CN102442550A

CN102442550A - 输送装置、处理系统以及输送装置的控制方法

Info

Publication number: CN102442550A
Application number: CN2011102644194A
Authority: CN
Inventors: 山田洋平
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2010-09-16
Filing date: 2011-09-05
Publication date: 2012-05-09
Also published as: TW201231366A; KR101373466B1; EP2481530A3; EP2481530A2; KR20120029358A; US20120072010A1; US8882429B2; JP2012064795A; JP5704871B2

Abstract

本发明提供一种输送装置、处理系统以及输送装置的控制方法。该输送装置在减压环境下也能够对接触到障碍物的情况进行检测。其包括：支承构件(71)，其能够前进后退，用于支承输送体(G)；传感器(8)，其用于在支承构件前进时、对支承构件的顶端接触到障碍物的情况进行检测，传感器(8)包括：第1导电环(81)，其以接地的状态设在支承构件(71)的顶端，并具有挠性；第2导电环(82)，其以与第1导电环(81)分开的方式设在第1导电环(81)的内侧；检测器，其用于在第1导电环(81)与障碍物接触而变形并接触到第2导电环(82)时、对第1导电环(81)与第2导电环(82)短路的情况进行检测。

Description

输送装置、处理系统以及输送装置的控制方法

技术领域

本发明涉及一种输送装置、处理系统以及输送装置的控制方法。

背景技术

对于CVD装置等将玻璃基板在高温下进行处理的装置，有时玻璃基板由于热等而破裂。在玻璃基板的输入输出时，在腔室内保持玻璃基板的端部而抬起玻璃基板，使输送装置的拾取器进入到被抬起的玻璃基板的下方。玻璃基板破裂时，因为只抬起玻璃基板的一侧，所以破裂了的玻璃基板会堵住拾取器的进入路径。因此，拾取器的顶端与玻璃基板碰撞，破裂的玻璃基板零碎散开，碎片散播到腔室内。为了将破裂的玻璃基板、碎片从腔室内清除并使装置复原，需要很多时间。在此期间，生产线停止。

因此，例如，如专利文献1所记载的那样，将用于对障碍物接触到拾取器(机械手)的顶端的情况进行检测的传感器安装于输送装置。

在专利文献1中，将在内部封入有流体的膨胀收缩自如的中空体安装在拾取器的顶端。中空体与障碍物接触时，中空体被压瘪，被封入在内部的流体的压力上升。通过以压力传感器检测该压力上升，对障碍物接触到拾取器的顶端的情况进行检测。

专利文献1：日本特开2003-60004号公报

专利文献1采用以压力传感器对被封入在中空体内部的流体的压力的上升进行检测的方式。因此，存在这种情况：输送装置将玻璃基板在减压环境下输送时，难以引起中空体的变形，难以对接触到障碍物的情况进行检测。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而做成的，其提供一种在减压环境下也能够对接触到障碍物的情况进行检测的输送装置、包括该输送装置的处理系统、能够抑制障碍物的破坏的输送装置的控制方法、存储有用于使输送装置执行该控制方法的程序的计算机可读取的存储介质。

本发明的第1技术方案的输送装置是用于对输送体进行输送的输送装置，其包括：支承构件，其能够前进后退，用于支承上述输送体；传感器，其用于在上述支承构件前进时、对上述支承构件的顶端接触到障碍物的情况进行检测，上述传感器包括：第1导电环，其具有挠性，以接地的状态设在上述支承构件的顶端；第2导电环，其以与上述第1导电环分开的方式设在上述第1导电环的内侧；检测器，其用于在上述第1导电环与上述障碍物接触而变形并接触到上述第2导电环时、对上述第1导电环与上述第2导电环短路的情况进行检测。

本发明的第2技术方案的处理系统包括：共用输送室；处理室，其连接于上述共用输送室，用于对被处理体实施处理；输送装置，其配置在上述共用输送室中，用于输送上述被处理体，上述输送装置使用第1技术方案的输送装置。

本发明的第3技术方案的输送装置的控制方法是用于对上述输送体进行输送的输送装置的控制方法，该输送装置包括：能够前进后退并用于支承输送体的支承构件、用于在上述支承构件前进时对上述支承构件的顶端接触到障碍物的情况进行检测的传感器，该输送装置的控制方法包括以下步骤：使上述支承构件以第1速度朝向规定的位置前进；在被设定在上述规定的位置跟前的、用于对上述障碍物的有无进行确认的确认区间，使上述支承构件以比上述第1速度慢的第2速度朝向上述规定的位置前进；通过上述确认区间之后，使上述支承构件以比上述第2速度快的第3速度朝向上述规定的位置前进。

本发明的第4技术方案的计算机可读取的存储介质存储有在计算机上进行动作、并对用于输送输送体的输送装置进行控制的控制程序，上述控制程序在执行时以进行第3技术方案的控制方法的方式对上述输送装置进行控制。

采用本发明，能够提供在减压环境下也能够对接触到障碍物的情况进行检测的输送装置、包括该输送装置的处理系统、能够抑制障碍物的破坏的输送装置的控制方法、存储有使输送装置执行该控制方法的程序的计算机可读取的存储介质。

附图说明

图1是表示包括本发明的第1实施方式的输送装置的处理系统的一个例子的水平剖视图。

图2A是沿着图1中的II-II线的剖视图(输送装置处于退避的状态)。

图2B是沿着图1中的II-II线的剖视图(输送装置处于进入的状态)。

图3A是表示传感器的一个例子的立体图。

图3B是传感器的分解图。

图4A是表示障碍物与传感器接触的状态的俯视图。

图4B是表示障碍物与传感器接触的状态的俯视图。

图4C是表示障碍物与传感器接触的状态的俯视图。

图5A是表示传感器的等效电路的一个例子的等效电路图。

图5B是表示传感器的等效电路的一个例子的等效电路图。

图6是表示本发明的第2实施方式的输送装置的控制方法的一个例子的时间图。

图7是表示区间i、确认区间ii、区间iii的一个例子的剖视图。

具体实施方式

下面，参照附带的附图说明本发明的实施方式。在本说明中，所参照的所有附图对于相同的部分标注相同的参照附图标记。

(第1实施方式)

图1是表示包括本发明的第1实施方式的输送装置的处理系统的一个例子的水平剖视图，图2A和图2B是沿着图1中的II-II线的剖视图。图1、图2A、图2B所示的处理系统是使用被用于太阳能电池模块、FPD的制造的玻璃基板作为输送体而对该玻璃基板实施成膜的处理系统。

如图1所示，处理系统1构成为包括加载互锁室2、处理室3a以及3b、共用输送室4。在加载互锁室2中，在大气侧与减压侧之间进行压力变换。在处理室3a以及3b中，实施对输送体G、例如玻璃基板进行加热、成膜等热处理。

在本例中，加载互锁室2、处理室3a以及3b、共用输送室4是真空装置，分别具有能够将输送体G置于规定的减压状态下的、气密地构成的容器主体21、31a、31b、41。在容器主体21、31a、31b、41上为了使内部处于减压状态而经由排气口连接有真空泵等排气机构。在图2A以及图2B中表示被设在处理室3a上的排气口32a以及被连接在排气口32a上的真空泵5a、被设在共用输送室4上的排气口42以及被连接在排气口42上的真空泵5b。另外，在容器主体21、31a、31b、41上设有开口部23a、23b、33a、33b、43a、43b、43c。输送体G被经由上述的开口部输入输出。

加载互锁室2的容器主体21经由开口部23a、闸阀室6a与处理系统1的外部、即大气侧连通。在闸阀室6a中收容有用于开闭开口部23a的闸阀GV。另外，在图2A中表示闸阀GV的一个例子。另外，容器主体21经由开口部23b、闸阀室6b、开口部43a与容器主体41连通。在闸阀室6b中收容有用于开闭开口部23b的闸阀GV。

处理室3a的容器主体31a经由开口部33a、收容有用于开闭该开口部33a的闸阀GV的闸阀室6c、开口部43b，与容器主体41连通。同样，处理室3b的容器主体31b经由开口部33b、收容有用于开闭该开口部33b的闸阀GV的闸阀室6d、开口部43c，与容器主体41连通。

共用输送室4的容器主体41的平面形状在本例中为矩形状。在矩形状的四个边之中的三个边上设有开口部43a、43b、43c。在共用输送室4的内部设置有本发明的第1实施方式的输送装置7。输送装置7将输送体G从加载互锁室2输送到处理室3a或者3b中、从处理室3a或者3b输送到处理室3b或者3a中、从处理室3a或者3b输送到加载互锁室2中。因此，输送装置7构成为除了能够进行使输送体G升降的升降动作、使输送体G旋转的旋转动作之外，能够进行向加载互锁室2、处理室3a以及3b的内部的进入动作、退避动作。

这样的处理系统1的各部的控制、输送装置7的控制由控制部100进行。控制部100具有例如由微处理机(计算机)构成的工艺控制器101。为了操作者管理处理系统1，在控制器101上连接有用户界面102，该用户界面102由用于进行指令的输入操作等的键盘、用于对处理系统1的运转状况进行可视化显示的显示器等构成。

在工艺控制器101上连接有存储部103。存储部103存储用于在工艺控制器101的控制下实现在处理系统1中被执行的各种处理的控制程序、用于按照处理条件使处理系统1的各部执行处理的制程程序。制程程序被存储在例如存储部103中的存储介质中。存储介质既可以是硬盘、半导体存储器，也可以是CD-ROM、DVD、闪存器等可移动的存储介质。另外，也可以从其他的装置、例如经由专用线路适当地传输制程程序。制程程序根据需要按照来自用户界面102的指示等从存储部103读取，工艺控制器101执行被读取到的制程程序所规定的处理，处理系统1、输送装置7在工艺控制器101的控制下实施所希望的处理、控制。

在图2A中表示输送装置7退避到共用输送室4内的状态，在图2B中表示输送装置7进入到处理室3a内的状态。

如图2A以及图2B所示，输送装置7构成为包括：拾取器单元72，其包括用于支承输送体G的支承构件、即拾取器71；滑动单元73，其用于使拾取器单元72滑动；驱动单元74，其用于驱动滑动单元73。

在滑动单元73中安装有滑动基座73a，拾取器单元72安装在滑动基座73a上。滑动基座73a在滑动基座驱动部73b的驱动下沿着滑动单元73的长度方向前后滑动。由此，拾取器单元72进行前进后退，从而进入加载互锁室2、处理室3a以及3b的内部或者自加载互锁室2、处理室3a以及3b的内部退避。例如，如图2B所示，滑动基座73a滑动时，安装在滑动基座73a上的拾取器单元72经由例如开口部43b以及33a进入到处理室3a内。另外，滑动单元73在驱动单元74的作用下升降、旋转。由此，滑动单元73在例如共用输送室4内升降、旋转。

本例的处理系统1每次将多张输送体G沿着高度方向水平地载置，从而对多个输送体G进行处理。例如，在处理室3a中以多层的方式配置有具有一对下部电极34以及上部电极35的层。在本例中，配置有两层下部电极34以及两层上部电极35，能够利用在各对的上部电极与下部电极之间产生的等离子体同时对2张输送体G实施处理。因此，输送装置7以每次能够输送多张输送体G的方式构成。在本例中，拾取器单元72具有两层拾取器71，每次能够输送两张输送体G。在两层拾取器71的顶端各自安装有用于对在拾取器71的进入场所是否存在障碍物进行检测的传感器8。

图3A是表示传感器8的一个例子的立体图。另外，在图3B中表示传感器8的分解图。

如图3A以及图3B所示，传感器8包括设在拾取器71的顶端的第1导电环81、设在第1导电环81的内侧的第2导电环82。第1导电环81、第2导电环82使用例如弹簧钢，都具有挠性。作为弹簧钢的例子，可列举出不锈钢、磷青铜等。

第1导电环81、第2导电环82的在拾取器71的顶端上的安装方式的一个例子如下所述。

首先，利用例如螺纹固定将具有凸部的基座83固定在拾取器71的顶端上。接着，用基座83的凸部与绝缘构件84夹住第1导电环81的侧面的一部分。绝缘构件84是用于以使第1导电环81与第2导电环82彼此绝缘的状态、并且使第1导电环81与第2导电环82彼此分开的状态对第1导电环81与第2导电环82进行保持的保持构件。在第2导电环82的上部设有朝向第2导电环82的外侧延伸的电接触端子85。将该电接触端子85放在绝缘构件84的上表面上，并且使第2导电环82的侧面与绝缘构件84抵接。接着，使用绝缘性的螺钉86将第2导电环82、绝缘构件84、第1导电环81固定在基座83上。在此，用导电性的材料构成基座83时，因为拾取器71被接地，所以能够得到这种优点：能够仅通过将第1导电环81安装在基座83上而将第1导电环81接地。接着，使检测端子87与电接触端子85抵接。检测端子87的另一端被连接在用于对第1导电环81与第2导电环82是否短路进行检测的检测器上。接着，使用导电性的螺钉88将检测端子87、电接触端子85固定在绝缘构件84的上表面上。

这样一来，能够将第1导电环81、第2导电环82安装在拾取器71的顶端。

另外，在本实施方式中，电接触端子85是从第2导电环82的上部朝向外侧的结构，但也可以从下部朝向外侧，另外，检测端子87只要能够连接则不一定需要是朝向外侧延伸的结构。

接着，说明具体的检测的一个例子。

图4A～图4C是表示障碍物与传感器8接触的状态的俯视图。

首先，如图4A所示，在拾取器71的进入场所存在障碍物89时，随着拾取器71的前进而第1导电环81与障碍物89接触。第1导电环81具有挠性。因此，与障碍物89接触时，随着拾取器71的前进，第1导电环81压瘪。如图4B所示，不久，第1导电环81与第2导电环82接触，被接地的第1导电环81与第2导电环82短路。通过利用检测器对该短路进行检测，能够对拾取器71的顶端接触到障碍物的情况进行检测。

另外，如本例那样，第2导电环82也由具有挠性的导电性材料构成时，能够得到这样的优点：到短路、短路检测、拾取器71的停止的期间，即使拾取器71继续前进，也如图4的C所示，因为第2导电环82压瘪，所以能够抑制障碍物89的破损。

另外，如果举出第1导电环81的尺寸、材质的一个例子，则是直径55mm、板厚0.05mm的不锈钢。另外，如果举出第2导电环82的尺寸、材质的一个例子，则是直径36mm、板厚0.05mm的不锈钢。

这样，通过使第1导电环81、第2导电环82双方板厚都薄至0.05mm左右，能够使第1导电环81、第2导电环82双方具有复原性。因此，即使第1导电环81与障碍物接触而变形、或者、第2导电环82与第1导电环81接触而变形，也因为各自能够复原，所以能够再次使用。

另外，如果采用上述尺寸例，第1导电环81与第2导电环82之间的分开距离则为约10mm。如果以这种程度使第1导电环81与第2导电环82分开，则在拾取器71的前进后退时、旋转时，即使在第1导电环81以及第2导电环82发生了振动的情况下，也能够抑制彼此接触。

图5A以及图5B是表示传感器8的等效电路的一个例子的等效电路图。

如图5A所示，在一实施方式中，具有4个拾取器71。因此，在本等效电路例中，传感器8具有4个第1导电环81以及4个第2导电环82。4个第1导电环81各自被接地。另外，4个第2导电环82各自被连接在检测器9的一端上。检测器9包括例如电阻r、检测电路91。电阻r的一端被连接在电源Vsource上、另一端与4个第2导电环82各自连接。检测电路91的输入端连接在电阻r与4个第2导电环82之间的相互连接点92上，检测电路91的输出端连接在工艺控制器101上。

在检测电路91中，从电源Vsource经由电阻r流动有检测用的电流I。如图5A所示，在第1导电环81与第2导电环82未短路的状态下，电流I的值恒定。因此，相互连接点92的电位为恒定的值。

另外，如果举出电源Vsource的电位的一个例子，则是24V左右，如果举出电流I的一个例子，则是15mA左右。

如图5B所示，只要有一个第1导电环81与第2导电环82接触时，相互连接点92就会经由彼此接触的第1导电环81和第2导电环82而与接地点GND短路。因此，电流I从源Vsource朝向接地点GND流动，相互连接点92的电位发生变化，在本例中电位下降。检测电路91对该电位的下降进行检测，由此，能够对拾取器71的顶端接触到障碍物的情况进行检测。在检测电路91中，电压计、电流计、对电阻r的两端的电位差进行比较的比较器等、只要能够对相互连接点92的电位的下降进行检测的仪器就能够使用。检测电路91检测到相互连接点92的电位的下降时，将用于表示“接触到障碍物”的信号S向工艺控制器101发送。工艺控制器101接收到用于表示“接触到障碍物”的信号S时，工艺控制器101向输送装置7输出使拾取器71的前进停止的指令。输送装置7接收该指令，并使拾取器71的前进停止。此后，输送装置7使拾取器71后退。此后，进行这样的处置：或者使处理系统1停止，并使处理系统1处于能够进行障碍物的除去作业的状态，或者在存在多个处理室的情况下，使存在障碍物的处理室的使用暂时停止等。

另外，第1导电环81以及第2导电环82双方都是机械式的接点。因此，第1导电环81与第2导电环82接触时，有可能引起振动。引起振动时，相互连接点92的电位反复下降和上升，一边摆动一边渐渐地向接地电位无限接近。在引起振动的期间，检测电路91会反复发出上述信号S。

为了抑制这样的情况，例如，在持续达到多次的软件的控制周期(控制时钟的周期)地观测到电位的下降时，判断为拾取器71的顶端“接触到障碍物”即可。控制周期的一个例子是20ms。例如，在以20ms的控制周期持续2次以上观测到电位的下降时，检测电路91将上述信号S向工艺控制器101发送。或者也可以在工艺控制器101以20ms的控制周期持续2次以上连续接收到信号S时，工艺控制器101判断为拾取器71的顶端“接触到障碍物”。

另外，采用这样的判断方法，对于由前进后退时的振动、旋转时的离心力引起的第1导电环81与第2导电环82之间的瞬间的接触，也能够不判断为“接触到障碍物”。因此，还能够得到这种优点：传感器8的关于“障碍物的接触”的判断精度提高，能够抑制误检测。

这样，第1实施方式的输送装置的传感器8包括以接地的状态设在拾取器71的顶端的具有挠性的第1导电环81、设在第1导电环81内侧的第2导电环82。另外，传感器8包括检测器9，该检测器9用于在接地的第1导电环81由于与障碍物89接触而变形、从而接触到第2导电环82时，对第1导电环81与第2导电环82短路的情况进行检测。

采用这样的第1实施方式的输送装置，能够得到这种优点：即使在减压环境下，也能够对拾取器71的顶端接触到障碍物的情况进行检测。

(第2实施方式)

第2实施方式涉及能够抑制障碍物的破坏的输送装置的控制方法。

第2实施方式的输送装置的控制方法优选用作上述第1实施方式的输送装置的控制方法。

然而，第2实施方式的输送装置的控制方法不仅能够应用于上述第1实施方式的输送装置，只要是包括能够前进后退的、并用于支承输送体的支承构件(拾取器)、在该支承构件前进时对支承构件的顶端接触到障碍物的情况进行检测的传感器的输送装置，就能够应用。

在第2实施方式的输送装置的控制方法中，例如，在处理室中不存在输送体G时、存在输送体G时，拾取器71改变前进的速度、即在处理室中不存在输送体G时、存在输送体G时，改变利用滑动单元73对拾取器单元72进行的滑动控制。

图6是表示本发明的第2实施方式的输送装置的控制方法的一个例子的时间图。图6的纵轴表示拾取器71的滑动速度，横轴表示时间。

(在处理室中不存在输送体时)

例如，在处理室中不存在输送体G时，能够认为在拾取器71的前进场所“不存在障碍物”。因此，如图6的上方的波形所示，能够使拾取器71在从共用输送室内到处理室内的规定的位置、例如到处理室内的输送体G的交接位置的整个区间都以最高速度Vmax前进。

(在处理室中存在输送体时)

例如，在处理室中存在输送体时，能够认为在拾取器71的前进场所“有可能存在障碍物”。因此，在本例中，如图6的下方的波形所示，不使拾取器71从共用输送室到处理室内的输送体G的交接位置的整个区间以最高速度Vmax前进。在本例中，在被推定为“可能存在障碍物”的区间(下面，在本说明书中称为确认区间ii)中，使拾取器71的前进速度以被限制成小于最高速度的限制速度Vlmt为上限，以限制速度的方式使拾取器71前进。

更详细地如图6所示，在初期的位置、例如，从共用输送室内到确认区间ii的区间i，不进行速度限制地使拾取器71前进。因为在区间i中不进行速度限制，所以有时拾取器71的最高速度为Vmax。然而，在区间i较短时，如图6所示的一个例子那样，有时也在达到最高速度Vmax之前进入减速。

到进入确认区间ii以前，拾取器71被减速到限制速度Vlmt。在确认区间ii中，对拾取器71进行速度限制而使拾取器71以限制速度Vlmt前进。如果拾取器71的顶端接触到障碍物，则将速度从限制速度Vlmt降低到0，使拾取器71停止。此时，因为速度被限制，所以与速度未被限制时相比，到拾取器71停止的时间较短。

拾取器71通过确认区间ii之后，解除速度限制，使拾取器71前进到处理室内的输送体G的交接位置(区间iii)。在区间iii中，因为不进行速度限制，所以如图6所示的一个例子那样，有时拾取器71的最高速度也为Vmax。然而，在区间iii较短时，有时也在达到最高速度Vmax之前进入减速。

在图7中表示区间i、确认区间ii、区间iii的具体的一个例子。

如图7所示，在处理室3a的交接位置存在输送体G，并且，输送体G在交接位置被抬起，表示正在等待拾取器71的进入的状态。

区间i是从拾取器71退避到共用输送室4中的状态到确认区间ii的顶端的区间。

确认区间ii是被配置在交接位置的输送体G的靠共用输送室4侧的顶端前后的区间。将确认区间ii设为输送体G的靠共用输送室4侧的顶端前后的理由在于，假想将破裂了的输送体G作为障碍物。

区间iii是从确认区间ii的末端到交接位置的区间。

当然，上述的区间i、确认区间ii、区间iii各自的长度可根据输送体G的尺寸、共用输送室4、处理室3a的尺寸适当地变化。

然而，对于确认区间ii，被推定为“可能存在障碍物”的位置、例如从距被配置在交接位置的输送体G的靠共用输送室4侧的顶端90mm～100mm以前的位置到自同一个顶端朝向处理室3a的内侧50mm～60mm的位置，按长度来说可能可以设为约140mm～160mm。障碍物的一个例子是破裂了的输送体G。

采用这样的第2实施方式，在被推定为“可能存在障碍物”的确认区间ii中，使拾取器71的前进速度以被限制成小于最高速度的限制速度Vlmt为上限。因此，能够得到这样的优点：即使拾取器71的顶端接触到障碍物，也因为被限制成限制速度Vlmt，所以能够抑制障碍物的进一步的破坏。

另外，即使在传感器8判断为“接触到障碍物”的情况下，也因为拾取器71的前进速度被限制成限制速度Vlmt，所以能够在短时间内使拾取器71停止。

另外，在处理室中不存在输送体G时、存在输送体G时，改变利用滑动单元73对拾取器单元72的滑动控制，在处理室中不存在输送体G时，不限制拾取器71的速度。这样，能够得到这种优点：在处理室中不存在输送体G时，通过不限制拾取器71的速度，能够抑制利用输送装置7输送输送体G的输入时间的增大，能够将处理系统1的处理时间的增大抑制到最小限度。

上面，按照实施方式说明了本发明。但本发明并不限定于上述实施方式，能够进行各种变形。

例如，在上述第2实施方式中，例示了使拾取器71从共用输送室4进入处理室3a的例子，但也可以应用于使拾取器71从共用输送室4进入加载互锁室2移动的情况。

另外，在图1等中，表示在传感器8的上方重叠有输送体G的状态，其原因在于，传感器8是用于对拾取器71的顶端接触到破裂了的输送体G的情况进行检测的传感器。因此，在输送体G被支承在拾取器71上的状态下，输送体G既可以重叠在传感器8的上方，当然，也可以不重叠。

另外，本发明能够在不脱离其主旨的范围内进行各种各样的变形。

Claims

1.一种输送装置，其用于对输送体进行输送，其特征在于，

其包括：

支承构件，其能够前进后退，用于支承上述输送体；

传感器，其用于在上述支承构件前进时、对上述支承构件的顶端接触到障碍物的情况进行检测；

上述传感器包括：

第1导电环，其以接地的状态设在上述支承构件的顶端，并具有挠性；

第2导电环，其以与上述第1导电环分开的方式设在上述第1导电环的内侧；

检测器，其用于在上述第1导电环与上述障碍物接触而变形并接触到上述第2导电环时、对上述第1导电环与上述第2导电环短路的情况进行检测。

2.根据权利要求1所述的输送装置，其特征在于，

上述第2导电环具有挠性。

3.根据权利要求1或2所述的输送装置，其特征在于，

在上述第2导电环的上部设有朝向外侧延伸的电接触端子；

该输送装置还包括：

基座，其具有凸部，该基座被安装在上述支承构件的顶端；

绝缘性保持构件，其用于以使上述第1导电环与上述第2导电环彼此绝缘的状态、并且使上述第1导电环与上述第2导电环彼此分开的状态对上述第1导电环与上述第2导电环进行保持；

检测端子，其一端连接于上述检测器；

上述第1导电环以及上述第2导电环以这样的状态安装在上述支承构件的顶端：用上述基座的凸部与上述绝缘性保持构件夹住上述第1导电环的侧面的一部分，将上述电接触端子放在上述绝缘性保持构件的上表面上，并且使上述第2导电环的侧面与绝缘性保持构件抵接；

上述检测端子的另一端与上述电接触端子抵接。

4.根据权利要求3所述的输送装置，其特征在于，

上述支承构件被接地，并且上述基座具有导电性。

5.根据权利要求3或4所述的输送装置，其特征在于，

上述检测器对上述检测端子的一端的电位的变化进行检测，并对上述第1导电环与上述第2导电环短路的情况进行检测。

6.一种处理系统，其包括：

共用输送室；

处理室，其与上述共用输送室连接，用于对被处理体实施处理；

输送装置，其配置在上述共用输送室中，用于对上述被处理体进行输送；

该处理系统的特征在于，

上述输送装置使用权利要求1至5中的任意一项所述的输送装置。

7.根据权利要求6所述的处理系统，其特征在于，

上述处理室以及上述输送室构成为能够使内部处于减压状态的气密容器。

8.根据权利要求6或7所述的处理系统，其特征在于，

上述处理室用于对上述被处理体进行热处理。

9.一种输送装置的控制方法，其是用于对上述输送体进行输送的输送装置的控制方法，该输送装置包括：能够前进后退并用于支承输送体的支承构件、用于在上述支承构件前进时对上述支承构件的顶端接触到障碍物的情况进行检测的传感器，该输送装置的控制方法的特征在于，其包括以下步骤：

使上述支承构件以第1速度朝向规定的位置前进；

在被设定在上述规定的位置跟前的、用于对上述障碍物的有无进行确认的确认区间，使上述支承构件以比上述第1速度慢的第2速度朝向上述规定的位置前进；

通过上述确认区间之后，使上述支承构件以比上述第2速度快的第3速度朝向上述规定的位置前进。

10.根据权利要求9所述的输送装置的控制方法，其特征在于，

上述传感器使用权利要求1至5中的任意一项所述的传感器。