JP2001230173A - 支持装置 - Google Patents
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- JP2001230173A JP2001230173A JP2000039837A JP2000039837A JP2001230173A JP 2001230173 A JP2001230173 A JP 2001230173A JP 2000039837 A JP2000039837 A JP 2000039837A JP 2000039837 A JP2000039837 A JP 2000039837A JP 2001230173 A JP2001230173 A JP 2001230173A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 位置制御される微動ステージの位置精度向上
を図る。 【解決手段】 ウエハWが載置されたウエハステージ天
板12のXステージ天板11に対する位置制御をする制
御手段と、ウエハステージ天板12の自重を支持するL
字形板ばね5とを有し、L字形板ばね5には重力方向に
垂直な面内におけるウエハステージ天板12の変位に対
する復元力を減殺するための柔軟要素として先端部5b
を備え、ウエハステージ天板12をXステージ天板11
に対し少なくとも回転および重力方向に滑動自在で重力
方向に垂直な平面内の自由度を拘束する自在継ぎ手6を
備え、複数のL字形板ばね5は該自在継ぎ手6の周囲に
配設されている。
を図る。 【解決手段】 ウエハWが載置されたウエハステージ天
板12のXステージ天板11に対する位置制御をする制
御手段と、ウエハステージ天板12の自重を支持するL
字形板ばね5とを有し、L字形板ばね5には重力方向に
垂直な面内におけるウエハステージ天板12の変位に対
する復元力を減殺するための柔軟要素として先端部5b
を備え、ウエハステージ天板12をXステージ天板11
に対し少なくとも回転および重力方向に滑動自在で重力
方向に垂直な平面内の自由度を拘束する自在継ぎ手6を
備え、複数のL字形板ばね5は該自在継ぎ手6の周囲に
配設されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体露光装置のウ
エハ位置決めステージの微動ステージ等に適した支持装
置に関するものである。
エハ位置決めステージの微動ステージ等に適した支持装
置に関するものである。
【0002】
【従来技術】図20は半導体露光装置に用いられている
支持装置のウエハ粗ステージを示す斜視図である。この
ウエハ粗ステージは、ベース定盤201上にYヨーガイ
ド202が固定され、該Yヨーガイド202の側面とベ
ース定盤201の上面でガイドされるYステージ203
がベース定盤201の上にY方向に不図示のエアスライ
ドにより滑動自在に支持されている。Yステージ203
は主に2本のXヨーガイド204とYスライダ大20
5、Yスライダ小206の4部材から構成され、Yスラ
イダ大205はその側面及び下面に設けた不図示のエア
パッドを介してYヨーガイド202の側面及びベース定
盤201の上面と対面し、Yスライダ小206はその側
面に設けた不図示のエアパッドを介してベース定盤20
1の上面と対面している。この結果、Yステージ203
全体としては、前述のようにYヨーガイド202の側面
とベース定盤201の上面でY方向に滑動自在に支持さ
れることになる。
支持装置のウエハ粗ステージを示す斜視図である。この
ウエハ粗ステージは、ベース定盤201上にYヨーガイ
ド202が固定され、該Yヨーガイド202の側面とベ
ース定盤201の上面でガイドされるYステージ203
がベース定盤201の上にY方向に不図示のエアスライ
ドにより滑動自在に支持されている。Yステージ203
は主に2本のXヨーガイド204とYスライダ大20
5、Yスライダ小206の4部材から構成され、Yスラ
イダ大205はその側面及び下面に設けた不図示のエア
パッドを介してYヨーガイド202の側面及びベース定
盤201の上面と対面し、Yスライダ小206はその側
面に設けた不図示のエアパッドを介してベース定盤20
1の上面と対面している。この結果、Yステージ203
全体としては、前述のようにYヨーガイド202の側面
とベース定盤201の上面でY方向に滑動自在に支持さ
れることになる。
【0003】一方、Yステージ203の構成部品である
2本のXヨーガイド204の側面とベース定盤201の
上面とでガイドされるXステージ210がX軸まわりに
Yステージ203のXヨーガイド204を囲むように設
けられ、X方向に不図示のエアスライドにより滑動自在
に支持されている。Xステージ210は主に2枚のXス
テージ側板211と、上端のXステージ天板212と、
Xステージ底板213の4部材から構成され、Xステー
ジ底板213はその下面に設けた不図示のエアパッドを
介してベース定盤201の上面と対面し、2枚のXステ
ージ側板211はその側面に設けた不図示のエアパッド
を介してYステージ203の構成部材である2本のXヨ
ーガイド204の側面と対面している。Xステージ天板
212下面とXヨーガイド204の上面、及びXステー
ジ底板213の上面とXヨーガイド204の下面は非接
触になっている。この結果、Xステージ210全体とし
ては前述のように2本のXヨーガイド204の側面とベ
ース定盤201の上面でX方向に滑動自在に支持される
ことになる。
2本のXヨーガイド204の側面とベース定盤201の
上面とでガイドされるXステージ210がX軸まわりに
Yステージ203のXヨーガイド204を囲むように設
けられ、X方向に不図示のエアスライドにより滑動自在
に支持されている。Xステージ210は主に2枚のXス
テージ側板211と、上端のXステージ天板212と、
Xステージ底板213の4部材から構成され、Xステー
ジ底板213はその下面に設けた不図示のエアパッドを
介してベース定盤201の上面と対面し、2枚のXステ
ージ側板211はその側面に設けた不図示のエアパッド
を介してYステージ203の構成部材である2本のXヨ
ーガイド204の側面と対面している。Xステージ天板
212下面とXヨーガイド204の上面、及びXステー
ジ底板213の上面とXヨーガイド204の下面は非接
触になっている。この結果、Xステージ210全体とし
ては前述のように2本のXヨーガイド204の側面とベ
ース定盤201の上面でX方向に滑動自在に支持される
ことになる。
【0004】駆動機構は、X駆動用に1本、Y駆動用に
2本の多相コイル切り替え方式のリニアモータ214,
215が用いられている。固定子216はストローク方
向に並べた複数個のコイル217を枠218に挿入した
ものであり、可動子219は箱形の磁石ユニットで構成
される。可動子219の位置によって固定子216のコ
イル217に選択的に電流を流すことにより推力を発生
させる。Xステージ天板212の上には図21および図
22に示す微動ステージ221が搭載される。この微動
ステージ221は、Xステージ天板212の上にあって
工作物であるウエハWをZチルトおよびθ方向に位置決
めするものである。周辺部に設けられた3つのΖ懸架駆
動ユニット222−1〜222−3でウエハステージ天
板223を支持およびZチルト方向に位置決めし、中央
部に設けられた自在継ぎ手224でウエハステージ天板
223がXY方向に変位しないように自由度を拘束して
いる。
2本の多相コイル切り替え方式のリニアモータ214,
215が用いられている。固定子216はストローク方
向に並べた複数個のコイル217を枠218に挿入した
ものであり、可動子219は箱形の磁石ユニットで構成
される。可動子219の位置によって固定子216のコ
イル217に選択的に電流を流すことにより推力を発生
させる。Xステージ天板212の上には図21および図
22に示す微動ステージ221が搭載される。この微動
ステージ221は、Xステージ天板212の上にあって
工作物であるウエハWをZチルトおよびθ方向に位置決
めするものである。周辺部に設けられた3つのΖ懸架駆
動ユニット222−1〜222−3でウエハステージ天
板223を支持およびZチルト方向に位置決めし、中央
部に設けられた自在継ぎ手224でウエハステージ天板
223がXY方向に変位しないように自由度を拘束して
いる。
【0005】Z懸架駆動ユニット222−1〜222−
3はウエハステージ天板223の自重を支持する役目を
果たすエアシリンダ226と、ウエハステージ天板22
3にZ方向の力を付与するZリニアモータ230から構
成される。
3はウエハステージ天板223の自重を支持する役目を
果たすエアシリンダ226と、ウエハステージ天板22
3にZ方向の力を付与するZリニアモータ230から構
成される。
【0006】Zリニアモータ230は水平線に平行な長
辺をもつ扁平コイル231と、その扁平コイル231の
長辺部に空隙を介して対面する4つの磁石232と、そ
の磁石232の磁束を循環させる2つのヨーク233と
から構成される。扁平コイル231はXステージ天板2
12に固定され、磁石232およびヨーク233は一体
となってウエハステージ天板223に固定される。扁平
コイル231に電流を流すとコイル231と磁石232
およびヨーク233一体のものとの間にはΖ方向の力が
作用するようになっている。
辺をもつ扁平コイル231と、その扁平コイル231の
長辺部に空隙を介して対面する4つの磁石232と、そ
の磁石232の磁束を循環させる2つのヨーク233と
から構成される。扁平コイル231はXステージ天板2
12に固定され、磁石232およびヨーク233は一体
となってウエハステージ天板223に固定される。扁平
コイル231に電流を流すとコイル231と磁石232
およびヨーク233一体のものとの間にはΖ方向の力が
作用するようになっている。
【0007】エアシリンダ226は支持棒227とゴム
膜228から構成される。ゴム膜228は、ウエハステ
ージ天板223下部に設けられ、ウエハステージ天板2
23下部と支持棒227との間に空気室229を形成す
る。空気は不図示の供給口から供給される。支持棒22
7は、一端が扁平コイル231に固定され、他端がゴム
膜228に結合されるので、結果としてXステージ21
0から扁平コイル231、支持棒227、空気室229
を介してウエハステージ天板223の自重を支持するこ
とになる。空気室229はΖ方向に柔らかいばねを形成
するのでZ方向の振動をほぼ遮断することができる。
膜228から構成される。ゴム膜228は、ウエハステ
ージ天板223下部に設けられ、ウエハステージ天板2
23下部と支持棒227との間に空気室229を形成す
る。空気は不図示の供給口から供給される。支持棒22
7は、一端が扁平コイル231に固定され、他端がゴム
膜228に結合されるので、結果としてXステージ21
0から扁平コイル231、支持棒227、空気室229
を介してウエハステージ天板223の自重を支持するこ
とになる。空気室229はΖ方向に柔らかいばねを形成
するのでZ方向の振動をほぼ遮断することができる。
【0008】Zリニアモータ230に自重支持の機能を
持たせず専ら位置制御のみをさせることにより、Ζリニ
アモータ230には実質的に発熱が問題になるような電
流は流れないようになっている。
持たせず専ら位置制御のみをさせることにより、Ζリニ
アモータ230には実質的に発熱が問題になるような電
流は流れないようになっている。
【0009】自在継ぎ手224はXステージ天板212
に固定された外輪236とウエハステージ天板223に
固定された内輪237と、外輪236と内輪237を滑
動自在にガイドするガイド238とから構成される。ガ
イド238は数ミクロン程度の空隙をもつエアガイド等
が採用される。空隙はリング状であり内輪237と外輪
236ひいてはXステージ天板212とウエハステージ
天板223がZおよびθ方向に滑動自在にガイドされ
る。さらにガイド238のΖ方向の高さは低めに設計さ
れ内輪237と外輪236ひいてはXステージ天板21
2とウエハステージ天板223のチルト方向の動きも可
能にしている。
に固定された外輪236とウエハステージ天板223に
固定された内輪237と、外輪236と内輪237を滑
動自在にガイドするガイド238とから構成される。ガ
イド238は数ミクロン程度の空隙をもつエアガイド等
が採用される。空隙はリング状であり内輪237と外輪
236ひいてはXステージ天板212とウエハステージ
天板223がZおよびθ方向に滑動自在にガイドされ
る。さらにガイド238のΖ方向の高さは低めに設計さ
れ内輪237と外輪236ひいてはXステージ天板21
2とウエハステージ天板223のチルト方向の動きも可
能にしている。
【0010】また不図示であるが長辺が鉛直線に平行な
扁平コイル231を有するZリニアモータ230と同様
の機構が設けられ、ウエハステージ天板223はθ方向
に動かせるようになっている。
扁平コイル231を有するZリニアモータ230と同様
の機構が設けられ、ウエハステージ天板223はθ方向
に動かせるようになっている。
【0011】ウエハステージ天板223の側面には不図
示のスコヤミラーが形成され、ウエハステージ天板22
3の6軸方向の位置をレーザ干渉計で精密に計測できる
ようになっている。
示のスコヤミラーが形成され、ウエハステージ天板22
3の6軸方向の位置をレーザ干渉計で精密に計測できる
ようになっている。
【0012】以上の構成により、従来のこの露光装置
は、ウエハWを不図示の制御系により粗動X、粗動Y、
微動Ζ1、微動Ζ2、微動Ζ3、微動θの各コイルに適
切な電流制御を施してXYΖθチルト方向に精密に位置
決めし、不図示の露光手段によって露光することによ
り、不図示の原版のパターンをウエハW上に逐次的に露
光する。
は、ウエハWを不図示の制御系により粗動X、粗動Y、
微動Ζ1、微動Ζ2、微動Ζ3、微動θの各コイルに適
切な電流制御を施してXYΖθチルト方向に精密に位置
決めし、不図示の露光手段によって露光することによ
り、不図示の原版のパターンをウエハW上に逐次的に露
光する。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来構成ではθ方向に振動が伝わり易いという問題が発生
する。これはエアシリンダのΖ方向に対し垂直な面内方
向のばね定数が大きいためで、全体的にウエハステージ
天板のθ方向のばね定数が大きくなり、このばねとウエ
ハステージ天板の慣性モーメントとで構成されるばね系
の固有振動数は20Hz程度になってしまう。この結
果、ウエハステージ天板に伝わるθ方向の振動外乱のレ
ベルが上がり、θ方向の位置精度を低下させる。
来構成ではθ方向に振動が伝わり易いという問題が発生
する。これはエアシリンダのΖ方向に対し垂直な面内方
向のばね定数が大きいためで、全体的にウエハステージ
天板のθ方向のばね定数が大きくなり、このばねとウエ
ハステージ天板の慣性モーメントとで構成されるばね系
の固有振動数は20Hz程度になってしまう。この結
果、ウエハステージ天板に伝わるθ方向の振動外乱のレ
ベルが上がり、θ方向の位置精度を低下させる。
【0014】もう一つの問題としてエアシリンダの空気
室を構成するゴム膜の信頼性が低いことがあげられる。
使用中にゴム膜に亀裂が生じ空気が漏れて自重が支持で
きなくなる場合がある。
室を構成するゴム膜の信頼性が低いことがあげられる。
使用中にゴム膜に亀裂が生じ空気が漏れて自重が支持で
きなくなる場合がある。
【0015】本発明の目的は、全体として少なくともθ
方向のばね定数が小さく全体として少なくともθ方向の
振動伝達が実質的に問題にならず、位置精度が高く、信
頼性の高い自重支持手段を有するZチルトθ制御微動ス
テージ等の支持装置を提供することである。
方向のばね定数が小さく全体として少なくともθ方向の
振動伝達が実質的に問題にならず、位置精度が高く、信
頼性の高い自重支持手段を有するZチルトθ制御微動ス
テージ等の支持装置を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、工作物が載置された載置部材を基盤に対
して位置制御する位置制御手段と、前記載置部材の自重
を支持する自重支持手段とを有する支持装置において、
前記自重支持手段は重力方向に垂直な面内における前記
載置部材の変位に対する復元力を相殺するための柔軟要
素を含んでいることを特徴とする。
に、本発明は、工作物が載置された載置部材を基盤に対
して位置制御する位置制御手段と、前記載置部材の自重
を支持する自重支持手段とを有する支持装置において、
前記自重支持手段は重力方向に垂直な面内における前記
載置部材の変位に対する復元力を相殺するための柔軟要
素を含んでいることを特徴とする。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明に係る支持装置は、前記載
置部材を前記基盤に対し少なくとも回転および重力方向
に滑動自在で重力方向に垂直な平面内の自由度を拘束す
るガイドを備え、前記自重支持手段は該ガイドの周囲に
設けられ前記載置部材の少なくとも回転方向のばね定数
が回転方向の振動伝達を無視できる程度に小さくする値
に設定されている柔軟な部分を備えていることにしても
よく、前記自重支持手段は前記載置部材の少なくとも回
転方向のばね定数が他の方向のばね定数より小さいこと
により回転方方の振動伝達を無視できる程度に小さくす
る値に設定されている柔軟な部分を備えていることにし
てもよい。
置部材を前記基盤に対し少なくとも回転および重力方向
に滑動自在で重力方向に垂直な平面内の自由度を拘束す
るガイドを備え、前記自重支持手段は該ガイドの周囲に
設けられ前記載置部材の少なくとも回転方向のばね定数
が回転方向の振動伝達を無視できる程度に小さくする値
に設定されている柔軟な部分を備えていることにしても
よく、前記自重支持手段は前記載置部材の少なくとも回
転方向のばね定数が他の方向のばね定数より小さいこと
により回転方方の振動伝達を無視できる程度に小さくす
る値に設定されている柔軟な部分を備えていることにし
てもよい。
【0018】また、本発明は、前記自重支持手段が板ば
ねと、該板ばねのたわみ方向に垂直な面内の変位に対し
て柔軟な部分とを直列に結合したもので構成されること
にしてもよく、前記自重支持手段がエアシリンダと、該
エアシリンダの作用方向に垂直な面内の変位に対して柔
軟な部分とを直列に結合したものとで構成されることに
してもよく、前記自重支持手段がコイルばねで構成され
ることにしてもよく、前記自重支持手段が磁石と磁性体
から構成され、少なくとも前記載置部材の回転方向に沿
う方向の寸法が磁石と磁性体とで異なることにしてもよ
く、前記自重支持手段が互いに吸引する磁石と磁石から
構成され、少なくとも前記載置部材の回転方向に沿う方
向の寸法が前記互いに磁石力を及ぼす磁石同士で異なる
ことが好ましく、前記自重支持手段が互いに反発する磁
石と磁石から構成され、少なくとも前記載置部材の回転
方向の寸法が前記磁石同士で異なることが好ましく、前
記自重支持手段が支持方向の変位に対して復元力を発生
する部分と、支持方向の変位に対して変位を増加させる
力を発生する部分との両方から構成されることが好まし
い。
ねと、該板ばねのたわみ方向に垂直な面内の変位に対し
て柔軟な部分とを直列に結合したもので構成されること
にしてもよく、前記自重支持手段がエアシリンダと、該
エアシリンダの作用方向に垂直な面内の変位に対して柔
軟な部分とを直列に結合したものとで構成されることに
してもよく、前記自重支持手段がコイルばねで構成され
ることにしてもよく、前記自重支持手段が磁石と磁性体
から構成され、少なくとも前記載置部材の回転方向に沿
う方向の寸法が磁石と磁性体とで異なることにしてもよ
く、前記自重支持手段が互いに吸引する磁石と磁石から
構成され、少なくとも前記載置部材の回転方向に沿う方
向の寸法が前記互いに磁石力を及ぼす磁石同士で異なる
ことが好ましく、前記自重支持手段が互いに反発する磁
石と磁石から構成され、少なくとも前記載置部材の回転
方向の寸法が前記磁石同士で異なることが好ましく、前
記自重支持手段が支持方向の変位に対して復元力を発生
する部分と、支持方向の変位に対して変位を増加させる
力を発生する部分との両方から構成されることが好まし
い。
【0019】また、本発明では、支持方向の変位に対し
て変位を増加させる力を発生する部分が前記載置部材を
下方に引き下げる方向の力を発生するように構成されて
もよく、支持方向の変位に対して復元力を発生する部分
がコイルばねで構成されてもよく、支持方向の変位に対
して復元力を発生する部分が反発する磁石と磁石から構
成され、少なくとも回転方向の寸法が前記磁石同士で異
なることが望ましく、支持方向の変位に対して復元力を
発生する部分がL字形板ばねで構成されることが好まし
く、支持方向の変位に対して変位を増加させる力を発生
する部分が互いに吸引する磁石と磁石から構成され、少
なくとも前記載置部材の回転方向に沿う方向の寸法が前
記互いに吸引する磁石同士で異なることにしてもよい。
て変位を増加させる力を発生する部分が前記載置部材を
下方に引き下げる方向の力を発生するように構成されて
もよく、支持方向の変位に対して復元力を発生する部分
がコイルばねで構成されてもよく、支持方向の変位に対
して復元力を発生する部分が反発する磁石と磁石から構
成され、少なくとも回転方向の寸法が前記磁石同士で異
なることが望ましく、支持方向の変位に対して復元力を
発生する部分がL字形板ばねで構成されることが好まし
く、支持方向の変位に対して変位を増加させる力を発生
する部分が互いに吸引する磁石と磁石から構成され、少
なくとも前記載置部材の回転方向に沿う方向の寸法が前
記互いに吸引する磁石同士で異なることにしてもよい。
【0020】また、本発明では、Zチルトθ制御微動ス
テージの自重支持手段において少なくともθ方向のばね
定数が振動伝達が問題にならない程度に小さい、あるい
はθ方向のばね定数がゼロとみなせるような部分を設け
ることも可能であり、空気とゴムを使用せず、磁力、弾
性力で支持力を発生させることが可能である。
テージの自重支持手段において少なくともθ方向のばね
定数が振動伝達が問題にならない程度に小さい、あるい
はθ方向のばね定数がゼロとみなせるような部分を設け
ることも可能であり、空気とゴムを使用せず、磁力、弾
性力で支持力を発生させることが可能である。
【0021】
【実施例】(第1の実施例)図1および図2は本発明の
第1の実施例に係る支持装置の微動ステージを示してお
り、図1(a)が上面図、図1(b)がZリニアモータ
の手前のヨークを外した状態の正面図、図2(a)がウ
エハステージ天板を外した状態の上面図、図2(b)が
手前のZリニアモータを外した状態の正面図である。
第1の実施例に係る支持装置の微動ステージを示してお
り、図1(a)が上面図、図1(b)がZリニアモータ
の手前のヨークを外した状態の正面図、図2(a)がウ
エハステージ天板を外した状態の上面図、図2(b)が
手前のZリニアモータを外した状態の正面図である。
【0022】この微動ステージ1は、Z懸架駆動ユニッ
ト2(2−1〜2−4)がほぼ中央の自在継ぎ手6の円
周の周方向に沿って等角度間隔にて4個所に配置され、
Xステージ天板11の上にあって工作物であるウエハW
をZチルトθ方向に位置決めするものであり、ガイドお
よび駆動系の構成については図20に示す従来例と同じ
であるから、説明を省略する。
ト2(2−1〜2−4)がほぼ中央の自在継ぎ手6の円
周の周方向に沿って等角度間隔にて4個所に配置され、
Xステージ天板11の上にあって工作物であるウエハW
をZチルトθ方向に位置決めするものであり、ガイドお
よび駆動系の構成については図20に示す従来例と同じ
であるから、説明を省略する。
【0023】Z懸架駆動ユニット2−1〜2−4は、ウ
エハステージ天板12の自重を支持する自重支持機構3
と、ウエハステージ天板12にZ方向の力を付与するZ
リニアモータ4とを備えて構成される。Ζリニアモータ
4は扁平コイル16および磁石17等を備え、扁平コイ
ル16がXステージ天板11上に固定され、磁石17が
ウエハステージ天板12に設けた一対のリニアモータヨ
ーク18に各上下2個ずつ固着されている。本実施例に
係る微動ステージ1は板ばね5でウエハステージ天板1
2の自重を支持する力を発生させるものである。ここで
ウエハWが載置される載置部材としてのウエハステージ
天板12の自重とは、ウエハステージ天板12自体のみ
ならずその他これに取り付けられて一体的に変位する部
材全体の重量をいい、以下においても同様である。
エハステージ天板12の自重を支持する自重支持機構3
と、ウエハステージ天板12にZ方向の力を付与するZ
リニアモータ4とを備えて構成される。Ζリニアモータ
4は扁平コイル16および磁石17等を備え、扁平コイ
ル16がXステージ天板11上に固定され、磁石17が
ウエハステージ天板12に設けた一対のリニアモータヨ
ーク18に各上下2個ずつ固着されている。本実施例に
係る微動ステージ1は板ばね5でウエハステージ天板1
2の自重を支持する力を発生させるものである。ここで
ウエハWが載置される載置部材としてのウエハステージ
天板12の自重とは、ウエハステージ天板12自体のみ
ならずその他これに取り付けられて一体的に変位する部
材全体の重量をいい、以下においても同様である。
【0024】自重支持機構3は、対称配置した一対の板
ばね5を備えて構成され、ウエハステージ天板12の自
重を支持するのだが、曲部のない単純なI字形板ばねだ
とたわみ方向に垂直な面内は剛であるので、それだけで
は従来例同様重力に対する支持方向と垂直な面内の振動
を遮断できない。そこで、板ばね5は、図3に示すよう
にL字形にして、板面を上下に向けた基端部5aが基端
支持部9を介して扁平コイル16上に固定され、基端部
5aに対し下方へ直角に曲げて板面を横方向に向けた先
端部5bの外面がウエハステージ天板12の下面から下
向きに突設した板ばねヨーク10の下端に形成されてい
る横向きの凸部10a(図1(b)参照)に固着されて
いる。この場合、板ばね5の先端部5bは、ウエハステ
ージ天板12の自重支持方向すなわち重力方向に垂直な
面内の変位に対し柔軟な柔軟要素を構成している。
ばね5を備えて構成され、ウエハステージ天板12の自
重を支持するのだが、曲部のない単純なI字形板ばねだ
とたわみ方向に垂直な面内は剛であるので、それだけで
は従来例同様重力に対する支持方向と垂直な面内の振動
を遮断できない。そこで、板ばね5は、図3に示すよう
にL字形にして、板面を上下に向けた基端部5aが基端
支持部9を介して扁平コイル16上に固定され、基端部
5aに対し下方へ直角に曲げて板面を横方向に向けた先
端部5bの外面がウエハステージ天板12の下面から下
向きに突設した板ばねヨーク10の下端に形成されてい
る横向きの凸部10a(図1(b)参照)に固着されて
いる。この場合、板ばね5の先端部5bは、ウエハステ
ージ天板12の自重支持方向すなわち重力方向に垂直な
面内の変位に対し柔軟な柔軟要素を構成している。
【0025】これにより、板ばね5は、ウエハステージ
天板12が扁平コイル16の長辺に沿う方向に変位した
ときに変位方向に復元力が作用しないようになってお
り、ウエハステージ天板12の自重支持機能と振動遮断
機能を併せ持つものである。
天板12が扁平コイル16の長辺に沿う方向に変位した
ときに変位方向に復元力が作用しないようになってお
り、ウエハステージ天板12の自重支持機能と振動遮断
機能を併せ持つものである。
【0026】自在継ぎ手6は、Xステージ天板11の上
面に固定した円形の外輪21と、該外輪21内にあって
ウエハステージ天板12の下面に固定した円形の内輪2
2とを備えて構成されている。そして、自在継ぎ手6
は、外輪21と内輪22との間にエア23があり、XY
方向の相対変位を拘束しつつXステージ天板11とウエ
ハステージ天板12とを相対的に回転、Z方向の移動お
よびZチルト可能とするものである。
面に固定した円形の外輪21と、該外輪21内にあって
ウエハステージ天板12の下面に固定した円形の内輪2
2とを備えて構成されている。そして、自在継ぎ手6
は、外輪21と内輪22との間にエア23があり、XY
方向の相対変位を拘束しつつXステージ天板11とウエ
ハステージ天板12とを相対的に回転、Z方向の移動お
よびZチルト可能とするものである。
【0027】本実施例に係る微動ステージ1は、等角度
間隔にて4個所に設けたZ駆動懸架ユニット2(2−1
〜2−4)が自在継ぎ手6の円周の周方向に沿って配置
してあることにより、ウエハステージ天板12のθ方向
の振動を遮断することができる。また、本実施例によれ
ば、空気やゴムは使用しないので信頼性が向上する。図
4は本発明の上記第1の実施例の変形例を示す正面図で
ある。L字形板ばね5の代わりに複数のコイルばね25
でウエハステージ天板12の自重を支持し、さらにコイ
ルばね25は横方向の剛性の弱さを利用して振動を遮断
するかわしの役目も兼ねたものである。複数のコイルば
ね25は、下端がXステージ天板11の上面に、上端が
ウエハステージ天板12の下面にそれぞれ結合されて、
偏りなく配置される。
間隔にて4個所に設けたZ駆動懸架ユニット2(2−1
〜2−4)が自在継ぎ手6の円周の周方向に沿って配置
してあることにより、ウエハステージ天板12のθ方向
の振動を遮断することができる。また、本実施例によれ
ば、空気やゴムは使用しないので信頼性が向上する。図
4は本発明の上記第1の実施例の変形例を示す正面図で
ある。L字形板ばね5の代わりに複数のコイルばね25
でウエハステージ天板12の自重を支持し、さらにコイ
ルばね25は横方向の剛性の弱さを利用して振動を遮断
するかわしの役目も兼ねたものである。複数のコイルば
ね25は、下端がXステージ天板11の上面に、上端が
ウエハステージ天板12の下面にそれぞれ結合されて、
偏りなく配置される。
【0028】この変形例の作用効果は図1に示す第1の
実施例とほぼ同じである。コイルばね25は支持方向と
垂直な面内においてどの方向にも復元力をかわすかわ
し、つまり該復元力を相殺する柔軟要素としての働きも
するので、Ζ懸架駆動ユニット2−1〜2−4を必ずし
も自在継ぎ手6の円周に沿って配置する必要はない。
実施例とほぼ同じである。コイルばね25は支持方向と
垂直な面内においてどの方向にも復元力をかわすかわ
し、つまり該復元力を相殺する柔軟要素としての働きも
するので、Ζ懸架駆動ユニット2−1〜2−4を必ずし
も自在継ぎ手6の円周に沿って配置する必要はない。
【0029】(第2の実施例)図5は本発明の第2の実
施例に係る支持装置の微動ステージを示す正面図であ
る。本実施例は、ウエハWを微動ステージ1に載置する
にはハンドから微動ステージ1にウエハWを受け渡すた
めの受け渡し機構が必要となるが、本実施例は、その機
構の一部を微動ステージ1に持たせた場合の例である。
本実施例に係る微動ステージ1は、図3に示すL字形板
ばね5に加えて、扁平コイル16の長辺に沿う方向に寸
法差をもつ入れ子構造の吸引磁石28による自重支持系
を並列に設けたものである。さらに受け渡しを考慮した
逃げ29が入れ子構造の吸引磁石28による自重支持系
の上部に設けられている。
施例に係る支持装置の微動ステージを示す正面図であ
る。本実施例は、ウエハWを微動ステージ1に載置する
にはハンドから微動ステージ1にウエハWを受け渡すた
めの受け渡し機構が必要となるが、本実施例は、その機
構の一部を微動ステージ1に持たせた場合の例である。
本実施例に係る微動ステージ1は、図3に示すL字形板
ばね5に加えて、扁平コイル16の長辺に沿う方向に寸
法差をもつ入れ子構造の吸引磁石28による自重支持系
を並列に設けたものである。さらに受け渡しを考慮した
逃げ29が入れ子構造の吸引磁石28による自重支持系
の上部に設けられている。
【0030】Ζ駆動懸架ユニット2は、吸引磁石28お
よびL字形板ばね5の復元力が実質的に働かない方向が
自在継ぎ手6の円周に沿うようにして配置されている。
よびL字形板ばね5の復元力が実質的に働かない方向が
自在継ぎ手6の円周に沿うようにして配置されている。
【0031】L字形板ばね5は、第1の実施例で説明し
たように自重支持機能と振動遮断機能を併せ持つもので
ある。
たように自重支持機能と振動遮断機能を併せ持つもので
ある。
【0032】吸引磁石28は、鉛直方向に着磁された直
方体形をなしており、ウエハステージ天板12に固着さ
れたリニアモータヨーク18に両端が固定されている磁
石用のヨーク31上に並設され、扁平コイル16上に固
定され立設されている一対の鉄板支持部32と該支持部
32で支持された吊り上げ鉄板33とで囲まれた空間内
に入っている入れ子とされている。また、吸引磁石28
は、扁平コイル16の長辺に沿う方向に寸法差をもち、
鉄板33に吸引力を及ぼすことでウエハステージ天板1
2に浮上力を付与する。
方体形をなしており、ウエハステージ天板12に固着さ
れたリニアモータヨーク18に両端が固定されている磁
石用のヨーク31上に並設され、扁平コイル16上に固
定され立設されている一対の鉄板支持部32と該支持部
32で支持された吊り上げ鉄板33とで囲まれた空間内
に入っている入れ子とされている。また、吸引磁石28
は、扁平コイル16の長辺に沿う方向に寸法差をもち、
鉄板33に吸引力を及ぼすことでウエハステージ天板1
2に浮上力を付与する。
【0033】ヨーク31は、両端が2枚のZリニアモー
タヨーク18の内側面に固定され、吊り上げ鉄板33は
鉄板支持部32を介してΖリニアモータ4の扁平コイル
16に固定される。この結果磁石28と吊り上げ鉄板3
3はわずかな空隙を介して対面し両者には互いに吸引力
が働く。吊り上げ鉄板33は扁平コイル16と鉄板支持
部32を介してXステージ天板11に固定され、吸引磁
石28はΖリニアモータヨーク18を介してウエハステ
ージ天板12に固定されるので、吸引磁石28と吊り上
げ鉄板32の間に吸引力が働くことにより、ウエハステ
ージ天板12はXステージ天板11から吸引浮上力を受
けることになる。下方に配置されたXステージ天板11
から上方に配置されたウエハステージ天板12に吸引浮
上力を作用させるため入れ子構造になる。
タヨーク18の内側面に固定され、吊り上げ鉄板33は
鉄板支持部32を介してΖリニアモータ4の扁平コイル
16に固定される。この結果磁石28と吊り上げ鉄板3
3はわずかな空隙を介して対面し両者には互いに吸引力
が働く。吊り上げ鉄板33は扁平コイル16と鉄板支持
部32を介してXステージ天板11に固定され、吸引磁
石28はΖリニアモータヨーク18を介してウエハステ
ージ天板12に固定されるので、吸引磁石28と吊り上
げ鉄板32の間に吸引力が働くことにより、ウエハステ
ージ天板12はXステージ天板11から吸引浮上力を受
けることになる。下方に配置されたXステージ天板11
から上方に配置されたウエハステージ天板12に吸引浮
上力を作用させるため入れ子構造になる。
【0034】本実施例においても第1の実施例およびそ
の変形例と同様の作用があり、同様の効果を奏する。こ
こで、扁平コイル16の長辺に沿う方向に寸法差をもつ
入れ子構造の吸引磁石28とL字形板ばね5という同じ
機能のものを敢えて重複して設ける理由について説明す
る。扁平コイル16の長辺に沿う方向に寸法差をもつ入
れ子構造の吸引磁石28は磁石28と鉄板33の吸引方
向の変位に対して復元力と逆向きの力が働くつまり負の
剛性を持つ。一方L字形板ばね5はウエハステージ天板
12の変位に対して撓んで復元力が働く、つまり正の剛
性を持つ。この負の剛性を持つ要素と正の剛性を持つ要
索を組み合わせることが受け渡し機構の一部の機能をも
つ微動ステージにおいて以下のように重要な意味をも
つ。
の変形例と同様の作用があり、同様の効果を奏する。こ
こで、扁平コイル16の長辺に沿う方向に寸法差をもつ
入れ子構造の吸引磁石28とL字形板ばね5という同じ
機能のものを敢えて重複して設ける理由について説明す
る。扁平コイル16の長辺に沿う方向に寸法差をもつ入
れ子構造の吸引磁石28は磁石28と鉄板33の吸引方
向の変位に対して復元力と逆向きの力が働くつまり負の
剛性を持つ。一方L字形板ばね5はウエハステージ天板
12の変位に対して撓んで復元力が働く、つまり正の剛
性を持つ。この負の剛性を持つ要素と正の剛性を持つ要
索を組み合わせることが受け渡し機構の一部の機能をも
つ微動ステージにおいて以下のように重要な意味をも
つ。
【0035】本実施例で微動ステージ1にもたせた受け
渡し機能の一部とは、待避機能である。図5(a)はウ
エハステージ天板12が待避していない状態、図5
(b)はウエハWを載置すべくウエハステージ天板12
が下方に待避した状態を示す。
渡し機能の一部とは、待避機能である。図5(a)はウ
エハステージ天板12が待避していない状態、図5
(b)はウエハWを載置すべくウエハステージ天板12
が下方に待避した状態を示す。
【0036】まず、ウエハWを載置しない微動ステージ
1が(a)の状態にあるとする。次いで、不図示のウエ
ハハンドがウエハWを微動ステージ1の上方に持ってく
る。次に、微動ステージ1のウエハステージ天板12が
下方に待避して(b)の状態になる。このとき一部待避
しない部分があり、それが(b)に示す突出部34であ
る。ちなみにこのときウエハステージ天板12に設けら
れた逃げ29があるために吸引磁石28の吊り上げ鉄板
33とウエハステージ天板12は接触しないですむ。入
れ子構造で自重を支持する場合において支持対象が待避
する場合には、入れ子構造の上側と下側に必ず同程度の
待避スペース36a,36bが必要である。次に、不図
示のウエハハンドはウエハWを置いて去って行く。次
に、ウエハステージ天板12は再び上に移動し元の位置
に戻ってウエハWを保持する。その後ステージが所定位
置に移動して露光が行われる。
1が(a)の状態にあるとする。次いで、不図示のウエ
ハハンドがウエハWを微動ステージ1の上方に持ってく
る。次に、微動ステージ1のウエハステージ天板12が
下方に待避して(b)の状態になる。このとき一部待避
しない部分があり、それが(b)に示す突出部34であ
る。ちなみにこのときウエハステージ天板12に設けら
れた逃げ29があるために吸引磁石28の吊り上げ鉄板
33とウエハステージ天板12は接触しないですむ。入
れ子構造で自重を支持する場合において支持対象が待避
する場合には、入れ子構造の上側と下側に必ず同程度の
待避スペース36a,36bが必要である。次に、不図
示のウエハハンドはウエハWを置いて去って行く。次
に、ウエハステージ天板12は再び上に移動し元の位置
に戻ってウエハWを保持する。その後ステージが所定位
置に移動して露光が行われる。
【0037】この動作においてウエハステージ天板12
を待避させたり、再び上に移動させたりする動作は、Ζ
リニアモータ4の扁平コイル16に電流を流してZ方向
の力を発生させて行われる。待避ストロークは数mmあ
るので、もし吸引方向と垂直面内に寸法差をもつ入れ子
構造の吸引磁石28だけ、あるいはかわし付き板ばねだ
けで自重を支持する場合、リニアモータ4でΖ方向変位
に対して発生するこれらの支持機構の支持力変動分の力
を出す必要がある。この力を出すための発熱は無視でき
ず発熱によりウエハステージ天板12を熱変形させてし
まう。
を待避させたり、再び上に移動させたりする動作は、Ζ
リニアモータ4の扁平コイル16に電流を流してZ方向
の力を発生させて行われる。待避ストロークは数mmあ
るので、もし吸引方向と垂直面内に寸法差をもつ入れ子
構造の吸引磁石28だけ、あるいはかわし付き板ばねだ
けで自重を支持する場合、リニアモータ4でΖ方向変位
に対して発生するこれらの支持機構の支持力変動分の力
を出す必要がある。この力を出すための発熱は無視でき
ず発熱によりウエハステージ天板12を熱変形させてし
まう。
【0038】本実施例のように負の剛性を持つ入れ子吸
引磁石12と正の剛性を持つかわし付き板ばね5を組み
合わせた場合には、図5(a)の状態からウエハステー
ジ天板12が数mm程度待避して(b)の状態になった
とき、入れ子吸引磁石28の吸引力はギャップが広がっ
て吸引力ひいては浮上力が減少し、一方L字形板ばね5
は撓みが増加してばね力ひいては浮上力が増加する。適
当な条件設定により両者の力変動をおおむね相殺するこ
とが可能である。
引磁石12と正の剛性を持つかわし付き板ばね5を組み
合わせた場合には、図5(a)の状態からウエハステー
ジ天板12が数mm程度待避して(b)の状態になった
とき、入れ子吸引磁石28の吸引力はギャップが広がっ
て吸引力ひいては浮上力が減少し、一方L字形板ばね5
は撓みが増加してばね力ひいては浮上力が増加する。適
当な条件設定により両者の力変動をおおむね相殺するこ
とが可能である。
【0039】この結果、本実施例に係る支持装置の微動
ステージ1は、ウエハ載置のためにウエハステージ天板
12が数mm程度待避する場合でも、リニアモータ4の
発熱を抑制することができ、ひいてはウエハステージ天
板12の熱変形を抑制することができる。
ステージ1は、ウエハ載置のためにウエハステージ天板
12が数mm程度待避する場合でも、リニアモータ4の
発熱を抑制することができ、ひいてはウエハステージ天
板12の熱変形を抑制することができる。
【0040】また、支持方向の振動伝達を考えてもばね
定数同士が相殺するので支持方向の振動遮断剛性も向上
する。
定数同士が相殺するので支持方向の振動遮断剛性も向上
する。
【0041】図6は本発明の第2の実施例に係る微動ス
テージの第1変形例を示す正面図である。本変形例は図
5に示す実施例における正の剛性をもつ要素としてL字
形板ばね5の代わりにコイルばね38を用いたものであ
る。コイルばね38はXステージ天板11の上面とウエ
ハステージ天板12の下面との間に弾設されている。本
変形例に係る微動ステージ1は、動作、作用、効果、お
よび吸引磁石28の上下に待避スペース36a,36b
が必要な点等すべて図5に示す第2の実施例と同じであ
る。
テージの第1変形例を示す正面図である。本変形例は図
5に示す実施例における正の剛性をもつ要素としてL字
形板ばね5の代わりにコイルばね38を用いたものであ
る。コイルばね38はXステージ天板11の上面とウエ
ハステージ天板12の下面との間に弾設されている。本
変形例に係る微動ステージ1は、動作、作用、効果、お
よび吸引磁石28の上下に待避スペース36a,36b
が必要な点等すべて図5に示す第2の実施例と同じであ
る。
【0042】図7は本発明の第2の実施例に係る支持装
置の微動ステージの第2変形例を示す正面図である。こ
の微動ステージ1は、正の剛性をもつ要素として対面す
る面積の異なる大磁石40aと小磁石40bからなる反
発磁石40を用いたものである。大磁石40aはウエハ
ステージ天板12の下面に固着され、小磁石40bはX
ステージ天板11の上面に固着されている。この反発磁
石40も対面する面積に差をつけることで支持方向と直
角な面内の振動を遮断するようになっている。反発磁石
40の場合も対面する面積に差をつける場合に面内の全
方向に寸法差をつけてもよいのだが、自在継ぎ手6の円
周に沿う方向に重点的に差をつけることで振動の遮断性
能がさらに向上するか、または振動遮断性能を悪化させ
ることなく面積の差を小さくすることができる。その他
の動作、作用、効果、吸引磁石28の上下に待避スペー
ス36a,36bが必要な点はすべて図5に示す第2の
実施例と同じである。
置の微動ステージの第2変形例を示す正面図である。こ
の微動ステージ1は、正の剛性をもつ要素として対面す
る面積の異なる大磁石40aと小磁石40bからなる反
発磁石40を用いたものである。大磁石40aはウエハ
ステージ天板12の下面に固着され、小磁石40bはX
ステージ天板11の上面に固着されている。この反発磁
石40も対面する面積に差をつけることで支持方向と直
角な面内の振動を遮断するようになっている。反発磁石
40の場合も対面する面積に差をつける場合に面内の全
方向に寸法差をつけてもよいのだが、自在継ぎ手6の円
周に沿う方向に重点的に差をつけることで振動の遮断性
能がさらに向上するか、または振動遮断性能を悪化させ
ることなく面積の差を小さくすることができる。その他
の動作、作用、効果、吸引磁石28の上下に待避スペー
ス36a,36bが必要な点はすべて図5に示す第2の
実施例と同じである。
【0043】図8は本発明の第2の実施例に係る支持装
置の微動ステージの第3変形例を示す正面図である。本
変形例の場合の磁石の構成要素は図6に示す例と同じで
あるが、図6に示す例では入れ子構造の吸引磁石28が
用いられていたのに対して、本変形例では吸引磁石28
の部分が入れ子構造ではなく、単純にウエハステージ天
板12に引き下げ鉄板43が固定され、吸引磁石28が
Xステージ天板11に固定された扁平コイル16にヨー
ク44を介して固着されているところに大きな特徴があ
る。また、この結果、図8に示す例では吸引磁石28上
部に逃げと称する待避スペースが設けられていない点も
図6に示す例と異なる。また、図6に示す例では吸引磁
石28はウエハステージ天板12を浮上させる力を発生
しているのだが、本変形例では吸引磁石28はウエハス
テージ天板12を引き下げる方向に弱い力を発生してい
る。そのかわりコイルばね42が専らウエハステージ天
板12の自重を支持している。
置の微動ステージの第3変形例を示す正面図である。本
変形例の場合の磁石の構成要素は図6に示す例と同じで
あるが、図6に示す例では入れ子構造の吸引磁石28が
用いられていたのに対して、本変形例では吸引磁石28
の部分が入れ子構造ではなく、単純にウエハステージ天
板12に引き下げ鉄板43が固定され、吸引磁石28が
Xステージ天板11に固定された扁平コイル16にヨー
ク44を介して固着されているところに大きな特徴があ
る。また、この結果、図8に示す例では吸引磁石28上
部に逃げと称する待避スペースが設けられていない点も
図6に示す例と異なる。また、図6に示す例では吸引磁
石28はウエハステージ天板12を浮上させる力を発生
しているのだが、本変形例では吸引磁石28はウエハス
テージ天板12を引き下げる方向に弱い力を発生してい
る。そのかわりコイルばね42が専らウエハステージ天
板12の自重を支持している。
【0044】本変形例の場合、図8に示す状態からウエ
ハステージ天板12がウエハ載置のために待避すると、
コイルばね42のたわみは増加するので、ウエハステー
ジ天板12に上向きに掛かる力は増加する。一方、吸引
磁石28と引き下げ鉄板43の空隙は縮まるのでウエハ
ステージ天板12に下向きに掛かる力も増加する。よっ
て、適当な条件設定によりウエハステージ天板12に上
向きに掛かる力の増加とウエハステージ天板12に下向
きにかかる力の増加とを相殺することが可能である。
ハステージ天板12がウエハ載置のために待避すると、
コイルばね42のたわみは増加するので、ウエハステー
ジ天板12に上向きに掛かる力は増加する。一方、吸引
磁石28と引き下げ鉄板43の空隙は縮まるのでウエハ
ステージ天板12に下向きに掛かる力も増加する。よっ
て、適当な条件設定によりウエハステージ天板12に上
向きに掛かる力の増加とウエハステージ天板12に下向
きにかかる力の増加とを相殺することが可能である。
【0045】この結果、ウエハ載置のためにウエハステ
ージ天板12が数mm程度待避する場合でも、リニアモ
ータ4の発熱を抑制することができ、ひいてはウエハス
テージ天板12の熱変形を抑制することができるのは図
5に示す第2の実施例と同じである。
ージ天板12が数mm程度待避する場合でも、リニアモ
ータ4の発熱を抑制することができ、ひいてはウエハス
テージ天板12の熱変形を抑制することができるのは図
5に示す第2の実施例と同じである。
【0046】また、本変形例の場合、支持方向の振動伝
達を考えてもばね定数同士が相殺するので、支持方向と
垂直方向だけでなく支持方向の振動遮断特性が向上する
点も図5に示す第2の実施例と同じである。
達を考えてもばね定数同士が相殺するので、支持方向と
垂直方向だけでなく支持方向の振動遮断特性が向上する
点も図5に示す第2の実施例と同じである。
【0047】本変形例と図5に示す第2の実施例との大
きな差は、上述のように本変形例では吸引磁石部分が入
れ子構造でないので待避のスペースは空隙側のみです
む。よって、本変形例は全体の高さを低く出来るという
特有の効果を有する。
きな差は、上述のように本変形例では吸引磁石部分が入
れ子構造でないので待避のスペースは空隙側のみです
む。よって、本変形例は全体の高さを低く出来るという
特有の効果を有する。
【0048】また、本変形例では、図8に示す状態、つ
まり露光を行う状態において、コイルばね42のばね定
数が吸引磁石28の負のばね定数より大きくなるように
設定することが容易である。このように設定すると、図
8に示す状態、つまり露光を行う状態において釣り合い
位置からの支持方向におけるずれに対して支持方向に復
元力が働くようになる。つまり釣り合い位置において自
然に安定する安定系となる。すると図8の状態、つまり
露光を行う状態において万一リニアモータ4の電源が切
れて制御不能になっても釣り合い位置に留まっているこ
とができ、安全である。
まり露光を行う状態において、コイルばね42のばね定
数が吸引磁石28の負のばね定数より大きくなるように
設定することが容易である。このように設定すると、図
8に示す状態、つまり露光を行う状態において釣り合い
位置からの支持方向におけるずれに対して支持方向に復
元力が働くようになる。つまり釣り合い位置において自
然に安定する安定系となる。すると図8の状態、つまり
露光を行う状態において万一リニアモータ4の電源が切
れて制御不能になっても釣り合い位置に留まっているこ
とができ、安全である。
【0049】図9は図8に示す変形例をさらに変形した
第2の実施例の第4変形例を示す正面図である。本変形
例に係る微動ステージ1は、正の剛性を有する要素とし
てコイルばね42の代わりに対向部の面積の異なる大磁
石46aと小磁石46bとからなる反発磁石46を採用
している。吸引磁石28は図8に示す変形例と同様にウ
エハステージ天板12を下に引き下げる方向の力を発生
するようになっている。本変形例の作用、効果は図8に
示す変形例と全く同じである。反発磁石46、吸引磁石
28ともにウエハステージ天板12のθ方向の復元力を
他の方向の復元力より小さくなるように対向部の面積に
差を付けるのが望ましいという点も上記図7に示す変形
例と同じである。
第2の実施例の第4変形例を示す正面図である。本変形
例に係る微動ステージ1は、正の剛性を有する要素とし
てコイルばね42の代わりに対向部の面積の異なる大磁
石46aと小磁石46bとからなる反発磁石46を採用
している。吸引磁石28は図8に示す変形例と同様にウ
エハステージ天板12を下に引き下げる方向の力を発生
するようになっている。本変形例の作用、効果は図8に
示す変形例と全く同じである。反発磁石46、吸引磁石
28ともにウエハステージ天板12のθ方向の復元力を
他の方向の復元力より小さくなるように対向部の面積に
差を付けるのが望ましいという点も上記図7に示す変形
例と同じである。
【0050】(第3の実施例)図10および図11は本
発明の第3の実施例に係る支持装置の微動ステージを示
す図であって、図10がそのZリニアモータの手前のヨ
ークを外した状態の正面図、図11が図10の部分分解
拡大斜視図である。本実施例に係る微動ステージ1で
は、I字形板ばね51で自重を支持する力を発生させる
ものである。本実施例における自重を発生させる板ばね
51は、板面を上下に向けてあってたわみ方向に対し垂
直な面内には剛であるので、それだけだと従来例と同様
に支持方向と垂直な面内の振動を遮断できない。そこで
図11に示すように、板ばね51と直列に柔軟要素とし
てかわし54を設けてXステージ天板11とウエハステ
ージ天板が支持方向に対し垂直な面内で変位したときに
変位方向に復元力が作用しないようにしてある。
発明の第3の実施例に係る支持装置の微動ステージを示
す図であって、図10がそのZリニアモータの手前のヨ
ークを外した状態の正面図、図11が図10の部分分解
拡大斜視図である。本実施例に係る微動ステージ1で
は、I字形板ばね51で自重を支持する力を発生させる
ものである。本実施例における自重を発生させる板ばね
51は、板面を上下に向けてあってたわみ方向に対し垂
直な面内には剛であるので、それだけだと従来例と同様
に支持方向と垂直な面内の振動を遮断できない。そこで
図11に示すように、板ばね51と直列に柔軟要素とし
てかわし54を設けてXステージ天板11とウエハステ
ージ天板が支持方向に対し垂直な面内で変位したときに
変位方向に復元力が作用しないようにしてある。
【0051】Xステージ天板11上に固定された扁平コ
イル16の上辺に板ばね支持部52を介して板ばね51
の基端が固定される。板ばね51の先端には下方コの字
形部材55が固定される。下方コの字形部材55の外側
面とロの字形板ばね56の2つの対向する内側面とが固
定される。そして、上方コの字形部材67の上辺はウエ
ハステージ天板12に固定される。ロの字形板ばね56
は鉛直方向に剛で水平方向に柔軟であるので、重力方
向、すなわち支持方向と垂直な面内で変位したときに変
位方向の復元力を極めて小さくできる。よって、上方コ
の字形部材57、ロの字形板ばね56、下方コの字形部
材55、板ばね51および板ばね支持部52のセットは
扁平コイル16の上辺に幾何学的に対称な配置となるよ
うに2セット設けられる。板ばね51による支持は1組
だと支持力以外にモーメントを発生するので、幾何学的
に対称に2組設けることで、モーメントが発生しないよ
うにしている。幾何学的に対称なら何組設けてもよい。
その他の6軸微動機構自体は第1の実施例で記載したの
と同様であり、6軸位置制御の支持方向と垂直な面内の
振動外乱が低減でき、位置精度が向上する。
イル16の上辺に板ばね支持部52を介して板ばね51
の基端が固定される。板ばね51の先端には下方コの字
形部材55が固定される。下方コの字形部材55の外側
面とロの字形板ばね56の2つの対向する内側面とが固
定される。そして、上方コの字形部材67の上辺はウエ
ハステージ天板12に固定される。ロの字形板ばね56
は鉛直方向に剛で水平方向に柔軟であるので、重力方
向、すなわち支持方向と垂直な面内で変位したときに変
位方向の復元力を極めて小さくできる。よって、上方コ
の字形部材57、ロの字形板ばね56、下方コの字形部
材55、板ばね51および板ばね支持部52のセットは
扁平コイル16の上辺に幾何学的に対称な配置となるよ
うに2セット設けられる。板ばね51による支持は1組
だと支持力以外にモーメントを発生するので、幾何学的
に対称に2組設けることで、モーメントが発生しないよ
うにしている。幾何学的に対称なら何組設けてもよい。
その他の6軸微動機構自体は第1の実施例で記載したの
と同様であり、6軸位置制御の支持方向と垂直な面内の
振動外乱が低減でき、位置精度が向上する。
【0052】図12は本発明の第3の実施例の第1変形
例を示す正面図である。図10に示す第3の実施例では
自重を支持するのに板ばね51を設け、振動を遮断する
ために板ばね51に直列にかわし54を入れたが、本変
形例では板ばね51の代わりに従来の構成で示したと同
様のエアシリンダ60を用いたものである。本変形例の
作用効果は図10に示す第3の実施例と同じである。た
だし、エアシリンダ60は、支持棒61とゴム膜62と
を備え、ゴム膜62で空気室63を形成しており、板ば
ね51と違って1個だけで用いてもモーメントを発生し
ない。したがって、第3の実施例のように支持ユニット
を複数組幾何学的に対称に配置せず、1個だけを扁平コ
イル16の磁力線上に配置すればよい。もちろんエアシ
リンダ60は複数個用いてもよい。
例を示す正面図である。図10に示す第3の実施例では
自重を支持するのに板ばね51を設け、振動を遮断する
ために板ばね51に直列にかわし54を入れたが、本変
形例では板ばね51の代わりに従来の構成で示したと同
様のエアシリンダ60を用いたものである。本変形例の
作用効果は図10に示す第3の実施例と同じである。た
だし、エアシリンダ60は、支持棒61とゴム膜62と
を備え、ゴム膜62で空気室63を形成しており、板ば
ね51と違って1個だけで用いてもモーメントを発生し
ない。したがって、第3の実施例のように支持ユニット
を複数組幾何学的に対称に配置せず、1個だけを扁平コ
イル16の磁力線上に配置すればよい。もちろんエアシ
リンダ60は複数個用いてもよい。
【0053】図13および図14は同様に第3の実施例
のそれぞれ第2変形例および第3変形例を示す正面図で
ある。図10に示す第3の実施例では自重を支持するの
に板ばね51を設け、振動を遮断するために板ばね51
に直列にかわし54を入れたが、本変形例ではコイルば
ね65で自重を支持し、さらにコイルばね65の横方向
の剛性の弱さを利用して、該コイルばね65に振動を遮
断する柔軟要素としてかわしの役目も兼ねさせたもので
ある。本変形例の作用効果は図10に示す第3の実施例
と同様である。
のそれぞれ第2変形例および第3変形例を示す正面図で
ある。図10に示す第3の実施例では自重を支持するの
に板ばね51を設け、振動を遮断するために板ばね51
に直列にかわし54を入れたが、本変形例ではコイルば
ね65で自重を支持し、さらにコイルばね65の横方向
の剛性の弱さを利用して、該コイルばね65に振動を遮
断する柔軟要素としてかわしの役目も兼ねさせたもので
ある。本変形例の作用効果は図10に示す第3の実施例
と同様である。
【0054】本変形例の場合も、コイルばね65は単独
で用いてもモーメントが発生しないので、1つのZ支持
系で単独でも複数でも用いることができる。図13はそ
れぞれ複数配置した例を示し、図14は単数配置の例を
示している。また、本変形例の場合も、空気やゴム膜を
使用しないので信頼性が向上する。
で用いてもモーメントが発生しないので、1つのZ支持
系で単独でも複数でも用いることができる。図13はそ
れぞれ複数配置した例を示し、図14は単数配置の例を
示している。また、本変形例の場合も、空気やゴム膜を
使用しないので信頼性が向上する。
【0055】上記各実施例において、複数のZ懸架駆動
ユニット2は、復元力が実質的に作用しない方向が自在
継ぎ手6の円周方向に沿うように4個(2−1〜2−
4)配置してある。制御したい自由度はZ方向とチルト
であり駆動機構は3個で必要十分であるが、敢えて4個
配置した。こうすることにより、X方向にもY方向にも
幾何学的に対称になり、重心と力の作用点を一致させ易
くなる。また、チルトの駆動において他成分の影響をき
わめて小さくできる。
ユニット2は、復元力が実質的に作用しない方向が自在
継ぎ手6の円周方向に沿うように4個(2−1〜2−
4)配置してある。制御したい自由度はZ方向とチルト
であり駆動機構は3個で必要十分であるが、敢えて4個
配置した。こうすることにより、X方向にもY方向にも
幾何学的に対称になり、重心と力の作用点を一致させ易
くなる。また、チルトの駆動において他成分の影響をき
わめて小さくできる。
【0056】(第4の実施例)図15は本発明の第4の
実施例に係る支持装置の微動ステージを示し、(a)お
よび(b)のいずれもZリニアモータの手前のヨークを
外した状態の正面図である。ウエハWを微動ステージ1
に載置するにはハンドから微動ステージ1にウエハWを
受け渡すための受け渡し機構が必要となるが、その機構
の一部を微動ステージ1に持たせた場合の例である。本
実施例に係る支持装置では、構成手段として、第3の実
施例に示したかわし54付き板ばね51を並列に設け、
これに加えて吸引方向と垂直な面内に寸法差を持つ入れ
子構造の吸引磁石70による自重支持系を設けたもので
ある。さらに受け渡しを考慮した逃げ29が入れ子構造
の吸引磁石70による自重支持系の上部に設けられてい
る。
実施例に係る支持装置の微動ステージを示し、(a)お
よび(b)のいずれもZリニアモータの手前のヨークを
外した状態の正面図である。ウエハWを微動ステージ1
に載置するにはハンドから微動ステージ1にウエハWを
受け渡すための受け渡し機構が必要となるが、その機構
の一部を微動ステージ1に持たせた場合の例である。本
実施例に係る支持装置では、構成手段として、第3の実
施例に示したかわし54付き板ばね51を並列に設け、
これに加えて吸引方向と垂直な面内に寸法差を持つ入れ
子構造の吸引磁石70による自重支持系を設けたもので
ある。さらに受け渡しを考慮した逃げ29が入れ子構造
の吸引磁石70による自重支持系の上部に設けられてい
る。
【0057】Z懸架駆動ユニット(2−1〜2−4)
は、ウエハステージ天板12の自重を支持し、少なくと
もパターン面内方向の振動伝達を遮断する役目を果たす
面内フリー自重支持機構7と、ウエハステージ天板にZ
方向の力を付与するZリニアモータ4から構成される。
Ζリニアモータ4は従来例と同じ構成である。
は、ウエハステージ天板12の自重を支持し、少なくと
もパターン面内方向の振動伝達を遮断する役目を果たす
面内フリー自重支持機構7と、ウエハステージ天板にZ
方向の力を付与するZリニアモータ4から構成される。
Ζリニアモータ4は従来例と同じ構成である。
【0058】面内フリー自重支持機構7は吸引磁石7
0、該吸引磁石70の吸引対象である吊り上げ鉄板7
4、該吊り上げ鉄板74を両端で支持する鉄板支持部7
5とを備えて構成される。
0、該吸引磁石70の吸引対象である吊り上げ鉄板7
4、該吊り上げ鉄板74を両端で支持する鉄板支持部7
5とを備えて構成される。
【0059】吸引磁石70は鉛直方向に着磁された円柱
形の磁石本体71と、その磁石本体71の磁束を循環さ
せるためのヨーク72とから構成される。ヨーク72は
平板形状部72aの上にリング状の突起72bをもつ鉄
等の磁性体である。そのヨーク72のリング状突起72
bの中央部に鉛直方向に着磁された円柱形の磁石本体7
1が固定される。次に配置結合関係であるがヨーク72
は平板形状部72aの両端が2枚のZリニアモータヨー
ク18に固定され、吊り上げ鉄板74は鉄板支持部75
を介してΖリニアモータ4の扁平コイル16に固定され
る。この結果磁石本体71と吊り上げ鉄板74はわずか
な空隙を介して対面し両者には互いに吸引力が働く。吊
り上げ鉄板74はΖリニアモータ4の扁平コイル16と
鉄板支持部75を介してXステージ天板11に固定さ
れ、吸引磁石70はΖリニアモータヨーク18を介して
ウエハステージ天板12に固定されるので、吸引磁石7
0と吊り上げ鉄板74の間に吸引力が働くことによりウ
エハステージ天板12はXステージ天板11から吸引浮
上力をうけることになる。下方に配置されたXステージ
天板11から上方に配置されたウエハステージ天板12
に吸引浮上力を作用させるため入れ子構造になる。
形の磁石本体71と、その磁石本体71の磁束を循環さ
せるためのヨーク72とから構成される。ヨーク72は
平板形状部72aの上にリング状の突起72bをもつ鉄
等の磁性体である。そのヨーク72のリング状突起72
bの中央部に鉛直方向に着磁された円柱形の磁石本体7
1が固定される。次に配置結合関係であるがヨーク72
は平板形状部72aの両端が2枚のZリニアモータヨー
ク18に固定され、吊り上げ鉄板74は鉄板支持部75
を介してΖリニアモータ4の扁平コイル16に固定され
る。この結果磁石本体71と吊り上げ鉄板74はわずか
な空隙を介して対面し両者には互いに吸引力が働く。吊
り上げ鉄板74はΖリニアモータ4の扁平コイル16と
鉄板支持部75を介してXステージ天板11に固定さ
れ、吸引磁石70はΖリニアモータヨーク18を介して
ウエハステージ天板12に固定されるので、吸引磁石7
0と吊り上げ鉄板74の間に吸引力が働くことによりウ
エハステージ天板12はXステージ天板11から吸引浮
上力をうけることになる。下方に配置されたXステージ
天板11から上方に配置されたウエハステージ天板12
に吸引浮上力を作用させるため入れ子構造になる。
【0060】そして、吊り上げ鉄板74の吸引方向に垂
直な面内の寸法が吸引磁石70のリング状突起72bの
それより少なくとも数mmあるいは吊り上げ鉄板74と
吸引磁石70の空隙に比べて十分大きくしてある。こう
することにより吸引磁石70と吊り上げ鉄板74が吸引
方向と垂直な面内で変位してもその変位方向の復元力を
実質的にゼロにすることができる。なぜなら吊り上げ鉄
板74の吸引方向と垂直な面内の寸法が大き目にしてあ
るのでその方向の変位に対して吸引磁石70と吊り上げ
鉄板74の間に形成される磁力線の境界条件がほとんど
変化せずその結果磁力線の分布がほとんど変化しないか
らである。これが支持部を面内フリーと称する所以であ
る。
直な面内の寸法が吸引磁石70のリング状突起72bの
それより少なくとも数mmあるいは吊り上げ鉄板74と
吸引磁石70の空隙に比べて十分大きくしてある。こう
することにより吸引磁石70と吊り上げ鉄板74が吸引
方向と垂直な面内で変位してもその変位方向の復元力を
実質的にゼロにすることができる。なぜなら吊り上げ鉄
板74の吸引方向と垂直な面内の寸法が大き目にしてあ
るのでその方向の変位に対して吸引磁石70と吊り上げ
鉄板74の間に形成される磁力線の境界条件がほとんど
変化せずその結果磁力線の分布がほとんど変化しないか
らである。これが支持部を面内フリーと称する所以であ
る。
【0061】Ζリニアモータ4に自重支持の機能を持た
せず専ら位置制御のみをさせることによりΖリニアモー
タ4には実質的に発熱が問題になるような電流は流れな
いようになっている点は従来構成と同じである。
せず専ら位置制御のみをさせることによりΖリニアモー
タ4には実質的に発熱が問題になるような電流は流れな
いようになっている点は従来構成と同じである。
【0062】以上の構成によりウエハWを不図示の制御
系により粗動X、粗動Y、微動Ζ1、微動Z2、微動Z
3、微動θの各コイルに適切な電流制御を施してXYZ
θチルト方向に精密に位置決めし不図示の露光手段によ
り露光することにより不図示の原版のパターンをウエハ
W上に逐次的に露光する。
系により粗動X、粗動Y、微動Ζ1、微動Z2、微動Z
3、微動θの各コイルに適切な電流制御を施してXYZ
θチルト方向に精密に位置決めし不図示の露光手段によ
り露光することにより不図示の原版のパターンをウエハ
W上に逐次的に露光する。
【0063】このとき自重支持方向と垂直な面内に入る
振動外乱は吸引磁石70の面内フリー性により遮断され
るので位置制御精度が向上する。また、空気やゴム膜を
使用しないので信頼性が向上する。
振動外乱は吸引磁石70の面内フリー性により遮断され
るので位置制御精度が向上する。また、空気やゴム膜を
使用しないので信頼性が向上する。
【0064】かわし54付き板ばね51も吸引方向と垂
直な面内に寸法差を持つ入れ子構造の吸引磁石70も各
実施例で説明したように、自重支持機能と振動遮断機能
を併せ持つものであり、本実施例においても第1から第
3までの実施例と同様の作用効果を奏する。
直な面内に寸法差を持つ入れ子構造の吸引磁石70も各
実施例で説明したように、自重支持機能と振動遮断機能
を併せ持つものであり、本実施例においても第1から第
3までの実施例と同様の作用効果を奏する。
【0065】かわし54付き板ばね51と吸引方向と垂
直な面内に寸法差を持つ入れ子構造の吸引磁石70とい
う同じ機能のものを敢えて重複して設ける理由について
は、図5に示す第2の実施例と同様である。また、本実
施例で微動ステージ1にもたせた受け渡し機能の一部と
しての待避機能についても、図15(a)はウエハステ
ージ天板12が待避していない状態、図15(b)はウ
エハを載置すべくウエハステージ天板12が下方に待避
した状態を示しており、図5に示す第2の実施例と同様
なので、説明を省略する。
直な面内に寸法差を持つ入れ子構造の吸引磁石70とい
う同じ機能のものを敢えて重複して設ける理由について
は、図5に示す第2の実施例と同様である。また、本実
施例で微動ステージ1にもたせた受け渡し機能の一部と
しての待避機能についても、図15(a)はウエハステ
ージ天板12が待避していない状態、図15(b)はウ
エハを載置すべくウエハステージ天板12が下方に待避
した状態を示しており、図5に示す第2の実施例と同様
なので、説明を省略する。
【0066】本実施例のように、負の剛性を持つ入れ子
吸引磁石70と正の剛性を持つかわし54付き板ばね5
1を組み合わせた場合にも、適当な条件設定により、両
者の力変動を概ね相殺することが可能である。
吸引磁石70と正の剛性を持つかわし54付き板ばね5
1を組み合わせた場合にも、適当な条件設定により、両
者の力変動を概ね相殺することが可能である。
【0067】この結果、本実施例に係る微動ステージ1
は、ウエハ載置のためにウエハステージ天板12が数m
m程度待避する場合でもリニアモータ4の発熱を抑制す
ることができ、ひいてはウエハステージ天板12の熱変
形を抑制することができる。また、支持方向の振動伝達
を考えてもばね定数同士が相殺するので、支持方向の振
動遮断特性も向上する点も図5に示す第2の実施例と同
様である。
は、ウエハ載置のためにウエハステージ天板12が数m
m程度待避する場合でもリニアモータ4の発熱を抑制す
ることができ、ひいてはウエハステージ天板12の熱変
形を抑制することができる。また、支持方向の振動伝達
を考えてもばね定数同士が相殺するので、支持方向の振
動遮断特性も向上する点も図5に示す第2の実施例と同
様である。
【0068】図16および図17は本発明の第4の実施
例のそれぞれ第1変形例および第2変形例を示す正面図
である。図16は正の剛性をもつ要素としてかわし54
付き板ばね51の代わりに、Xステージ天板11の上面
とウエハステージ天板12の下面との間に配設した複数
のコイルばね81を用いたものである。本変形例に係る
支持装置の微動ステージ1は、動作、作用、効果、吸引
磁石70の上下に待避スペース36a,36bが必要な
点等すべて図15に示す第4の実施例と同じである。
例のそれぞれ第1変形例および第2変形例を示す正面図
である。図16は正の剛性をもつ要素としてかわし54
付き板ばね51の代わりに、Xステージ天板11の上面
とウエハステージ天板12の下面との間に配設した複数
のコイルばね81を用いたものである。本変形例に係る
支持装置の微動ステージ1は、動作、作用、効果、吸引
磁石70の上下に待避スペース36a,36bが必要な
点等すべて図15に示す第4の実施例と同じである。
【0069】図17は正の剛性を持つ要素として互いに
対向する面の面積が異なる大磁石83aと小磁石83b
からなる反発磁石83を用いた例を示している。この反
発磁石83もウエハステージ天板12の下面に固着した
大磁石83aとXステージ天板11の上面に固着した小
磁石83bとの対面する面積に差をつけることで支持方
向と垂直な面内の振動を遮断するようになっている。本
変形例に係る微動ステージ1も、その他の動作、作用、
効果、吸引磁石23の上下に待避スペース36a,36
bが必要な点はすべて図15に示す第4の実施例と同じ
である。
対向する面の面積が異なる大磁石83aと小磁石83b
からなる反発磁石83を用いた例を示している。この反
発磁石83もウエハステージ天板12の下面に固着した
大磁石83aとXステージ天板11の上面に固着した小
磁石83bとの対面する面積に差をつけることで支持方
向と垂直な面内の振動を遮断するようになっている。本
変形例に係る微動ステージ1も、その他の動作、作用、
効果、吸引磁石23の上下に待避スペース36a,36
bが必要な点はすべて図15に示す第4の実施例と同じ
である。
【0070】図18は第4の実施例の第3変形例を示す
正面図である。本変形例では、構成要素は図16に示し
た例と同じであるが、図16に示す例では入れ子構造の
吸引磁石70が用いられたのに対して、本変形例では吸
引磁石70の部分が入れ子構造ではなく、単純にウエハ
ステージ天板12に吸引磁石70が固定され、Xステー
ジ天板11に固定された扁平コイル16に引き下げ鉄板
84が固定されているところに顕著な特徴がある。ま
た、この結果、図16に示す例では、吸引磁石70の上
部に逃げと称する待避スペースが設けられていたのがな
くなっているのも特徴である。また図16に示す例では
吸引磁石70はウエハステージ天板12を浮上させる力
を発生しているが、本変形例では吸引磁石70はウエハ
ステージ天板12を引き下げる方向に弱い力を発生して
いる。その代わりにコイルばね85が専らウエハステー
ジ天板12の自重を支持している。図18に示す状態か
らウエハステージ天板12がウエハ載置のために待避す
ると、コイルばね85のたわみは増加する。一方、吸引
磁石70と引き下げ鉄板84の空隙は縮まるので、ウエ
ハステージ天板12に下向きに掛かる力も増加する。よ
って、適当な条件設計によりウエハステージ天板12に
上向きにかかる力の増加とウエハステージ天板12に下
向きにかかる力の増加を相殺することが可能である。
正面図である。本変形例では、構成要素は図16に示し
た例と同じであるが、図16に示す例では入れ子構造の
吸引磁石70が用いられたのに対して、本変形例では吸
引磁石70の部分が入れ子構造ではなく、単純にウエハ
ステージ天板12に吸引磁石70が固定され、Xステー
ジ天板11に固定された扁平コイル16に引き下げ鉄板
84が固定されているところに顕著な特徴がある。ま
た、この結果、図16に示す例では、吸引磁石70の上
部に逃げと称する待避スペースが設けられていたのがな
くなっているのも特徴である。また図16に示す例では
吸引磁石70はウエハステージ天板12を浮上させる力
を発生しているが、本変形例では吸引磁石70はウエハ
ステージ天板12を引き下げる方向に弱い力を発生して
いる。その代わりにコイルばね85が専らウエハステー
ジ天板12の自重を支持している。図18に示す状態か
らウエハステージ天板12がウエハ載置のために待避す
ると、コイルばね85のたわみは増加する。一方、吸引
磁石70と引き下げ鉄板84の空隙は縮まるので、ウエ
ハステージ天板12に下向きに掛かる力も増加する。よ
って、適当な条件設計によりウエハステージ天板12に
上向きにかかる力の増加とウエハステージ天板12に下
向きにかかる力の増加を相殺することが可能である。
【0071】この結果、本実施例に係る微動ステージ1
は、ウエハ載置のためにウエハステージ天板12が数m
m程度待避する場合でも、リニアモータ4の発熱を抑制
することができ、ひいてはウエハステージ天板12の熱
変形を抑制することができるのは、図15に示す第4の
実施例と同じである。
は、ウエハ載置のためにウエハステージ天板12が数m
m程度待避する場合でも、リニアモータ4の発熱を抑制
することができ、ひいてはウエハステージ天板12の熱
変形を抑制することができるのは、図15に示す第4の
実施例と同じである。
【0072】また、支持方向の振動伝達を考えてもばね
定数同士が相殺するので、支持方向と垂直方向だけでな
く、支持方向の振動遮断特性が向上する点も図15に示
す第4の実施例と同じである。
定数同士が相殺するので、支持方向と垂直方向だけでな
く、支持方向の振動遮断特性が向上する点も図15に示
す第4の実施例と同じである。
【0073】さらに上述のように、本変形例では吸引磁
石70の部分が入れ子構造でないので、待避スペースは
空隙側のみですむ。よって全体の高さを低くすることが
できるという特有の効果がある。
石70の部分が入れ子構造でないので、待避スペースは
空隙側のみですむ。よって全体の高さを低くすることが
できるという特有の効果がある。
【0074】また、本変形例では、図18に示す状態、
つまり露光を行う状態において、コイルばね85のばね
定数が吸引磁石70の負のばね定数より大きくなるよう
に設定することが容易である。このように設定すると、
図18に示す状態、つまり露光を行う状態において釣り
合い位置からの支持方向におけるずれに対して支持方向
に復元力が働くようになる。つまり釣り合い位置におい
て自然に安定する安定系となる。すると図18に示す状
態つまり露光を行う状態において万一リニアモータ4の
電源が切れて制御不能になっても、釣り合い位置に留っ
ていることができ、安全であるという利点がある。
つまり露光を行う状態において、コイルばね85のばね
定数が吸引磁石70の負のばね定数より大きくなるよう
に設定することが容易である。このように設定すると、
図18に示す状態、つまり露光を行う状態において釣り
合い位置からの支持方向におけるずれに対して支持方向
に復元力が働くようになる。つまり釣り合い位置におい
て自然に安定する安定系となる。すると図18に示す状
態つまり露光を行う状態において万一リニアモータ4の
電源が切れて制御不能になっても、釣り合い位置に留っ
ていることができ、安全であるという利点がある。
【0075】図19は図18のさらなる変形に係る第4
の実施例の第4変形例を示す正面図である。正の剛性を
有する要素としてコイルばね85の代わりに対向部の面
積の異なる反発磁石87が採用されている。吸引磁石7
0は図18に示したのと同様にウエハステージ天板12
を下に引き下げる方向の力を発するようになっている。
作用、効果は図18に示す変形例と全く同じである。
の実施例の第4変形例を示す正面図である。正の剛性を
有する要素としてコイルばね85の代わりに対向部の面
積の異なる反発磁石87が採用されている。吸引磁石7
0は図18に示したのと同様にウエハステージ天板12
を下に引き下げる方向の力を発するようになっている。
作用、効果は図18に示す変形例と全く同じである。
【0076】なお、本発明は上記実施例によっては限定
されず、種々の変形変更が可能である。例えば、本発明
はウエハステージ天板12のXY方向の動きが自在継ぎ
手6によって拘束されず、Zリニアモータ4とは別のリ
ニアモータ等でXY方向の駆動を行いウエハステージ天
板12の位置制御をする場合にも適用することができ
る。
されず、種々の変形変更が可能である。例えば、本発明
はウエハステージ天板12のXY方向の動きが自在継ぎ
手6によって拘束されず、Zリニアモータ4とは別のリ
ニアモータ等でXY方向の駆動を行いウエハステージ天
板12の位置制御をする場合にも適用することができ
る。
【0077】また、鉄板と磁石の組み合わせで吸引機能
と吸引方向に垂直な方向のかわしを実現するのに代えて
鉄板と電磁石の組み合わせで同等の機能を実現すること
もできる。電磁石はリニアモータと違ってきわめて小さ
いアンペアターンで大きな吸引力を発生できるので自重
支持のように常時通電する必要のある用途においても発
熱が問題にならない条件設定が可能であり、永久磁石に
代えて用いることができるのである。
と吸引方向に垂直な方向のかわしを実現するのに代えて
鉄板と電磁石の組み合わせで同等の機能を実現すること
もできる。電磁石はリニアモータと違ってきわめて小さ
いアンペアターンで大きな吸引力を発生できるので自重
支持のように常時通電する必要のある用途においても発
熱が問題にならない条件設定が可能であり、永久磁石に
代えて用いることができるのである。
【0078】電磁石の場合も吊り上げ鉄板との対向面の
寸法の縦と横の差を大きくするほど振動遮断性能が向上
したり、振動遮断性能を悪化させず寸法余分量を節約で
きるのは全く同様である。
寸法の縦と横の差を大きくするほど振動遮断性能が向上
したり、振動遮断性能を悪化させず寸法余分量を節約で
きるのは全く同様である。
【0079】また、電磁石特有の効果として電流を調整
することで浮上力を調整できるという効果がある。永久
磁石の場合は浮上力や反発力を調整するにはギャップを
変える必要があり調整機構が大変だったが電磁石では電
流のみかえればよいので機械的な調整もなくまた遠隔的
な調整が可能である。
することで浮上力を調整できるという効果がある。永久
磁石の場合は浮上力や反発力を調整するにはギャップを
変える必要があり調整機構が大変だったが電磁石では電
流のみかえればよいので機械的な調整もなくまた遠隔的
な調整が可能である。
【0080】
【デバイス生産方法の実施例】次に上記説明した露光装
置または露光方法を利用したデバイスの生産方法の実施
例を説明する。図23は微小デバイス(ICやLSI等
の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステッ
プ1(回路設計)ではデバイスのパターン設計を行な
う。ステップ2(マスク製作)では設計したパターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ
製造)ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ
4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンデ
ィング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程
を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製され
た半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の
検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完
成し、これが出荷(ステップ7)される。
置または露光方法を利用したデバイスの生産方法の実施
例を説明する。図23は微小デバイス(ICやLSI等
の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステッ
プ1(回路設計)ではデバイスのパターン設計を行な
う。ステップ2(マスク製作)では設計したパターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ
製造)ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ
4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンデ
ィング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程
を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製され
た半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の
検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完
成し、これが出荷(ステップ7)される。
【0081】図24は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオ
ン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ1
5(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ16(露光)では上記説明した支持装置を有する
露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付
露光する。ステップ17(現像)では露光したウエハを
現像する。ステップ18(エッチング)では現像したレ
ジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジス
ト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジスト
を取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことに
よって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
ーを示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオ
ン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ1
5(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ16(露光)では上記説明した支持装置を有する
露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付
露光する。ステップ17(現像)では露光したウエハを
現像する。ステップ18(エッチング)では現像したレ
ジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジス
ト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジスト
を取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことに
よって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【0082】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
【0083】
【発明の効果】本発明によれば、載置部材の自重を支持
する自重支持手段が自重支持方向に垂直な面内の変位に
対する復元力を減殺するための柔軟要素を含んでいるの
で、Zチルトθ微動ステージのθ方向の外乱またはXY
Zチルトθ全軸位置制御微動ステージのXYθ方向の外
乱が減少し、位置精度が向上する。
する自重支持手段が自重支持方向に垂直な面内の変位に
対する復元力を減殺するための柔軟要素を含んでいるの
で、Zチルトθ微動ステージのθ方向の外乱またはXY
Zチルトθ全軸位置制御微動ステージのXYθ方向の外
乱が減少し、位置精度が向上する。
【図1】 本発明の第1の実施例に係る支持装置の微動
ステージを示す図であって、(a)が上面図、(b)が
正面図である。
ステージを示す図であって、(a)が上面図、(b)が
正面図である。
【図2】 本発明の第1の実施例に係る支持装置の微動
ステージを示す図であって、(a)が上面図、(b)が
正面図である。
ステージを示す図であって、(a)が上面図、(b)が
正面図である。
【図3】 図1および図2の部分分解拡大斜視図であ
る。
る。
【図4】 本発明の第1の実施例に係る支持装置の微動
ステージの変形例を示す正面図である。
ステージの変形例を示す正面図である。
【図5】 本発明の第2の実施例に係る支持装置の微動
ステージを示す正面図である。
ステージを示す正面図である。
【図6】 本発明の第2の実施例の第1変形例を示す正
面図である。
面図である。
【図7】 本発明の第2の実施例の第2変形例を示す正
面図である。
面図である。
【図8】 本発明の第2の実施例の第3変形例を示す正
面図である。
面図である。
【図9】 本発明の第2の実施例の第4変形例を示す正
面図である。
面図である。
【図10】 本発明の第3の実施例に係る支持装置の微
動ステージを示す正面図である。
動ステージを示す正面図である。
【図11】 図10の部分分解拡大斜視図である。
【図12】 本発明の第3実施例の第1変形例を示す正
面図である。
面図である。
【図13】 本発明の第3実施例の第2変形例を示す正
面図である。
面図である。
【図14】 本発明の第3実施例の第3変形例を示す正
面図である。
面図である。
【図15】 本発明の第4の実施例に係る支持装置の微
動ステージを示す正面図である。
動ステージを示す正面図である。
【図16】 本発明の第4の実施例の第1変形例を示す
正面図である。
正面図である。
【図17】 本発明の第4の実施例の第2変形例を示す
正面図である。
正面図である。
【図18】 本発明の第4の実施例の第3変形例を示す
正面図である。
正面図である。
【図19】 本発明の第4の実施例の第4変形例を示す
正面図である。
正面図である。
【図20】 従来の支持装置を示す斜視図である。
【図21】 従来の支持装置の微動ステージを示し、
(a)が上面図、(b)が正面図である。
(a)が上面図、(b)が正面図である。
【図22】 従来の支持装置の微動ステージを示し、
(a)が部分平面図、(b)が正面図である。
(a)が部分平面図、(b)が正面図である。
【図23】 本発明に係る支持装置を備えた露光装置を
利用した半導体デバイスの製造方法の実施例を説明する
ためのフローを示す。
利用した半導体デバイスの製造方法の実施例を説明する
ためのフローを示す。
【図24】 図23のウエハプロセスの詳細なフローを
示す。
示す。
1:微動ステージ、2:Z懸架駆動ユニット、3:自重
支持機構、4:Zリニアモータ、5:L字形板ばね、5
a:基端部、5b:先端部(柔軟要素)、6:自在継ぎ
手(ガイド)、7:面内フリー自重支持機構、11:X
ステージ天板、12:ウエハステージ天板、16:扁平
コイル、17:磁石、18:リニアモータ、25:コイ
ルばね、28:吸引磁石、29:逃げ、31:ヨーク、
32:鉄板支持部、33:吊り上げ鉄板(磁性体)、3
4:突出部、38:コイルばね、40:反発磁石、4
2:コイルばね、43:引き下げ鉄板(磁性体)、4
4:反発磁石、I字形板ばね、54:かわし、55:下
方コ字形部材、56:ロ字形板ばね(柔軟要素)、5
7:上方コ字形部材、60:エアシリンダ、61:支持
棒、62:ゴム膜、63:空気室、65:コイルばね、
70:吸引磁石、71:磁石本体、72:ヨーク、7
4:吊り上げ鉄板(磁性体)、75:鉄板支持部、8
1:コイルばね、83:反発磁石、84:引き下げ鉄板
(磁性体)、85:コイルばね、87:反発磁石。
支持機構、4:Zリニアモータ、5:L字形板ばね、5
a:基端部、5b:先端部(柔軟要素)、6:自在継ぎ
手(ガイド)、7:面内フリー自重支持機構、11:X
ステージ天板、12:ウエハステージ天板、16:扁平
コイル、17:磁石、18:リニアモータ、25:コイ
ルばね、28:吸引磁石、29:逃げ、31:ヨーク、
32:鉄板支持部、33:吊り上げ鉄板(磁性体)、3
4:突出部、38:コイルばね、40:反発磁石、4
2:コイルばね、43:引き下げ鉄板(磁性体)、4
4:反発磁石、I字形板ばね、54:かわし、55:下
方コ字形部材、56:ロ字形板ばね(柔軟要素)、5
7:上方コ字形部材、60:エアシリンダ、61:支持
棒、62:ゴム膜、63:空気室、65:コイルばね、
70:吸引磁石、71:磁石本体、72:ヨーク、7
4:吊り上げ鉄板(磁性体)、75:鉄板支持部、8
1:コイルばね、83:反発磁石、84:引き下げ鉄板
(磁性体)、85:コイルばね、87:反発磁石。
Claims (16)
- 【請求項1】 工作物が載置された載置部材を基盤に対
して位置制御する位置制御手段と、前記載置部材の自重
を支持する自重支持手段とを有する支持装置において、
前記自重支持手段は重力方向に垂直な面内における前記
載置部材の変位に対する復元力を減殺するための柔軟要
素を含んでいることを特徴とする支持装置。 - 【請求項2】 前記載置部材を前記基盤に対し少なくと
も回転および重力方向に滑動自在で重力方向に垂直な平
面内の自由度を拘束するガイドを備え、前記自重支持手
段は該ガイドの周囲に設けられ前記載置部材の少なくと
も回転方向のばね定数が回転方向の振動伝達を無視でき
る程度に小さくする値に設定されている柔軟な部分を備
えていることを特徴とする請求項1に記載の支持装置。 - 【請求項3】 前記自重支持手段は前記載置部材の少な
くとも回転方向のばね定数が他の方向のばね定数より小
さいことにより回転方向の振動伝達を無視できる程度に
小さくする値に設定されている柔軟な部分を備えている
ことを特徴とする請求項1または2に記載の支持装置。 - 【請求項4】 前記自重支持手段が板ばねと、該板ばね
のたわみ方向に垂直な面内の変位に対して柔軟な部分と
を直列に結合したもので構成されることを特徴とする請
求項1〜3のいずれかに記載の支持装置。 - 【請求項5】 前記自重支持手段がエアシリンダと、該
エアシリンダの作用方向に垂直な面内の変位に対して柔
軟な部分とを直列に結合したものとで構成されることを
特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の支持装置。 - 【請求項6】 前記自重支持手段がコイルばねで構成さ
れることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の
支持装置。 - 【請求項7】 前記自重支持手段が磁石と磁性体から構
成され、少なくとも前記載置部材の回転方向に沿う方向
の寸法が磁石と磁性体とで異なることを特徴とする請求
項1〜3のいずれかに記載の装置。 - 【請求項8】 前記自重支持手段が互いに吸引する磁石
と磁石から構成され、少なくとも前記載置部材の回転方
向に沿う方向の寸法が前記互いに磁石力を及ぼす磁石同
士で異なることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに
記載の支持装置。 - 【請求項9】 前記自重支持手段が互いに反発する磁石
と磁石から構成され、少なくとも前記載置部材の回転方
向の寸法が前記磁石同士で異なることを特徴とする請求
項1〜3のいずれかに記載の支持装置。 - 【請求項10】 前記自重支持手段が支持方向の変位に
対して復元力を発生する部分と、支持方向の変位に対し
て変位を増加させる力を発生する部分との両方から構成
されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載
の支持装置。 - 【請求項11】 請求項10に記載の支持装置におい
て、支持方向の変位に対して変位を増加させる力を発生
する部分が前記載置部材を下方に引き下げる方向の力を
発生するように構成されることを特徴とする支持装置。 - 【請求項12】 支持方向の変位に対して復元力を発生
する部分がコイルばねで構成されることを特徴とする請
求項10または11に記載の支持装置。 - 【請求項13】 支持方向の変位に対して復元力を発生
する部分が反発する磁石と磁石から構成され、少なくと
も回転方向の寸法が前記磁石同士で異なることを特徴と
する請求項10または11に記載の支持装置。 - 【請求項14】 支持方向の変位に対して復元力を発生
する部分がL字形板ばねで構成されることを特徴とする
請求項10または11に記載の支持装置。 - 【請求項15】 支持方向の変位に対して変位を増加さ
せる力を発生する部分が互いに吸引する磁石と磁石から
構成され、少なくとも前記載置部材の回転方向に沿う方
向の寸法が前記互いに吸引する磁石同士で異なることを
特徴とする請求項10または11に記載の支持装置。 - 【請求項16】 請求項1〜15のいずれかに記載の支
持装置を備えた露光装置を用いて半導体デバイスを製造
することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000039837A JP2001230173A (ja) | 2000-02-17 | 2000-02-17 | 支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000039837A JP2001230173A (ja) | 2000-02-17 | 2000-02-17 | 支持装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001230173A true JP2001230173A (ja) | 2001-08-24 |
Family
ID=18563340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000039837A Abandoned JP2001230173A (ja) | 2000-02-17 | 2000-02-17 | 支持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001230173A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005317926A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-11-10 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ位置決めデバイス及びデバイス製造方法 |
KR100674083B1 (ko) | 2005-11-16 | 2007-01-25 | (주) 티피씨 메카트로닉스 | 위치결정장치 |
JP2010266688A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Nikon Corp | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
US8773641B2 (en) | 2010-10-27 | 2014-07-08 | Asml Netherlands B.V. | Leaf spring, stage system, and lithographic apparatus |
CN111077740A (zh) * | 2018-10-22 | 2020-04-28 | 佳能株式会社 | 基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法 |
-
2000
- 2000-02-17 JP JP2000039837A patent/JP2001230173A/ja not_active Abandoned
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005317926A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-11-10 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ位置決めデバイス及びデバイス製造方法 |
KR100674083B1 (ko) | 2005-11-16 | 2007-01-25 | (주) 티피씨 메카트로닉스 | 위치결정장치 |
JP2010266688A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Nikon Corp | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
US8773641B2 (en) | 2010-10-27 | 2014-07-08 | Asml Netherlands B.V. | Leaf spring, stage system, and lithographic apparatus |
CN111077740A (zh) * | 2018-10-22 | 2020-04-28 | 佳能株式会社 | 基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法 |
JP2020068243A (ja) * | 2018-10-22 | 2020-04-30 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法 |
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