CN1974471A - 表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺 - Google Patents

Abstract

本发明涉及表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺，在传统工艺的基础上进行创新，砖坯施底釉或印花釉后，在其表面再施一层煅烧后能全部挥发掉且不留下任何颜色的粘结剂；在粘结剂表面均匀布施一层20－160目的干釉粒；将表面粘附有干釉粒的砖坯放入辊道窑中经1100～1250℃的高温煅烧，直至干釉粒局部熔融，形成高低不平、凹凸均匀的珠粒状玻化釉层；冷却后，对砖坯上的珠粒状玻化釉层的凸顶部分进行原有凸顶高度1/3～1/2的磨削抛光，得到的陶瓷砖成品既保留了传统印花仿古砖花色丰富的优点，又克服了其外观缺乏层次及呆板的缺点，同时拥有抛光砖的光泽感，还具有优异的防滑、防污、耐磨性能，使陶瓷砖具有更高的装饰档次。

Description

表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺

技术领域

本发明涉及建筑陶瓷砖的领域，特别是陶瓷砖在制造过程中的表面装饰。

背景技术

目前市场上较流行的陶瓷砖产品，主要是印花仿古砖和抛光砖。其中，印花仿古砖：它是在平面的或凹凸的砖坯上，用色彩釉料通过丝网印刷或辊筒印刷等平面印刷方法，按设计要求在陶瓷砖坯的表面通过几重印刷印上各种花纹，烧成后由于釉的熔融而与砖坯结合成一体显露在砖的正表面，砖面是平坦的，也有些是略感粗糙的。其特点是花色丰富，砖面平坦，但缺乏凹凸层次，显得有些沉闷、呆板。而抛光砖：它是在对砖坯用色彩釉料进行渗花，或在模压时通过二次布料的方法压制出具有随机花色的砖坯，经烧成后对平面的砖体正表面进行抛光，从而使陶瓷砖显示出渗印的花纹和二次布料的随机花纹，花色较单调。抛光砖的特点是砖面光亮，具很高的光泽度，但它外观显得过于冷峻、硬朗；且因砖体表皮被抛磨掉使砖体内的毛细孔外露而易吸污，存在因砖面光亮而防滑性能较差、经过几年的使用后因耐磨度有限易被磨损而失去光泽等问题。

若对印花仿古砖直接进行抛光，其砖表面的印花层将会全部被抛磨掉，使之变成一块失去花纹与色彩的“光面砖”，而普通抛光砖又无法获得印花仿古砖所具有的丰富花色。

发明内容

由于市场上广泛流行的印花仿古砖和抛光砖都各有其优缺点，本发明的目的就是，既要保留印花仿古砖花色丰富的优点，又要克服其外观缺乏层次及呆板的缺点，同时拥有抛光砖的光泽感，还要具有防滑耐磨性能，且砖面质感又不致过于冷硬等要求，从而提出一种表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺，实现取印花仿古砖和抛光砖二者之长，舍二者之短的目的，让陶瓷砖具有更高的装饰档次，美化人们的生活。

本发明的目的是通过如下技术方案实现的：表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺，其常规的工艺顺序为：坯料制备工序，砖坯成型工序，施底釉或印花釉工序，其特征在于：砖坯施底釉或印花釉后，在其表面再施一层粘结剂，该层粘结剂须在煅烧后能全部挥发掉且不留下任何颜色；然后在粘结剂表面均匀布施一层颗粒度为20-160目的干釉粒，干釉粒被粘结剂所粘结；将表面粘附有干釉粒的砖坯放入辊道窑中经1100～1250℃的高温煅烧，直至干釉粒局部熔融，形成高低不平、凹凸均匀的珠粒状玻化釉层；冷却后，对砖坯上的珠粒状玻化釉层的凸顶部分进行磨削抛光，且被抛磨掉的凸顶高度为原有凸顶高度的1/3～1/2，得成品。进一步地，干釉粒是以高纯度的长石、熔块及碱土金属氧化物为配料，用常规球磨和喷雾干燥的方法，造出不同粒径的釉粒，经800～900℃的高温硬化处理，然后进行颗粒筛分而制成。

当砖坯上施有印花釉图案时，施用于砖坯上的干釉粒经高温煅烧后最好是透明的，以充分显现其下面印花釉的色彩和图案。与之相反，为达到若隐若现、蒙胧的效果，干釉粒的配料中加入釉用色料，高温煅烧后是体现出颜色的，而非透明的。为保证粘结剂不会影响砖坯上的色彩和图案，粘结剂采用甲基纤维素、乙二醇或甲基纤维素和乙二醇配比成。为保证砖坯上形成自然的纹理，粘附有干釉粒的砖坯在辊道窑中高温煅烧的时间取决于，让干釉粒只是表面熔融，干釉粒与干釉粒之间、干釉粒与砖坯之间由融化的釉层粘连，而干釉粒本身并没有完全熔融平化，只是矮化，从而使砖坯表面形成高低起伏、分布均匀、凹凸堆积的珠粒状玻化釉层。

采用上述工艺，本发明的具有明显的优点和积极的效果：

它既保留了传统印花仿古砖的图案和色彩丰富的优点，克服了其缺乏层次、呆板和沉闷的风格，又具有了抛光砖的光泽和质感，相当于印花仿古砖和抛光砖优点的集合。由于它表面有了一层厚度为0.5mm～1.5mm左右或更厚的由干釉粒形成的玻化釉层，当干釉粒是透明的或浅颜色的，它就既可以让其下的印花色彩、图案充分得到外显，又让这些花色通过表层釉面的覆盖而得到有效的保护，使这些花色几乎达到永不磨损成为可能。当干釉粒是深彩色的，釉下的印花就较难得到充分的外显，若隐若现，蒙蒙胧胧，装饰效果别具一格。由于干釉粒是高温釉，它的硬度高，内部结构致密，没有普通抛光砖所存在的因砖坯内固有的毛细气孔外露而吸污的问题，从而使本发明的产品将具有更为良好的防污性和耐磨性。

由于本发明只对珠粒状玻化釉层表面的上部凸顶进行了部分磨削抛光，加上釉粒的散光作用，所以砖面的光泽度比普通抛光砖低，正因为如此，本发明避免了普通抛光砖的镜面般的光亮与冷硬，而增加了因光线散射而产生的柔和与高雅，在阳光或灯光下如珍珠落地般星光闪烁，质感别致而高贵，装饰效果比传统印花仿古砖或普通抛光砖更胜一筹。

附图说明

图1是本发明的陶瓷砖层面效果示意图。

图中标注，1是砖坯，2是底釉层，3是印花釉层，4是珠粒状玻化釉层，5是被抛磨掉的玻化釉层的凸顶。

具体实施方式

本发明的陶瓷砖制造工艺包括如下基本工艺顺序：坯料制备工序、砖坯成型工序、施底釉或印花釉工序、施粘结剂工序、施干釉粒工序、煅烧工序、磨削抛光工序。上述工序中，坯料制备工序、砖坯成型工序、施底釉或印花釉工序与传统的技术类同，而施粘结剂工序、施干釉粒工序、煅烧工序、磨削抛光工序则与传统技术存在较大的不同。

其中，干釉粒要预先制取备用，以较高纯度的长石、熔块、碱土金属氧化物等化工类原料组成配方(注：这种干釉粒属高温釉，其配方须能配合砖坯在1100～1250℃左右的温度下烧成使用)，用传统球磨和喷雾干燥的方法，制造出不同粒径的干燥釉粒，经800～900℃的高温硬化处理，再将它们进行颗粒筛分，按颗粒的不同大小分开包装备用，这就是干釉粒。若在配方中加入某种釉用色料(如绿、蓝、红、黄、灰、白、黑…)，用上述方法制造的干釉粒就是彩色的，叫彩色干釉粒；配方中若不配加釉用色料，制得的干釉粒是白色的，但将它施用于砖面上经高温烧成后是透明的，故称之为透明干釉粒。总之，干釉粒的颜色名称是以其用于砖体经高温烧成后所发出的颜色来决定。使用前须对干釉粒进行颗粒筛分，才能凸现产品的珠状玻化釉粒分布均匀，确保釉粒间缝隙界线分明而均匀。

实施例一大颗粒透明干釉粒的陶瓷砖制造工艺：

白料坯料制造-→全自动压砖机压制成型(用PH980压机，制成600mm×300mm×10mm砖坯)-→坯体干燥(用卧式干燥器，坯体含水率＜1％)-→施底釉(乳浊釉，釉浆密度1.75±0.50，用量500±100g/m²)-→印花(用4种印花釉，4台印花机，重叠印4重，形成岩石状纹饰)-→施粘结剂(用甲基纤维素∶乙二醇∶水＝1∶3～5∶30～50配制而成，用量300±50g/m²)-→均撒大颗粒透明干釉粒(颗粒度为30目～80目，用量400±100g/m²)-→煅烧(辊道窑，烧成温度1180±50℃，烧成时间60±10min)-→局部抛光(冷却后，抛磨掉凸顶部约1/3高度)。产品的特点是砖的正表面珠状颗粒粗而大，凹凸明显而强烈，视觉冲击力大。

实施例二小颗粒透明干釉粒的陶瓷砖制造工艺：

白料坯料制造-→全自动压砖机压制成型(用PH980压机，制成600mm×300mm×10mm砖坯)-→坯体干燥(用卧式干燥器，坯体含水率＜1％)-→施底釉(乳浊釉，釉浆密度1.75±0.50，用量500±100g/m²)-→印花(用5种印花釉，5台印花机，重叠印5重，形成岩石状纹饰)-→施粘结剂(用甲基纤维素∶乙二醇∶水＝1∶3～5∶30～50配制而成，用量230±50g/m²)-→均撒小颗粒透明干釉粒(颗粒度为60目～160目，用量200±60g/m²)-→煅烧(辊道窑，烧成温度1180±50℃，烧成时间60±10min)-→局部抛光(冷却后，抛磨掉凸顶部约1/2高度)。产品的特点是砖的正表面珠状颗粒密而细，表面光亮度较高，凹凸没那么明显强烈，视觉冲击力小些。

实施例三大颗粒彩色干釉粒的陶瓷砖制造工艺：

白料坯料制造-→全自动压砖机压制成型(用PH980压机，制成600mm×300mm×10mm砖坯)-→坯体干燥(用卧式干燥器，坯体含水率＜1％)-→不施底釉-→印花(用3种印花釉，3台印花机，重叠印3重，形成岩石状纹饰)-→施粘结剂(用甲基纤维素∶乙二醇∶水＝1∶3～5∶30～50配制而成，用量300±50g/m²)-→均撒大颗粒浅红色干釉粒(颗粒度为20目～40目，用量400±100g/m²)-→煅烧(辊道窑，烧成温度1180±50℃，烧成时间60±10min)-→局部抛光(冷却后，抛磨掉凸顶部约1/3高度)。产品的特点是砖的正表面浅红色珠状颗粒比实施例一更加粗而大，凹凸明显而强烈，视觉冲击力大。

实施例四小颗粒浅黄色干釉粒的陶瓷砖制造工艺：

白料坯料制造-→全自动压砖机压制成型(用PH980压机，制成600mm×300mm×10mm砖坯)-→坯体干燥(用卧式干燥器，坯体含水率＜1％)-→施底釉(乳浊釉，釉浆密度1.75±0.50，用量500±100g/m²)-→印花(用2种印花釉，2台印花机，重叠印2重，形成泥土状纹饰)-→施粘结剂(用甲基纤维素∶乙二醇∶水＝1∶3～5∶30～50配制而成，用量230±50g/m²)-→均撒小颗粒浅黄色干釉粒(颗粒度为60目～160目，用量200±60g/m²)-→煅烧(辊道窑，烧成温度1180±50℃，烧成时间60±10min)-→局部抛光(冷却后，抛磨掉凸顶部约1/2高度)。产品的特点是砖的正表面浅黄色珠状颗粒密而细，与实施例二一样，表面光亮度较高，凹凸没那么明显强烈，视觉冲击力小些。

由上述4个实施例可知，若将干釉粒的粒度梯度再行细分，使撒到砖坯上的干釉粒颗粒的大小更均匀一致，加上掌握控制好对珠状玻化釉层凸顶部分以不同的抛光量，就可将陶瓷砖产品的光亮度和隙纹分布所产生的视觉冲击力由大到小分成若干个等级，使纹理、花色品种更加丰富多彩，以满足不同要求的消费者。当然，这里仅列举了几种较佳的实施方式，其它等同、类同的工艺均应属于本专利的保护范畴，这里不再赘述。

Claims (6)

1、表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺，其常规的工艺顺序为：坯料制备工序，砖坯成型工序，施底釉或印花釉工序，其特征在于：砖坯施底釉或印花釉后，在其表面再施一层粘结剂，该层粘结剂须在煅烧后能全部挥发掉且不留下任何颜色；然后在粘结剂表面均匀布施一层颗粒度为20-160目的干釉粒，干釉粒被粘结剂所粘结；将表面粘附有干釉粒的砖坯放入辊道窑中经1100～1250℃的高温煅烧，直至干釉粒局部熔融，形成高低不平、凹凸均匀的珠粒状玻化釉层；冷却后，对砖坯上的珠粒状玻化釉层的凸顶部分进行磨削抛光，且被抛磨掉的凸顶高度为原有凸顶高度的1/3～1/2，得成品。

2根据权利要求1所述的陶瓷砖制造工艺，其特征是干釉粒是以高纯度的长石、熔块及碱土金属氧化物为配料，用常规球磨和喷雾干燥的方法，造出不同粒径的釉粒，经800～900℃的高温硬化处理，然后进行颗粒筛分而制成。

3、根据权利要求1或2所述的陶瓷砖制造工艺，其特征是施用于砖坯上的干釉粒经高温煅烧后是透明的，以显现其下面印花釉的色彩和图案。

4、根据权利要求1或2所述的陶瓷砖制造工艺，其特征是干釉粒的配料中加入釉用色料，高温煅烧后是体现出颜色的，而非透明的。

5、根据权利要求1或2所述的陶瓷砖制造工艺，其特征是粘结剂采用甲基纤维素、乙二醇或甲基纤维素和乙二醇配比成。

6、根据权利要求1或2所述的陶瓷砖制造工艺，其特征是粘附有干釉粒的砖坯在辊道窑中高温煅烧的时间取决于，让干釉粒只是表面熔融，干釉粒与干釉粒之间、干釉粒与砖坯之间由融化的釉层粘连，而干釉粒本身并没有完全熔融平化，只是矮化，从而使砖坯表面形成高低起伏、分布均匀、凹凸堆积的珠粒状玻化釉层。

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