CN101823233B - 用于将玻璃抛光的系统和方法 - Google Patents
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Abstract
一种用于将玻璃抛光的系统,包括:一个下部部件,其能够旋转被放置在固定位置的玻璃;一个上部部件,其能够与该玻璃接触,并且能够由于玻璃的旋转而被动地旋转;以及一个移动部件,其用于沿水平方向或垂直方向移动所述上部部件。所述上部部件包括:一个固定盘,其被固定至上部部件的主轴;一个抛光盘,其被安装为可相对于固定盘移动;以及一个挤压构件,其被插入在固定盘和抛光盘之间,以保持抛光盘施加至玻璃的压力的均匀性。
Description
背景技术
相关申请的互相参引
本申请要求根据35 USC 119(a)享有于2009年3月6日在韩国提交的韩国专利申请No.10-2009-0019292的优先权,该申请的全部内容通过参引方式纳入本说明书。
技术领域
本发明涉及用于将玻璃抛光的系统和方法,更具体而言,涉及用于对在液晶显示器(LCD)中所用的玻璃的一个表面进行抛光的系统和方法。
相关技术描述
通常,以下方面是非常重要的:即,将应用在液晶显示器中的玻璃(或玻璃板)的平面度(flatness)保持在某一水平,以便精确地呈现图像。因此,应该将通过浮箱形成的浮法玻璃表面上所存在的细微的波度消除。
这种抛光方法可被分为所谓的‘奥斯卡(Oscar)’型抛光,即玻璃单独地一个接一个被抛光;以及所谓‘直列(inline)’型抛光,即一系列的玻璃相继被抛光。此外,玻璃抛光方法还可被分为‘单面抛光’,即仅玻璃的一面被抛光;以及‘双面抛光’,即玻璃的两面都被抛光。
在一个常规的玻璃抛光装置中,当一个安装有抛光垫的抛光板(或一个顶板)沿水平方向移动,以及一个其上置有玻璃的抛光平台(或一个底板)被旋转时,所述玻璃借助于自由下落到所述抛光板上的抛光浆而被抛光。
然而,在该常规的抛光方法中,在玻璃和抛光板之间形成有一定的压力。由于这个原因,抛光浆不能够充分透过在抛光板上形成的凹槽,因此不容易稳定且均匀地供应该抛光浆。另外,在该常规的抛光装置中,当抛光浆被供应时,其不必要地从抛光板中向下流出,这使得很难均匀地抛光玻璃。
同时,由于顶板或抛光板自身的重量,该常规的玻璃抛光装置向玻璃施加一个力,由此不可能在抛光板的整个面积上对玻璃施加均匀的力。因此,最终抛光后的玻璃在矩形玻璃的各个区域中都具有不规则的平面度,这导致产生了许多次品。尤其是,当由于液晶显示器的尺寸增大,而导致抛光板的尺寸增大(例如,直径约为1000毫米)时,这个问题变得更为严峻。具体而言,在常规的玻璃抛光装置中,与玻璃相接触的抛光板基本上不能够在各个区域都向玻璃施加均匀的力,且施加至玻璃的力随着与抛光板安装于其上的主轴的距离的增大而减小,因此均匀的抛光是不可能的。
另外,随着抛光板具有更大尺寸,附接至常规抛光装置的抛光板的抛光垫的维护或更换变得更加困难,并需要更多的设备以及消耗更多的时间。
发明内容
本发明被设计为解决现有技术的难题,本发明的目的如下所述。
第一,本发明意在提供一种用于将玻璃抛光的系统和方法,其允许通过以如下方式提高玻璃的平面度:将上部部件分为一个固定盘和一个可相对该固定盘移动或浮动的抛光盘(包括一中间盘和一分离盘);将多个挤压构件例如空气弹簧(airs pring)安装在固定盘和抛光盘之间;然后使得玻璃在抛光作业期间在上部部件的多个部分处受到均匀挤压,且同时使空气弹簧吸收在抛光过程期间产生的振动。
第二,本发明意在提供一种用于将玻璃抛光的系统和方法,其允许通过如下方式提高抛光浆供应作业的效率:直接将抛光浆经由多个抛光浆供应通道供应至玻璃的表面,所述多个抛光浆供应通道被形成为穿过抛光垫安装于其上的上部部件(包括固定盘、中间盘和分离盘)。
第三,本发明意在提供一种用于将玻璃抛光的系统和方法,其允许通过使具有抛光垫的分离盘通过吸附的方式保持附接至中间盘,而使抛光垫便于维护或更换。
为了实现上述目的,本发明提供一种用于将玻璃抛光的系统,其包括:一个下部部件,其能够旋转被放置在固定位置的玻璃;一个上部部件,其能够与玻璃接触,且能够由于玻璃的旋转而被动地旋转;以及一个移动部件,其用于沿水平方向或垂直方向移动所述上部部件,其中所述上部部件包括:一个固定盘,其被固定至上部部件的主轴;一个抛光盘,其被安装位可相对于固定盘移动;以及一个挤压构件,其被插入到固定盘和抛光盘之间,以保持从抛光盘施加至玻璃的压力的均匀性。
优选地,所述挤压构件包括安装在固定盘和抛光盘之间的多个空气弹簧。
优选地,所述空气弹簧包括基于主轴同心地布置的至少一个空气弹簧组。
优选地,每个所述空气弹簧包括一个带有空气入口的风箱(bellow),以便吸入穿过固定盘供应的空气。
优选地,被包括在同一空气弹簧组中的每个空气弹簧被保持在相同的压力下。
优选地,施加至每个所述空气弹簧的压力是可调的。
优选地,根据本发明的用于将玻璃抛光的系统,还包括:多个导引构件,其被安装在固定盘和抛光盘之间,以便导引抛光盘相对于固定盘的移动。
优选地,每个所述导引构件包括:一个导轴,其穿过固定盘被安装至抛光盘;以及一个导引挡块,其被安装在导轴的另一端。
优选地,所述抛光盘包括一个面向所述固定盘的中间盘,以及一个可分离地安装至中间盘的分离盘,且一个真空吸盘被提供用于通过真空方式将分离盘相对于中间盘固定。
优选地,所述真空吸盘包括:多个压缩通道,其被安装穿过固定盘和中间盘;以及一个真空部件,其用于在中间盘的与分离盘接触的表面形成真空,以与压缩通道连通。
优选地,这里提供了基于主轴同心地布置的至少两个真空吸盘。
优选地,所述真空部件包括通过使中间盘的下表面凹陷而形成的一体的台阶形面。
优选地,所述真空部件包括在中间盘的下表面上形成的多个喇叭形的真空凹槽,使得凹槽从压缩通道起具有增大的尺寸。
优选地,所述玻璃抛光系统还包括一个安全联接构件,其用于将分离盘可拆卸地附接至中间盘。
优选地,所述安全联接构件包括设置在中间盘和分离盘的轮缘处的多个支架,以及一个用于锁紧该支架的锁紧部件。
优选地,所述安全联接构件包括穿过中间盘固定至分离盘的多个联接螺栓。
优选地,所述玻璃抛光系统还包括:多个操作口(working holes),其分别相应于联接螺栓被设置在固定盘上;以及多个用于盖住所述多个操作口的盖子。
优选地,根据本发明的用于将玻璃抛光的系统还包括一个抛光浆供应部件,其用于使抛光浆穿过上部部件供应至玻璃。
优选地,所述抛光浆供应部件包括被安装为穿过固定盘和抛光盘的多个抛光浆供应通道。
优选地,每个所述抛光浆供应通道包括:第一通道,其将抛光浆供应部件的抛光浆供应部连接至固定盘的顶部;以及第二通道,其将固定盘的底部连接至抛光盘的顶表面,且其具有一个可延伸的结构。
优选地,所述第二通道包括:第一连接管道,其被安装在固定盘的下表面处;以及第二连接管道,其被安装在抛光盘的上表面处,且可密封地连接至第一连接管道,并可相对于第一连接管道移动。
优选地,所述抛光浆供应部件包括:一个中央供应装置,其位于移动部件的主轴的下方;以及多个径向供应装置,其被布置在基于中央供应装置的径向方向上。
根据本发明的玻璃抛光系统产生了以下效果。
第一,多个空气弹簧允许相对于固定盘向抛光盘的多个部分施加相同的力,并且还可吸收在抛光作业期间产生的振动,从而可以改进所生产的玻璃的平面度。
第二,抛光浆可以经由多个抛光浆供应通道被直接供应至玻璃的表面——所述抛光浆供应通道各自被形成为穿过固定盘、中间盘和分离盘,从而可以最大化抛光浆供应作业的效率,且能够确保抛光浆的稳定和均匀供应。
第三,具有安装至其的抛光垫的分离盘,可以选择性地以吸附方式与中间盘分离,使得抛光垫的维护或更换更为方便。
附图说明
本发明的其他目的和方面将在下文参考附图对实施方案的描述中变得很明显,其中:
图1是根据本发明的一个优选实施方案的玻璃抛光系统的示意图;
图2是从图1中选取的、在抛光系统中采用的空气弹簧的剖面图;
图3是图2的平面图;
图4是根据本发明的一个优选实施方案的玻璃抛光系统的上部部件的剖面图;以及
图5是根据本发明抛光系统的真空吸盘的真空部分的一个变型的剖面图。
具体实施方式
在下文中,将参考附图详细描述本发明的优选实施方案。
在描述之前,应理解的是,在本说明书和所附权利要求书中所用的术语不应被解释为限于常规含义和字典含义,而应根据相应于本发明的各技术方面的含义和概念来诠释——这是基于发明人被允许对术语的最佳含义进行适当限定这一原则。因此,这里所给出的描述仅是出于阐释目的的优选实施例,并不意在限制本发明的范围,因此应理解的是,在不背离本发明的主旨和范围的情况下,可对本发明进行其它等效变换或修改。
图1是根据本发明的一个优选实施方案的玻璃抛光系统的示意图。
参见图1,根据本发明的玻璃抛光系统100例如被用于,将长度为1000毫米或更长、厚度为约0.3-1.1毫米的一大块玻璃G的一个表面抛光成具有液晶显示器所要求的平面度。此外,该玻璃抛光系统100包括:一个下部部件110,其能够以预定速度旋转一个通过吸附而固定于其上面的玻璃G;一个上部部件120,其被安装在下部部件110的上方且具有一个抛光垫122,该抛光垫122被附接至上部部件以使该抛光垫122与保持在下部部件110上的玻璃G的上表面(或将被抛光的表面)是可接触的;一个移动部件130,其用于沿水平或垂直方向移动上部部件120;以及一个抛光浆供应部件140,其用于使来自于抛光浆供应部142的抛光浆穿过上部部件120供给至玻璃G将被抛光的表面。
在该实施方案的玻璃抛光系统100中,上部部件120和/或附接至其的抛光垫122的尺寸(如果是圆盘形状,该尺寸是指直径)小于将被抛光的矩形玻璃G的尺寸(即小于将被抛光的矩形玻璃G的水平长度和垂直长度中的较小的一个长度)。此外,下部部件110的旋转轴112优选地不与上部部件120的主轴124位于一条直线,而是相对上部部件120的主轴124偏离且可相对地移动。
在该实施方案的玻璃抛光系统100中,如果当抛光垫122与所要抛光的玻璃G的表面接触时,下部部件110被旋转且同时移动部件130沿预定轨道在水平方向被移动,则当上部部件120由于下部部件110的旋转而被动旋转时,玻璃G的整个表面通过来自抛光浆供应部件140的抛光浆来被均匀地抛光。
在该实施方案的玻璃抛光系统100中,移动部件130包括:一个安装至框架102的第一平台(未示出),所述框架102支撑下部部件110,且借助于第一驱动源(未示出),该第一平台可通过一个沿X-方向安装在框架102上的X-导向器(未示出)自由移动;一个第二平台(未示出),其借助于第二驱动源(未示出)可通过一个沿Y-方向安装在第一平台上的Y-导向器(未示出)自由移动;以及一个第三平台137,其借助于第三驱动源(未示出)可在第二平台上沿垂直方向移动,所述上部部件120被安装在该第三平台上。
下部部件110包括:一个如下的旋转轴112,其从被安装至框架102的工作台106延伸出;以及第四驱动源103,其用于以预定速度旋转所述旋转轴112。
上部部件120被附接至从第三平台137垂直向下延伸的主轴124的下端。主轴124可相对第三平台137自由地旋转。
上部部件120包括一个固定盘121和一个抛光盘123,该两个盘总体上分别具有圆盘形状。此外,抛光盘123被分为一个中间盘125和一个分离盘127。固定盘121被固定在主轴124的下端,而抛光盘123与固定盘121在空间上间隔布置,使抛光盘可以相对于该固定盘浮动或移动。分离盘127以吸附方式可选择性地可拆卸地安装至中间盘125。
抛光浆供应部件140包括多个抛光浆供应通道144,该抛光浆供应通道被形成为分别穿过固定盘121、中间盘125和分离盘127以便供应例如包含硅石微粒的灰浆型抛光浆。而且,抛光浆供应部件140包括:一个中央供应装置,其与中央供应管146连通,该中央供应管被形成为穿过主轴124且穿过位于主轴124下方的上部部件120;以及多个径向供应装置,其被布置在基于中央供应装置的径向方向上。通过这种方式,供应自抛光浆供应部142的抛光浆被供应至上部部件120的中部、或主轴正下方的一点,并被供应至基于主轴124以预定半径形成的多个点。
每个抛光浆供应通道144包括一个第一通道141和一个第二通道143。第一通道141从抛光浆供应部142连接至固定盘121的顶部,并包括在旋转接头(未示出)中形成的通道。此外,第一通道141被用于将安装在主轴124一侧的第一出口126连接至安装在固定盘121的顶面上的第一入口128,第一通道141优选地包括柔性软管、管路、管道或类似物。第二通道143从第一通道141的一端连接至分离盘127的下表面。具体而言,固定盘的下表面和中间盘125的上表面优选是由可伸长或可收缩的结构或材料制成的。为此,第二通道143包括一个安装在固定盘121下表面的第一连接管道145,以及一个安装在中间盘125上表面的第二连接管道147。第一连接管道145和第二连接管道147可相对于彼此移动,它们的连接部分是密封的。中间盘125和固定盘121之间的间隙是可调的。为此,相应于抛光盘123相对固定盘121的移动,第一连接管道145和第二连接管道147的长度可被拉长或缩短。
在另一个实施方案中,玻璃抛光系统100包括一个挤压构件150,其用于在上部部件120与旋转玻璃G接触的每个部分均匀地保持压力。该挤压构件150被用于使带有安装至其的抛光垫122的抛光盘123以大致均匀的压力按压所述玻璃G的多个不同部分。该挤压构件150包括如下多个空气弹簧151,该空气弹簧被安装在固定盘121和抛光盘123的中间盘125之间,且被以预定形式布置。
空气弹簧151被布置为包括第一空气弹簧组153、第二空气弹簧组155和第三空气弹簧组157,所述弹簧组基于主轴124从内侧到外侧以一预定间隙被同心布置。每个空气弹簧组153、155、157所包含的各个弹簧151被分别连接至第一空气供应管路163、第二空气供应管路165和第三空气供应管路167,所述空气供应管路基于主轴124从内侧到外侧被同心地布置在固定盘121的上表面。空气供应管路163、165、167分别通过上面的旋转接头(未示出)与连接至安装在主轴124的侧面的相应空气供应口129连通。同时,空气供应管路163、165、167分别通过子通道169被连接至相应的空气弹簧151。每个空气供应管路163、165、167优选地保持在相同的压力水平。然而,在另一个实施方案中,如果施加至空气弹簧151的压力需要随着在径向方向上与主轴124之间的距离的增大而逐渐增加,那么也可将空气供应管路163、165、167分别设置并控制在不同压力下。
第一空气弹簧组153被布置为最靠近主轴124,或者在基于主轴124的最内圈上,第二空气弹簧组155和第三空气弹簧组157分别被布置在基于主轴124的中间圈和最外圈上。对于本领域技术人员很明显的是,这种空气弹簧151的同心圈的数目以及它们的布置可根据将被抛光的玻璃G的尺寸、或下部部件110与上部部件120的尺寸而被如所期望地改变。如图1所示,抛光浆供应部件140的第二通道143被设置成位于由第一空气弹簧153所形成的圈和由第二空气弹簧155所形成的圈之间。
图2是示出根据本发明的优选实施方案的一个空气弹簧的截面图,图3是图2的平面图。
参见图1-3,每个空气弹簧151包括一个盘型风箱,该风箱具有一个用于使空气穿过固定盘121被引入的空气入口152,以及一个可收缩壁154。每个空气弹簧151包括设置在其顶部的至少一对上耦合孔156,用以耦合所提供的穿过固定盘121的螺栓;以及至少一个设置在其底部的下耦合孔158,用以耦合所提供的穿过中间盘125的螺栓。空气弹簧151的空气入口152与子通道169连通,各自都穿过固定盘121。因此,如果空气通过空气入口152被引入,空气弹簧151的风箱的壁154膨胀,增加了空气弹簧151被安装至其上的抛光盘123的每个区域处的压力。通过这种方式,在玻璃G的以上区域所施加的压力可比其它区域保持得均匀。同时,空气弹簧151并不限于上述的风箱结构,对于本领域技术人员很明显的是,空气弹簧151可以具有任何已知的或将要已知的、等同或相似功能的结构。
图4是示出根据本发明的一个优选实施方案的抛光系统的上部部件的截面图。
参见图1和图4,根据本发明的优选实施方案的玻璃抛光系统100包括安装在固定盘121和抛光盘123之间的多个导引构件170,以便导引抛光盘123相对于固定盘121的移动。当抛光盘123由于空气弹簧151的膨胀或收缩相对于固定盘121移动时,导引构件170只允许抛光盘123相对于固定盘121沿垂直方向移动,且防止抛光盘123在水平方向上被扭曲。导引构件170包括:一个导轴175,其穿过导孔171被固定至一个安装到抛光盘123的导引支撑件173;以及一个导引挡块177,其被安装在导轴175的另一端。这里,在导轴175的一端形成有螺纹,以便改变挡块177相对于导轴175的位置,且挡块177优选可移动地耦合至导轴175的螺纹。
参见图1,根据本发明优选实施方案的玻璃抛光系统100包括一个真空吸盘180,其用于选择性地将分离盘127压至中间盘125,或者使分离盘127与中间盘125分离。
该真空吸盘180用于使抛光垫122的维护或更换变得便利。换句话说,该真空吸盘180允许分离盘127与中间盘125易于分离,从而避免为了维修或更换所述抛光垫122而将整个上部部件120与第三平台137上的主轴124相分离的任何麻烦。换句话说,该真空吸盘180可在抛光作业中压紧分离盘127,以将分离盘127固定至中间盘125。此外,如果需要的话,该真空吸盘180可释放真空以使分离盘127与中间盘125分离。
真空吸盘180包括:多个压缩通道(例如,压缩通道或管道)181,其被安装穿过固定盘121和中间盘125;以及一个真空部件183,其能够在与分离盘127相接触的中间盘125下表面上形成真空,所述真空部件与压缩通道181连通。真空吸盘180包括两个安装在固定盘121的上表面的真空形成压缩软管185,该压缩软管围绕主轴124被同心地布置,且分别与相应的压缩通道181连通。每个压缩通道181和每个压缩软管185分别被放置在第一空气供应管路163和第二空气供应管路165之间,以及第二空气供应管路165和第三空气供应管路167之间。考虑到抛光盘123相对于固定盘121的移动,每个压缩通道181优选可被充分拉长或者由柔性材料制成。
另外,真空部件183包括在中间盘125的下表面上形成的多个喇叭形的真空凹槽,使得它们的尺寸从每个压缩通道181的端部起增大。换句话说,如果真空驱动源(未示出)被操作用于经由压缩软管185吸入空气,在每个喇叭形真空凹槽的内部空间中的空气经由压缩通道181排出,以在喇叭形真空凹槽中形成真空,由此将分离盘127紧密地附着并固定至中间盘125。
图5是示出根据本发明的优选实施方案的真空吸盘的真空部件的一个变型。
参见图5,该实施方案的真空部件183′包括一个通过使所述中间盘125的下表面凹陷而形成的台阶形面187。该真空部件183′是前一个实施方案的喇叭形真空凹槽的真空部件183的一个变型,该真空部件183′用于通过一个与每个压缩通道181连通的台阶形面187,将分离盘127压至中间盘125、或者使分离盘127与中间盘125分离。
根据本发明的优选实施方案的玻璃抛光系统100还包括一个如下的安全联接构件190,其用于辅助地将分离盘127可拆卸地附接至中间盘125,以准备应对意料外的事故。该安全联接构件190是一种用于当玻璃抛光系统100处于运行状态而真空吸盘180没有运行时,防止分离盘127与中间盘125分离的安全装置。
安全联接构件190包括:四个联接支架192,其分别从互相接触的中间盘125和分离盘127的轮缘处突出且彼此接触;以及锁紧螺栓194,其能够被锁紧至联接支架192的锁紧凹槽。
作为一个替换性实施方案,如图4所示,安全联接构件190′包括能够穿过中间盘125被固定至分离盘127的多个联接螺栓191。在这个实例中,操作口193被形成在固定盘121中的相应于联接螺栓191的位置处,且每个操作口193可通过盖子195被打开或关闭。盖子195可通过盖螺栓(未示出)被固定至固定盘121的上表面。换句话说,在该实施方案中,为了将分离盘127与固定盘121分离,需要松开盖螺栓,从固定盘121处打开盖子195,然后通过操作口193释放联接螺栓191。
现在,将描述如上构造的本发明优选实施方案的玻璃抛光系统的操作。
首先,将一块有待抛光的玻璃G以一种已知方式——例如,吸附——贴附至下部部件110的上表面,然后运行第四驱动源103来旋转工作台106。同时,运行第三驱动源来使第三平台137向下移动,使得上部部件120的抛光垫122的下表面被压至玻璃G的将被抛光的表面。此外,如果运行了第一驱动源和第二驱动源,第一平台和第二平台分别在水平平面上沿预定轨道移动。然后,上部部件120由于下部部件110的旋转而被动地旋转,且与此同时,上部部件120由于第一和第二平台的移动而基于主轴124旋转。
如果在这个过程中运行抛光浆供应部件140,那么存储在抛光浆供应部142中的抛光浆穿过中央供应装置和沿径向方向布置在中央供应装置周围的径向供应装置沿着多个抛光浆供应通道144被提供——所述抛光浆供应通道各自被形成为穿过固定盘121、中间盘125和分离盘127,由此抛光浆被均匀地施加至所要抛光的玻璃G的表面上。可以将抛光浆供应部件140设置为在整个抛光时段内连续地供应抛光浆,使用后的抛光浆可被过滤,随后被回收至抛光浆供应部142用以循环。
接着,上部部件120基于主轴124旋转,同时基于下部部件110的旋转轴112偏心,从而使挤压构件150被操作以保持从上部部件120的每个部分施加至玻璃G的整个区域的力的均匀性。
如果运行挤压构件150,空气供应源(未示出)穿过在旋转接头和主轴124处的一个通道来供应空气,空气穿过每个空气供应管路163、165、167被供应到相应的第一、第二和第三空气弹簧组153、155、157,从而使每个空气弹簧151的风箱的壁154膨胀。然后,抛光盘123相对于固定盘121的位置被改变,每个空气弹簧151处的压力变得均匀,从而可通过移动部件130而使上部部件120在水平平面上移动,来一直均匀保持在玻璃G的将被抛光的表面上的压力。
在此,可以在上部部件120的抛光垫122与玻璃G的将被抛光的表面接触之前,或者当在抛光垫122与玻璃G接触之后将抛光过程启动时,将所述挤压构件150运行。同时,该挤压构件150的压紧操作可以根据在抛光过程期间设置的压力而被控制。
同时,如果真空吸盘180在抛光过程启动之前被运行,那么抛光盘123的分离盘127被固定至中间盘125。如果真空吸盘180被运行,那么真空驱动源(未示出)会被运行以在具有喇叭形真空凹槽形状的真空部件183处或具有台阶形面187的真空部件183′处通过压缩软管185形成真空,因此分离盘127可通过吸附被附接至中间盘125。分离盘127也通过安全联接构件190被稳定地附接至中间盘125。
在下文中,描述了一种根据本发明的一个优选实施方案的用于抛光玻璃的方法。
在抛光一块玻璃G的过程中,根据该实施方案的用于抛光玻璃的方法包括下述中的至少一个:通过使用安装在固定盘121和抛光盘123之间的多个空气弹簧151按压抛光盘123,以便在上部部件120的多个部分均匀地保持施加至玻璃G的压力;使抛光浆穿过多个抛光浆供应通道144供应至玻璃G的表面,所述多个抛光浆供应通道各自被形成为穿过固定盘121、中间盘125和分离盘127;以及相对于中间盘125固定分离盘127。
因此,根据这个实施方案的用于抛光玻璃的方法,可稳定地将抛光浆供应到有待抛光的玻璃G的表面,通过空气弹簧151将玻璃G的平面度保持至一个期望水平,以及相对于中间盘125稳定地保持分离盘127。从而,可改善玻璃抛光过程的精确性和收益率。这允许将玻璃抛光过程中的次品率最小化。
本发明已被详细地描述。然而,应理解的是,尽管指出了本发明的优选实施方案,所述详细描述和具体实施例仅通过示例方式给出,因为根据该详细说明书,在本发明主旨和范围内的各种改变和变型对于本领域技术人员将是很明显的。
Claims (9)
1.一种用于将玻璃抛光的系统,包括:
一个下部部件,其能够旋转被放置在固定位置的玻璃;
一个上部部件,其能够与玻璃接触,并能够由于玻璃的旋转而被动地旋转;以及
一个移动部件,其用于将上部部件沿水平和/或垂直方向移动,
其中上部部件包括:
一个固定盘,其被固定至上部部件的主轴并具有其中形成的多个操作口;
一个抛光盘,其被安装为可相对于固定盘移动并包括一个面向所述固定盘的中间盘和一个可分离地安装至所述中间盘的分离盘;
多个联接螺栓,能够穿过所述中间盘被固定至所述分离盘或通过所述操作口从所述分离盘被释放;以及
一个挤压构件,其包括基于主轴同心地安装在固定盘和抛光盘之间的多个空气弹簧组。
2.根据权利要求1所述的用于将玻璃抛光的系统,其中空气弹簧包括至少一个基于主轴同心地布置的空气弹簧组。
3.根据权利要求2所述的用于将玻璃抛光的系统,其中每个所述空气弹簧包括一个带有空气入口的风箱,以便吸入穿过固定盘供应的空气。
4.根据权利要求1所述的用于将玻璃抛光的系统,还包括:
多个导引构件,其被安装在固定盘和抛光盘之间,以便导引抛光盘相对于固定盘的移动。
5.根据权利要求4所述的用于将玻璃抛光的系统,其中每个所述导引构件包括:
一个导轴,其穿过固定盘被安装至所述抛光盘;以及
一个导引挡块,其被安装在导轴的另一端。
6.根据权利要求1所述的用于将玻璃抛光的系统,还包括:
一个抛光浆供应部件,其用于使抛光浆穿过上部部件供应至玻璃。
7.根据权利要求6所述的用于将玻璃抛光的系统,其中所述抛光浆供应部件包括被安装为穿过固定盘和抛光盘的多个抛光浆供应通道。
8.根据权利要求7所述的用于将玻璃抛光的系统,其中每个所述抛光浆供应通道包括:
第一通道,其将抛光浆供应部件的抛光浆供应部连接至固定盘的顶部;以及
第二通道,其将固定盘的底部连接至抛光盘的顶表面,且具有一个可延伸的结构。
9.根据权利要求8所述的用于将玻璃抛光的系统,其中所述第二通道包括:
第一连接管道,其被安装在固定盘的下表面处;以及
第二连接管道,其被安装在抛光盘的上表面处,且可密封地连接至第一连接管道,并可相对于第一连接管道移动。
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---|---|---|---|---|
JP2012111001A (ja) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Nikon Corp | ワークキャリア及び該ワークキャリアを備えた研磨装置 |
JP5671735B2 (ja) * | 2011-01-18 | 2015-02-18 | 不二越機械工業株式会社 | 両面研磨装置 |
JP5375895B2 (ja) * | 2011-08-17 | 2013-12-25 | 旭硝子株式会社 | 研磨システム |
CN102303278A (zh) * | 2011-10-09 | 2012-01-04 | 湖南永创机电设备有限公司 | 下贴式单面抛光机 |
CN103846788B (zh) * | 2014-03-07 | 2016-06-29 | 湖南永创机电设备有限公司 | 改进抛光件吸附方式的抛光机 |
CN107336099A (zh) * | 2017-07-31 | 2017-11-10 | 东莞华清光学科技有限公司 | 一种玻璃产品扫光设备和扫光方法 |
CN110735112A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-01-31 | 温州集袖贸易有限公司 | 一种电脑护目镜蒸发镀膜设备 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5795215A (en) * | 1995-06-09 | 1998-08-18 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for using a retaining ring to control the edge effect |
US6045437A (en) * | 1996-03-01 | 2000-04-04 | Tan Thap, Inc. | Method and apparatus for polishing a hard disk substrate |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6186172A (ja) * | 1984-07-30 | 1986-05-01 | Esutetsuku Giken Kk | ガラス板の研磨方法及びその装置 |
DE3430499C2 (de) * | 1984-08-18 | 1986-08-14 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Verfahren und Einrichtung zum Läppen oder Polieren von optischen Werkstücken |
DE3643914A1 (de) * | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Zeiss Carl Fa | Verfahren und vorrichtung zum laeppen bzw. polieren optischer flaechen |
JP2513426B2 (ja) * | 1993-09-20 | 1996-07-03 | 日本電気株式会社 | ウェ―ハ研磨装置 |
TW334379B (en) * | 1995-08-24 | 1998-06-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Compression mechanism for grinding machine of semiconductor substrate |
US5658185A (en) * | 1995-10-25 | 1997-08-19 | International Business Machines Corporation | Chemical-mechanical polishing apparatus with slurry removal system and method |
JP3664188B2 (ja) * | 1995-12-08 | 2005-06-22 | 株式会社東京精密 | 表面加工方法及びその装置 |
USRE38854E1 (en) * | 1996-02-27 | 2005-10-25 | Ebara Corporation | Apparatus for and method for polishing workpiece |
WO1997032690A1 (fr) * | 1996-03-04 | 1997-09-12 | Teikoku Denso Co., Ltd. | Procede et appareil pour le polissage d'un disque de resine |
JPH10551A (ja) * | 1996-06-07 | 1998-01-06 | Canon Inc | 化学機械研磨装置 |
US6162112A (en) * | 1996-06-28 | 2000-12-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Chemical-mechanical polishing apparatus and method |
DE19651761A1 (de) * | 1996-12-12 | 1998-06-18 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren und Vorrichtung zum Polieren von Halbleiterscheiben |
JPH10175160A (ja) * | 1996-12-16 | 1998-06-30 | Canon Inc | 研磨方法及び研磨装置 |
US5816895A (en) * | 1997-01-17 | 1998-10-06 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Surface grinding method and apparatus |
JP3027551B2 (ja) * | 1997-07-03 | 2000-04-04 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置ならびに該基板保持装置を用いた研磨方法および研磨装置 |
JP3665188B2 (ja) * | 1997-09-03 | 2005-06-29 | 不二越機械工業株式会社 | 研磨装置 |
JPH11138426A (ja) * | 1997-11-11 | 1999-05-25 | Tokyo Electron Ltd | 研磨装置 |
JPH11170166A (ja) * | 1997-12-08 | 1999-06-29 | Canon Inc | 化学機械研磨方法および装置 |
JP2968784B1 (ja) * | 1998-06-19 | 1999-11-02 | 日本電気株式会社 | 研磨方法およびそれに用いる装置 |
US6220934B1 (en) * | 1998-07-23 | 2001-04-24 | Micron Technology, Inc. | Method for controlling pH during planarization and cleaning of microelectronic substrates |
JP2000158327A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-06-13 | Rohm Co Ltd | 化学的機械的研磨用研磨布およびそれを用いた化学的機械的研磨装置 |
US6227956B1 (en) * | 1999-10-28 | 2001-05-08 | Strasbaugh | Pad quick release device for chemical mechanical polishing |
JP3124276B1 (ja) * | 2000-03-28 | 2001-01-15 | 株式会社共立 | ディスククリーナ |
JP4239129B2 (ja) * | 2000-04-17 | 2009-03-18 | 旭硝子株式会社 | 板状体の研磨装置及び研磨パッドのツルーイング方法 |
US6607425B1 (en) * | 2000-12-21 | 2003-08-19 | Lam Research Corporation | Pressurized membrane platen design for improving performance in CMP applications |
DE60221502T2 (de) * | 2001-03-05 | 2008-04-17 | Elm Inc., Minamisatsuma | Vorrichtung zum polieren von optischen platten |
US6863771B2 (en) * | 2001-07-25 | 2005-03-08 | Micron Technology, Inc. | Differential pressure application apparatus for use in polishing layers of semiconductor device structures and methods |
US6705928B1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-03-16 | Intel Corporation | Through-pad slurry delivery for chemical-mechanical polish |
DE502005000312D1 (de) * | 2004-10-29 | 2007-02-22 | Schneider Gmbh & Co Kg | Polierwerkzeug mit mehreren Druckzonen |
JP4531661B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2010-08-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の処理方法及び基板の処理装置 |
US20070089951A1 (en) * | 2005-10-20 | 2007-04-26 | Peter Skiba | Air spring protective sleeve |
JP2007152498A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Nikon Corp | 研磨装置、研磨方法、この研磨方法を用いた半導体デバイスの製造方法及びこの半導体デバイスの製造方法により製造された半導体デバイス |
JP2010064196A (ja) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Ebara Corp | 基板研磨装置および基板研磨方法 |
US8133097B2 (en) * | 2009-05-07 | 2012-03-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Polishing apparatus |
-
2010
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5795215A (en) * | 1995-06-09 | 1998-08-18 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for using a retaining ring to control the edge effect |
US6045437A (en) * | 1996-03-01 | 2000-04-04 | Tan Thap, Inc. | Method and apparatus for polishing a hard disk substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2010208015A (ja) | 2010-09-24 |
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TWI511842B (zh) | 2015-12-11 |
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