CN101937169A - 光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法以及涂布装置 - Google Patents

光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法以及涂布装置 Download PDF

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Abstract

本发明的课题在于提供能够通过良好的浸湿来形成均匀抗蚀膜的光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法以及涂布装置。本发明所述的光掩模坯料的制造方法包括：利用涂布装置所具备的喷嘴(22)的毛细管现象使抗蚀液(21)上升，使上升后的抗蚀液(21)浸湿基板(10)的朝向下方的被涂布面(10a)，并使喷嘴(22)和基板(10)相对移动而在被涂布面(10a)形成抗蚀膜，其中，当进行浸湿时，使喷嘴的一端比另一端更接近被涂布面，由此使所述喷嘴内的所述涂布液在所述喷嘴的一端最初浸湿被涂布面，并以所述最初浸湿的点作为浸湿起点，遍及一定长度的喷嘴的全长进行浸湿作业。

Description

光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法以及涂布装置
技术领域
本发明涉及经过在基板的表面涂布抗蚀膜的工序制造的光掩模坯料的制造方法、采用该光掩模坯料制造的光掩模的制造方法、以及涂布装置。
背景技术
以往，作为将光致抗蚀剂等涂布液涂布于光掩模坯料用基板或硅晶片等基板的涂布装置(Coater)公知有旋转涂布机(spin coater)。旋转涂布机在基板的中央滴下涂布液，接着使基板高速旋转而在离心力的作用下使涂布液伸展，从而在基板表面形成涂布膜。
然而，上述旋转涂布机存在会在基板的周缘部产生被称为抗蚀剂边缘(fringe)的隆起的问题。特别地，在液晶显示装置或者液晶显示装置制造用的光掩模中，需要在大型基板(例如至少一边为300mm以上的方形基板)上涂布抗蚀剂，进一步，随着近年来的图案的高精度化和基板尺寸的大型化，希望开发在大型基板上涂布均匀的抗蚀膜的技术。
作为用于解决上述课题的一个对策，作为采用了在大型基板上涂布均匀的抗蚀膜的技术的装置提供被称为CAP涂布机(毛细管涂布机，Capillary Coater)的涂布装置(例如参照作为日本国特许公开公报的日本特开2004-327963号公报(专利文献1))。该CAP涂布机预先使具有毛细管状间隙的喷嘴沉入于贮存涂布液的液槽中，使喷嘴上升到以被涂布面朝向下方的姿态由吸盘保持的基板的该被涂布面附近的同时从毛细管状间隙浸湿(接液)涂布液，接着使喷嘴遍及被涂布面相对扫描，从而形成涂布膜。
具体地说，使处于完全沉入抗蚀液充满至预定高度的液槽的抗蚀液中的状态下的喷嘴与液层一起上升到被涂布基板的下方。接着，控制部使液槽的上升暂时停止，仅使喷嘴从液槽突出。此处，由于喷嘴完全沉入抗蚀液中，因此毛细管状间隙中充满了抗蚀液。即，喷嘴在直到毛细管状间隙的末端都充满了抗蚀液的状态下上升。
接着，控制部使仅喷嘴上升的动作停止，再次使液槽和喷嘴一起上升，由此，使抗蚀液浸湿光掩模坯料的被涂布面。即，控制部使充满于喷嘴的毛细管状间隙的抗蚀液与被涂布面接触。这样，在抗蚀液浸湿光掩模坯料的被涂布面的状态下，使液槽和喷嘴一起下降到涂布高度的位置，并且使光掩模坯料移动并使喷嘴遍及被涂布面整体进行扫描，由此形成抗蚀膜。
如果采用上述CAP涂布机，则不会在基板的周缘部产生抗蚀剂的边缘，能够解决以往的旋转涂布机的问题点。
但是，在以往的CAP涂布机中，相对于作为抗蚀膜涂布对象的基板，使沿着与涂布动作的移动方向正交的宽度方向的长度延伸设置的喷嘴接近基板的被涂布面的涂布开始位置并使抗蚀剂浸湿该被涂布面。即，当进行抗蚀液的浸湿作业时，意图使遍及基板的宽度方向存在的抗蚀液大致同时从喷嘴浸湿基板的被涂布面。
但是，在利用上述方法使抗蚀剂浸湿基板的被涂布面的情况下，难以在遍及基板的宽度方向的整个区域中同时使抗蚀剂浸湿。特别地，在液晶显示装置用的基板或液晶显示装置制造用的光掩模中，基板的大型化急速发展，伴随于此，被涂布面的直线状的浸湿部的长度成为数百mm、或者超过1000mm的尺寸。当使抗蚀液浸湿具有这种浸湿部的基板时，抗蚀液在基板的宽度方向的多处浸湿之后，从这些浸湿点开始，浸湿状态依次沿基板的宽度方向扩大。
这样，在抗蚀液在多处浸湿的情况下，当从相邻的两个浸湿点扩大的浸湿区域彼此碰撞时，存在气泡混入该碰撞的浸湿部分的问题。在气泡混入浸湿部分的状态下，当使基板和喷嘴相对移动而在该基板的被涂布面整体涂布抗蚀剂时，会由于混入气泡的部分导致在抗蚀膜的表面产生线状痕，难以形成均匀的抗蚀膜。进一步，发明人发现：对于浸湿区域彼此的碰撞，抗蚀液量在该碰撞部分局部地增加或者减少，如果在该状态下基板和喷嘴相对移动，则仍然会产生线状痕、或者产生膜厚不均匀的情况。
另外，为了抑制这种浸湿部分的不稳定，作为防止形成多个浸湿起点的方法，本申请人研究了在被涂布面设置形成浸湿起点的单个突起等方法。但是，进一步发现需要对浸湿举动进行精密控制。例如，由于基于抗蚀液的组成造成的物性或环境温度的不同，浸湿时所需的被涂布面和涂布喷嘴的最佳空隙不同。因此，期望能够将浸湿空隙控制成期望值。进一步，期望在光掩模坯料或光基板不残留用于进行浸湿的设置，进一步，期望在光掩模不残留除去用于进行浸湿的设置后的痕迹。因此，在设置形成浸湿起点的方法中也不能完全消除不良情况。
发明内容
本发明就是鉴于上述各点而做出的，其目的在于提供能够通过良好的浸湿形成均匀的抗蚀膜的光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法以及涂布装置。
为了解决上述课题，本发明的特征在于具有以下结构。
即，本发明的光掩模坯料的制造方法的特征在于，经过下述工序得到光掩模坯料：利用毛细管现象使抗蚀液上升到涂布装置所具备的喷嘴的沿着长度方向开口的上端部，使上升到上述喷嘴的上端部的上述抗蚀液浸湿基板的朝向下方的被涂布面，并使上述喷嘴和上述基板沿着与上述喷嘴的长度方向正交的方向相对移动，在上述被涂布面形成抗蚀膜，其中，当进行上述浸湿时，使上述喷嘴的上端部的长度方向的一端比该上端部的长度方向的另一端更接近上述被涂布面，由此使上升到上述喷嘴的上端部的上述抗蚀液从上述喷嘴的上端部的长度方向的一端先浸湿上述被涂布面，以上述抗蚀液最初浸湿上述被涂布面的上述喷嘴的上端部的长度方向的一端作为浸湿起点，遍及上述喷嘴的上端部的长度方向的涂布面宽度方向全长进行浸湿。
根据该方法，抗蚀液能够在涂布开始线的一端的一处浸湿起点最初浸湿基板的被涂布面，由此，能够防止在多处浸湿的情况下产生的气泡混入抗蚀膜的情况。由此，能够再现性良好、且可靠地形成没有线状痕和膜厚变动的抗蚀膜。
在本发明中，优选当进行上述浸湿时，使上述喷嘴的长度方向的一端朝上述被涂布面上升，进行上述浸湿起点的浸湿后使上述上升了的上述喷嘴的长度方向的一端下降。
根据该方法，由于能够使朝被涂布面上升后的长度方向的一端下降，使被涂布面与喷嘴的长度方向保持平行，因此能够容易地将喷嘴调整至适合进行涂布动作的距离(涂布空隙)，因此是优选的。
并且，本发明的光掩模的制造方法的特征在于，光掩模的制造方法包含以下工序：准备在透明基板上具有遮光膜、且在上述遮光膜上形成有抗蚀膜的带抗蚀膜的光掩模坯料的工序；在上述带抗蚀膜的光掩模坯料的抗蚀膜上描绘图案、并进行显影而形成抗蚀图案的工序；以及以上述抗蚀图案作为掩模对该遮光膜进行刻蚀处理的工序，其中，上述带抗蚀膜的光掩模坯料利用上述的光掩模坯料的制造方法制造。
根据该方法，抗蚀液在一处浸湿起点浸湿基板的被涂布面，由此能够防止在多处浸湿的情况下产生的气泡混入抗蚀膜的情况或者膜厚变动。由此，能够形成没有线状痕的抗蚀膜。因此，在由均匀的抗蚀膜制造的光掩模中，能够得到相对于目标图案的误差小的金属遮光膜图案。
并且，本发明的涂布装置的特征在于，涂布装置具备：保持单元，该保持单元将具有被涂布面的基板保持为能够装卸；液槽，该液槽贮存抗蚀液；喷嘴，该喷嘴利用毛细管现象使贮存在上述液槽中的抗蚀液上升到该喷嘴的沿着长度方向开口的上端部；升降单元，该升降单元使上升到上述喷嘴的上端部的上述抗蚀液相对于由上述保持单元保持的基板的被涂布面进退；以及移动单元，在维持使上升到上述喷嘴的上端部的上述抗蚀液浸湿上述基板的被涂布面的状态的状态下，该移动单元使上述喷嘴和上述基板沿着与上述喷嘴的长度方向正交的方向相对移动，当进行上述浸湿时，使上述喷嘴的上端部的长度方向的一端比该上端部的长度方向的另一端更接近上述被涂布面，由此使上升到上述喷嘴的上端部的上述抗蚀液从上述喷嘴的上端部的长度方向的一端先浸湿上述被涂布面，以上述抗蚀液最初浸湿上述被涂布面的上述喷嘴的上端部的长度方向的一端作为浸湿起点，遍及上述喷嘴的上端部的长度方向的涂布面宽度方向全长进行浸湿。
进一步，上述涂布装置还具有控制单元，该控制单元对上述喷嘴的升降动作进行控制，使上述喷嘴的上端部的长度方向的一端部上升预定量，仅以上述喷嘴的上端部的长度方向的一端作为浸湿起点，遍及上述喷嘴的上端部的长度方向的涂布面宽度方向全长进行浸湿作业后，使该上端部的一端部下降。
根据该结构，当开始涂布时，在喷嘴的一端，抗蚀液能够可靠地在一处浸湿起点浸湿基板的被涂布面。因此，能够防止抗蚀液在多处浸湿的情况下产生的气泡混入抗蚀膜的情况。由此，能够形成没有线状痕、且膜厚分布小的抗蚀膜。
根据本发明，能够提供能够通过良好的浸湿形成均匀的抗蚀膜的光掩模坯料、光掩模以及它们的制造方法和涂布装置。
附图说明
图1是示出本发明的实施方式所涉及的涂布装置的侧视图。
图2(a)是示出图1的涂布装置的涂布单元的结构的剖视图，(b)是从(a)所示的箭头A方向观察的涂布单元的涂布喷嘴附近的概要图。
图3是示出图2的涂布单元的涂布喷嘴的结构的放大剖视图。
图4是示出图1的涂布装置的结构的主视图。
图5是示出基板和涂布喷嘴的俯视图。
图6是示出基板和涂布喷嘴的主视图。
图7是示出基于本发明的光掩模坯料的制造工序的流程图。
图8是示出基于本发明的光掩模的制造工序的流程图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的一个实施方式进行详细说明
(第一实施方式)
图1是示出本发明的一个实施方式所涉及的涂布装置的结构的侧视图。如图1所示，该涂布装置1具备：底座11；涂布单元2，该涂布单元2设置于该底座11；移动框12，该移动框12以移动自如的方式支承在底座11上，并由移动单元4操作而在水平方向移动；吸附单元3，该吸附单元3设于该移动框12，用于吸附基板10；以及保持单元5，该保持单元5将基板10保持为装卸自如。这些涂布单元2、吸附单元3、移动单元4以及保持单元5由未图示的控制部控制。另外，该控制部能够对后述的喷嘴升降单元的驱动进行控制。
在本实施方式中，基板10是在透明基板上形成有遮光膜(金属铬膜或者在该铬膜上层叠有铬氧化物、氮化物等的层的膜)的光掩模坯料(尺寸：1220mm×1400mm)，涂布装置1是用于在该透明基板10的遮光膜表面涂布抗蚀剂而形成抗蚀膜的装置。对于形成有该抗蚀膜的光掩模坯料，在随后的描绘工序中在抗蚀膜上描绘图案，进一步利用显影工序形成抗蚀图案，并以该抗蚀图案作为掩模，经过该遮光膜的刻蚀工序等形成光掩模。当然，也可以在光掩模坯料上还具有其他功能性的膜。
图2(a)是示出该涂布装置1中的涂布单元2的结构的剖视图。如图2(a)所示，涂布单元2构成为：利用涂布喷嘴22的毛细管状间隙23中的毛细管现象使贮存于液槽20的液体状的抗蚀液21上升，使涂布喷嘴22的上端部接近基板10的朝向下方的被涂布面10a，并使在涂布喷嘴22的作用下上升的抗蚀液21经由该涂布喷嘴22的上端部浸湿被涂布面10a。
即，该涂布单元2具有用于贮存液体状的抗蚀液21的液槽20。该液槽20至少具有相当于基板10的横(宽度)方向、即与如后所述利用移动框12移动的方向正交的方向的一边的长度的长度(在图2(a)中为与纸面正交的方向)。该液槽20以能够沿上下方向移动的方式安装并支承于支承板24的上端侧。进而，该液槽20由未图示的驱动机构操作着相对于支承板24沿上下方向移动。
并且，支承板24的下端侧经由彼此正交地配置的直线导轨(linearway)25、26支承在底座11的底部框架72上。即，该支承板24能够在底部框架72上向正交的两个方向进行位置调整。
用于支承涂布喷嘴22的支承柱28经由滑动机构27安装于支承板24，上述涂布喷嘴22被收纳在液槽20内。
图2(b)是从图2(a)所示的箭头A方向观察涂布装置1中的液槽20以及吸附单元3的附近的概要图，示出涂布喷嘴22的上端部从液槽20朝基板10侧突出的状态。如该图所示，涂布喷嘴22具有与基板10的横向(与基板移动方向正交的方向)的长度相当的长度。这样，多个支承柱28a～28c在长度方向的多处支承长尺寸的涂布喷嘴22。图2(b)中示出在涂布喷嘴22的长度方向的一端部、中央部、另一端部利用能够分别独立驱动地设置的三个支承柱28a～28c进行支承的结构。滑动机构27构成为：能够驱动三个支承柱28a～28c同时升降，并且，在后述的浸湿时能够仅驱动喷嘴一端部的支承柱28a侧上升和下降。例如，滑动机构27作为驱动源还可以具备能够利用脉冲数精密地控制驱动量的步进电动机。未图示的控制部对步进电动机指示脉冲数而高精度地控制涂布喷嘴22的升降距离。
图3是示出该涂布装置1中的涂布单元2的主要部分的结构的剖视图。如图3所示，支承柱28的上端侧经由设在液槽20的底面部的透孔20b进入该液槽20内。进而，在该支承柱28的上端部安装有涂布喷嘴22。该涂布喷嘴22由支承柱28支承，并被收纳在液槽20内。该涂布喷嘴22构成为具有至少与基板10的横(宽度)方向的长度相当的长度(在图3中为与纸面正交的方向)，且沿着该长度方向具有狭缝状的毛细管状间隙23。该涂布喷嘴22夹着该毛细管状间隙23形成为尖锐的截面形状。毛细管状间隙23的上端部在涂布喷嘴22的上端部遍及该涂布喷嘴22的大致全长呈狭缝状地开口。并且，该毛细管状间隙23还朝向涂布喷嘴22的下方侧开口。
滑动机构27(图2)根据控制部的控制利用未图示的驱动机构使支承柱28相对于支承板24沿上下方向移动。即，液槽20和涂布喷嘴22能够彼此独立地相对于支承板24沿上下方向移动。
在液槽20的上表面部设有用于使涂布喷嘴22的上端侧从该液槽20的上方侧突出的透孔部20a。另外，液槽20的底面部的透孔20b的周围部和涂布喷嘴22的底面部由波纹管29相连，以防止抗蚀液21从该透孔20b泄漏。
在图1中，移动框12是经由吸附单元3吸附保持基板10、并使该基板10相对于涂布单元2沿水平方向移动的机构。该移动框12通过对置的一对侧板和连结这些侧板的顶板一体地连结而构成，且具有足够的机械强度，以免由于刚性不足而导致基板10和涂布单元2之间的位置精度失调。
该移动框12经由设置在底座11上的直线导轨41由底座11支承，且能够在该底座11上沿水平方向移动。并且，在该移动框12的一方的侧板上安装有移动部件13。在该移动部件13形成有螺母部。安装于底座11的构成移动单元4的滚珠丝杠42螺合于该移动部件13的螺母部。
进而，在该移动框12的顶板的大致中央部安装有吸附单元3，该吸附单元3具有未图示的穿设有多个吸附孔的吸附板，并吸附基板10。
移动单元4由滚珠丝杠42和电动机43构成，该滚珠丝杠42螺合于移动部件13的螺母部，该电动机43对滚珠丝杠42进行操作而使其旋转。在该移动单元4中，电动机43根据控制部的控制被驱动，从而使滚珠丝杠42旋转。通过基于控制部的控制，滚珠丝杠42朝预定的方向旋转预定的转数，由此，移动部件13被操作着伴随着移动框12朝预定的方向水平移动预定的距离。
另外，吸附单元3与涂布单元2之间的垂直方向的位置(高度)精度，由直线单轨41与吸附单元3之间的距离(高度)的误差、直线单轨41与涂布单元2之间的距离(高度)的误差以及直线导轨41自身的形状误差决定。
保持单元5是用于首先以大致垂直地倾斜的状态保持从该涂布装置外搬入的基板10(在图1中以虚线表示)、然后使基板10成为水平状态、并将该基板10交接至安装于移动框12的吸附单元3的机构。并且，该保持单元5是用于从吸附单元3接收通过涂布单元2进行完抗蚀剂的涂布后的基板10并将其保持为水平状态、然后使该基板10成为大致垂直地倾斜状态、并将该基板10搬出涂布装置外的机构。
图4是示出涂布装置1的结构的主视图。另外，在本实施方式中，设涂布装置1的基板10的搬入侧为正面。如图1和图4所示，该保持单元5具有基座板69和转动板65，该转动板65被支承为能够在该基座板69上在水平状态和大致垂直地倾斜的状态之间转动。
进而，该保持单元5在转动板65上具备4个保持部件55，这4个保持部件55分别经由直线导轨64、一对导轨63以及直线导轨62固定于保持板61。这些保持部件55保持基板10的四个角的周缘部。
在各个保持部件55的附近设有未图示的按压单元，以免安置于保持部件55的基板10从保持部件55脱落。该按压单元由例如能够上下动作且能够朝水平方向转动的压板构成。该按压单元朝保持部件55侧按压被安置于保持部件55的基板10。
保持板61经由直线导轨62在一对导轨63上分别配设有两个，上述导轨63配设于图1中箭头Y表示的与底座11上的直线导轨41平行的方向。靠近涂布单元2侧的2个保持板61能够由具有滚珠丝杠和电动机的未图示的驱动单元操作而沿图1中箭头Y方向移动。由此，即便是在基板10的纵向尺寸不同的情况下，也能够利用该驱动单元使2个保持板61沿Y方向移动，能够使各个保持部件55与基板10的四个角的周缘部对置。
并且，一对导轨63经由直线导轨64在各自的两端部安装于转动板65，上述直线导轨64配设于图1中箭头X表示的与底座11上的直线导轨41正交的方向。这些导轨63能够在具有滚珠丝杠和电动机的未图示的驱动单元的作用下沿图1中箭头X方向移动。由此，即便是在基板10的横向(宽度)尺寸不同的情况下，也能够利用该驱动单元使2个保持板61沿X方向移动，能够使各个保持部件55与基板10的四个角的周缘部对置。
转动板65的远离涂布单元2侧的端部由转动轴66支承为能够相对于基座板69转动。当处于水平状态时，该转动板65的接近涂布单元2侧的端部由突出设置在基座板69上的止挡件68支承。
进而，该转动板65由一端侧安装于基座板69的转动缸67操作而绕转动轴66转动。即，该转动缸67的另一端侧连结于转动板65，且该转动缸67能够伸缩。
并且，在基座板69的下表面的四个角突出设置有引导杆71。这些引导杆71贯通被固定于底座11的保持单元框70。这些引导杆71由保持单元框70引导，由此，基座板69能够在维持水平状态的状态下相对于保持单元框70升降移动。进而，基座板69能够通过设置在底座11的底部框架72上的气缸等升降单元73沿垂直方向升降移动。
下面，对本实施方式所涉及的涂布装置1的涂布工序以及该涂布工序中的浸湿方法进行说明。在涂布装置1中，从涂布装置外搬入的基板10被保持于保持大致垂直地倾斜的状态的保持单元5，该基板10由保持单元5保持并伴随着保持单元5的转动动作和水平移动动作被交接给吸附单元3。
图5是示出由吸附单元3(图1)保持并水平移动的基板10和涂布喷嘴22的末端部的俯视图。另外，在图5中，省略除了基板10和涂布喷嘴22以外的部件。
在被水平地保持的基板10的下侧的被涂布面10a(图2)形成有遮光膜(铬层10b)，涂布装置1在使该被涂布面10a朝向下侧的状态下利用吸附单元3使基板10朝图中的箭头方向水平移动，由此使基板10横穿涂布喷嘴22的上方的方式移动。进而，涂布装置1在基板10的边缘部10c的一端部(角部)附近、即被涂布面上的涂布开始位置停止。该边缘部10c是与基板10的水平移动方向正交的方向的边缘部。在本实施方式中，涂布喷嘴22以其长度方向和与基板10的水平移动方向正交的方向一致的方式与基板10对置，抗蚀液21在与该涂布喷嘴22的长度方向对置的基板10的边缘部10c附近的一处(涂布开始点)浸湿基板10。另外，所谓一处含有浸湿起点意味着在抗蚀液21的涂布开始位置(在图5的情况下为基板10的边缘部10c附近、具体地说是从边缘部10c朝向涂布方向大约0～5mm的内侧的地点)为一处。另外，基板10和涂布喷嘴22的相对移动可以是任一方相对于另一方移动，并且也可以是双方都移动。
当基板10的涂布开始位置移动到涂布喷嘴22的上方时，涂布装置1在该位置使基板10的水平移动暂时停止，并使涂布喷嘴22上升。此时，如图6(a)所示，涂布喷嘴22上升，直到涂布喷嘴22与被涂布面10a间隔预定距离。另外，在涂布喷嘴22已经上升的状态下，也可以是将涂布喷嘴22收纳在内部的液槽20上升。结果，涂布喷嘴22相对于被涂布面10a接近到例如10～80μm程度。此时，在涂布喷嘴22的末端部，形成由该涂布喷嘴22的毛细管状间隙23保持的抗蚀液21隆起的状态。
接着，如图6(b)所示，仅驱动用于支承涂布喷嘴22的长度方向的一端的支承柱28a使其上升，使涂布喷嘴22的长度方向的一端进一步接近基板10(被涂布面10a)的对置的一端部。具体地说，上升在涂布喷嘴22的末端隆起的抗蚀液能够在一点最初浸湿被涂布面10a的距离。例如，该上升量例如可以是5～50μm。
另外，使抗蚀液在一点浸湿被涂布面10a时的上升量能够在控制部预先作为脉冲数设定，通过对作为滑动机构27的驱动源的步进电动机赋予该脉冲数，能够作为步进电动机的驱动量使步进电动机精密地动作。
浸湿的抗蚀液从浸湿起点朝向涂布喷嘴22的长度方向的另一端迅速地遍及涂布喷嘴22的全长进行扩大，从浸湿点开始形成浸湿线。
在遍及涂布喷嘴22的全长形成浸湿线之后，通过使一端部的支承柱28a下降，使仅一侧上升的涂布喷嘴22的一端下降，使涂布喷嘴22返回水平姿态。进而，如图6(c)所示，使涂布喷嘴22整体进一步下降预定量，使涂布喷嘴22与被涂布面之间形成适合进行涂布动作的距离(成为涂布空隙)。涂布空隙为100～500μm，优选为200～400μm。
另外，如果不像上述那样使涂布喷嘴22倾斜，而是在处于水平位置的状态下进行对被涂布面10a的浸湿，则会在沿着涂布喷嘴22的多处随机地产生浸湿起点，例如浸湿区域从邻接的2个浸湿起点朝彼此对置的方向扩展，并在这些浸湿区域碰撞的部分产生气泡混入抗蚀液21的情况，但是，在本实施方式的涂布装置1中，通过以1个浸湿起点作为起点，浸湿区域朝一个方向扩展，由此，能够防止气泡混入已浸湿基板10的抗蚀液21，且能够防止由碰撞的冲击引起的液体滞留(液だまり)(弯液面)形状的不稳定化。
这样，遍及涂布喷嘴22的全长进行对基板10的浸湿，并调整涂布空隙，然后在使抗蚀液21浸湿的状态下使基板10水平移动，由此，抗蚀液21被涂布于基板10的被涂布面10a。在该情况下，通过在抗蚀液21最初浸湿的时刻防止气泡混入抗蚀液21，不会在涂布于基板10的被涂布面10a的抗蚀液21的层中产生由气泡等造成的线状痕，能够形成均匀的抗蚀膜。在对被涂布面整体的涂布结束后，使涂布喷嘴22离开。
进而，在干燥后将利用涂布装置1形成了抗蚀膜的基板10从涂布装置1搬出。
下面，对采用了上述的涂布装置1的光掩模坯料的制造工序进行说明。
图7是示出本实施方式所涉及的光掩模坯料的制造工序的流程图。如图7所示，在涂布装置1中，搬入基板10并安置于保持单元5(步骤ST11)，利用吸附单元3水平地保持基板10使它们水平移动并移动至涂布单元2的上部的涂布位置(步骤ST12)。在该步骤中，在涂布装置1中，以基板10的涂布开始位置即边缘部10c附近的预定位置到达涂布喷嘴22的上部的方式进行定位。进而，在该状态下，使液槽20上升，从某一位置开始，使液槽20停止上升并驱动支承柱28a～28c上升。如图6(a)所示，在涂布喷嘴22与被涂布面10a之间成为预定距离时停止对支承柱28a～28c的上升驱动。接着，如图6(b)所示，仅使支承长尺寸的涂布喷嘴22的一端部的支承柱28a侧上升，以仅使涂布喷嘴22的一端上升(步骤ST13)。此时，使涂布喷嘴22的长度方向的一端部上升能够浸湿被涂布面10a的上升量。其结果是，抗蚀液21从一处浸湿起点开始浸湿基板10(步骤ST14)。当遍及基板10的涂布开始位置的全长抗蚀液21都浸湿基板10时，仅使支承涂布喷嘴22的长度方向的一端的支承柱28a下降上述上升量，使涂布喷嘴22返回水平状态。进一步，使涂布喷嘴22整体稍稍下降而在涂布喷嘴22与被涂布面10a之间形成适当的涂布空隙(步骤ST15)。进而，在该状态下，使基板10水平移动(即使基板10和涂布喷嘴22相对移动)，在基板10的被涂布面10a涂布抗蚀液21(步骤ST16)。另外，代替使基板10移动，也可以使喷嘴移动。由此，在基板10涂布抗蚀液21，然后，使涂布的抗蚀液21干燥，并将基板10搬出(步骤ST17)。这样，利用这些处理工序制造光掩模坯料。
并且，图8是示出采用利用图7的工序完成的光掩模坯料制造光掩模的工序的流程图。如图8所示，在光掩模的制造工序中，首先，对形成在光掩模坯料表面的抗蚀膜进行描绘处理(步骤ST21)，接着，执行该抗蚀膜的显影处理，随后执行以该抗蚀膜作为掩模的遮光膜的刻蚀处理(步骤ST22、步骤ST23)。由此，在遮光膜形成预定的图案。进而，最后，通过剥离抗蚀膜(步骤ST24)，完成光掩模。另外，图8是关于在透明基板上形成了由遮光膜形成的遮光图案的所谓的二维掩模(binarymask)的工序，根据用途，当然也能够将本发明应用于层叠遮光膜、或者采用了遮光膜和半透光膜或其他的功能性的膜的层叠结构的光掩模。在该情况下，光刻工序需要进行2次以上，能够在各个工序中应用本发明的抗蚀液涂布方法，由此能够得到更好的效果。
(其他的实施方式)
另外，在上述的实施方式中，对涂布喷嘴22的长度和被涂布面积的宽度相同的情况进行了叙述，但是，在本发明中并不限定于此，即便是在涂布喷嘴22的长度比基板10的宽度还长的情况下也能够应用本发明。
并且，在上述实施方式中，对制造尺寸为1220mm×1400mm的光掩模坯料的情况进行了叙述，但是，在本发明中并不限定于此，能够应用于制造各种大小的光掩模坯料的情况。特别是在一边的长度在1000mm以上的大型掩模中本发明的效果显著。即便是在这种大型掩模用的基板中，例如也能够将干燥后的膜厚变动抑制在3％以下、甚至抑制在2％以下，特别是在从开始涂布抗蚀剂的地点到涂布了抗蚀膜面积的30％的地点的区域中能够将膜厚变动抑制在1％以下。
以上，示出优选实施方式对本发明所涉及的涂布装置和制造方法进行了说明，但是，在本发明中并不限定于上述的实施方式，当然能够在不脱离本发明的主旨的范围内实施各种变更。
本发明能够应用于制造例如用于制造平板显示器(FPD，Flat PanelDisplay)的光掩模坯料和光掩模的情况。

Claims (5)

1.一种光掩模坯料的制造方法，经过下述工序得到光掩模坯料：利用毛细管现象使抗蚀液上升到涂布装置所具备的喷嘴的沿着长度方向开口的上端部，使上升到所述喷嘴的上端部的所述抗蚀液浸湿基板的朝向下方的被涂布面，并使所述喷嘴和所述基板沿着与所述喷嘴的长度方向正交的方向相对移动，在所述被涂布面形成抗蚀膜，
其特征在于，
当进行所述浸湿时，使所述喷嘴的上端部的长度方向的一端比该上端部的长度方向的另一端更接近所述被涂布面，由此使上升到所述喷嘴的上端部的所述抗蚀液从所述喷嘴的上端部的长度方向的一端先浸湿所述被涂布面，
以所述抗蚀液最初浸湿所述被涂布面的所述喷嘴的上端部的长度方向的一端作为浸湿起点，遍及所述喷嘴的上端部的长度方向的涂布面宽度方向全长进行浸湿。
2.根据权利要求1所述的光掩模坯料的制造方法，其特征在于，
当进行所述浸湿时，使所述喷嘴的长度方向的一端朝所述被涂布面上升，进行所述浸湿起点的浸湿后，使所述上升了的所述喷嘴的长度方向的一端下降。
3.一种光掩模的制造方法，其特征在于，
所述光掩模的制造方法包含以下工序：
准备在透明基板上具有遮光膜、且在所述遮光膜上形成有抗蚀膜的带抗蚀膜的光掩模坯料的工序；
在所述带抗蚀膜的光掩模坯料的抗蚀膜上描绘图案、并进行显影以此形成抗蚀图案的工序；以及
以所述抗蚀图案作为掩模对该遮光膜进行刻蚀处理的工序，
所述带抗蚀膜的光掩模坯料利用权利要求1或2所述的制造方法制造。
4.一种涂布装置，其特征在于，
所述涂布装置具备：
保持单元，该保持单元将具有被涂布面的基板保持为能够装卸；
液槽，该液槽贮存抗蚀液；
喷嘴，该喷嘴利用毛细管现象使贮存在所述液槽中的抗蚀液上升到该喷嘴的沿着长度方向开口的上端部；
升降单元，该升降单元使上升到所述喷嘴的上端部的所述抗蚀液相对于由所述保持单元保持的基板的被涂布面进退；以及
移动单元，在维持使上升到所述喷嘴的上端部的所述抗蚀液浸湿所述基板的被涂布面的状态的状态下，该移动单元使所述喷嘴和所述基板沿着与所述喷嘴的长度方向正交的方向相对移动，
当进行所述浸湿时，使所述喷嘴的上端部的长度方向的一端比该上端部的长度方向的另一端更接近所述被涂布面，由此使上升到所述喷嘴的上端部的所述抗蚀液从所述喷嘴的上端部的长度方向的一端先浸湿所述被涂布面，
以所述抗蚀液最初浸湿所述被涂布面的所述喷嘴的上端部的长度方向的一端作为浸湿起点，遍及所述喷嘴的上端部的长度方向的涂布面宽度方向全长进行浸湿。
5.根据权利要求4所述的涂布装置，其特征在于，
所述涂布装置还具有控制单元，该控制单元对所述喷嘴的升降动作进行控制，使所述喷嘴的上端部的长度方向的一端部上升预定量，仅以所述喷嘴的上端部的长度方向的一端作为浸湿起点，遍及所述喷嘴的上端部的长度方向的涂布面宽度方向全长进行浸湿后，使该上端部的一端部下降。
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