CN110494779A - 偏振片及图像显示装置 - Google Patents

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茂手木佑辅
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Abstract

本发明提供一种提高了耐弯曲性及操作性的偏振片。本发明的偏振片具有起偏器、配置于起偏器的一侧的第1保护膜和配置于起偏器的另一侧的第2保护膜，起偏器的厚度为12μm以下，第1及第2保护膜中的至少一者含有分散有芯壳型粒子的丙烯酸系树脂。

Description

偏振片及图像显示装置
技术领域
本发明涉及偏振片及图像显示装置。
背景技术
在图像显示装置(例如液晶显示装置、有机EL显示装置)中，因其图像形成方式，在较多情况下，在显示单元的至少一侧配置有偏振片。通常的偏振片具备起偏器和配置于起偏器的单侧或两侧的保护膜。近年来，以提高耐久性为目的，提出了使用由含有交联弹性体的(甲基)丙烯酸系树脂膜制成的保护膜(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2016-218478号公报
发明内容
发明所要解决的课题
如上所述的以往的偏振片在应对近年来的图像显示装置的薄型化的期望而将起偏器及保护膜进行薄型化的情况下，可能产生偏振片的耐弯曲性及操作性降低的问题。
本发明是为了解决上述以往的课题而进行的，其主要目的在于提供一种提高了耐弯曲性及操作性的偏振片及具备这样的偏振片的图像显示装置。
用于解决课题的手段
本发明的偏振片具有起偏器、配置于上述起偏器的一侧的第1保护膜和配置于上述起偏器的另一侧的第2保护膜，上述起偏器的厚度为12μm以下，上述第1及第2保护膜中的至少一者含有分散有芯壳型粒子的丙烯酸系树脂。
在一实施方式中，上述第1及第2保护膜中的至少一者相对于上述丙烯酸系树脂100重量份含有3重量份～20重量份的上述芯壳型粒子。
在一实施方式中，上述第1保护膜含有上述丙烯酸系树脂和上述芯壳型粒子，上述第1保护膜的厚度为30μm以下。
在一实施方式中，上述丙烯酸系树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元构成的组中的至少一种。
在一实施方式中，弯曲试验中至上述起偏器产生开裂为止的弯曲次数为10万次以上，铅笔硬度为H以上。
在一实施方式中，上述第1保护膜含有上述丙烯酸系树脂和上述芯壳型粒子，在以上述第1保护膜成为外侧的方式进行弯曲的弯曲试验中，至上述起偏器产生开裂为止的弯曲次数为30万次以上。
在一实施方式中，上述第2保护膜不含上述芯壳型粒子。
在一实施方式中，在上述第1保护膜或上述第2保护膜的与上述起偏器相反侧的面配置有表面处理层，上述表面处理层是选自由硬涂层、防眩层及抗反射层构成的组中的至少一种。
根据本发明的另一方面，提供一种图像显示装置。该图像显示装置具备上述偏振片。
发明效果
根据本发明，通过第1及第2保护膜中的至少任一者含有丙烯酸系树脂和分散于丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子，可提供一种提高了耐弯曲性及操作性的偏振片及具备这样的偏振片的图像显示装置。
附图说明
图1是基于本发明的一实施方式的偏振片的截面图。
图2是用于说明U次伸缩试验的概略图。
图3是用于说明扭转试验的概略图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明，但本发明并不限定于这些实施方式。
A.偏振片的整体构成
图1是基于本发明的一实施方式的偏振片的截面图。偏振片100具有起偏器10、配置于起偏器10的一侧的第1保护膜20和配置于起偏器的另一侧的第2保护膜30。起偏器10的厚度为12μm以下。第1保护膜20及第2保护膜30中的至少任一者含有分散有芯壳型粒子的丙烯酸系树脂。由此，可提高偏振片的耐弯曲性及操作性。特别是即使在将第1及第2保护膜进行薄型化的情况下，也可提高偏振片的耐弯曲性及操作性。偏振片100可用作图像显示装置的显示单元的目视确认侧和/或背面侧的偏振片。
第1保护膜20及第2保护膜30中的至少任一者优选相对于丙烯酸系树脂100重量份含有3重量份～20重量份的芯壳型粒子。在一实施方式中，第1保护膜20包含上述丙烯酸系树脂和上述芯壳型粒子，第1保护膜20的厚度为30μm以下。丙烯酸系树脂优选具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元构成的组中的至少一种。偏振片100优选在弯曲试验中至起偏器10产生开裂为止的弯曲次数为10万次以上，铅笔硬度为H以上。在一实施方式中，第1保护膜20含有丙烯酸系树脂及芯壳型粒子，在以第1保护膜20成为外侧的方式进行弯曲的弯曲试验中，至起偏器10产生开裂为止的弯曲次数为30万次以上。在一实施方式中，第2保护膜30不含芯壳型粒子。像这样，通过第1保护膜含有芯壳型粒子且第2保护膜不含芯壳侧型粒子，可提高偏振片的硬度。第1保护膜20含有芯壳型粒子且第2保护膜30不含芯壳型粒子的偏振片优选可以第2保护膜侧成为内侧保护层的方式应用于显示单元。在一实施方式中，在第1保护膜20或第2保护膜30的与起偏器10相反侧的面配置有表面处理层(未图示)，表面处理层是选自由硬涂层、防眩层及抗反射层构成的组中的至少一种。代表性而言，可在第1保护膜20或第2保护膜30中用作外侧保护层的保护膜上配置上述表面处理层。
B.起偏器
作为起偏器，可采用任意适当的起偏器。例如，形成起偏器的树脂膜可为单层的树脂膜，也可为两层以上的层叠体。
作为由单层的树脂膜构成的起偏器的具体例子，可列举出对聚乙烯醇(PVA)系膜、部分缩甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜实施利用碘或二色性染料等二色性物质的染色处理及拉伸处理而得到的起偏器；PVA的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜等。从光学特性优异的方面出发，优选使用以碘将PVA系膜进行染色并进行单轴拉伸而获得的起偏器。
上述利用碘的染色例如通过将PVA系膜浸渍在碘水溶液中而进行。上述单轴拉伸的拉伸倍率优选为3～7倍。拉伸可在染色处理后进行，也可一边染色一边进行。另外，也可在拉伸后进行染色。根据需要对PVA系膜实施溶胀处理、交联处理、洗涤处理、干燥处理等。例如，通过在染色前将PVA系膜浸渍在水中进行水洗，不仅可洗涤掉PVA系膜表面的污垢或抗粘连剂，而且可使PVA系膜溶胀而防止染色不均等。
作为使用层叠体而获得的起偏器的具体例子，可列举出使用树脂基材与层叠于该树脂基材上的PVA系树脂层(PVA系树脂膜)的层叠体、或树脂基材与涂布形成于该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而获得的起偏器。使用树脂基材与涂布形成于该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而获得的起偏器例如可通过以下方法制作：将PVA系树脂溶液涂布于树脂基材上，进行干燥而在树脂基材上形成PVA系树脂层，从而获得树脂基材与PVA系树脂层的层叠体；将该层叠体进行拉伸及染色而将PVA系树脂层制成起偏器。在本实施方式中，拉伸代表性而言包括将层叠体浸渍在硼酸水溶液中进行拉伸。进而，拉伸可根据需要进一步包括在硼酸水溶液中的拉伸前将层叠体在高温(例如95℃以上)下进行空中拉伸。可将树脂基材从所获得的树脂基材/起偏器的层叠体剥离，在该剥离面层叠第1或第2保护膜。这样的起偏器的制造方法的详细内容例如记载在日本特开2012-73580号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
起偏器的厚度为12μm以下，优选为1μm～10μm，进一步优选为3μm～8μm。
C.第1保护膜
C-1.第1保护膜的特性
在一实施方式中，第1保护膜含有分散有芯壳型粒子的丙烯酸系树脂。在另一实施方式中，第1保护膜含有二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素系树脂；环烯烃系树脂、聚丙烯等烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂等酯系树脂；聚酰胺系树脂；聚碳酸酯系树脂；或它们的共聚物树脂。第1保护膜的厚度优选为5μm～150μm，更优选为10μm～100μm，进一步优选为20μm～50μm。
第1保护膜优选为实质上具有光学各向同性。在本说明书中，所谓“实质上具有光学各向同性”是指面内相位差Re(550)为0nm～10nm且厚度方向的相位差Rth(550)为-10nm～+10nm。面内相位差Re(550)更优选为0nm～5nm，进一步优选为0nm～3nm，特别优选为0nm～2nm。厚度方向的相位差Rth(550)更优选为-5nm～+5nm，进一步优选为-3nm～+3nm，特别优选为-2nm～+2nm。若第1保护膜的Re(550)及Rth(550)为这样的范围，则在将偏振片应用于图像显示装置的情况下可防止对显示特性的不良影响。需要说明的是，Re(550)是23℃下的由波长550nm的光测定得到的膜的面内相位差。Re(550)可通过式：Re(550)＝(nx-ny)×d求出。Rth(550)是23℃下的由波长550nm的光测定得到的膜的厚度方向的相位差。Rth(550)可通过式：Rth(550)＝(nx-nz)×d求出。其中，nx是面内的折射率成为最大的方向(即，慢轴方向)的折射率，ny是在面内与慢轴正交的方向(即，快轴方向)的折射率，nz是厚度方向的折射率，d是膜的厚度(nm)。
第1保护膜的厚度为40μm时的380nm下的光线透射率越高越优选。具体而言，光线透射率优选为85％以上，更优选为88％以上，进一步优选为90％以上。若光线透射率为这样的范围，则可确保所期望的透明性。光线透射率例如可通过依据ASTM-D-1003的方法而测定。
第1保护膜的雾度越低越优选。具体而言，雾度优选为5％以下，更优选为3％以下，进一步优选为1.5％以下，特别优选为1％以下。若雾度为5％以下，则可对膜赋予良好的透明感。进而，即使在用于图像显示装置的目视确认侧偏振片的情况下，也可良好地目视确认显示内容。
第1保护膜的厚度为40μm时的YI(Yellowness Index，黄度指数)优选为1.27以下，更优选为1.25以下，进一步优选为1.23以下，特别优选为1.20以下。若YI超过1.3，则存在光学透明性变得不充分的情况。需要说明的是，YI例如可根据由使用高速积分球式分光透射率测定机(商品名DOT-3C：村上色彩技术研究所制造)的测定所获得的颜色的三刺激值(X、Y、Z)，通过下式而求出。
YI＝[(1.28X-1.06Z)/Y]×100
第1保护膜的厚度为40μm时的b值(依据汉特(Hunter)表色系统的色相的尺度)优选为低于1.5，更优选为1.0以下。在b值为1.5以上的情况下，存在出现并非所期望的色调的情况。需要说明的是，b值例如可通过将第1保护膜样品裁断为3cm见方，使用高速积分球式分光透射率测定机(商品名DOT-3C：村上色彩技术研究所制造)测定色相，并依据汉特表色系统评价该色相而获得。
第1保护膜的透湿度优选为300g/m2·24小时以下，更优选为250g/m2·24小时以下，进一步优选为200g/m2·24小时以下，特别优选为150g/m2·24小时以下，最优选为100g/m2·24小时以下。若第1保护膜的透湿度为这样的范围，则可获得耐久性及耐湿性优异的偏振片。
第1保护膜的抗拉强度优选为10MPa以上且低于100MPa，更优选为30MPa以上且低于100MPa。在低于10MPa的情况下，存在无法表现出充分的机械强度的情况。若超过100MPa，则有可能加工性变得不充分。抗拉强度例如可依据ASTM-D-882-61T而测定。
第1保护膜的拉伸伸长率优选为1.0％以上，更优选为3.0％以上，进一步优选为5.0％以上。拉伸伸长率的上限例如为100％。在拉伸伸长率低于1％的情况下，存在韧性变得不充分的情况。拉伸伸长率例如可依据ASTM-D-882-61T而测定。
第1保护膜的拉伸弹性模量优选为0.5GPa以上，更优选为1GPa以上，进一步优选为2GPa以上。拉伸弹性模量的上限例如为20GPa。在拉伸弹性模量低于0.5GPa的情况下，存在无法表现出充分的机械强度的情况。拉伸弹性模量例如可依据ASTM-D-882-61T而测定。
第1保护膜可根据目的含有任意适当的添加剂。作为添加剂的具体例子，可列举出紫外线吸收剂；受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化剂；耐光稳定剂、耐候稳定剂、热稳定剂等稳定剂；玻璃纤维、碳纤维等补强材；近红外线吸收剂；磷酸三(二溴丙基)酯、磷酸三烯丙酯、氧化锑等阻燃剂；阴离子系、阳离子系、非离子系的表面活性剂等抗静电剂；无机颜料、有机颜料、染料等着色剂；有机填料或无机填料；树脂改质剂；有机填充剂或无机填充剂；增塑剂；润滑剂等。添加剂可在丙烯酸系树脂的聚合时添加，也可在膜形成时添加。添加剂的种类、数量、组合、添加量等可根据目的而适当设定。
C-2.丙烯酸系树脂
C-2-1.丙烯酸系树脂的构成
作为丙烯酸系树脂，可采用任意适当的丙烯酸系树脂。丙烯酸系树脂中，代表性而言，作为单体单元，含有(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要成分。在本说明书中，所谓“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。作为构成丙烯酸系树脂的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示出直链状或支链状的烷基的碳数为1～18的(甲基)丙烯酸烷基酯。它们可单独使用或组合而使用。进而，也可以通过共聚在丙烯酸系树脂中导入任意适当的共聚单体。这样的共聚单体的种类、数量、共聚比等可根据目的而适当设定。关于丙烯酸系树脂的主骨架的构成成分(单体单元)，下文参照通式(2)进行描述。
丙烯酸系树脂优选具有选自戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元中的至少一种。具有内酯环单元的丙烯酸系树脂例如记载在日本特开2008-181078号公报中，该公报的记载作为参考而援引于本说明书中。戊二酰亚胺单元优选以下述通式(1)表示：
在通式(1)中，R1及R2分别独立地表示氢原子或碳数为1～8的烷基，R3表示氢原子、碳数为1～18的烷基、碳数为3～12的环烷基、或碳数为6～10的芳基。在通式(1)中，优选R1及R2分别独立地为氢原子或甲基，且R3为氢原子、甲基、丁基或环己基。更优选R1为甲基，R2为氢原子，且R3为甲基。
上述(甲基)丙烯酸烷基酯代表性而言以下述通式(2)表示：
在通式(2)中，R4表示氢原子或甲基，R5表示氢原子、或者可经取代的碳数为1～6的脂肪族或脂环式烃基。作为取代基，例如可列举出卤素、羟基。作为(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例子，可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸氯甲酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5,6-五羟基己酯及(甲基)丙烯酸2,3,4,5-四羟基戊酯。在通式(2)中，R5优选为氢原子或甲基。因此，特别优选的(甲基)丙烯酸烷基酯为丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸甲酯。
上述丙烯酸系树脂可仅含有单一的戊二酰亚胺单元，也可含有上述通式(1)中的R1、R2及R3不同的多种戊二酰亚胺单元。
上述丙烯酸系树脂中的戊二酰亚胺单元的含有比例优选为2摩尔％～50摩尔％，更优选为2摩尔％～45摩尔％，进一步优选为2摩尔％～40摩尔％，特别优选为2摩尔％～35摩尔％，最优选为3摩尔％～30摩尔％。若含有比例少于2摩尔％，则有可能不会充分地发挥来源于戊二酰亚胺单元而表现出的效果(例如较高的光学特性、较高的机械强度、与起偏器的优异的粘接性、薄型化)。若含有比例超过50摩尔％，则有可能例如耐热性、透明性变得不充分。
上述丙烯酸系树脂可仅含有单一的(甲基)丙烯酸烷基酯单元，也可含有上述通式(2)中的R4及R5不同的多种(甲基)丙烯酸烷基酯单元。
上述丙烯酸系树脂中的(甲基)丙烯酸烷基酯单元的含有比例优选为50摩尔％～98摩尔％，更优选为55摩尔％～98摩尔％，进一步优选为60摩尔％～98摩尔％，特别优选为65摩尔％～98摩尔％，最优选为70摩尔％～97摩尔％。若含有比例少于50摩尔％，则有可能不会充分地发挥来源于(甲基)丙烯酸烷基酯单元而表现出的效果(例如较高的耐热性、较高的透明性)。若上述含有比例多于98摩尔％，则有可能树脂变脆而容易开裂，无法充分地发挥出较高的机械强度，生产率差。
上述丙烯酸系树脂也可含有戊二酰亚胺单元及(甲基)丙烯酸烷基酯单元以外的单元。
在一实施方式中，丙烯酸系树脂可含有未参与下文所述的分子内酰亚胺化反应的不饱和羧酸单元例如0～10重量％。不饱和羧酸单元的含有比例优选为0～5重量％，更优选为0～1重量％。若含量为这样的范围，则可维持透明性、滞留稳定性及耐湿性。
在一实施方式中，丙烯酸系树脂可含有上述以外的可进行共聚的乙烯基系单体单元(其他乙烯基系单体单元)。作为该其他乙烯基系单体，例如可列举出丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙烯腈、烯丙基缩水甘油醚、马来酸酐、衣康酸酐、N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸丙基氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸乙基氨基丙酯、甲基丙烯酸环己基氨基乙酯、N-乙烯基二乙基胺、N-乙酰基乙烯基胺、烯丙基胺、甲基烯丙基胺、N-甲基烯丙基胺、2-异丙烯基噁唑啉、2-乙烯基噁唑啉、2-丙烯酰基噁唑啉、N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酸苯基氨基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对缩水甘油基苯乙烯、对氨基苯乙烯、2-苯乙烯基噁唑啉等。它们可单独使用，也可并用。优选为苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系单体。其他乙烯基系单体单元的含有比例优选为0～1重量％，更优选为0～0.1重量％。若为这样的范围，则可抑制并非所期望的相位差的表现及透明性的降低。
上述丙烯酸系树脂中的酰亚胺化率优选为2.5％～20.0％。若酰亚胺化率为这样的范围，则可获得耐热性、透明性及成型加工性优异的树脂，可防止膜成型时的烧焦的产生或机械强度的降低。在上述丙烯酸系树脂中，酰亚胺化率以戊二酰亚胺单元与(甲基)丙烯酸烷基酯单元之比表示。该比例如可根据丙烯酸系树脂的NMR(Nuclear magneticresonance，核磁共振)光谱、IR(Infrared，红外线)光谱等而获得。在本实施方式中，酰亚胺化率可使用1HNMR BRUKER AvanceIII(400MHz)，通过树脂的1H-NMR测定而求出。更具体而言，将3.5至3.8ppm附近的来源于(甲基)丙烯酸烷基酯的O-CH3质子的峰面积设为A，将3.0至3.3ppm附近的来源于戊二酰亚胺的N-CH3质子的峰面积设为B，通过下式而求出。
酰亚胺化率Im(％)＝{B/(A+B)}×100
上述丙烯酸系树脂的酸值优选为0.10mmol/g～0.50mmol/g。若酸值为这样的范围，则可获得耐热性、机械物性及成型加工性的平衡优异的树脂。若酸值过小，则存在产生因使用用于调整为所期望的酸值的改性剂引起的成本提高、因改性剂的残存引起的凝胶状物的产生等问题的情况。若酸值过大，则有变得容易引起膜成型时(例如熔融挤出时)的发泡而导致成型品的生产率降低的倾向。关于上述丙烯酸系树脂，酸值是该丙烯酸系树脂中的羧酸单元及羧酸酐单元的含量。在本实施方式中，酸值例如可通过WO2005/054311或日本特开2005-23272号公报所记载的滴定法而算出。
上述丙烯酸系树脂的重均分子量优选为1000～2000000，更优选为5000～1000000，进一步优选为10000～500000，特别优选为50000～500000，最优选为60000～150000。重均分子量例如可使用凝胶渗透色谱仪(GPC系统，Tosoh制造)，通过聚苯乙烯换算而求出。需要说明的是，可使用四氢呋喃作为溶剂。
上述丙烯酸系树脂的Tg(玻璃化转变温度)优选为110℃以上，更优选为115℃以上，进一步优选为120℃以上，特别优选为125℃以上，最优选为130℃以上。若Tg为110℃以上，则含有由这样的树脂获得的第1保护膜的偏振片容易成为耐久性优异的偏振片。Tg的上限值优选为300℃以下，更优选为290℃以下，进一步优选为285℃以下，特别优选为200℃以下，最优选为160℃以下。若Tg为这样的范围，则成型性会优异。
C-2-2.丙烯酸系树脂的聚合
上述丙烯酸系树脂例如可通过以下的方法制造。该方法包括：(I)将与通式(2)所表示的(甲基)丙烯酸烷基酯单元相对应的(甲基)丙烯酸烷基酯单体与不饱和羧酸单体和/或其前体单体进行共聚而获得共聚物(a)；及(II)利用酰亚胺化剂处理该共聚物(a)，由此进行该共聚物(a)中的(甲基)丙烯酸烷基酯单体单元与不饱和羧酸单体和/或其前体单体单元的分子内酰亚胺化反应，将通式(1)所表示的戊二酰亚胺单元导入至共聚物中。
作为不饱和羧酸单体，例如可列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-取代丙烯酸、α-取代甲基丙烯酸。作为其前体单体，例如可列举出丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等。它们可单独使用，也可并用。优选的不饱和羧酸单体为丙烯酸或甲基丙烯酸，优选的前体单体为丙烯酰胺。
作为利用酰亚胺化剂对共聚物(a)进行处理的方法，可使用任意适当的方法。作为具体例子，可列举出使用挤出机的方法、使用分批式反应槽(压力容器)的方法。使用挤出机的方法包括使用挤出机将共聚物(a)加热熔融，并利用酰亚胺化剂对其进行处理。在该情况下，作为挤出机，可使用任意适当的挤出机。作为具体例子，可列举出单螺杆挤出机、双螺杆挤出机、多螺杆挤出机。使用分批式反应槽(压力容器)的方法中可使用任意适当的分批式反应槽(压力容器)。
作为酰亚胺化剂，只要可生成上述通式(1)所表示的戊二酰亚胺单元，则可使用任意适当的化合物。作为酰亚胺化剂的具体例子，可列举出甲胺、乙胺、正丙胺、异丙胺、正丁胺、异丁胺、叔丁胺、正己胺等含有脂肪族烃基的胺；苯胺、苄胺、甲苯胺、三氯苯胺等含有芳香族烃基的胺；环己胺等含有脂环式烃基的胺。进而，例如也可使用通过加热而产生这样的胺的脲系化合物。作为脲化合物，例如可列举出脲、1,3-二甲基脲、1,3-二乙基脲、1,3-二丙基脲。酰亚胺化剂优选为甲胺、氨、环己胺，更优选为甲胺。
在酰亚胺化中，除了上述酰亚胺化剂以外，也可根据需要添加闭环促进剂。
酰亚胺化中的酰亚胺化剂的使用量相对于共聚物(a)100重量份，优选为0.5重量份～10重量份，更优选为0.5重量份～6重量份。若酰亚胺化剂的使用量少于0.5重量份，则未达成所期望的酰亚胺化率的情况较多。其结果是，存在所获得的树脂的耐热性变得极不充分而诱发成型后的烧焦等外观缺陷的情况。若酰亚胺化剂的使用量超过10重量份，则存在树脂中残存酰亚胺化剂而由该酰亚胺化剂诱发成型后的烧焦等外观缺陷或发泡的情况。
本实施方式的制造方法除了上述酰亚胺化以外根据需要也可包括利用酯化剂所进行的处理。
作为酯化剂，例如可列举出碳酸二甲酯、2,2-二甲氧基丙烷、二甲基亚砜、原甲酸三乙酯、原乙酸三甲酯、原甲酸三甲酯、碳酸二苯酯、硫酸二甲酯、甲苯磺酸甲酯、三氟甲磺酸甲酯、乙酸甲酯、甲醇、乙醇、异氰酸甲酯、异氰酸对氯苯酯、二甲基碳二酰亚胺、二甲基叔丁基甲硅烷基氯、乙酸异丙烯酯、二甲基脲、氢氧化四甲基铵、二甲基二乙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、亚磷酸二甲酯(三甲基硅烷)酯、亚磷酸三甲酯、磷酸三甲酯、磷酸三甲苯酯、重氮甲烷、环氧乙烷、环氧丙烷、环氧环己烷、2-乙基己基缩水甘油醚、苯基缩水甘油醚、苄基缩水甘油醚。它们中，从成本及反应性等观点出发，优选为碳酸二甲酯。
酯化剂的添加量可以丙烯酸系树脂的酸值成为所期望的值的方式设定。
C-2-3.其他树脂的并用
在本发明的实施方式中，可将上述丙烯酸系树脂与其他树脂并用。即，可将构成丙烯酸系树脂的单体成分与构成其他树脂的单体成分进行共聚，并将该共聚物供于下文D项所述的膜形成；也可将丙烯酸系树脂与其他树脂的共混物供于膜形成。作为其他树脂，例如可列举出苯乙烯系树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚砜、聚苯醚、聚缩醛、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺等其他热塑性树脂；酚系树脂、三聚氰胺系树脂、聚酯系树脂、有机硅系树脂、环氧系树脂等热硬化性树脂。所并用的树脂的种类及配合量可根据目的及对所获得的膜所期望的特性等而适当设定。例如，苯乙烯系树脂(优选为丙烯腈-苯乙烯共聚物)可作为相位差控制剂而并用。
在将丙烯酸系树脂与其他树脂并用的情况下，丙烯酸系树脂与其他树脂的共混物中的丙烯酸系树脂的含量优选为50重量％～100重量％，更优选为60重量％～100重量％，进一步优选为70重量％～100重量％，特别优选为80重量％～100重量％。在含量低于50重量％的情况下，有可能无法充分地反映出丙烯酸系树脂本来具有的较高的耐热性、较高的透明性。
C-3.芯壳型粒子
在上述第1保护膜中，芯壳型粒子相对于丙烯酸系树脂100重量份，而配合优选为3重量份～25重量份，更优选为5重量份～20重量份。由此，在将第1保护膜用作起偏器的保护层的情况下可提高偏振片的耐弯曲性及操作性。
芯壳型粒子代表性而言具有由橡胶状聚合物构成的芯及由玻璃状聚合物构成且覆盖该芯的覆盖层。芯壳型粒子也可以具有一层以上由玻璃状聚合物构成的层作为最内层或中间层。
构成芯的橡胶状聚合物的Tg优选为20℃以下，更优选为-60℃～20℃，进一步优选为-60℃～10℃。若构成芯的橡胶状聚合物的Tg超过20℃，则有可能丙烯酸系树脂的机械强度的提高不充分。构成覆盖层的玻璃状聚合物(硬质聚合物)的Tg优选为50℃以上，更优选为50℃～140℃，进一步优选为60℃～130℃。若构成覆盖层的玻璃状聚合物的Tg低于50℃，则有可能丙烯酸系树脂的耐热性降低。
芯壳型粒子中的芯的含有比例优选为30重量％～95重量％，更优选为50重量％～90重量％。芯中的玻璃状聚合物层的比例相对于芯的总量100重量％为0～60重量％，优选为0～45重量％，更优选为10重量％～40重量％。芯壳型粒子中的覆盖层的含有比例优选为5重量％～70重量％，更优选为10重量％～50重量％。
在一实施方式中，分散于丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子可具有扁平形状。芯壳型粒子可通过下文C-4项所述的拉伸而扁平化。经扁平化的芯壳型粒子的长度/厚度之比为7.0以下。长度/厚度之比优选为6.5以下，更优选为6.3以下。另一方面，长度/厚度之比优选为4.0以上，更优选为4.5以上，进一步优选为5.0以上。在本说明书中，所谓“长度/厚度之比”是指芯壳型粒子的俯视形状的代表长度与厚度之比。其中，所谓“代表长度”，在俯视形状为圆形的情况下是指直径，在椭圆形的情况下是指长径，在矩形或多边形的情况下是指对角线的长度。该比例如可按照以下的步骤求出。利用透射型电子显微镜(例如加速电压为80kV、RuO4染色超薄切片法)对所获得的膜截面进行拍摄，从存在于所获得的照片中的芯壳型粒子中的较长的粒子(获得接近代表长度的截面的粒子)中依次选取30个，算出(长度的平均值)/(厚度的平均值)，由此可获得该比。
构成芯壳型粒子的芯的橡胶状聚合物、构成覆盖层的玻璃状聚合物(硬质聚合物)、它们的聚合方法及其他构成的详细内容例如记载在日本特开2016-33552号公报中。该公报的记载作为参考而援引于本说明书中。
C-4.第1保护膜的形成
基于本发明的实施方式的第1保护膜代表性而言可通过包括将含有上述丙烯酸系树脂(在并用其他树脂的情况下为与该其他树脂的共混物)及芯壳型粒子的组合物形成膜的方法而形成。进而，形成第1保护膜的方法可包括将上述膜进行拉伸。
膜形成所使用的芯壳型粒子的平均粒径优选为1nm～500nm。芯的平均粒径优选为50nm～300nm，更优选为70nm～300nm。
作为形成膜的方法，可采用任意适当的方法。作为具体例子，可列举出流延涂装法(例如流延法)、挤出成型法、注射成型法、压缩成型法、传递模塑法、吹塑成型法、粉末成型法、FRP(Fiber Reinforced Plastic，纤维强化塑料)成型法、压延成型法、热压法。优选为挤出成型法或流延涂装法。其原因在于：可提高所获得的膜的平滑性，可获得良好的光学均一性。特别优选为挤出成型法。其原因在于无需考虑因残存溶剂引起的问题。其中，使用T模的挤出成型法从膜的生产率及以后的拉伸处理的容易性的观点出发优选。成型条件可根据所使用的树脂的组成或种类、对所获得的膜所期望的特性等而适当设定。
作为拉伸方法，可采用任意适当的拉伸方法、拉伸条件(例如拉伸温度、拉伸倍率、拉伸速度、拉伸方向)。作为拉伸方法的具体例子，可列举出自由端拉伸、固定端拉伸、自由端收缩、固定端收缩。它们可单独使用，也可同时使用，也可逐步使用。通过在合适的拉伸条件下对已适当调整芯壳型粒子相对于丙烯酸系树脂的配合量的膜进行拉伸，可提高将第1保护膜应用于偏振片的情况下的偏振片的耐弯曲性及操作性。
拉伸方向可根据目的而采用合适的方向。具体而言，可列举出长度方向、宽度方向、厚度方向、倾斜方向。拉伸方向可为一方向(单轴拉伸)，也可为两方向(双轴拉伸)，也可为三方向以上。在本发明的实施方式中，代表性而言，可采用长度方向的单轴拉伸、长度方向及宽度方向的同时双轴拉伸、长度方向及宽度方向的逐步双轴拉伸。优选为双轴拉伸(同时或逐步)。其原因在于：容易控制面内相位差，而容易实现光学各向同性。
拉伸温度可根据对第1保护膜所期望的光学特性、机械特性及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸倍率、拉伸速度等而变化。具体而言，拉伸温度优选为Tg～Tg+50℃，进一步优选为Tg+15℃～Tg+50℃，最优选为Tg+35℃～Tg+50℃。通过在这样的温度下进行拉伸，可获得具有合适的特性的第1保护膜。具体的拉伸温度例如为110℃～200℃，优选为120℃～190℃。若拉伸温度为这样的范围，则通过适当调整拉伸倍率及拉伸速度，可提高将第1保护膜应用于偏振片的情况下的偏振片的耐弯曲性及操作性。
另外，拉伸倍率也与拉伸温度同样地可根据光学特性、机械特性及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸温度、拉伸速度等而变化。在采用双轴拉伸的情况下，宽度方向(TD)的拉伸倍率与长度方向(MD)的拉伸倍率之比(TD/MD)优选为1.0～1.5，更优选为1.0～1.4，进一步优选为1.0～1.3。另外，采用双轴拉伸的情况下的面倍率(长度方向的拉伸倍率与宽度方向的拉伸倍率之积)优选为2.0～6.0，更优选为3.0～5.5，进一步优选为3.5～5.2。若拉伸倍率为这样的范围，则通过适当调整拉伸温度及拉伸速度，可提高将第1保护膜应用于偏振片的情况下的偏振片的耐弯曲性及操作性。
另外，拉伸速度也与拉伸温度同样地可根据光学特性、机械特性及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸温度、拉伸倍率等而变化。拉伸速度优选为3％/秒～20％/秒，更优选为3％/秒～15％/秒，进一步优选为3％/秒～10％/秒。在采用双轴拉伸的情况下，一方向的拉伸速度与另一方向的拉伸速度可相同也可不同。若拉伸速度为这样的范围，则通过适当调整拉伸温度及拉伸倍率，可提高将第1保护膜应用于偏振片的情况下的偏振片的耐弯曲性及操作性。
以上述方式可形成第1保护膜。
D.第2保护膜
在一实施方式中，第2保护膜如上所述含有分散有芯壳型粒子的丙烯酸系树脂。在另一实施方式中，第2保护膜不含芯壳型粒子。构成第2保护膜的膜如C项中对第1保护膜所说明的那样。
E.表面处理层
表面处理层是根据对偏振片所要求的功能而形成于第1保护膜或第2保护膜的单侧的任意适当的功能层。作为表面处理层的具体例子，可列举出硬涂层、防眩层及抗反射层等。表面处理层的厚度优选为2μm～30μm，更优选为5μm～25μm。
表面处理层代表性而言为形成于第1保护膜或第2保护膜(以下简称为“保护膜”)上的树脂组合物的硬化层。形成表面处理层的工序可包括：在保护膜上涂布表面处理层形成用的树脂组合物而形成涂布层；及将上述涂布层进行干燥并使其硬化而制成表面处理层。将上述涂布层进行干燥并使其硬化可包括加热上述涂布层。
作为树脂组合物的涂布方法，可采用任意适当的方法。例如可列举出棒涂法、辊涂法、凹版涂布法、杆式涂布法、孔缝式涂布法、帘式涂布法、喷注式涂布法、逗号涂布法。从使涂布变得容易的观点出发，树脂组合物优选含有稀释用的溶剂。
涂布层的加热温度可设定为与树脂组合物的组成相应的任意适当的温度，优选设定为保护膜所含的丙烯酸系树脂的玻璃化转变温度以下。若在保护膜所含的丙烯酸系树脂的玻璃化转变温度以下的温度下进行加热，则可获得抑制了因加热引起的变形的保护膜。涂布层的加热温度例如为60℃～140℃，优选为70℃～100℃。通过在这样的加热温度下进行加热，可获得保护膜与表面处理层的密合性优异的保护膜。
C-1.硬涂层
硬涂层是对保护膜的表面赋予耐擦伤性及耐化学品性等的层。硬涂层在铅笔硬度试验中具有优选为H以上、更优选为3H以上的硬度。铅笔硬度试验可依据JIS K 5400而测定。硬涂层形成用的树脂组合物例如可含有能够通过热、光(紫外线等)或电子射线等而硬化的硬化性化合物。硬涂层及硬涂层形成用的树脂组合物的详细内容例如记载在日本特开2014-240955号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
C-2.防眩层
防眩层是用于通过使光散射并反射而防止外界光的映入的层。防眩层形成用的树脂组合物例如可含有能够通过热、光(紫外线等)或电子射线等而硬化的硬化性化合物。防眩层代表性而言在表面具有微细凹凸形状。作为形成这样的微细凹凸形状的方法，例如可列举出使上述硬化性化合物含有微粒的方法。防眩层及防眩层形成用的树脂组合物的详细内容例如记载在日本特开2017-32711号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
C-3.抗反射层
抗反射层是用于防止外界光的反射的层。抗反射层形成用的树脂组合物例如可含有能够通过热、光(紫外线等)或电子射线等而硬化的硬化性化合物。抗反射层可为仅由1层构成的单层，也可为包含2层以上的多层。抗反射层及抗反射层形成用的树脂组合物的详细内容例如记载在日本特开2012-155050号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
F.图像显示装置
上述A至E项所记载的偏振片可应用于图像显示装置。因此，本发明也包含使用这样的偏振片的图像显示装置。作为图像显示装置的代表例，可列举出液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置。图像显示装置具备上述A至E项所记载的偏振片。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行具体说明，但本发明并不限定于这些实施例。各特性的测定方法如下所述。需要说明的是，只要无特别明确记载，则实施例中的“份”及“％”为重量基准。
(1)厚度
使用数字式测微计(Anritsu公司制造，制品名“KC-351C”)进行测定。
(2)保护膜的弹性模量
在保护膜的弹性模量测定中使用了TI900 TriboIndenter(Hysitron公司制造)。将所获得的偏振片裁断为10mm×10mm的尺寸，并固定在附带有TriboIndenter的支撑体上，通过纳米压痕法进行压缩弹性模量的测定。此时，以使用压头压入透明层的中心部附近的方式调整位置。以下示出测定条件。
使用压头：Berkovich(三角锥型)
测定方法：单一压入测定
测定温度：25℃
压入深度：500nm
压入速度：100nm/秒
(3)硬度
依据JIS K 5600-5-4(负荷：500g)测定铅笔硬度。
(4)耐弯曲性
在实施例及比较例的偏振片的第2保护膜侧形成粘合剂层，将带粘合剂层的偏振片供于弯曲试验，以至偏振片产生开裂为止的弯曲次数作为耐弯曲性的指标。
弯曲试验是使用YUASA SYSTEM公司制造的面状体无负荷U字伸缩试验机(制品名：本体DLDM111LH及夹具：面状体无负荷U字伸缩试验夹具)并按照以下的步骤进行。如图2所示的那样，通过双面胶带(未图示)将100mm(吸收轴方向)×50mm(透射轴方向)的单片状偏振片的两端部x、y(50mm)固定在上述试验机的支撑部21、22后，在下述条件下进行如偏振片的单面侧(第1面)朝向内侧成为U字状的伸缩，将偏振片弯折。在U字伸缩中，以弯折R(弯曲半径)成为6mm的方式设定，将偏振片由平面的状态以对折状态弯折。上述弯折是使两端部x、y以如下方式接触：通过支撑部的动作进行两端部x、y的接触，同时通过另行设置的板部23、24将偏振片的其他部分从两外侧无负荷地夹入。另外，上述利用伸缩进行的弯折对于偏振片的其他单面侧(第2面)也同样地进行朝向内侧成为U字状的伸缩。
伸缩速度：60rpm
弯折R：6mm
·内弯弯曲试验
以第1保护膜成为内侧(第2保护膜成为外侧)的方式，以弯曲直径6mm反复进行弯曲。
·外弯弯曲试验
以第1保护膜成为外侧(第2保护膜成为内侧)的方式，以弯曲直径6mm反复进行弯曲。
(5)操作性
对于实施例及比较例的偏振片，在第2保护膜侧形成粘合剂层，将带粘合剂层的偏振片供于扭转试验，以偏振片是否存在折断或开裂作为操作性的指标。
扭转试验是使用YUASA SYSTEM公司制造的面状体无负荷扭转试验机(制品名：本体TCDM111LH及夹具：面状体无负荷扭转试验夹具)并按照以下的步骤进行。如图3所示的那样，通过上述试验机的扭转用夹具18、19夹持固定120mm(吸收轴方向)×80mm(透射轴方向)的单片状偏振片的两短边后，在以夹具19固定一短边的状态下，在下述条件下扭转另一短边侧的夹具18。
扭转速度：10rpm
扭转角度：45度
扭转次数：100次
需要说明的是，评价基准如下所述。
○：无折断/无开裂(评价基准)
△：有折断/无开裂(评价基准)
×：有开裂(评价基准)
1.保护膜
＜制造例1＞
(保护膜A)
利用单甲基胺将MS树脂(MS-200；甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(摩尔比)＝80/20的共聚物，新日铁化学株式会社制造)进行酰亚胺化(酰亚胺化率：5％)。所获得的酰亚胺化MS树脂具有通式(1)所表示的戊二酰亚胺单元(R1及R3为甲基，R2为氢原子)、通式(2)所表示的(甲基)丙烯酸酯单元(R4及R5为甲基)及苯乙烯单元。需要说明的是，上述酰亚胺化中使用了口径为15mm的啮合型同方向旋转式双螺杆挤出机。将挤出机的各调温区的设定温度设定为230℃，将螺杆转速设定为150rpm，以2.0kg/小时供给MS树脂，单甲基胺的供给量相对于MS树脂100重量份设定为2重量份。从料斗投入MS树脂，通过捏合段使树脂熔融及充满后，从喷嘴注入单甲基胺。在反应区的末端装入密封圈使树脂充满。将排气口的压力减压为-0.08MPa而将反应后的副产物及过量的甲基胺去除挥发物。以线料形式从设置在挤出机出口的模具排出的树脂在水槽中冷却后，通过造粒机进行颗粒化。所获得的酰亚胺化MS树脂的酰亚胺化率为5.0％，酸值为0.5mmol/g。
将上述所获得的酰亚胺化MS树脂100重量份与芯壳型粒子15重量份投入至单螺杆挤出机中进行熔融混合，通过T模而进行膜形成，由此获得厚度120μm的挤出膜。将所获得的挤出膜在拉伸温度150℃下沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸速度在长度方向及宽度方向上均为10％/秒。由此制作保护膜A。所获得的保护膜A的厚度为30μm，保护膜A的弹性模量为3.8GPa。
＜制造例2＞
(保护膜B)
将上述制造例1中获得的酰亚胺化MS树脂投入至单螺杆挤出机中进行熔融混合，通过T模而进行膜形成，由此获得厚度为120μm的挤出膜。将所获得的挤出膜在拉伸温度160℃下沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸速度在长度方向及宽度方向上均为10％/秒。由此制作保护膜B。所获得的保护膜B的厚度为30μm，保护膜B的弹性模量为5.1GPa。
＜制造例3＞
(保护膜C)
使用三乙酰纤维素(TAC)膜(Konica Minolta株式会社制造，商品名“KC4UY”，厚度为40μm)作为保护膜C。
＜制造例4＞
(保护膜D)
使用TAC膜(Konica Minolta株式会社制造，商品名“KC2UA”，厚度为25μm)作为保护膜D。
＜制造例5＞
(保护膜E)
使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Toray株式会社制造，商品名“Lumirror”，厚度为25μm)作为保护膜E。
＜制造例6＞
(保护膜F)
使用环烯烃系树脂膜(Zeon Corporation制造，商品名“ZeonorFilm”，厚度为40μm)作为保护膜F。
＜制造例7＞
(保护膜G)
使用环烯烃系树脂膜(Zeon Corporation制造，商品名“ZeonorFilm”，厚度为25μm)作为保护膜G。
＜制造例8＞
(保护膜H)
使用环烯烃系树脂膜(Zeon Corporation制造，商品名“ZeonorFilm”，厚度为50μm)作为保护膜H。
2.起偏器
＜制造例9＞
(起偏器A)
对吸水率为0.75％、Tg为75℃的非晶质的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯(IPA共聚PET)膜(厚度：100μm)基材的单面实施电晕处理，在25℃下在该电晕处理面涂布以9：1的比含有聚乙烯醇(聚合度为4200，皂化度为99.2摩尔％)及乙酰乙酰基改性PVA(聚合度为1200，乙酰乙酰基改性度为4.6％，皂化度为99.0摩尔％以上，日本合成化学工业公司制造，商品名“GOHSEFIMER Z200”)的水溶液并进行干燥，而形成厚度为11μm的PVA系树脂层，制作层叠体。将所获得的层叠体在120℃的烘箱内在圆周速度不同的辊间沿纵向(长边方向)自由端单轴拉伸至2.0倍(空中辅助拉伸处理)。接着，将层叠体在液温为30℃的不溶化浴(相对于水100重量份配合4重量份的硼酸所获得的硼酸水溶液)中浸渍30秒(不溶化处理)。接着，一边以偏振片成为规定的透射率的方式调整碘浓度、浸渍时间，一边使其浸渍在液温为30℃的染色浴中。在本制造例中，在相对于水100重量份配合碘0.2重量份并配合碘化钾1.0重量份所获得的碘水溶液中浸渍60秒(染色处理)。接着，在液温为30℃的交联浴(相对于水100重量份配合碘化钾3重量份并配合硼酸3重量份所获得的硼酸水溶液)中浸渍30秒(交联处理)。其后，一边将层叠体浸渍在液温为70℃的硼酸水溶液(相对于水100重量份配合硼酸3.75重量份并配合碘化钾5重量份所获得的水溶液)中，一边以总拉伸倍率成为5.5倍的方式在圆周速度不同的辊间沿纵向(长边方向)进行单轴拉伸(水中拉伸处理)。其后，将层叠体浸渍在液温为30℃的洗涤浴(相对于水100重量份配合碘化钾4重量份所获得的水溶液)中(洗涤处理)。
通过以上获得含有厚度为5μm的起偏器A的光学膜层叠体A。
＜制造例10＞
(起偏器B)
对吸水率为0.75％、Tg为75℃的非晶质的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯(IPA共聚PET)膜(厚度：100μm)基材的单面实施电晕处理，在25℃下在该电晕处理面涂布以9：1的比含有聚乙烯醇(聚合度为4200，皂化度为99.2摩尔％)及乙酰乙酰基改性PVA(聚合度为1200，乙酰乙酰基改性度为4.6％，皂化度为99.0摩尔％以上，日本合成化学工业公司制造，商品名“GOHSEFIMER Z200”)的水溶液并进行干燥，而形成厚度为15μm的PVA系树脂层，制作层叠体。将所获得的层叠体在120℃的烘箱内在圆周速度不同的辊间沿纵向(长边方向)自由端单轴拉伸至2.0倍(空中辅助拉伸处理)。接着，将层叠体在液温为30℃的不溶化浴(相对于水100重量份配合4重量份的硼酸所获得的硼酸水溶液)中浸渍30秒(不溶化处理)。接着，一边以偏振片成为规定的透射率的方式调整碘浓度、浸渍时间，一边使其浸渍在液温为30℃的染色浴中。在本制造例中，在相对于水100重量份配合碘0.2重量份并配合碘化钾1.0重量份所获得的碘水溶液中浸渍60秒(染色处理)。接着，在液温为30℃的交联浴(相对于水100重量份配合碘化钾3重量份并配合硼酸3重量份所获得的硼酸水溶液)中浸渍30秒(交联处理)。其后，一边将层叠体浸渍在液温为70℃的硼酸水溶液(相对于水100重量份配合硼酸3.75重量份并配合碘化钾5重量份所获得的水溶液)中，一边以总拉伸倍率成为5.5倍的方式在圆周速度不同的辊间沿纵向(长边方向)进行单轴拉伸(水中拉伸处理)。其后，将层叠体浸渍在液温为30℃的洗涤浴(相对于水100重量份配合碘化钾4重量份所获得的水溶液)中(洗涤处理)。
通过以上获得含有厚度为7μm的起偏器B的光学膜层叠体B。
＜制造例11＞
(起偏器C)
对吸水率为0.75％、Tg为75℃的非晶质的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯(IPA共聚PET)膜(厚度：100μm)基材的单面实施电晕处理，在25℃下在该电晕处理面涂布以9：1的比含有聚乙烯醇(聚合度为4200，皂化度为99.2摩尔％)及乙酰乙酰基改性PVA(聚合度为1200，乙酰乙酰基改性度为4.6％，皂化度为99.0摩尔％以上，日本合成化学工业公司制造，商品名“GOHSEFIMER Z200”)的水溶液并进行干燥，而形成厚度为30μm的PVA系树脂层，制作层叠体。将所获得的层叠体在120℃的烘箱内在圆周速度不同的辊间沿纵向(长边方向)自由端单轴拉伸至2.0倍(空中辅助拉伸处理)。接着，将层叠体在液温为30℃的不溶化浴(相对于水100重量份配合4重量份的硼酸所获得的硼酸水溶液)中浸渍30秒(不溶化处理)。接着，一边以偏振片成为规定的透射率的方式调整碘浓度、浸渍时间，一边使其浸渍在液温为30℃的染色浴中。在本制造例中，在相对于水100重量份配合碘0.2重量份并配合碘化钾1.0重量份所获得的碘水溶液中浸渍60秒(染色处理)。接着，在液温为30℃的交联浴(相对于水100重量份配合碘化钾3重量份并配合硼酸3重量份所获得的硼酸水溶液)中浸渍30秒(交联处理)。其后，一边将层叠体浸渍在液温为70℃的硼酸水溶液(相对于水100重量份配合硼酸3.75重量份并配合碘化钾5重量份所获得的水溶液)中，一边以总拉伸倍率成为5.5倍的方式在圆周速度不同的辊间沿纵向(长边方向)进行单轴拉伸(水中拉伸处理)。其后，将层叠体浸渍在液温为30℃的洗涤浴(相对于水100重量份配合碘化钾4重量份所获得的水溶液)中(洗涤处理)。
通过以上获得含有厚度为12μm的起偏器C的光学膜层叠体C。
＜制造例12＞
(起偏器D)
将平均聚合度为2400、皂化度为99.9摩尔％的厚度为75μm的聚乙烯醇膜在30℃的温水中浸渍60秒使其溶胀。接着，浸渍在碘/碘化钾(重量比＝0.5/8)的浓度为0.3％的水溶液中，一边拉伸至3.5倍一边对膜进行染色。其后，在65℃的硼酸酯水溶液中，以总拉伸倍率成为6倍的方式进行拉伸。拉伸后，在40℃的烘箱中干燥3分钟，而获得厚度为23μm的PVA系起偏器D。
3.表面处理层
＜制造例13＞
(硬涂层A的形成材料)
作为涂装液所含的树脂，准备固体成分70重量份的紫外线硬化型树脂(新中村化学工业株式会社制造，商品名“NK Oligomer UA-53H-80BK”固体成分浓度为80％)、30重量份的紫外线硬化型树脂(新中村化学株式会社制造，商品名“A-GLY-9E”固体成分浓度为100％)。相对于上述树脂的树脂固体成分100重量份，添加5份的光聚合引发剂(Ciba Japan株式会社制造，制品名“IRGACURE 907”)、0.1份的流平剂(DIC株式会社制造，制品名“GRANDIC PC4100”)。以上述溶液中的固体成分浓度成为40％的方式，以80：20的比率在上述配合液中添加甲苯与环戊酮(以下记作“CPN”)。由此制作用于形成硬涂层A的形成材料。
＜制造例14＞
(硬涂层B的形成材料)
作为涂装液所含的树脂，准备固体成分70重量份的紫外线硬化型树脂(新中村化学工业株式会社制造，商品名“NK Oligomer UA-53H-80BK”固体成分浓度80％)、30重量份的紫外线硬化型树脂(新中村化学株式会社制造，商品名“A-GLY-9E”固体成分浓度为100％)。相对于上述树脂的树脂固体成分100重量份，添加10份的橡胶粒子(Kaneka株式会社制造，制品名“Kane Ace”B-513)、5份的光聚合引发剂(Ciba Japan株式会社制造，制品名“IRGACURE 907”)、0.1份的流平剂(DIC株式会社制造，制品名“GRANDIC PC4100”)。以上述溶液中的固体成分浓度成为40％的方式，以80：20的比率在上述配合液中添加甲苯与环戊酮(以下记作“CPN”)。由此制作用于形成硬涂层B的形成材料。
4.紫外线硬化型粘接剂
＜制造例15＞
将N-羟基乙基丙烯酰胺(HEAA)40重量份、丙烯酰吗啉(ACMO)60重量份及光引发剂“IRGACURE 819”(BASF公司制造)3重量份进行混合，而制备紫外线硬化型粘接剂。
5.粘合剂层
＜制造例16＞
在具备冷却管、氮导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中一并添加丙烯酸丁酯100份、丙烯酸3份、丙烯酸2-羟基乙酯0.1份及2,2'-偶氮二异丁腈0.3份与乙酸乙酯而制备溶液。接着，一边在该溶液中吹入氮气一边进行搅拌，在55℃下反应8小时，而获得含有重均分子量为220万的丙烯酸系聚合物的溶液。进而，在该含有丙烯酸系聚合物的溶液中添加乙酸乙酯，获得将固体成分浓度调整为30％的丙烯酸系聚合物溶液。相对于上述丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100份，依次配合作为交联剂的0.5份的以具有异氰酸酯基的化合物作为主要成分的交联剂(Nippon Polyurethane株式会社制造，商品名“Coronate L”)及作为硅烷偶联剂的0.075份的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制造，商品名“KMB-403”)，而制备粘合剂溶液。以干燥后的厚度成为20μm的方式将上述粘合剂溶液涂布于经剥离处理的由聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(厚度为38μm)制成的脱模片(隔膜)的表面并进行干燥，而形成粘合剂层。
＜实施例1＞
使用保护膜B作为第1保护膜。以硬化后的硬涂层的厚度成为6.5μm的方式在保护膜B的表面涂布上述硬涂层A的形成材料，而形成涂膜。接着，在90℃下干燥1分钟，其后，利用高压汞灯照射累计光量为300mJ/cm2的紫外线，对上述涂膜进行硬化处理，由此在保护膜B的表面形成硬涂层A。
接着，一边以硬化后的粘接剂层的厚度成为0.5μm的方式在上述光学膜层叠体A的起偏器A的表面涂布制造例15的紫外线硬化型粘接剂，一边贴合上述保护膜B后，照射作为活性能量射线的紫外线，使粘接剂硬化。紫外线照射是使用封入镓的金属卤化物灯、照射装置：Fusion UV Systems，Inc公司制造的Light HAMMER10、灯泡：V灯泡、峰照度：1600mW/cm2、累计照射量为1000/mJ/cm2(波长为380～440nm)，紫外线的照度使用Solatell公司制造的Sola-Check系统进行测定。
接着，将非晶性PET基材剥离，以与上述同样的方式在起偏器的与第1保护膜相反侧的面贴合作为第2保护膜的保护膜A。
接着，在第2保护膜的表面贴合形成于制造例16的脱模片(隔膜)的剥离处理面的粘合剂层，而制作带粘合剂层的偏振片。将上述偏振片供于各评价。将结果示于表1中。
＜实施例2～13及比较例1～2＞
在实施例1中，如表1所示的那样变更起偏器、第1保护膜、第2保护膜及表面处理层，除此以外，以与实施例1同样的方式制作带粘合剂层的偏振片。将上述偏振片供于各评价。将结果示于表1中。
[表1]
如由表1表明的那样，比较例1～2的偏振片的耐弯曲性及操作性较低。特别是比较例2的偏振片在弯曲试验刚开始后产生起偏器的开裂。另一方面，实施例1～13的偏振片的耐弯曲性及操作性优异。
产业上的可利用性
本发明的偏振片可适宜地用于图像显示装置。本发明的图像显示装置可用于便携信息终端(PDA，Portable information terminal)、智能型手机、移动电话、时钟、数码相机、便携游戏机等便携设备；计算机显示器、笔记本电脑、复印机等OA设备；摄录像机、电视、微波炉等家庭用电气设备；后部监视器、汽车导航系统用监视器、汽车音响等车载用设备；数字标牌、商业店铺用信息用监视器等展示设备；监视用监视器等警备设备；护理用监视器、医疗用监视器等护理、医疗设备等各种用途。
符号说明
10 起偏器
20 第1保护膜
30 第2保护膜
100 偏振片

Claims (9)

1.一种偏振片，其具有起偏器、配置于该起偏器的一侧的第1保护膜和配置于该起偏器的另一侧的第2保护膜，其中，
所述起偏器的厚度为12μm以下，
所述第1及第2保护膜中的至少一者含有分散有芯壳型粒子的丙烯酸系树脂。
2.根据权利要求1所述的偏振片，其中，所述第1及第2保护膜中的至少一者相对于所述丙烯酸系树脂100重量份含有3重量份～20重量份的所述芯壳型粒子。
3.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述第1保护膜含有所述丙烯酸系树脂和所述芯壳型粒子，
所述第1保护膜的厚度为30μm以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的偏振片，其中，所述丙烯酸系树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元构成的组中的至少一种。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的偏振片，其中，弯曲试验中至所述起偏器产生开裂为止的弯曲次数为10万次以上，铅笔硬度为H以上。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的偏振片，其中，所述第1保护膜含有所述丙烯酸系树脂和所述芯壳型粒子，
在以所述第1保护膜成为外侧的方式进行弯曲的弯曲试验中，至所述起偏器产生开裂为止的弯曲次数为30万次以上。
7.根据权利要求6所述的偏振片，其中，所述第2保护膜不含所述芯壳型粒子。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的偏振片，其中，在所述第1保护膜或所述第2保护膜的与所述起偏器相反侧的面配置有表面处理层，
所述表面处理层是选自由硬涂层、防眩层及抗反射层构成的组中的至少一种。
9.一种图像显示装置，其具备权利要求1至8中任一项所述的偏振片。
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