CN102236250A - 防尘薄膜组件用粘着剂 - Google Patents
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Abstract
本发明的课题是选定一种粘着剂,该粘着剂在防尘薄膜组件的异物检测时,不会发生由于光在粘着剂中反射或折射产生杂散光而发生误检。本发明的防尘薄膜组件至少由防尘薄膜以及防尘薄膜组件框架组成,在所述防尘薄膜组件框架的一个端面,贴附有所述防尘薄膜,在所述防尘薄膜组件框架的另一个端面,设有用来将所述防尘薄膜组件贴附于玻璃基板的粘着剂,在所述粘着剂上表面,设置有可剥离片,所述防尘薄膜组件用粘着剂的特征在于:其全光线透过率为不大于70%。本发明的防尘薄膜组件用粘着剂优选为黑色。
Description
技术领域
本发明涉及在制造半导体器件、印刷电路板以及液晶显示器等时的作为光刻用掩模的除尘器而使用的光刻用防尘薄膜组件的制造方法,特别是涉及防尘薄膜组件框架的粘着剂。
背景技术
在LSI(大规模集成电路)、超LSI(超大规模集成电路)或液晶显示器等的制造中,用光对半导体晶圆、液晶用原板进行照射来制作图案。如此时所用的光掩模或中间光掩模(在本说明书中统称为光掩模)上附着有异物,不仅会使转印在半导体晶片或液晶用原板上的图案发生边缘部分不鲜明,而且还会造成背景赃污,尺寸、质量和外观受损。
由此,半导体晶片或液晶用原板的曝光是在无尘室里进行的。但即使如此,也难于完全防止异物附着于光掩模表面。故通常是采用这样一种构成,即在光掩模的表面安装对曝光用光具有高透过率的、被称为防尘薄膜组件的防尘罩,然后对半导体晶片或液晶用原板进行曝光。在此场合,异物就不会直接附着在光掩模上,而是附着在防尘薄膜组件上,如此,在进行光刻时,只要使焦点对准光掩模上的图案即可,防尘薄膜组件上的异物就与转印无关系了。
通常,防尘薄膜组件,是通过在防尘薄膜组件框架的上端面粘贴防尘薄膜,并在防尘薄膜组件框架的下端面形成用以粘附于光掩模的粘着剂层,且在粘着剂层上设置保护该粘着剂层用的分离层(分离部)而制成。所述防尘薄膜是由对曝光用光具有高透过率的硝化纤维素、醋酸纤维素等纤维素类树脂或氟树脂等制成。该防尘薄膜组件框架是由铝、不锈钢、聚乙烯等所形成。将该防尘薄膜粘贴于防尘薄膜组件框架的方法为:在防尘薄膜组件框架的上端面涂布防尘薄膜材料的易溶溶剂,并将所述防尘薄膜风干后进行粘贴(参照专利文献1),或者利用丙烯酸树脂、环氧树脂或氟树脂等的粘合剂进行粘贴(参照专利文献2以及专利文献3)。所述粘着剂层是由聚丁烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、丙烯酸树脂、硅树脂等所构成。
在使用防尘薄膜组件时,将分离层揭掉,在粘着剂层上施加向着光掩模的压力,直至压紧,由此将防尘薄膜组件粘贴在光掩模上。照射光而制作图案的工序是使防尘薄膜组件冲下而进行,这样而成的机构最长可使用数年。
但是,在将防尘薄膜组件贴附于光掩模之后,要对异物进行检查,在将防尘薄膜组件贴附于光掩模的粘着剂为透明的场合,异物检查机会发生误检,特别是在防尘薄膜组件附近更是如此。这是因为从异物检查用光源照射的光在粘着剂的内部以及表面被反射以及折射成为杂散光而射入检测器,检测器将该散光误认为是异物造成的,结果误测为有异物存在。
这样一来,尽管实际上在防尘薄膜组件上以及光掩模上都没有异物,但是检查机却判断为有异物存在,从而将产品判定为不合格。
专利文献1:日本特开昭58-219023号公报
专利文献2:美国专利第4861402号说明书
专利文献3:日本特公昭63-27707号公报
本发明就是鉴于上述情况而作出的,本发明的课题就是选定一种粘着剂,该粘着剂在防尘薄膜组件的异物检测时,不会发生光在粘着剂中由于反射折射产生杂散光,从而发生误检的问题。
发明内容
本发明内容如下:
1.一种防尘薄膜组件用粘着剂,所述防尘薄膜组件至少由防尘薄膜以及防尘薄膜组件框架组成,在所述防尘薄膜组件框架的一个端面,贴附有所述防尘薄膜,在所述防尘薄膜组件框架的另一个端面,设有用来将所述防尘薄膜组件贴附于玻璃基板的粘着剂,在所述粘着剂上表面,设置有可剥离片,所述防尘薄膜组件用粘着剂的特征在于:其全光线透过率为不大于70%。
2.如上述1所述的防尘薄膜组件用粘着剂,优选其为黑色。
根据本发明,由于将防尘薄膜组件贴附于光掩模的粘着剂的全光线透过率设定在70%以下,特别是在防尘薄膜组件框架附近,在进行光掩模检查时,由于没有异物检查用的光在粘着剂中反射、折射而成为杂散光入射到异物检查器中,所以可以抑止异物的误检,从而防止了成品率的下降。另外,粘着剂为黑色可以抑止异物检查用光在粘着剂表面的反射,由此防止了成品率的下降。
附图说明
附图为本发明的防尘薄膜组件的一个实施例的示意图。
具体实施方式
以下参照附图对本发明进行详细说明,但是本发明发明并不限于此。
附图为本发明的防尘薄膜组件的一个实施例的示意图。
在本发明的防尘薄膜组件10中,为了在与贴附防尘薄膜组件10的基板(光掩模或其玻璃基盘部分)的形状相对应的通常的四角框状(长方型框状或正方形框状)的防尘薄膜组件框架的上端面上绷紧贴附防尘薄膜11,在防尘薄膜组件框架的下端面,形成有为了将防尘薄膜组件贴附于基板上的粘着剂13。进一步,在粘结剂13的下端面贴附用来保护粘着剂13的,可剥离的分离膜(分离层)14。
在本发明中,对防尘薄膜的材质没有什么特别的限定,可以使用已知的例如硝化纤维素、醋酸纤维素或者氟树脂等的良好透光的材料即可。
在本发明中,对防尘薄膜组件框架的材质也没有特别的限定,可使用已知的例如铝、不锈钢等的金属以及聚乙烯等的合成树脂等。
在本发明中,粘着剂层在防尘薄膜组件框架的下端面以规定宽度(通常,于防尘薄膜组件框架的宽度相等或其以下)设置,使防尘薄膜组件框架的四周全部贴附于基板上。
作为所述粘着剂,可以使用已知的物质,例如可以使用聚丁烯类粘着剂、聚乙酸乙烯酯粘着剂、硅类粘着剂、丙烯酸类粘着剂等。
粘着剂的全光线透过率优选70%以下。全光线透过率的数值是用雾度测定仪(ヘ一ズメ一タ)HG M-2(气体实验株式会社制,商品名)对粘着剂进行测定的数值。如果全光线透过率大于70%,从异物检查机射出的光在粘着剂的内部进行反射,折射,成为杂散光,入射到检查器中,错误地检测为有异物存在。进一步,为了抑制在粘着剂的表面发生的反射光,粘着剂以黑色为佳。
将粘着剂的全光线透过率抑制到70%以下,可以通过添加气相二氧化硅(fumed silica)、结晶性二氧化硅、沉降性二氧化硅、中空填料、二氧化钛、氧化镁、氧化锌、氢氧化铝、氢氧化镁、碳酸镁、碳酸钙、碳酸锌、层状云母、硅藻土、玻璃纤维等进行。黑色化可以通过添加黑色化剂来进行,黑色化剂为碳黑、以及氧化铁等的黑色颜料或染料等来进行。上述填料以及黑色化剂的添加量要不使粘着剂的性能变低。
粘着剂层的形成是在防尘薄膜组件框架上的涂布,是根据需要将粘着剂用溶剂进行稀释,然后涂布在防尘薄膜组件框架的下端,然后进行加热干燥,硬化而进行。在此场合,粘着剂的涂布方法,可以列举毛刷涂布、喷雾涂布、自动定量涂布等方法。
离型片(分离片)是用来保护粘着剂而设置的。在防尘薄膜组件的使用时将其剥掉,因此,离型膜(分离膜)是在防尘薄膜组件使用前,有必要对粘着剂进行保护的场合,来设置的。防尘薄膜组件产品,一般来说,是以贴附有离型膜(分离膜)的形式来进行流通的。
离型片(分离片)的材质没有特别的限制,可以使用已知的材料。另外,将离型膜(分离膜)贴附于粘着剂的方法,可以使用已知的方法,只要能将离型膜(分离膜)贴附于粘着剂上即可。
实施例
以下,用实施例以及比较例对本发明进行具体说明,但是本发明并不限于这些实施例。
实施例1
首先,制作防尘薄膜组件框架,将外尺寸为782×474mm,内尺寸为768×456mm,高为5.0mm的框架的两端面的内外两周缘部进行楞角切削加工(R加工),由此,制得框架的两端面的平坦面的宽度为4.0mm,角部的内半径为2.0mm,外卜半径为6.0mm的铝合金防尘薄膜组件框架,并且将其表面进行黑色氧化铝膜处理。
将该防尘薄膜组件框架搬入无尘室,用中性洗剂以及纯水进行充分洗涤并干燥。
作为全光线透过率为70%以下的粘着剂,是在100质量份硅粘着剂X-40-3122(信越化学工业株式会社制,商品名)中,加入气相二氧化硅(fumedsilica)Musil-120A(信越化学工业株式会社制,商品名),并进行混合调制。此后,将调制的粘着剂涂布在防尘薄膜组件框架的下端面。
然后,将粘着剂风干,直至不流动为止,进一步,用高频感应加热器(未图示),将防尘薄膜组件框架加热到130℃,使粘着剂硬化。
另外,在防尘薄膜组件框架的上端面上,施以硅粘着剂KR-3700(信越化学工业株式会社制,商品名),在其上,贴附防尘薄膜,用刀切除外侧的多余膜,完成防尘薄膜组件的制作。
实施例2
除了在100质量份硅粘着剂X-40-3122(信越化学工业株式会社制,商品名)中,添加0.3质量份的黑色碳膏(カ一ボンペ一スト)K-LIMS彩色-02(信越化学工业株式会社制,商品名),进行混合调制以外,与实施例1同样进行防尘薄膜组件的制作。
实施例3
除了在100质量份硅粘着剂X-40-3122(信越化学工业株式会社制,商品名)中,添加3质量份的黑色氧化铁膏(ペ一スト)K-彩色-FE035(信越化学工业株式会社制,商品名),进行混合调制以外,与实施例1同样进行防尘薄膜组件的制作。
实施例4
除了在100质量份丙烯酸粘着剂SK-1425(综研化学株式会社制,商品名)中,添加0.3质量份的黑色膏(カ一ボンペ一スト)LIMS彩色-02(信越化学工业株式会社制,商品名),进行混合调制以外,与实施例1同样进行防尘薄膜组件的制作。
比较例
除了原封不动地使用硅粘着剂X-40-3122(信越化学工业株式会社制,商品名)之外,与实施例1同样进行防尘薄膜组件的制作。
实施例与比较例的评价结果列于表1。
外观:
对上述实施例1至4以及比较例中调制的粘着剂的外观颜色进行肉眼观察。
全光线透过率:
使在实施例1-4以及比较例中制作的粘着剂硬化,制成50×50×2mm的片状,用雾度测定仪(ヘ一ズメ一タ)H G M-2(气体实验株式会社制,商品名)进行全光线透过率的测定。
异物检测:
对实施例1-4以及比较例中制作的防尘薄膜组件的防尘薄膜上的异物进行了观察。对是否有异物的误检,通过改变异物检查用光源的照射角度进行了观察。
表
实施例1 | 实施例2 | 实施例3 | 实施例4 | 比较例4 | |
粘着剂的外观颜色 | 乳白色 | 黑色 | 黑色 | 黑色 | 无色透明 |
全光线透过率(%) | 50 | 0 | 0 | 0 | 90 |
异物检查 | 无误检 | 无误检 | 无误检 | 无误检 | 有误检 |
综合评价 | 合格 | 合格 | 合格 | 合格 | 不合格 |
从上表的结果可以确认到:通过使用本发明的粘着剂,避免了异物的误检,防止了产品合格率的下降。
Claims (2)
1.一种防尘薄膜组件用粘着剂,所述防尘薄膜组件至少由防尘薄膜以及防尘薄膜组件框架组成,在所述防尘薄膜组件框架的一个端面,贴附有所述防尘薄膜,在所述防尘薄膜组件框架的另一个端面,设有用来将所述防尘薄膜组件贴附于玻璃基板的粘着剂,在所述粘着剂上表面,设置有可剥离片,所述防尘薄膜组件用粘着剂的特征在于:其全光线透过率为不大于70%。
2.如权利要求1所述的防尘薄膜组件用粘着剂,其为黑色。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010107398 | 2010-05-07 | ||
JP2010-107398 | 2010-05-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102236250A true CN102236250A (zh) | 2011-11-09 |
CN102236250B CN102236250B (zh) | 2014-05-21 |
Family
ID=44887034
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201110117241.0A Active CN102236250B (zh) | 2010-05-07 | 2011-05-05 | 防尘薄膜组件 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110275012A1 (zh) |
JP (1) | JP2011253176A (zh) |
KR (1) | KR20110123661A (zh) |
CN (1) | CN102236250B (zh) |
HK (1) | HK1166376A1 (zh) |
TW (1) | TW201209128A (zh) |
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CN107642607A (zh) * | 2017-08-16 | 2018-01-30 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 治具、密封组件的安装结构及其分离方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011253176A (ja) | 2011-12-15 |
HK1166376A1 (zh) | 2012-10-26 |
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CN102236250B (zh) | 2014-05-21 |
US20110275012A1 (en) | 2011-11-10 |
KR20110123661A (ko) | 2011-11-15 |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
REG | Reference to a national code |
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