醚酮、聚醚酮、聚酰胺酰亚胺、聚酯酰亚胺、聚乙烯醇、聚富马酸酯、聚醚砜及聚砜构成的组中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述聚芳酯包含下述通式(I)表示的重复单元，
Figure FDA0000119415420000021
在所述式(I)中，
A及B各自表示取代基，它们是卤素原子、碳原子数为1～6的烷基、取代或无取代的芳基，A及B可以相同或不同，
a及b表示所对应的A及B的取代数，各自为1～4的整数，
D为共价键、CH2基、C(CH3)2基、C(CZ3)2基、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH2CH3)2基、N(CH3)基，所述C(CZ3)2基中的Z为卤素原子，
R1为碳原子数为1～10的直链或支链的烷基、取代或无取代的芳基，
R2为碳原子数为2～10的直链或支链的烷基、取代或无取代的芳基，
R3、R4、R5及R6各自为氢原子、碳原子数为1～4的直链或支链的烷基，R3、R4、R5及R6可以相同或不同，但R3、R4、R5及R6不全为氢原子，
p1为0～3的整数，
p2为1～3的整数，
n为2以上的整数。
4.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述双折射层形成工序中的所述涂膜的收缩倍率为0.50～0.99倍的范围。
5.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，在所述双折射层形成工序中，通过所述收缩性薄膜的收缩使所述涂膜收缩，并且将所述收缩性薄膜与所述涂膜的层叠体在与所述收缩方向正交的方向上拉伸。
6.根据权利要求5所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述层叠体的拉伸倍率为1.01～3.0倍的范围。
7.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述收缩性薄膜是由选自由聚烯烃、聚酯、丙烯酸树脂、聚酰胺、聚碳酸酯、降冰片烯树脂、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、纤维素树脂、聚醚砜、聚砜、聚酰亚胺、聚丙烯酸、醋酸酯树脂、聚芳酯、聚乙烯醇及液晶聚合物构成的组中的至少一种形成材料形成的拉伸薄膜。
8.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，在所述双折射层形成工序中，通过加热使所述收缩性薄膜收缩。
9.根据权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，将所述双折射层的厚度设定为20μm以下。
10.一种光学薄膜，其是包含双折射层的光学薄膜，其特征在于，所述双折射层包含下述通式(I)表示的重复单元，所述双折射层的正面相位差为100～500nm的范围，
在所述式(I)中，
A及B各自表示取代基，它们是卤素原子、碳原子数为1～6的烷基、取代或无取代的芳基，A及B可以相同或不同，
a及b表示所对应的A及B的取代数，各自为1～4的整数，
D为共价键、CH2基、C(CH3)2基、C(CZ3)2基、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH2CH3)2基、N(CH3)基，所述C(CZ3)2基中的Z为卤素原子，
R1为碳原子数为1～10的直链或支链的烷基、取代或无取代的芳基，
R2为碳原子数为2～10的直链或支链的烷基、取代或无取代的芳基，
R3、R4、R5及R6各自为氢原子、碳原子数为1～4的直链或支链的烷基，R3、R4、R5及R6可以相同或不同，但R3、R4、R5及R6不全为氢原子，
p1为0～3的整数，
p2为1～3的整数，
n为2以上的整数。
11.一种层叠偏振片，其是包含偏振片和光学薄膜的层叠偏振片，其特征在于，所述光学薄膜是权利要求10所述的光学薄膜，所述偏振片的吸收轴与所述光学薄膜的慢轴正交或平行。
12.一种图像显示装置，其是包含层叠偏振片的图像显示装置，其特征在于，所述层叠偏振片是权利要求11所述的层叠偏振片。
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