CN101619614B - 一种抛光瓷片的生产方法 - Google Patents
一种抛光瓷片的生产方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101619614B CN101619614B CN 200910041423 CN200910041423A CN101619614B CN 101619614 B CN101619614 B CN 101619614B CN 200910041423 CN200910041423 CN 200910041423 CN 200910041423 A CN200910041423 A CN 200910041423A CN 101619614 B CN101619614 B CN 101619614B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- thrown
- group
- sheet
- bistriques
- groups
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Abstract
本发明公开了一种瓷片的生产方法，其特征在于，它是在现有的仿古内墙瓷片生产工艺的基础上，在砖坯表面印刷一层凸釉层，经烧成后，通过一组以上的抛光机，运用半抛技术进行的软抛后序加工处理。本发明制备的瓷砖砖面光泽，细腻流畅，纹韵清晰，色彩艳而不花，富有极品品位，不同的角度都有不同的视觉神经。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷生产技术领域，更具体地说是涉及一种内墙瓷片的生产方法。
背景技术
目前，采用内、外墙瓷片美化居住环境已成为人们的一种时尚，现有的内、外墙瓷片表面一般呈现各种各样的图案，光线柔和舒适，而且层次分明，它以固有的清洁干净、外观精美等特性被现代人们所喜爱。一般情况下，内墙瓷片的制作都是采用釉上印刷，受其制作工艺的影响，内墙瓷片的使用一直趋于简单化，满足不了现代都市人对奢华生活的一种向往，对内墙瓷片的选择毫无新鲜感，导致消费者在选择内墙瓷片时发出感概。
发明内容
本发明的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种不仅整体整感逼真、釉面平整如镜面，生动具有完全不透水、高度防污的抛光瓷片的生产方法。
本发明是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种瓷片的生产方法，其特征在于，它是在现有的仿古内墙瓷片生产工艺的基础上，在砖的表面增加印刷一层凸釉层，经烧成后，通过一组以上的抛光机，运用半抛技术进行的软抛后序加工处理。
作为上述方案的进一步说明，所述现有的仿古内墙瓷片生产工艺包括淋底、面釉之后，经过二至三次丝网印花，经烧成、分级，包装以及入库工序。
通过调整半抛凸釉层的硬度和透明度，因为硬度好，加强产品表面的耐磨度；透明度好，能通过凸釉层清晰看到底层的图案纹理，控制好底釉、面釉、凸釉层的膨胀系数，有效控制其砖型的下弯度和翘曲度，三者结合，与砖坯的膨胀系数相结合，保证产品的平整度能满足抛光要求，使其在抛光过程中能承受1.5～3公斤的压力。
在所述瓷片抛光前还需要对每组抛光机磨头抛片布局做相应安装调整，在一组抛光机中安装16组磨头，1～3组磨头安装150目的抛片，3～9组磨头安装500目抛片，9～16组磨头安装1000目抛片。
本发明采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是：
本发明采用在现有内墙瓷片和仿古工艺技术与产品表现效果上，通过多元素的相互混合，结合目前最受瞩目的半抛光技术进行软抛处理，解决了抛釉过程中产品断裂和四边被抛平的缺陷。保证抛后的产品具有立体感强、光泽柔和的装饰效果；触感凹凸有致，层次丰富，或花纹、或皮纹、或石纹的立体层次效果。
具体实施方式
本发明一种瓷片的生产方法，它是在现有的内墙瓷片生产工艺的基础上，在砖坯表面印刷一层凸釉层，经烧成后，通过一组抛光机，运用半抛技术进行软抛后序加工处理。其中，现有的仿古内墙瓷片生产工艺包括淋底、面釉之后，经过二至三次丝网印花，经烧成、分级，包装以及入库工序，此工艺方法在现有的陶瓷生产领域中应用较为广泛，在此不作详细说明。
在生产过程中：必须严格控制好产品的下弯度，控制好底釉、面釉、凸釉层的膨胀系数，三者结合，使其与砖坯的膨胀系数相结合，并设立与之相匹配的烧成曲线，控制好每个模头所施加的压力及磨片的质量和所选的磨片目数，抛光过程中，只采用一组抛光机，安装16组磨头，每组磨头抛片安装做了相应布局，1～3组磨头安装150目的抛片，3～9组磨头安装500目抛片，9～16组磨头安装1000目抛片处理，通过这样的布局，更能保证半抛凸釉层的触感，以及图案纹理的立体层效果，同时也避免了产品漏抛或四角抛平的现象。
掌握好设备运行过程中，每个磨头对产品所施加的压力的变化，从而避免抛光后的产品存在四边抛平的现象。
Claims (1)
1.一种瓷片的生产方法，其特征在于，它是在现有的仿古内墙瓷片生产工艺包括淋底、面釉，经过二至三次丝网印花，经烧成、分级，包装以及入库工序的基础上，在砖坯表面增加印刷一层凸釉层，经烧成后，通过一组抛光机，运用半抛技术进行的软抛后序加工处理；
掌握好设备运行过程中每个磨头对产品所施加的压力的变化，控制好产品的下弯度，通过控制好底釉、面釉、凸釉层的膨胀系数，三者结合，使其与砖坯的膨胀系数相结合，并设立与之相匹配的烧成曲线，控制好每个模头所施加的压力及磨片的质量和所选的磨片目数，抛光过程中，只采用一组抛光机，安装16组磨头，每组磨头抛片安装做了相应布局，1～3组磨头安装150目的抛片，4～9组磨头安装500目抛片，10～16组磨头安装1000目抛片处理。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 200910041423 CN101619614B (zh) | 2009-07-21 | 2009-07-21 | 一种抛光瓷片的生产方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 200910041423 CN101619614B (zh) | 2009-07-21 | 2009-07-21 | 一种抛光瓷片的生产方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101619614A CN101619614A (zh) | 2010-01-06 |
| CN101619614B true CN101619614B (zh) | 2013-04-24 |
Family
ID=41513009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 200910041423 Expired - Fee Related CN101619614B (zh) | 2009-07-21 | 2009-07-21 | 一种抛光瓷片的生产方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101619614B (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105175021B (zh) * | 2015-08-27 | 2017-11-10 | 广东博华陶瓷有限公司 | 一种柔光瓷砖 |
| CN110590408B (zh) * | 2019-09-29 | 2020-11-03 | 清远市宏图助剂有限公司 | 一种抛光瓷砖及其制备方法和加工设备 |
| CN114592401A (zh) * | 2021-05-31 | 2022-06-07 | 清华大学 | 冰面抛光方法及装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1724271A (zh) * | 2004-07-23 | 2006-01-25 | 卢永錩 | 彩饰釉面抛光瓷砖及其制备方法和设备 |
| CN1974471A (zh) * | 2006-12-05 | 2007-06-06 | 罗杰华 | 表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺 |
| CN101157542A (zh) * | 2007-09-27 | 2008-04-09 | 何乾 | 一种具有半透明反光装饰面的陶瓷砖生产工艺 |
| CN101224996A (zh) * | 2008-01-29 | 2008-07-23 | 叶荣崧 | 釉彩复合板材的制备工艺 |
-
2009
- 2009-07-21 CN CN 200910041423 patent/CN101619614B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1724271A (zh) * | 2004-07-23 | 2006-01-25 | 卢永錩 | 彩饰釉面抛光瓷砖及其制备方法和设备 |
| CN1974471A (zh) * | 2006-12-05 | 2007-06-06 | 罗杰华 | 表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺 |
| CN101157542A (zh) * | 2007-09-27 | 2008-04-09 | 何乾 | 一种具有半透明反光装饰面的陶瓷砖生产工艺 |
| CN101224996A (zh) * | 2008-01-29 | 2008-07-23 | 叶荣崧 | 釉彩复合板材的制备工艺 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JP特开平6-183866A 1994.07.05 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101619614A (zh) | 2010-01-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN106007377B (zh) | 一种超平釉面砖 | |
| US11479513B2 (en) | Antiskid and wear-resistant glaze, antiskid, wear-resistant and easy-to-clean ceramic tile and preparation method thereof | |
| CN104140297B (zh) | 浮雕幻影釉面砖的釉及制备 | |
| CN113666772B (zh) | 一种具有深刻凹凸纹理的陶瓷岩板及其制备方法 | |
| CN103467103B (zh) | 一种一次烧成超晶石陶瓷砖的生产方法及瓷砖 | |
| CN105418162A (zh) | 一种具有立体石纹纹理的通体抛釉瓷质砖及其制造方法 | |
| CN101905965B (zh) | 具有凹凸抛光釉中彩的陶瓷砖制造工艺 | |
| CN107685383B (zh) | 一种仿古砖陶瓷的生产工艺 | |
| CN107555790B (zh) | 一种16度哑光大理石瓷砖的生产工艺 | |
| CN108752057B (zh) | 一种表面光泽度为4-8度的柔面耐磨易洁复古砖 | |
| CN110498608A (zh) | 一种高硬度耐磨的低光岩板及其制备方法 | |
| CN107344814B (zh) | 一种柔光砖面釉及柔光砖 | |
| CN106007800B (zh) | 一种背景墙砖的制备方法及背景墙的制备方法 | |
| CN111548014A (zh) | 微晶釉、耐磨釉、透明微晶耐磨全抛釉瓷砖及制备方法 | |
| CN107200554A (zh) | 一种防污柔光大理石瓷砖的制备工艺 | |
| CN107285737B (zh) | 防滑耐磨易洁陶瓷砖 | |
| CN107324655A (zh) | 一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料 | |
| CN112358187A (zh) | 一种仿大理石超耐磨柔光砖的生产工艺及制品 | |
| CN109265005A (zh) | 一种环保柔光陶瓷砖及制备方法 | |
| CN113651639A (zh) | 用于岩板表面装饰的新型叠加工艺及岩板 | |
| CN111470847A (zh) | 一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石及其制备方法 | |
| CN103273703A (zh) | 一种金属色玻璃板的制造方法 | |
| CN110577415A (zh) | 一种具有仿古面石材肌理效果的瓷砖及其制作工艺 | |
| CN101619614B (zh) | 一种抛光瓷片的生产方法 | |
| CN110845252B (zh) | 特殊坯体大颗粒结合数码布料仿古砖及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130424 Termination date: 20160721 |