CN102454733B - 板弹簧、平台系统以及光刻设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种板弹簧、平台系统以及光刻设备。一种板弹簧，安装在两个物体之间，板弹簧配置成在两个正交方向上具有高的刚性且在其他自由度上具有相对低的刚性，其中所述板弹簧具有基本上板形主体，所述板弹簧包括第一安装位置，其位于板形主体的中心或附近以将板弹簧安装至所述两个物体中的第一个，其中板弹簧包括一个或更多个第二安装位置，位于板形主体的周围或附近以将板弹簧安装至所述两个物体中的第二个；和在所述板形主体中的在所述第一安装位置和第二安装位置之间的细长的凹槽和/或狭缝，所述凹槽和/或狭缝在所述两个正交方向的平面内沿至少两个非正交方向延伸。

Description

板弹簧、平台系统以及光刻设备
技术领域
本发明涉及一种板弹簧、光刻设备的平台系统以及光刻设备。
背景技术
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或更多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单个的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式将图案从图案形成装置转移到衬底上。
在光刻设备的平台系统中，例如衬底或晶片平台中，板弹簧用以将平台的一个物体安装至平台的另一物体。尤其是，板弹簧用以将作为平台电机的一部分的磁轭安装在晶片平台的反射镜块中。板弹簧用以最小化反射镜块相对于磁轭的超定固定(over determined fixation)。板弹簧具有平面形主体，其在主体的平面内提供相对高的刚性。通过在轭和反射镜块之间沿不同方向设置三个板弹簧，电机可以在反射镜块中沿六个自由度刚性安装。
为了避免超定固定，板弹簧应该在两个正交方向上提供相对刚性的连接，同时板弹簧应该在所有其他自由度上提供非常低的刚性。以此方式，制造误差、电机和反射镜块的热膨胀系数的差异、在大碰撞负载期间串联中的可能的滞后等带来的变形可以被避免。
板弹簧被使用胶连接至反射镜块。结果，板弹簧的材料的选择主要由材料的热膨胀系数来确定。这导致例如选择殷钢作为用于板弹簧的材料。然而，殷钢的用于确定不同方向之间的可实现的刚性比的其他材料性能相对差。
使用已知的结构，不能在两个正交方向上实现想要的高刚性的同时使沿其他两个自由度上刚性足够弱。因此，板弹簧的结构仍然是超定的。
发明内容
期望提供一种板弹簧，具有在两个正交的方向上具有相对高的刚性而在其他自由度上具有相对低的刚性。
根据本发明的另一实施例，提供一种板弹簧，用以安装在两个物体之间，其中板弹簧配置成在两个正交方向上具有高的刚性且在其他自由度上具有相对低的刚性，其中所述板弹簧具有基本上板形的主体，其中所述板弹簧包括第一安装位置，其位于板形主体的中心或附近以将板弹簧安装至所述两个物体中的第一个，其中板弹簧包括一个或更多个第二安装位置，位于板形主体的周围或附近以将板弹簧安装至所述两个物体中的第二个，和其中，板弹簧包括在所述板形主体中的在所述第一安装位置和第二安装位置之间的细长的凹槽和/或狭缝，所述凹槽和/或狭缝在所述两个正交方向的平面内沿至少两个非正交方向延伸。
根据本发明的一个实施例，提供一种平台系统，包括第一平台部分和第二平台部分，其中所述第一平台部分使用一个或更多个板弹簧安装在所述第二平台部分上，其中每个板弹簧配置成在两个正交方向上具有高的刚性且在其他自由度上具有相对低的刚性，其中板弹簧具有基本上板形主体，其中板弹簧包括第一安装位置，其位于板形主体的中心或附近以将板弹簧安装至所述第一平台部分，其中板弹簧包括一个或更多个第二安装位置，位于板形主体的周围或附近以将板弹簧安装至所述第二平台部分，且其中，板弹簧包括在所述板形主体中的在所述第一安装位置和第二安装位置之间的细长的凹槽和/或狭缝，所述凹槽和/或狭缝在所述两个正交方向的平面内沿至少两个非正交方向延伸，其中所述第一平台部分连接至每个板弹簧的第一安装位置，并且其中所述一个或更多个第二安装位置连接至第二平台部分。
根据本发明的一个实施例，提供一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；支撑结构，构造用以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造用以保持衬底；和投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上，其中光刻设备包括平台系统，其中平台系统包括第一平台部分和第二平台部分，其中第一平台部分使用一个或更多个板弹簧安装在第二平台部分上，其中每个板弹簧配置成在两个正交方向上具有高的刚性且在其他自由度上具有相对低的刚性，其中板弹簧具有基本上板形的主体，其中板弹簧包括第一安装位置，其位于板形主体的中心或附近以将板弹簧安装至所述第一平台部分，其中板弹簧包括一个或更多个第二安装位置，位于板形主体的周围或附近以将板弹簧安装至所述第二平台部分，且其中，板弹簧包括在所述板形主体中的在所述第一安装位置和第二安装位置之间的细长的凹槽和/或狭缝，所述凹槽和/或狭缝在所述两个正交方向的平面内沿至少两个非正交方向延伸，其中所述第一平台部分连接至每个板弹簧的第一安装位置，并且其中所述一个或更多个第二安装位置连接至第二平台部分。
附图说明
下面仅通过示例的方式，参考附图对本发明的实施例进行描述，其中示意性附图中相应的标记表示相应的部件，在附图中：
图1示意地示出根据本发明一个实施例的光刻设备；
图2示意地示出根据本发明的一个实施例的板弹簧的第一实施例；
图3示出沿图2中的线A-A的截面；
图4示意地示出根据本发明的另一实施例的板弹簧的第二实施例；
图5示出沿图4的线B-B的截面；
图6示出沿图4的线C-C的截面。
具体实施例
图1示意地示出了根据本发明的一个实施例的光刻设备。所述设备包括：照射系统(照射器)IL，其配置用于调节辐射束B(例如紫外(UV)辐射或任何其他合适辐射)；图案形成装置支撑结构或掩模支撑结构(例如掩模台)MT构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并与配置用以根据特定的参数精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连。所述设备还包括衬底台(例如晶片台)WT或“衬底支撑结构”，构造用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用以根据特定的参数精确地定位衬底的第二定位装置PW相连。所述设备还包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，配置成将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一根或更多根管芯)上。
照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。
图案形成装置支撑结构以依赖于图案形成装置的方向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置。图案形成装置支撑结构可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持图案形成装置。图案形成装置支撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。图案形成装置支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。这里任何使用术语“掩模版”或“掩模”可以被看作与更为上位的术语“图案形成装置”同义。
这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上的所需图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。
图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。
在此，术语“投影系统”可以被广义地理解为包括多种类型的投影系统，包括折射型、反射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。这里任何使用的术语“投影透镜”可以被看作与更为上位的“投影系统”同义。
如这里所示的，所述设备可以是透射型的(例如采用透射式掩模)。替换地，所述设备是反射型的(例如，采用上面所述类型的可编程的反射镜阵列，或采用反射式掩模)。
所述光刻设备可以是具有两个(双台)或更多衬底台或“衬底支撑结构”(和/或两个或更多的掩模台或“衬底支撑结构”)的类型。在这种“多台”机器中，可以并行地使用附加的台或支撑结构，或可以在一个或更多个台或支撑结构上执行预备步骤的同时，将一个或更多个其它台或支撑结构用于曝光。
光刻设备还可以是这种类型，其中衬底的至少一部分可以由具有相对高的折射率的液体(例如水)覆盖，以便填充投影系统和衬底之间的空间。浸没液体还可以施加到光刻设备的其他空间中，例如图案形成装置(例如掩模)和投影系统之间的空间。浸没液体可以用于提高投影系统的数值孔径。这里使用的术语“浸没”并不意味着必须将结构(例如衬底)浸入到液体中，而仅意味着在曝光过程中液体位于投影系统和该衬底之间。
参照图1，照射器IL接收来自辐射源SO的辐射束。该源SO和所述光刻设备可以是分立的实体(例如当该源为准分子激光器时)。在这种情况下，不会将该源SO看成形成光刻设备的一部分，并且通过包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束传递系统BD的帮助，将所述辐射束从所述源SO传到所述照射器IL。在其它情况下，所述源SO可以是所述光刻设备的组成部分(例如当所述源SO是汞灯时)。可以将所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要时设置的所述束传递系统BD一起称作“辐射系统”。
所述照射器IL可以包括用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器AD。通常，可以对所述照射器IL的光瞳平面中的强度分布的至少所述外部和/或内部径向范围(一般分别称为σ-外部和σ-内部)进行调整。此外，所述照射器IL可以包括各种其它部件，例如积分器IN和聚光器CO。可以将所述照射器用于调节所述辐射束，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。
所述辐射束B入射到保持在图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT上的所述图案形成装置(例如，掩模)MA上，并且通过图案形成装置形成图案。已经穿过图案形成装置(例如，掩模)MA后，所述辐射束B通过投影系统PS，所述投影系统PS将辐射束聚焦到所述衬底W的目标部分C上。通过第二定位装置PW和位置传感器IF(例如，干涉仪器件、线性编码器或电容传感器)的帮助，可以精确地移动所述衬底台WT，例如以便将不同的目标部分C定位于所述辐射束B的路径中。类似地，例如在从掩模库的机械获取之后，或在扫描期间，可以将所述第一定位装置PM和另一个位置传感器(图1中未明确示出)用于相对于所述辐射束B的路径精确地定位图案形成装置(例如掩模)MA。通常，可以通过形成所述第一定位装置PM的一部分的长行程模块(粗定位)和短行程模块(精定位)的帮助来实现图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT的移动。类似地，可以采用形成所述第二定位装置PW的一部分的长行程模块和短行程模块来实现所述衬底台WT或“衬底支撑结构”的移动。在步进机的情况下(与扫描器相反)，图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT可以仅与短行程致动器相连，或可以是固定的。可以使用图案形成装置对准标记M1、M2和衬底对准标记P1、P2来对准图案形成装置(例如掩模)MA和衬底W。尽管所示的衬底对准标记占据了专用目标部分，但是它们可以位于目标部分C之间的空间(这些公知为划线对齐标记)中。类似地，在将多于一个的管芯设置在图案形成装置(例如掩模)MA上的情况下，所述图案形成装置对准标记可以位于所述管芯之间。
可以将所示的设备用于以下模式中的至少一种中：
1.在步进模式中，在将图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT或“掩模支撑结构”和衬底台WT或“衬底支撑结构”保持为基本静止的同时，将赋予所述辐射束的整个图案一次投影到目标部分C上(即，单一的静态曝光)。然后将所述衬底台WT或“衬底支撑结构”沿X和/或Y方向移动，使得可以对不同目标部分C曝光。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单一的静态曝光中成像的所述目标部分C的尺寸。
2.在扫描模式中，在对图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT或“掩模支撑结构”和衬底台WT或“衬底支撑结构”同步地进行扫描的同时，将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上(即，单一的动态曝光)。衬底台WT或“衬底支撑结构”相对于图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT或“掩模支撑结构”的速度和方向可以通过所述投影系统PS的(缩小)放大率和图像反转特征来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制了单一动态曝光中所述目标部分C的宽度(沿非扫描方向)，而所述扫描运动的长度确定了所述目标部分C的高度(沿所述扫描方向)。
3.在另一种模式中，将用于保持可编程图案形成装置的图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT或“掩模支撑结构”保持为基本静止，并且在对所述衬底台WT或“衬底支撑结构”进行移动或扫描的同时，将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上。在这种模式中，通常采用脉冲辐射源，并且在所述衬底台WT或“衬底支撑结构”的每一次移动之后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要更新所述可编程图案形成装置。这种操作模式可易于应用于利用可编程图案形成装置(例如，如上所述类型的可编程反射镜阵列)的无掩模光刻术中。
也可以采用上述使用模式的组合和/或变体，或完全不同的使用模式。
在图1中的光刻设备中，第二定位装置PW配置成相对于投影系统PS定位反射镜块MB和晶片台WT。反射镜块MB包括反射表面，其通过位置传感器IF使用以确定反射镜块的位置。
第二定位装置PW包括短行程致动器PWA以在相对小的范围内但是以高的精确度相对于投影系统PS驱动用于支撑晶片台WT的卡盘。长行程致动器设置用以在较大范围上移动短行程致动器。反射镜块MB经由板弹簧LS连接至短行程致动器PWA的磁轭AY。
板弹簧LS用以将反射镜块MB相对于磁轭AY的超定固定最小化。相对于磁轭AY。通过在轭AY和反射镜块MB之间在不同方向上提供三个板弹簧LS，可以在反射镜块中在六个自由度上刚性安装轭AY。
为了避免超定固定，板弹簧LS应该在两个正交方向上提供相对刚性连接，并且在其他自由度上提供低的刚性。这样，制造误差、电机和反射镜块的热膨胀系数的差异、在大碰撞负载期间串联中的可能的滞后等带来的变形可以被避免。
图2示意地示出本发明的板弹簧的第一实施例，总体上用附图标记1表示。在图3中示出板弹簧1沿图2中示出的线A-A的截面。板弹簧1具有矩形板形主体2，其具有居中部分3和两个侧部分4。侧部分4通过中间部分5连接至居中部分3。
板弹簧1设计为在板形主体的平面内的两个正交方向x、z上具有高的刚性，并且在其他自由度上(y、Rx、Rz)具有相对低的刚性。在本实施例中，在Ry上的刚性仍然相对高。
板弹簧1包括位于主体2的居中部分3中的第一安装位置6，即该第一安装位置6位于板形主体2的中央或附近。该第一安装位置6用以使用螺栓或类螺栓的连接装置将板弹簧1连接至反射镜块MB。反射镜块可以例如包括粘结在主反射镜块上的小的殷钢块，其中小的殷钢块被形成为适于与板弹簧1螺栓连接。如图3所示，居中部分在第一安装位置6的位置处(即用于接收螺栓的开口处)相对厚。该相对厚的部分尤其适于螺栓连接。
侧部分4中每一个限定用于将板弹簧连接至致动器轭AY的第二安装位置7。在一实施例中，该连接是粘结连接。然而，作为粘接连接的替代方案或附加方案，在致动器轭AY和板弹簧1之间也可以设置螺栓或类螺栓连接。
在侧部分4和中间部分5之间以及在中间部分5和居中部分3之间，设置沿x方向延伸的第一直线凹槽8。第一凹槽8在主体2的整个宽度上延伸。此外，设置第二直线凹槽9，其相对于第一凹槽8沿非平行且非垂直方向延伸。
第一凹槽8和第二凹槽9设置在主体2的相对的侧处，由此导致位于凹槽8、9的位置处的主体2的相对薄的部分。
第二凹槽9在中间部分5中从主体2一侧处的凹槽8的一个端部延伸至主体2另一侧处的另一凹槽8的端部。在一个实施例中，第二凹槽9相对于第一凹槽8的方向成30至60度的角度，由此第一凹槽8和第二凹槽9都在板形主体2的主平面内，即x-z平面内延伸。
第一凹槽8和第二凹槽9在图2和3中示意地示出。在实际应用中，凹槽8、9可以具有圆化的边缘以避免在凹槽8、9的角部的尖端应力。凹槽8、9还可以具有任何合适的横截面。在一个实施例中，凹槽8、9是直线的以便为主体提供更好的柔性。
主体2在凹槽底部处的厚度可以是至少5，或在一个实施例中可以比主体2的其他部分薄至少10倍。例如，中间部分5可以具有3mm的厚度，同时主体2在凹槽8、9的底部处的厚度可以是0.2mm。
要注意的是，已知的板弹簧在两个位置处粘结至反射镜块MB，同时板弹簧通过单个螺栓连接装置连接至磁轭AY。在板弹簧1的设计中，板弹簧1的安装是被倒转的。在反射镜块MB上的单个第一安装位置6处通过螺栓或类螺栓的连接装置安装板弹簧1。在第一安装位置6的相对的侧处设置两个第二安装位置7以将板弹簧1粘接至致动器轭AY。
因为板弹簧1没有被粘结至反射镜块MB，而是与螺栓连接装置连接，板弹簧21的材料的热膨胀系数不是很重要。因此，板弹簧1的材料选择在材料的刚性方面可以更加优化。板弹簧1可以例如由不锈钢(例如工具钢)、碳化钨(例如Innermet)或非磁性材料(例如奥氏体镍-铬基超级合金，例如因科镍合金)形成。选择非磁性材料有利于减小对光刻设备中的其他磁性系统带来的磁性串扰。
选择第一和第二安装位置6、7的另一优点在于，仅有一个第一安装位置6用以将板弹簧1安装在反射镜块MB上。结果，板弹簧的变形将较少影响反射镜块MB。
图4示出根据本发明的板弹簧21的第二实施例。该板弹簧21也设置为在板形主体的平面内的两个正交方向x、z上具有相对高的刚性，并且在所有的其他自由度上(y、Rx、Ry、Rz)具有相对低的刚性。图5和6分别示出沿线B-B和C-C的板弹簧21的横截面。
板弹簧21具有矩形板形主体22，其具有中心部分23和框架24，所述框架24沿主体22的周围延伸。框架24通过轮辐元件25连接至居中部分23。
板弹簧21包括位于主体22的中心部分23中的第一安装位置26。该第一安装位置26用以使用螺栓或类螺栓连接装置将板弹簧21连接至反射镜块MB。如图5和6所示，中心部分23在第一安装位置6的位置处相对厚以在中心部分23和反射镜块之间形成牢固的且可靠的连接。
框架24限定第二安装位置27，用于将板弹簧21连接至致动器轭AY。在一实施例中，该连接是粘接连接。布置在主体2的周围的安装位置27提供相对大的表面积用以形成牢固的粘接连接。然而，作为粘接连接的替代方案或附加方案，在致动器轭AY和板弹簧21之间也可以设置螺栓或类螺栓或其他合适的连接。
通过相对于第一安装位置27基本上径向地延伸的径向狭缝28以及相对于第一安装位置27基本上切向地延伸的内切向凹槽29和外切向凹槽30限定轮辐元件25。径向狭缝28、内切向凹槽29以及外切向凹槽30都设置在主体的相对侧处使得与例如中心部分23、框架24以及轮辐元件25等其他部分相比，所述凹槽形成具有相对薄的主体的部分。
径向狭缝28是直线的。内切向凹槽29和外切向凹槽30是沿基本上切向方向的直线或沿切向方向延伸。
轮辐元件25围绕第一安装位置26基本上在360度上分开。因为径向狭缝28和内切向凹槽和外切向凹槽29、30在主体22的主平面内沿各种不同方向(即相对于x和z方向)延伸，因此在除了x方向和z方向之外的所有方向上获得相对的柔性。由于沿径向和切向取向的狭缝和凹槽，板弹簧21尤其在Ry方向上提供良好的柔性，在与图2和3的实施例对比时也是这样。
考虑到除去x方向和z方向以外沿Ry方向和其他方向的柔性，在围绕第一安装位置26的圆周上具有相当数量的多个(例如至少12个)轮辐元件是有利的。主体22包括二十四个轮辐元件25。
在板弹簧21的轮辐设计中，与已知的板弹簧相比，板弹簧21相对于反射镜块MB和致动器轭AY的安装也是被倒转的。板弹簧21通过螺栓或类螺栓连接装置安装在反射镜块MB上的单个第一安装位置26。第二安装位置27围绕第一安装位置26。第二安装位置27设置用以将板弹簧21粘结至致动器轭AY。
因为板弹簧21没有被粘结至反射镜块26，因此板弹簧21材料的热膨胀系数的重要性不大。因此，板弹簧21的材料选择可以在材料的刚性方面更优化。板弹簧21可以例如由不锈钢(例如工具钢)、碳化钨(例如Innermet)或非磁性材料(例如奥氏体镍-铬基超级合金，例如因科镍合金)形成。
第一安装位置和第二安装位置6、7的选择的另一优点在于，仅存在一个安装位置6用以将板弹簧1安装在反射镜块MB上。结果，板弹簧的变形将对反射镜块MB具有较小的影响。
这里使用的术语“板形主体”是为了描述沿两个方向(例如长度和宽度方向)比第三方向延伸多得多的主体。在图2至6中示出的实施例中，主体主要沿x方向和z方向延伸。
此外，术语“凹槽”用以描述在主体中的细长的较薄的部分的布置，用以提高主体在一个或更多个预定方向上的柔性。术语“狭缝”用以描述在主体中细长的贯穿延伸的开口的布置。凹槽和狭缝可以在主体中被机加工，或通过主体的模制来提供，或通过任何其他合适的生产方法来提供。
虽然本申请详述了光刻设备在制造IC中的应用，但是应该理解到，这里描述的光刻设备可以有其他应用，例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCDs)、薄膜磁头等。本领域技术人员应该看到，在这种替代应用的情况中，可以将其中使用的任意术语“晶片”或“管芯”分别认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道(一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、测量工具和/或检验工具中。在可应用的情况下，可以将这里公开内容应用于这种和其他衬底处理工具中。另外，所述衬底可以处理一次以上，例如为产生多层IC，使得这里使用的所述术语“衬底”也可以表示已经包含多个已处理层的衬底。
虽然上面详述了本发明的实施例在光学光刻中的应用，应该注意到，本发明可以有其它的应用，例如压印光刻，并且只要情况允许，不局限于光学光刻。在压印光刻中，图案形成装置中的拓扑限定了在衬底上产生的图案。可以将所述图案形成装置的拓扑印刷到提供给所述衬底的抗蚀剂层中，在其上通过施加电磁辐射、热、压力或其组合来使所述抗蚀剂固化。在所述抗蚀剂固化之后，所述图案形成装置从所述抗蚀剂上移走，并在抗蚀剂中留下图案。
这里使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括：紫外(UV)辐射(例如具有约365、248、193、157或126nm的波长)或极紫外(EUV)辐射(例如具有在5-20nm范围的波长)，以及粒子束，例如离子束或电子束。
在允许的情况下，术语“透镜”可以表示不同类型的光学部件中的任何一种或其组合，包括折射式的、反射式的、磁性的、电磁的以及静电的光学构件。
尽管以上已经描述了本发明的具体实施例，但应该认识到，本发明可以以与上述不同的方式来实现。例如，本发明可以采用包含用于描述一种如上面公开的方法的一个或更多个机器可读指令序列的计算机程序的形式，或其中存储有这种计算机程序的数据存储介质(例如半导体存储器、磁盘或光盘)的形式。
上面的说明书是说明性的，而不是限制的。因此本领域技术人员应该清楚，在不脱离所附权利要求的范围的情况下可以对本发明进行修改。

Claims (15)

1.一种板弹簧，配置用以安装在两个物体之间并且配置成在处于平衡中的板弹簧的平面中的两个正交方向上具有高的刚性且在其他自由度上具有相对低的刚性，所述两个正交方向中的每一个特定的正交方向与为特定方向上的特定的平移的特定的自由度相关，所述其他自由度包括在垂直于两个正交方向的另外的方向上的另外的平移、围绕平行于两个正交方向中的一个的轴线的旋转、和围绕平行于两个正交方向中的另一个的轴线的另外的旋转，所述板弹簧具有基本上板形主体，所述板弹簧包括：
第一安装位置，位于板形主体的中心或所述中心附近以将板弹簧安装至所述两个物体中的第一个；
一个或更多个第二安装位置，位于板形主体的周围或所述周围附近以将板弹簧安装至所述两个物体中的第二个；和
在所述板形主体中的细长的凹槽和/或狭缝，布置在所述第一安装位置和所述第二安装位置之间，所述凹槽和/或狭缝在所述两个正交方向的平面内沿至少两个非正交方向延伸。
2.根据权利要求1所述的板弹簧，其中所述细长的凹槽和/或狭缝是直线的。
3.根据权利要求1所述的板弹簧，其中所述板形主体具有矩形形状，矩形主体的居中部分限定第一安装位置，其中在所述主体的相对侧处的两个侧部分限定第二安装位置，并且其中在所述居中部分和各个相对的侧部分之间设置第一和第二中间部分。
4.根据权利要求3所述的板弹簧，其中第一直线凹槽布置在居中部分和每个中间部分之间以及中间部分和侧部分之间，其中所述直线凹槽彼此平行地延伸，并且其中第二直线凹槽以与第一直线凹槽的方向成不平行且不垂直的角度布置在每个中间部分上。
5.根据权利要求4所述的板弹簧，其中所述第二直线凹槽中每个在所述中间部分中的一个上从第一直线凹槽在所述侧部分和所述中间部分之间的端部延伸至第一直线凹槽在所述中间部分和所述居中部分之间的端部，其中第一直线凹槽在所述侧部分和所述中间部分之间的端部与第一直线凹槽在所述中间部分和所述居中部分之间的端部布置在所述主体的相对侧处。
6.根据权利要求1所述的板弹簧，其中所述凹槽形成相对于第一安装位置沿径向延伸的轮辐元件。
7.根据权利要求6所述的板弹簧，其中轮辐元件的每一个的周边由两个直线凹槽或狭缝和以两个不同的径向间距相对于第一安装位置基本上沿切向延伸的两个其它的凹槽或狭缝限定。
8.根据权利要求6所述的板弹簧，其中所述板弹簧包括至少十二个轮辐元件。
9.根据权利要求6所述的板弹簧，其中所述轮辐元件在围绕第一安装位置的360度范围上大体分开。
10.根据权利要求6所述的板弹簧，其中所述一个第二安装位置或更多个第二安装位置围绕主体的周围延伸。
11.一种平台系统，包括第一平台部分和第二平台部分，其中所述第一平台部分使用一个或更多个根据权利要求1所述的板弹簧安装在所述第二平台部分上，其中所述第一平台部分连接至每个板弹簧的第一安装位置，并且其中一个或更多个第二安装位置连接至第二平台部分。
12.根据权利要求11所述的平台系统，其中所述平台系统包括位于所述第一平台部分和所述第二平台部分之间的三个板弹簧，其中所述三个板弹簧沿三个不同的方向安装，由此导致在恰好六个自由度上在所述第一平台部分和所述第二平台部分之间的刚性安装。
13.根据权利要求11所述的平台系统，其中所述第一平台部分是反射镜块并且第二平台部分是所述平台的电机的一部分。
14.根据权利要求13所述的平台系统，其中所述第一安装位置配置用于连接至第一平台部分的螺栓或类螺栓连接，并且其中所述一个或更多个第二安装位置配置用于连接至第二平台部分的粘结连接。
15.一种光刻设备，包括：
照射系统，配置成调节辐射束；
支撑结构，构造用以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；
衬底台，构造用以保持衬底；和
投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上，其中所述光刻设备包括根据权利要求12所述的平台系统。
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