CN110494772A - 光学膜、偏振片及图像显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种基材膜与表面处理层的密合性较高的光学膜。本发明的光学膜是包含作为含有丙烯酸系树脂的拉伸膜的基材膜和形成于基材膜的单侧的表面处理层的光学膜,光学膜中的基材膜在裁断为10cm×10cm并介由粘合材贴合于玻璃板的状态下在100℃下静置120小时之时的尺寸变化率为‑2.0%~0%。
Description
技术领域
本发明涉及光学膜、偏振片及图像显示装置。
背景技术
近年来,已知有在由丙烯酸系树脂制成的基材膜的单侧形成有硬涂层、防眩层、抗反射层等功能性层(表面处理层)的光学膜(专利文献1)。表面处理层可通过在基材膜的单侧涂布树脂组合物并干燥或硬化而形成。这样的光学膜例如可用作起偏器的保护膜或图像显示装置的前面板。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-218478号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而,如上所述的以往的光学膜在使树脂组合物干燥的工序中,存在基材膜因热收缩产生褶皱而导致外观不良的情况。在为了防止如上所述的因热收缩引起的不良情况而在低温下使树脂组合物干燥的情况下,存在基材膜与表面处理层的密合性变得不充分的问题。
本发明是为了解决上述以往的课题而进行的,其主要目的在于提供一种基材膜与表面处理层的密合性较高的光学膜、具备这样的光学膜的偏振片及具备这样的偏振片的图像显示装置。
用于解决课题的手段
本发明的光学膜是包含作为含有丙烯酸系树脂的拉伸膜的基材膜和形成于该基材膜的单侧的表面处理层的光学膜,上述光学膜中的基材膜在裁断为10cm×10cm并介由粘合材贴合于玻璃板的状态下在100℃下静置120小时之时的尺寸变化率为-2.0%~0%。
在一实施方式中,上述基材膜包含上述丙烯酸系树脂和分散于上述丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子。
在一实施方式中,上述基材膜相对于上述丙烯酸系树脂100重量份含有5重量份~50重量份的上述芯壳型粒子。
在一实施方式中,上述丙烯酸系树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元构成的组中的至少一种。
在一实施方式中,上述表面处理层是涂布于上述基材膜上的树脂组合物的硬化层。
在一实施方式中,上述表面处理层是选自由硬涂层、防眩层及抗反射层构成的组中的至少一种。
根据本发明的另一方面,提供一种偏振片。该偏振片包含起偏器和配置于上述起偏器的单侧的保护层,上述保护层为上述光学膜。
根据本发明的另一方面,提供一种图像显示装置。该图像显示装置具备上述偏振片。
发明效果
根据本发明,通过使用上述尺寸变化率为-2.0%~0%的基材膜,可提供基材膜与表面处理层的密合性较高的光学膜、具备这样的光学膜的偏振片及具备这样的偏振片的图像显示装置。
附图说明
图1是基于本发明的一实施方式的光学膜的概略截面图。
具体实施方式
以下,对本发明的实施方式进行说明,但本发明并不限定于这些实施方式。
A.光学膜的整体构成
图1是基于本发明的一实施方式的光学膜的概略截面图。光学膜100包含基材膜10和形成于基材膜10的单侧的表面处理层20。基材膜10是含有丙烯酸系树脂的拉伸膜。基材膜10在裁断为10cm×10cm并介由粘合材贴合于玻璃板的状态下在100℃下静置120小时时沿着规定方向的尺寸变化率为-2.0%~0%。基材膜10的形状并无特别限定,例如在基材膜为长条状或长方形状的情况下,代表性而言,上述尺寸变化率可将基材膜沿着其长边方向及短边方向(与长边方向正交的方向)裁断为10cm×10cm而进行测定。上述规定方向代表性而言为沿着裁断为10cm×10cm的基材膜的各边的方向。在一实施方式中,基材膜10包含丙烯酸系树脂和分散于丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子。在该情况下,基材膜10优选相对于丙烯酸系树脂100重量份含有5重量份~50重量份的芯壳型粒子。丙烯酸系树脂优选具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元构成的组中的至少一种。表面处理层20代表性而言为涂布于基材膜10上的树脂组合物的硬化层。表面处理层20优选为选自由硬涂层、防眩层及抗反射层构成的组中的至少一种。根据上述光学膜,可抑制形成有表面处理层的状态下的收缩(特别是沿着拉伸方向的收缩)。其结果是,可提高基材膜10与表面处理层20的密合性。特别在通过将树脂组合物涂布于基材膜10上并将树脂组合物进行干燥并使其硬化而形成表面处理层20的情况下,即使在使上述树脂组合物低温干燥的情况下,也可实现基材膜10与表面处理层20的充分的密合性。因此,可抑制因干燥树脂组合物时的热而在基材膜产生褶皱。
B.基材膜
B-1.基材膜的特性
基材膜如上所述是含有丙烯酸系树脂的拉伸膜,在沿着基材膜的长边方向及其正交方向裁断为10cm×10cm并介由粘合材贴合于玻璃板的状态下在100℃下静置120小时之时的尺寸变化率为-2.0%~2.0%。上述尺寸变化率优选为-1.8%~1.0%,更优选为-1.0%~0.0%,特别优选为-0.5%~0.0%。在一实施方式中,基材膜包含丙烯酸系树脂和分散于丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子。基材膜的厚度优选为5μm~150μm,更优选为10μm~100μm。
基材膜优选为实质上具有光学各向同性。在本说明书中,所谓“实质上具有光学各向同性”是指面内相位差Re(550)为0nm~10nm且厚度方向的相位差Rth(550)为-10nm~+10nm。面内相位差Re(550)更优选为0nm~5nm,进一步优选为0nm~3nm,特别优选为0nm~2nm。厚度方向的相位差Rth(550)更优选为-5nm~+5nm,进一步优选为-3nm~+3nm,特别优选为-2nm~+2nm。若基材膜的Re(550)及Rth(550)为这样的范围,则在将光学膜应用于图像显示装置的情况下可防止对显示特性的不良影响。需要说明的是,Re(550)是23℃下的由波长550nm的光测定得到的膜的面内相位差。Re(550)可通过式:Re(550)=(nx-ny)×d求出。Rth(550)是23℃下的由波长550nm的光测定得到的膜的厚度方向的相位差。Rth(550)可通过式:Rth(550)=(nx-nz)×d求出。其中,nx是面内的折射率成为最大的方向(即,慢轴方向)的折射率,ny是在面内与慢轴正交的方向(即,快轴方向)的折射率,nz是厚度方向的折射率,d是膜的厚度(nm)。
基材膜的厚度为30μm时的380nm下的光线透射率越高越优选。具体而言,光线透射率优选为85%以上,更优选为88%以上,进一步优选为90%以上。若光线透射率为这样的范围,则可确保所期望的透明性。光线透射率例如可通过依据ASTM-D-1003的方法而测定。
基材膜的雾度越低越优选。具体而言,雾度优选为5%以下,更优选为3%以下,进一步优选为1.5%以下,特别优选为1%以下。若雾度为5%以下,则可对膜赋予良好的透明感。进而,即使在将光学膜用作图像显示装置的目视确认侧偏振片的保护层的情况下,也可良好地目视确认显示内容。
基材膜的厚度为30μm时的YI(Yellowness Index,黄度指数)优选为1.27以下,更优选为1.25以下,进一步优选为1.23以下,特别优选为1.20以下。若YI超过1.3,则存在光学透明性变得不充分的情况。需要说明的是,YI例如可根据由使用高速积分球式分光透射率测定机(商品名DOT-3C:村上色彩技术研究所制造)的测定所获得的颜色的三刺激值(X、Y、Z),通过下式而求出。
YI=[(1.28X-1.06Z)/Y]×100
基材膜的厚度为30μm时的b值(依据汉特(Hunter)表色系统的色相的尺度)优选为低于1.5,更优选为1.0以下。在b值为1.5以上的情况下,存在出现并非所期望的色调的情况。需要说明的是,b值例如可通过将基材膜样品裁断为3cm见方,使用高速积分球式分光透射率测定机(商品名DOT-3C:村上色彩技术研究所制造)测定色相,并依据汉特表色系统评价该色相而获得。
基材膜的透湿度优选为300g/m2·24小时以下,更优选为250g/m2·24小时以下,进一步优选为200g/m2·24小时以下,特别优选为150g/m2·24小时以下,最优选为100g/m2·24小时以下。若基材膜的透湿度为这样的范围,则在用作起偏器的保护层的情况下,可获得耐久性及耐湿性优异的偏振片。
基材膜的抗拉强度优选为10MPa以上且低于100MPa,更优选为30MPa以上且低于100MPa。在低于10MPa的情况下,存在无法表现出充分的机械强度的情况。若超过100MPa,则有可能加工性变得不充分。抗拉强度例如可依据ASTM-D-882-61T而测定。
基材膜的拉伸伸长率优选为1.0%以上,更优选为3.0%以上,进一步优选为5.0%以上。拉伸伸长率的上限例如为100%。在拉伸伸长率低于1%的情况下,存在韧性变得不充分的情况。拉伸伸长率例如可依据ASTM-D-882-61T而测定。
基材膜的拉伸弹性模量优选为0.5GPa以上,更优选为1GPa以上,进一步优选为2GPa以上。拉伸弹性模量的上限例如为20GPa。在拉伸弹性模量低于0.5GPa的情况下,存在无法表现出充分的机械强度的情况。拉伸弹性模量例如可依据ASTM-D-882-61T而测定。
基材膜也可以根据目的含有任意适当的添加剂。作为添加剂的具体例子,可列举出紫外线吸收剂;受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化剂;耐光稳定剂、耐候稳定剂、热稳定剂等稳定剂;玻璃纤维、碳纤维等补强材;近红外线吸收剂;磷酸三(二溴丙基)酯、磷酸三烯丙酯、氧化锑等阻燃剂;阴离子系、阳离子系、非离子系的表面活性剂等抗静电剂;无机颜料、有机颜料、染料等着色剂;有机填料或无机填料;树脂改质剂;有机填充剂或无机填充剂;增塑剂;润滑剂等。添加剂可在丙烯酸系树脂的聚合时添加,也可在膜形成时添加。添加剂的种类、数量、组合、添加量等可根据目的而适当设定。
B-2.丙烯酸系树脂
B-2-1.丙烯酸系树脂的构成
作为丙烯酸系树脂,可采用任意适当的丙烯酸系树脂。丙烯酸系树脂中,代表性而言,作为单体单元,含有(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要成分。在本说明书中,所谓“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。作为构成丙烯酸系树脂的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯,可例示出直链状或支链状的烷基的碳数为1~18的(甲基)丙烯酸烷基酯。它们可单独使用或组合而使用。进而,也可以通过共聚在丙烯酸系树脂中导入任意适当的共聚单体。这样的共聚单体的种类、数量、共聚比等可根据目的而适当设定。关于丙烯酸系树脂的主骨架的构成成分(单体单元),下文参照通式(2)进行描述。
丙烯酸系树脂优选具有选自戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元中的至少一种。具有内酯环单元的丙烯酸系树脂例如记载在日本特开2008-181078号公报中,该公报的记载作为参考而援引于本说明书中。戊二酰亚胺单元优选以下述通式(1)表示:
在通式(1)中,R1及R2分别独立地表示氢原子或碳数为1~8的烷基,R3表示氢原子、碳数为1~18的烷基、碳数为3~12的环烷基、或碳数为6~10的芳基。在通式(1)中,优选R1及R2分别独立地为氢原子或甲基,且R3为氢原子、甲基、丁基或环己基。更优选R1为甲基,R2为氢原子,且R3为甲基。
上述(甲基)丙烯酸烷基酯代表性而言以下述通式(2)表示:
在通式(2)中,R4表示氢原子或甲基,R5表示氢原子、或者可经取代的碳数为1~6的脂肪族或脂环式烃基。作为取代基,例如可列举出卤素、羟基。作为(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例子,可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸氯甲酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5,6-五羟基己酯及(甲基)丙烯酸2,3,4,5-四羟基戊酯。在通式(2)中,R5优选为氢原子或甲基。因此,特别优选的(甲基)丙烯酸烷基酯为丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸甲酯。
上述丙烯酸系树脂可仅含有单一的戊二酰亚胺单元,也可含有上述通式(1)中的R1、R2及R3不同的多种戊二酰亚胺单元。
上述丙烯酸系树脂中的戊二酰亚胺单元的含有比例优选为2摩尔%~50摩尔%,更优选为2摩尔%~45摩尔%,进一步优选为2摩尔%~40摩尔%,特别优选为2摩尔%~35摩尔%,最优选为3摩尔%~30摩尔%。若含有比例少于2摩尔%,则有可能不会充分地发挥来源于戊二酰亚胺单元而表现出的效果(例如较高的光学特性、较高的机械强度、与起偏器的优异的粘接性、薄型化)。若含有比例超过50摩尔%,则有可能例如耐热性、透明性变得不充分。
上述丙烯酸系树脂可仅含有单一的(甲基)丙烯酸烷基酯单元,也可含有上述通式(2)中的R4及R5不同的多种(甲基)丙烯酸烷基酯单元。
上述丙烯酸系树脂中的(甲基)丙烯酸烷基酯单元的含有比例优选为50摩尔%~98摩尔%,更优选为55摩尔%~98摩尔%,进一步优选为60摩尔%~98摩尔%,特别优选为65摩尔%~98摩尔%,最优选为70摩尔%~97摩尔%。若含有比例少于50摩尔%,则有可能不会充分地发挥来源于(甲基)丙烯酸烷基酯单元而表现出的效果(例如较高的耐热性、较高的透明性)。若上述含有比例多于98摩尔%,则有可能树脂变脆而容易开裂,无法充分地发挥出较高的机械强度,生产率差。
上述丙烯酸系树脂也可含有戊二酰亚胺单元及(甲基)丙烯酸烷基酯单元以外的单元。
在一实施方式中,丙烯酸系树脂可含有未参与下文所述的分子内酰亚胺化反应的不饱和羧酸单元例如0~10重量%。不饱和羧酸单元的含有比例优选为0~5重量%,更优选为0~1重量%。若含量为这样的范围,则可维持透明性、滞留稳定性及耐湿性。
在一实施方式中,丙烯酸系树脂可含有上述以外的可进行共聚的乙烯基系单体单元(其他乙烯基系单体单元)。作为该其他乙烯基系单体,例如可列举出丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙烯腈、烯丙基缩水甘油醚、马来酸酐、衣康酸酐、N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸丙基氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸乙基氨基丙酯、甲基丙烯酸环己基氨基乙酯、N-乙烯基二乙基胺、N-乙酰基乙烯基胺、烯丙基胺、甲基烯丙基胺、N-甲基烯丙基胺、2-异丙烯基噁唑啉、2-乙烯基噁唑啉、2-丙烯酰基噁唑啉、N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酸苯基氨基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对缩水甘油基苯乙烯、对氨基苯乙烯、2-苯乙烯基噁唑啉等。它们可单独使用,也可并用。优选为苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系单体。其他乙烯基系单体单元的含有比例优选为0~1重量%,更优选为0~0.1重量%。若为这样的范围,则可抑制并非所期望的相位差的表现及透明性的降低。
上述丙烯酸系树脂中的酰亚胺化率优选为2.5%~20.0%。若酰亚胺化率为这样的范围,则可获得耐热性、透明性及成型加工性优异的树脂,可防止膜成型时的烧焦的产生或机械强度的降低。在上述丙烯酸系树脂中,酰亚胺化率以戊二酰亚胺单元与(甲基)丙烯酸烷基酯单元之比表示。该比例如可根据丙烯酸系树脂的NMR(Nuclear magneticresonance,核磁共振)光谱、IR(Infrared,红外线)光谱等而获得。在本实施方式中,酰亚胺化率可使用1HNMR BRUKER AvanceIII(400MHz),通过树脂的1H-NMR测定而求出。更具体而言,将3.5至3.8ppm附近的来源于(甲基)丙烯酸烷基酯的O-CH3质子的峰面积设为A,将3.0至3.3ppm附近的来源于戊二酰亚胺的N-CH3质子的峰面积设为B,通过下式而求出。
酰亚胺化率Im(%)={B/(A+B)}×100
上述丙烯酸系树脂的酸值优选为0.10mmol/g~0.50mmol/g。若酸值为这样的范围,则可获得耐热性、机械物性及成型加工性的平衡优异的树脂。若酸值过小,则存在产生因使用用于调整为所期望的酸值的改性剂引起的成本提高、因改性剂的残存引起的凝胶状物的产生等问题的情况。若酸值过大,则有变得容易引起膜成型时(例如熔融挤出时)的发泡而导致成型品的生产率降低的倾向。关于上述丙烯酸系树脂,酸值是该丙烯酸系树脂中的羧酸单元及羧酸酐单元的含量。在本实施方式中,酸值例如可通过WO2005/054311或日本特开2005-23272号公报所记载的滴定法而算出。
上述丙烯酸系树脂的重均分子量优选为1000~2000000,更优选为5000~1000000,进一步优选为10000~500000,特别优选为50000~500000,最优选为60000~150000。重均分子量例如可使用凝胶渗透色谱仪(GPC系统,Tosoh制造),通过聚苯乙烯换算而求出。需要说明的是,可使用四氢呋喃作为溶剂。
上述丙烯酸系树脂的Tg(玻璃化转变温度)优选为110℃以上,更优选为115℃以上,进一步优选为120℃以上,特别优选为125℃以上,最优选为130℃以上。若Tg为110℃以上,则含有由这样的树脂获得的基材膜的偏振片容易成为耐久性优异的偏振片。Tg的上限值优选为300℃以下,更优选为290℃以下,进一步优选为285℃以下,特别优选为200℃以下,最优选为160℃以下。若Tg为这样的范围,则成型性会优异。
B-2-2.丙烯酸系树脂的聚合
上述丙烯酸系树脂例如可通过以下的方法制造。该方法包括:(I)将与通式(2)所表示的(甲基)丙烯酸烷基酯单元相对应的(甲基)丙烯酸烷基酯单体与不饱和羧酸单体和/或其前体单体进行共聚而获得共聚物(a);及(II)利用酰亚胺化剂处理该共聚物(a),由此进行该共聚物(a)中的(甲基)丙烯酸烷基酯单体单元与不饱和羧酸单体和/或其前体单体单元的分子内酰亚胺化反应,将通式(1)所表示的戊二酰亚胺单元导入至共聚物中。
作为不饱和羧酸单体,例如可列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-取代丙烯酸、α-取代甲基丙烯酸。作为其前体单体,例如可列举出丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等。它们可单独使用,也可并用。优选的不饱和羧酸单体为丙烯酸或甲基丙烯酸,优选的前体单体为丙烯酰胺。
作为利用酰亚胺化剂对共聚物(a)进行处理的方法,可使用任意适当的方法。作为具体例子,可列举出使用挤出机的方法、使用分批式反应槽(压力容器)的方法。使用挤出机的方法包括使用挤出机将共聚物(a)加热熔融,并利用酰亚胺化剂对其进行处理。在该情况下,作为挤出机,可使用任意适当的挤出机。作为具体例子,可列举出单螺杆挤出机、双螺杆挤出机、多螺杆挤出机。使用分批式反应槽(压力容器)的方法中可使用任意适当的分批式反应槽(压力容器)。
作为酰亚胺化剂,只要可生成上述通式(1)所表示的戊二酰亚胺单元,则可使用任意适当的化合物。作为酰亚胺化剂的具体例子,可列举出甲胺、乙胺、正丙胺、异丙胺、正丁胺、异丁胺、叔丁胺、正己胺等含有脂肪族烃基的胺;苯胺、苄胺、甲苯胺、三氯苯胺等含有芳香族烃基的胺;环己胺等含有脂环式烃基的胺。进而,例如也可使用通过加热而产生这样的胺的脲系化合物。作为脲化合物,例如可列举出脲、1,3-二甲基脲、1,3-二乙基脲、1,3-二丙基脲。酰亚胺化剂优选为甲胺、氨、环己胺,更优选为甲胺。
在酰亚胺化中,除了上述酰亚胺化剂以外,也可根据需要添加闭环促进剂。
酰亚胺化中的酰亚胺化剂的使用量相对于共聚物(a)100重量份,优选为0.5重量份~10重量份,更优选为0.5重量份~6重量份。若酰亚胺化剂的使用量少于0.5重量份,则未达成所期望的酰亚胺化率的情况较多。其结果是,存在所获得的树脂的耐热性变得极不充分而诱发成型后的烧焦等外观缺陷的情况。若酰亚胺化剂的使用量超过10重量份,则存在树脂中残存酰亚胺化剂而由该酰亚胺化剂诱发成型后的烧焦等外观缺陷或发泡的情况。
本实施方式的制造方法除了上述酰亚胺化以外根据需要也可包括利用酯化剂所进行的处理。
作为酯化剂,例如可列举出碳酸二甲酯、2,2-二甲氧基丙烷、二甲基亚砜、原甲酸三乙酯、原乙酸三甲酯、原甲酸三甲酯、碳酸二苯酯、硫酸二甲酯、甲苯磺酸甲酯、三氟甲磺酸甲酯、乙酸甲酯、甲醇、乙醇、异氰酸甲酯、异氰酸对氯苯酯、二甲基碳二酰亚胺、二甲基叔丁基甲硅烷基氯、乙酸异丙烯酯、二甲基脲、氢氧化四甲基铵、二甲基二乙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、亚磷酸二甲酯(三甲基硅烷)酯、亚磷酸三甲酯、磷酸三甲酯、磷酸三甲苯酯、重氮甲烷、环氧乙烷、环氧丙烷、环氧环己烷、2-乙基己基缩水甘油醚、苯基缩水甘油醚、苄基缩水甘油醚。它们中,从成本及反应性等观点出发,优选为碳酸二甲酯。
酯化剂的添加量可以丙烯酸系树脂的酸值成为所期望的值的方式设定。
B-2-3.其他树脂的并用
在本发明的实施方式中,可将上述丙烯酸系树脂与其他树脂并用。即,可将构成丙烯酸系树脂的单体成分与构成其他树脂的单体成分进行共聚,并将该共聚物供于下文B-4项所述的膜形成;也可将丙烯酸系树脂与其他树脂的共混物供于膜形成。作为其他树脂,例如可列举出苯乙烯系树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚砜、聚苯醚、聚缩醛、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺等其他热塑性树脂;酚系树脂、三聚氰胺系树脂、聚酯系树脂、有机硅系树脂、环氧系树脂等热硬化性树脂。所并用的树脂的种类及配合量可根据目的及对所获得的膜所期望的特性等而适当设定。例如,苯乙烯系树脂(优选为丙烯腈-苯乙烯共聚物)可作为相位差控制剂而并用。
在将丙烯酸系树脂与其他树脂并用的情况下,丙烯酸系树脂与其他树脂的共混物中的丙烯酸系树脂的含量优选为50重量%~100重量%,更优选为60重量%~100重量%,进一步优选为70重量%~100重量%,特别优选为80重量%~100重量%。在含量低于50重量%的情况下,有可能无法充分地反映出丙烯酸系树脂本来具有的较高的耐热性、较高的透明性。
B-3.芯壳型粒子
在上述基材膜中,芯壳型粒子是相对于丙烯酸系树脂100重量份,而配合优选为5重量份~50重量份,更优选为5重量份~40重量份。由此,可降低基材膜的尺寸变化率。其结果是,可抑制在形成有表面处理层的状态下的收缩,可获得基材膜与表面处理层的密合性较高的光学膜。
芯壳型粒子代表性而言具有由橡胶状聚合物构成的芯及由玻璃状聚合物构成且覆盖该芯的覆盖层。芯壳型粒子具有一层以上由玻璃状聚合物构成的层作为最内层或中间层。
构成芯的橡胶状聚合物的Tg优选为20℃以下,更优选为-60℃~20℃,进一步优选为-60℃~10℃。若构成芯的橡胶状聚合物的Tg超过20℃,则有可能丙烯酸系树脂的机械强度的提高不充分。构成覆盖层的玻璃状聚合物(硬质聚合物)的Tg优选为50℃以上,更优选为50℃~140℃,进一步优选为60℃~130℃。若构成覆盖层的玻璃状聚合物的Tg低于50℃,则有可能丙烯酸系树脂的耐热性降低。
芯壳型粒子中的芯的含有比例优选为30重量%~95重量%,更优选为50重量%~90重量%。芯中的玻璃状聚合物层的比例相对于芯的总量100重量%为0~60重量%,优选为0~45重量%,更优选为10重量%~40重量%。芯壳型粒子中的覆盖层的含有比例优选为5重量%~70重量%,更优选为10重量%~50重量%。
在一实施方式中,分散于丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子可具有扁平形状。芯壳型粒子可通过下文B-4项所述的拉伸而扁平化。经扁平化的芯壳型粒子的长度/厚度之比为7.0以下。长度/厚度之比优选为6.5以下,更优选为6.3以下。另一方面,长度/厚度之比优选为4.0以上,更优选为4.5以上,进一步优选为5.0以上。在本说明书中,所谓“长度/厚度之比”是指芯壳型粒子的俯视形状的代表长度与厚度之比。其中,所谓“代表长度”,在俯视形状为圆形的情况下是指直径,在椭圆形的情况下是指长径,在矩形或多边形的情况下是指对角线的长度。该比例如可按照以下的步骤求出。利用透射型电子显微镜(例如加速电压为80kV、RuO4染色超薄切片法)对所获得的膜截面进行拍摄,从存在于所获得的照片中的芯壳型粒子中较长的粒子(获得接近代表长度的截面的粒子)中依次选取30个,算出(长度的平均值)/(厚度的平均值),由此可获得该比。
构成芯壳型粒子的芯的橡胶状聚合物、构成覆盖层的玻璃状聚合物(硬质聚合物)、它们的聚合方法及其他构成的详细内容例如记载在日本特开2016-33552号公报中。该公报的记载作为参考而援引于本说明书中。
B-4.基材膜的形成
基于本发明的实施方式的基材膜代表性而言可通过包括将含有上述丙烯酸系树脂(在并用其他树脂的情况下为与该其他树脂的共混物)及芯壳型粒子的组合物形成膜的方法而形成。进而,形成基材膜的方法可包括将上述膜进行拉伸。
膜形成所使用的芯壳型粒子的平均粒径优选为1nm~500nm。芯的平均粒径优选为50nm~300nm,更优选为70nm~300nm。
作为形成膜的方法,可采用任意适当的方法。作为具体例子,可列举出流延涂装法(例如流延法)、挤出成型法、注射成型法、压缩成型法、传递模塑法、吹塑成型法、粉末成型法、FRP(Fiber Reinforced Plastic,纤维强化塑料)成型法、压延成型法、热压法。优选为挤出成型法或流延涂装法。其原因在于:可提高所获得的膜的平滑性,可获得良好的光学均一性。特别优选为挤出成型法。其原因在于无需考虑因残存溶剂引起的问题。其中,使用T模的挤出成型法从膜的生产率及以后的拉伸处理的容易性的观点出发优选。成型条件可根据所使用的树脂的组成或种类、对所获得的膜所期望的特性等而适当设定。
作为拉伸方法,可采用任意适当的拉伸方法、拉伸条件(例如拉伸温度、拉伸倍率、拉伸速度、拉伸方向)。作为拉伸方法的具体例子,可列举出自由端拉伸、固定端拉伸、自由端收缩、固定端收缩。它们可单独使用,也可同时使用,也可逐步使用。通过在合适的拉伸条件下对已适当调整芯壳型粒子相对于丙烯酸系树脂的配合量的膜进行拉伸,可降低所获得的基材膜的尺寸变化率。其结果是,可抑制在形成有表面处理层的状态下的收缩,可获得基材膜与表面处理层的密合性较高的光学膜。
拉伸方向可根据目的而采用合适的方向。具体而言,可列举出长度方向、宽度方向、厚度方向、倾斜方向。拉伸方向可为一方向(单轴拉伸),也可为两方向(双轴拉伸),也可为三方向以上。在本发明的实施方式中,代表性而言,可采用长度方向的单轴拉伸、长度方向及宽度方向的同时双轴拉伸、长度方向及宽度方向的逐步双轴拉伸。优选为双轴拉伸(同时或逐步)。其原因在于:容易控制面内相位差,而容易实现光学各向同性。
拉伸温度可根据对基材膜所期望的光学特性、机械特性及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸倍率、拉伸速度等而变化。具体而言,拉伸温度优选为Tg~Tg+50℃,进一步优选为Tg+15℃~Tg+50℃,最优选为Tg+35℃~Tg+50℃。通过在这样的温度下进行拉伸,可获得具有合适的特性的基材膜。具体的拉伸温度例如为110℃~200℃,优选为120℃~190℃,进一步优选为150℃~190℃。若拉伸温度为这样的范围,则通过适当调整拉伸倍率及拉伸速度,在合适的拉伸条件下拉伸已适当调整芯壳型粒子的配合量的膜,由此可降低所获得的基材膜的尺寸变化率。其结果是,可抑制在形成有表面处理层的状态下的收缩,可获得基材膜与表面处理层的密合性较高的光学膜。
另外,拉伸倍率也与拉伸温度同样地可根据光学特性、机械特性及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸温度、拉伸速度等而变化。在采用双轴拉伸的情况下,宽度方向(TD)的拉伸倍率与长度方向(MD)的拉伸倍率之比(TD/MD)优选为1.0~1.5,更优选为1.0~1.4,进一步优选为1.0~1.3。另外,采用双轴拉伸的情况下的面倍率(长度方向的拉伸倍率与宽度方向的拉伸倍率之积)优选为2.0~6.0,更优选为3.0~5.5,进一步优选为3.5~5.2。若拉伸倍率为这样的范围,则通过适当调整拉伸温度及拉伸速度,可降低所获得的基材膜的尺寸变化率。其结果是,可抑制在形成有表面处理层的状态下的收缩,可获得基材膜与表面处理层的密合性较高的光学膜。
另外,拉伸速度也与拉伸温度同样地可根据光学特性、机械特性及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸方法(单轴拉伸或双轴拉伸)、拉伸温度、拉伸倍率等而变化。拉伸速度优选为3%/秒~20%/秒,更优选为3%/秒~15%/秒,进一步优选为3%/秒~10%/秒。在采用双轴拉伸的情况下,一方向的拉伸速度与另一方向的拉伸速度可相同也可不同。若拉伸速度为这样的范围,则通过适当调整拉伸温度及拉伸倍率,可降低所获得的基材膜的尺寸变化率。其结果是,可抑制在形成有表面处理层的状态下的收缩,可获得基材膜与表面处理层的密合性较高的光学膜。
以上述方式可形成基材膜。
C.表面处理层
表面处理层是根据对光学膜所要求的功能而形成于基材膜的单侧的任意适当的功能层。作为表面处理层的具体例子,可列举出硬涂层、防眩层及抗反射层等。表面处理层的厚度优选为3μm~20μm,更优选为5μm~15μm。
表面处理层代表性而言为形成于基材膜上的树脂组合物的硬化层。形成表面处理层的工序可包括:在基材膜上涂布表面处理层形成用的树脂组合物而形成涂布层;及将上述涂布层进行干燥并使其硬化而制成表面处理层。将上述涂布层进行干燥并使其硬化可包括加热上述涂布层。
作为树脂组合物的涂布方法,可采用任意适当的方法。例如可列举出棒涂法、辊涂法、凹版涂布法、杆式涂布法、孔缝式涂布法、帘式涂布法、喷注式涂布法、逗号涂布法。从使涂布变得容易的观点出发,树脂组合物优选含有稀释用的溶剂。
涂布层的加热温度可设定为与树脂组合物的组成相应的任意适当的温度,优选设定为基材膜所含的丙烯酸系树脂的玻璃化转变温度以下。若在基材膜所含的丙烯酸系树脂的玻璃化转变温度以下的温度下进行加热,则可获得抑制了因加热引起的变形的光学膜。涂布层的加热温度例如为50℃~140℃,优选为60℃~100℃。通过在这样的加热温度下进行加热,可获得基材膜与表面处理层的密合性优异的光学膜。
C-1.硬涂层
硬涂层是对基材膜的表面赋予耐擦伤性及耐化学品性等的层。硬涂层在铅笔硬度试验中具有优选为H以上、更优选为3H以上的硬度。铅笔硬度试验可依据JIS K 5400而测定。硬涂层形成用的树脂组合物例如可含有能够通过热、光(紫外线等)或电子射线等而硬化的硬化性化合物。硬涂层及硬涂层形成用的树脂组合物的详细内容例如记载在日本特开2014-240955号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
C-2.防眩层
防眩层是用于通过使光散射并反射而防止外界光的映入的层。防眩层形成用的树脂组合物例如可含有能够通过热、光(紫外线等)或电子射线等而硬化的硬化性化合物。防眩层代表性而言在表面具有微细凹凸形状。作为形成这样的微细凹凸形状的方法,例如可列举出使上述硬化性化合物含有微粒的方法。防眩层及防眩层形成用的树脂组合物的详细内容例如记载在日本特开2017-32711号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
C-3.抗反射层
抗反射层是用于防止外界光的反射的层。抗反射层形成用的树脂组合物例如可含有能够通过热、光(紫外线等)或电子射线等而硬化的硬化性化合物。抗反射层可为仅由1层构成的单层,也可为包含2层以上的多层。抗反射层及抗反射层形成用的树脂组合物的详细内容例如记载在日本特开2012-155050号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
D.偏振片
上述A至C项所记载的光学膜可应用于偏振片。因此,本发明也包含使用这样的光学膜的偏振片。代表性而言,偏振片具有起偏器和配置于起偏器的单侧的本发明的光学膜。对于光学膜,可将其基材膜侧与起偏器进行贴合,而作为起偏器的保护层发挥功能。
作为起偏器,可采用任意适当的起偏器。例如,形成起偏器的树脂膜可为单层的树脂膜,也可为两层以上的层叠体。
作为由单层的树脂膜构成的起偏器的具体例子,可列举出对聚乙烯醇(PVA)系膜、部分缩甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜实施利用碘或二色性染料等二色性物质的染色处理及拉伸处理而得到的起偏器;PVA的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜等。从光学特性优异的方面出发,优选使用以碘将PVA系膜进行染色并进行单轴拉伸而获得的起偏器。
上述利用碘的染色例如通过将PVA系膜浸渍在碘水溶液中而进行。上述单轴拉伸的拉伸倍率优选为3~7倍。拉伸可在染色处理后进行,也可一边染色一边进行。另外,也可在拉伸后进行染色。根据需要对PVA系膜实施溶胀处理、交联处理、洗涤处理、干燥处理等。例如,通过在染色前将PVA系膜浸渍在水中进行水洗,不仅可洗涤掉PVA系膜表面的污垢或抗粘连剂,而且可使PVA系膜溶胀而防止染色不均等。
作为使用层叠体而获得的起偏器的具体例子,可列举出使用树脂基材与层叠于该树脂基材上的PVA系树脂层(PVA系树脂膜)的层叠体、或树脂基材与涂布形成于该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而获得的起偏器。使用树脂基材与涂布形成于该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而获得的起偏器例如可通过以下方法制作:将PVA系树脂溶液涂布于树脂基材上,进行干燥而在树脂基材上形成PVA系树脂层,从而获得树脂基材与PVA系树脂层的层叠体;将该层叠体进行拉伸及染色而将PVA系树脂层制成起偏器。在本实施方式中,拉伸代表性而言包括将层叠体浸渍在硼酸水溶液中进行拉伸。进而,拉伸可根据需要进一步包括在硼酸水溶液中的拉伸前将层叠体在高温(例如95℃以上)下进行空中拉伸。所获得的树脂基材/起偏器的层叠体可直接使用(即,可将树脂基材设为起偏器的保护层),也可将树脂基材从树脂基材/起偏器的层叠体剥离,在该剥离面层叠与目的相应的任意适当的保护层而使用。这样的起偏器的制造方法的详细内容例如记载在日本特开2012-73580号公报中。该公报的全部记载作为参考而援引于本说明书中。
起偏器的厚度例如为1μm~80μm。在一实施方式中,起偏器的厚度优选为1μm~20μm,进一步优选为3μm~15μm。
E.图像显示装置
上述D项所记载的偏振片可应用于图像显示装置。因此,本发明也包含使用这样的偏振片的图像显示装置。作为图像显示装置的代表例,可列举出液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置。图像显示装置可采用业界所周知的构成,因此省略详细的说明。
实施例
以下,通过实施例对本发明进行具体说明,但本发明并不限定于这些实施例。各特性的测定方法如下所述。需要说明的是,只要无特别明确记载,则实施例中的“份”及“%”为重量基准。
(1)基材膜的尺寸变化率
将基材膜沿着其长边方向及短边方向裁断为10cm×10cm而制成测定样品。将上述测定样品介由粘合材贴合于玻璃板,在100℃的环境试验机内静置120小时,使用Mitutoyo制造的QVA606-PRO-AE10测定基材膜的尺寸变化率。
测定样品与玻璃板的贴合是使用含有丙烯酸丁酯95份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羟基乙酯0.1份及2-2偶氮二异丁腈0.05份的粘合剂。
需要说明的是,尺寸变化率是对于静置在环境试验机后的测定样品,沿着与裁断面平行的方向(测定样品的各边)对内侧距端部1cm的位置进行尺寸测定,使用下述式计算尺寸变化率。分别测定与基材膜的长边方向相对应的方向的尺寸变化率及与其短边方向相对应的方向的尺寸变化率。
尺寸变化率(%)=(100℃下120小时后的尺寸-初期尺寸)/初期尺寸×100
(2)密合性评价
依据JIS K-5400的棋盘格子剥离试验(棋盘格子数:100个)对表面处理层相对于基材膜的密合性进行评价,通过以下的指标进行判定。
〇:棋盘格子剥离数为0个
△:棋盘格子剥离数为1个以上且低于10个
×:棋盘格子剥离数为10个以上
<制造例1>
准备以下的组合物A~C作为表面处理层形成用的树脂组合物。
(1)组合物A
将4-HBA(4-hydroxybutyl acrylate,丙烯酸4-羟基丁酯)(大阪有机化学工业株式会社制造)16重量份、NK OLIGO UA-53H-80BK(新中村化学工业株式会社制造)32重量份、Viscoat#300(大阪有机化学工业株式会社制造)48重量份、A-GLY-9E(新中村化学工业株式会社制造)4重量份及IRGACURE 907(BASF制造)2.4重量份进行混合,分别通过MIBK(methylisobutyl ketone,甲基异丁基酮):PGM(Propylene Glycol monomethylether,丙二醇单甲醚)=50:50的溶剂以固体成分浓度成为42.0%的方式进行稀释而获得的UV硬化性树脂。
(2)组合物B
将Viscoat#300(大阪有机化学工业株式会社制造)100重量份及IRGACURE 907(BASF制造)2.4重量份进行混合,通过MIBK:PGM=50:50的溶剂以固体成分浓度成为42.0%的方式进行稀释而获得的UV硬化性树脂。
(3)组合物C
将4-HBA(大阪有机化学工业株式会社制造)20重量份、NK OLIGO UA-53H-80BK(新中村化学工业株式会社制造)40重量份、Viscoat#300(大阪有机化学工业株式会社制造)60重量份、IRGACURE 907(BASF制造)5重量份及Techpolymer SSX-103DXE(积水化成品工业株式会社制造)0.5重量份进行混合,分别通过甲苯:MEK(methyl ethyl ketone,甲基乙基酮)=70:30的溶剂以固体成分浓度成为40.0%的方式进行稀释而获得的UV硬化性树脂。
<实施例1>
1.基材膜的制作
利用单甲基胺将MS树脂(MS-200;甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(摩尔比)=80/20的共聚物,新日铁化学株式会社制造)进行酰亚胺化(酰亚胺化率:5%)。所获得的酰亚胺化MS树脂具有通式(1)所表示的戊二酰亚胺单元(R1及R3为甲基,R2为氢原子)、通式(2)所表示的(甲基)丙烯酸酯单元(R4及R5为甲基)及苯乙烯单元。需要说明的是,上述酰亚胺化中使用了口径为15mm的啮合型同方向旋转式双螺杆挤出机。将挤出机的各调温区的设定温度设定为230℃,将螺杆转速设定为150rpm,以2.0kg/小时供给MS树脂,单甲基胺的供给量相对于MS树脂100重量份设定为2重量份。从料斗投入MS树脂,通过捏合段使树脂熔融及充满后,从喷嘴注入单甲基胺。在反应区的末端装入密封圈使树脂充满。将排气口的压力减压为-0.08MPa而将反应后的副产物及过量的甲基胺去除挥发物。以线料形式从设置在挤出机出口的模具排出的树脂在水槽中冷却后,通过造粒机进行颗粒化。所获得的酰亚胺化MS树脂的酰亚胺化率为5.0%,酸值为0.5mmol/g。
将上述所获得的酰亚胺化MS树脂100重量份与芯壳型粒子10重量份投入至单螺杆挤出机中进行熔融混合,通过T模而进行膜形成,由此获得挤出膜。将所获得的挤出膜在拉伸温度160℃下沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸速度在长度方向及宽度方向上均为10%/秒。
由此制作基材膜A。所获得的基材膜A的厚度为40μm。测定基材膜A的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
以硬化后的厚度成为6μm的方式在上述基材膜A的单侧涂布组合物A而形成涂布层。接着,将上述涂布层在70℃下进行干燥,并且进行UV硬化,由此获得在基材膜A的单侧形成有硬涂层的光学膜1。将上述光学膜1供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例2>
1.基材膜的制作
将上述所获得的酰亚胺化MS树脂100重量份与芯壳型粒子10重量份投入至单螺杆挤出机中进行熔融混合,通过T模而进行膜形成,由此获得挤出膜。将所获得的挤出膜在拉伸温度160℃下沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸速度在长度方向及宽度方向上均为10%/秒。
由此制作基材膜B。所获得的基材膜B的厚度为35μm。测定基材膜B的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜B以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜B的单侧形成有硬涂层的光学膜2。将上述光学膜2供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例3>
1.基材膜的制作
将上述所获得的酰亚胺化MS树脂投入至单螺杆挤出机进行熔融混合,通过T模而进行膜形成,由此获得挤出膜。将所获得的挤出膜在拉伸温度160℃下沿长度方向及宽度方向分别同时双轴拉伸至2倍。拉伸速度在长度方向及宽度方向上均为10%/秒。
由此制作基材膜C。所获得的基材膜C的厚度为30μm。测定基材膜C的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜C以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜C的单侧形成有硬涂层的光学膜3。将上述光学膜3供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例4>
1.基材膜的制作
除了将芯壳型粒子的配合量设定为10重量份以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜D。测定基材膜D的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜D以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜D的单侧形成有硬涂层的光学膜4。将上述光学膜4供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例5>
在上述基材膜D的单侧涂布组合物B并进行干燥及使其硬化,由此形成硬涂层,除此以外,以与实施例4同样的方式获得在基材膜D的单侧形成有硬涂层的光学膜5。将上述光学膜5供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例6>
在上述基材膜D的单侧涂布组合物C并进行硬化,由此形成防眩层,除此以外,以与实施例4同样的方式获得在基材膜D的单侧形成有防眩层的光学膜6。将上述光学膜6供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例7>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为10重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为150℃,除此以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜E。测定基材膜E的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜E以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜E的单侧形成有硬涂层的光学膜7。将上述光学膜7供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例8>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为15重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为152℃,除此以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜F。测定基材膜F的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜F以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜F的单侧形成有硬涂层的光学膜8。将上述光学膜8供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例9>
1.基材膜的制作
除了将挤出膜的拉伸温度设定为155℃以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜G。测定基材膜G的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜G以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜G的单侧形成有硬涂层的光学膜9。将上述光学膜9供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例10>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为10重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为140℃,除此以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜H。测定基材膜H的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜H以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜H的单侧形成有硬涂层的光学膜10。将上述光学膜10供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例11>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为23重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为152℃,除此以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜I。测定基材膜I的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜I以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜I的单侧形成有硬涂层的光学膜11。将上述光学膜11供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例12>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为5重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为140℃,除此以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜J。测定基材膜J的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜J以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜J的单侧形成有硬涂层的光学膜12。将上述光学膜12供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例13>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为23重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为140℃,除此以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜K。测定基材膜K的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜K以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜K的单侧形成有硬涂层的光学膜13。将上述光学膜13供于密合性评价。将结果示于表1中。
<实施例14>
1.基材膜的制作
除了将挤出膜的拉伸温度设定为150℃以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜L。测定基材膜L的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜L以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜L的单侧形成有硬涂层的光学膜14。将上述光学膜14供于密合性评价。将结果示于表1中。
<比较例1>
1.基材膜的制作
除了将挤出膜的拉伸温度设定为130℃以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜M。测定基材膜M的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜M以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜M的单侧形成有硬涂层的光学膜15。将上述光学膜15供于密合性评价。将结果示于表1中。
<比较例2>
1.基材膜的制作
除了将挤出膜的拉伸温度设定为140℃以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜N。测定基材膜N的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜N以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜N的单侧形成有硬涂层的光学膜16。将上述光学膜16供于密合性评价。将结果示于表1中。
<比较例3>
在上述基材膜N的单侧涂布组合物B并进行干燥及使其硬化,由此形成硬涂层,除此以外,以与比较例2同样的方式获得在基材膜N的单侧形成有硬涂层的光学膜17。将上述光学膜17供于密合性评价。将结果示于表1中。
<比较例4>
在上述基材膜N的单侧涂布组合物C并进行干燥及使其硬化,由此形成防眩层,除此以外,以与比较例2同样的方式获得在基材膜N的单侧形成有防眩层的光学膜18。将上述光学膜18供于密合性评价。将结果示于表1中。
<比较例5>
1.基材膜的制作
将芯壳型粒子的配合量设定为3重量份,并且将挤出膜的拉伸温度设定为140℃,除此以外,以与实施例3同样的方式制作基材膜O。测定基材膜O的长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率。将结果示于表1中。
2.光学膜的制作
除了使用了上述基材膜O以外,以与实施例1同样的方式获得在基材膜O的单侧形成有硬涂层的光学膜19。将上述光学膜19供于密合性评价。将结果示于表1中。
[表1]
如由表1表明的那样,使用长边方向的尺寸变化率及短边方向的尺寸变化率为-2.0%~0%的基材膜的实施例1~14的光学膜中表面处理层相对于基材膜的密合性较高。
产业上的可利用性
本发明的光学膜可适宜地用作起偏器的保护层。具有本发明的光学膜作为保护层的偏振片可适宜地用于图像显示装置。如上所述的图像显示装置可用于:便携信息终端(PDA,portable information terminal)、智能型手机、移动电话、时钟、数码相机、便携游戏机等便携设备;计算机显示器、笔记本电脑、复印机等OA设备;摄录像机、电视、微波炉等家庭用电气设备;后部监视器、汽车导航系统用监视器、汽车音响等车载用设备;数字标牌、商业店铺用信息用监视器等展示设备;监视用监视器等警备设备;护理用监视器、医疗用监视器等护理、医疗设备等各种用途。
符号说明
10 基材膜
20 表面处理层
100 光学膜
Claims (8)
1.一种光学膜,其是包含作为含有丙烯酸系树脂的拉伸膜的基材膜和形成于该基材膜的单侧的表面处理层的光学膜,其中,
所述光学膜中的基材膜在剪断为10cm×10cm并介由粘合材贴合于玻璃板的状态下在100℃下静置120小时之时的尺寸变化率为-2.0%~0%。
2.根据权利要求1所述的光学膜,其中,所述基材膜含有所述丙烯酸系树脂和分散于该丙烯酸系树脂中的芯壳型粒子。
3.根据权利要求2所述的光学膜,其中,所述基材膜相对于所述丙烯酸系树脂100重量份含有5重量份~50重量份的所述芯壳型粒子。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学膜,其中,所述丙烯酸系树脂具有选自由戊二酰亚胺单元、内酯环单元、马来酸酐单元、马来酰亚胺单元及戊二酸酐单元构成的组中的至少一种。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学膜,其中,所述表面处理层是涂布于所述基材膜上的树脂的硬化层。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学膜,其中,所述表面处理层是选自由硬涂层、防眩层及抗反射层构成的组中的至少一种。
7.一种偏振片,其包含起偏器和配置于该起偏器的单侧的保护层,其中,所述保护层为权利要求1至6中任一项所述的光学膜。
8.一种图像显示装置,其具备权利要求7所述的偏振片。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017-077605 | 2017-04-10 | ||
JP2017077605 | 2017-04-10 | ||
PCT/JP2018/014122 WO2018190173A1 (ja) | 2017-04-10 | 2018-04-02 | 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110494772A true CN110494772A (zh) | 2019-11-22 |
Family
ID=63793463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201880024155.5A Pending CN110494772A (zh) | 2017-04-10 | 2018-04-02 | 光学膜、偏振片及图像显示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7083340B2 (zh) |
KR (1) | KR102609114B1 (zh) |
CN (1) | CN110494772A (zh) |
TW (1) | TWI835728B (zh) |
WO (1) | WO2018190173A1 (zh) |
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2018
- 2018-04-02 KR KR1020197029377A patent/KR102609114B1/ko active IP Right Grant
- 2018-04-02 WO PCT/JP2018/014122 patent/WO2018190173A1/ja active Application Filing
- 2018-04-02 CN CN201880024155.5A patent/CN110494772A/zh active Pending
- 2018-04-02 JP JP2019512439A patent/JP7083340B2/ja active Active
- 2018-04-10 TW TW107112247A patent/TWI835728B/zh active
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PB01 | Publication | ||
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