CN110590408B - 一种抛光瓷砖及其制备方法和加工设备 - Google Patents

一种抛光瓷砖及其制备方法和加工设备 Download PDF

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Abstract

本发明属于抛光剂领域，具体为一种抛光瓷砖，所述抛光瓷砖表面的微孔和缝隙中填充有抛光膜；所述抛光膜包括交替布置的偶联剂层、填充层；其中填充层与微孔和缝隙直接接触，微孔和缝隙的最外层为偶联剂层；所述填充层由纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液形成；纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液的重量比例为100:5‑15；所述填充层的厚度为0.1‑0.3μm；所述偶联剂层的厚度为0.1‑0.2μm；其通过特定的偶联剂、填充剂来对抛光砖表面的微孔进行填充，并通过偶联剂层和填充层的交替布置，使偶联剂和填充剂之间连接牢固，能够经受打磨和恶劣的使用环境，保持较好的抗污性能，同时，本发明还公开了该瓷砖的制备方法和加工设备。

Description

一种抛光瓷砖及其制备方法和加工设备
技术领域
本发明涉及抛光液领域，具体为一种抛光瓷砖及其制备方法和加工设备。
背景技术
权利人霍镰泉于2006年提出了一项发明专利ZL200610099354.1，其公开了一种在瓷质抛光砖表面上形成基于二氧化硅的复方抗污涂层的方法,首先准备好一种基于硅溶胶的复方硅溶胶液体,而后将所述的复方硅溶胶一边施布到待加工的抛光瓷质抛光砖表面上,一边又同时迫使已施布到瓷砖表面的复方硅溶胶经历磨头的磨抛处理,并在这样的磨抛-碾压展薄-摩擦升温受热过程中,使复方硅溶胶在游离水蒸发的同时,产生与硅酸脱水机理一致的溶胶-凝胶物理化学变化而硬化,从而在瓷质抛光砖表面上形成一种结合牢固、透明、高光泽度的基于二氧化硅的复方防污薄膜；随即再继续使该防污薄膜经历具有既疏水又疏油特性的氟硅有机化合物溶液、溶胶或乳液的抛光处理,进一步增强该表面的防水性、防油性污染能力。
通过其说明书记载，该复方抗污涂层由下层的一层或多层复方硅溶胶液体和上层的一层或多层氟硅有机化合物溶液组成。
其复方硅溶胶液体由硅溶胶和涂料用胶体乳液组成；其氟硅有机化合物中可选的一种情况是氟代三甲氧基硅烷。
复方硅溶胶液体主要用于抗污。
在其说明书第19页记载：“在高一些的温度条件下更有利于所述氟硅化合物能够尽快的渗透到该干胶表面和内部的纳米级孔隙网络中，当溶剂挥发掉，留在孔隙界面的该氟硅有机化合物可以经过化学结合形式牢牢固定留下来，基于其超强双疏性质使得该干胶薄膜表面及至深层均能疏油和疏水”。
该记载的方案在抛光领域中起着引领性的作用，其为后续的行业内的抛光操作提供指导性的导向意义。
通过上述方案，其抗污性能达到4级甚至5级(GB/T3810.14-1999)；
但是，采用现有的国标检测方法，存在的问题在于：出口产品中，外方提供的检测方法为：
检测方法1：在抛光砖进行抛光操作后，随机抽取若干样品，通过油性笔在打磨后的表面做标记；采用滑石粉对其表面进行打磨，然后用流动的温水清洗砖面后用湿抹布擦拭表面，看标记是否消失。
检测方法2：和方法1大体相同，不同的是，将产品进行反复的升温和降温操作，通过油性笔在打磨后的表面做标记，采用滑石粉对其表面进行打磨，然后用流动的温水清洗砖面后用湿抹布擦拭表面，看标记是否消失。
检测方法1和检测方法2实际上考量的是用于对抛光砖表面孔隙填充的抛光剂的膜层硬度和耐温性能。
所以，本申请所解决的技术问题是：如何提高抛光砖在严苛的检测手段、检测环境下的抗污性能。
发明内容
本发明的目的在于提供一种抛光瓷砖，其通过特定的偶联剂、填充剂来对抛光砖表面的微孔进行填充，并通过偶联剂层和填充层的交替布置，使偶联剂和填充剂之间连接牢固，能够经受打磨和恶劣的使用环境，保持较好的抗污性能，同时，本发明还公开了该瓷砖的制备方法和加工设备。
在不做特殊说明的情况下，本发明的％、份均为重量百分比和重量份，M代表mol/L。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种抛光瓷砖，所述抛光瓷砖表面的微孔和缝隙中填充有抛光膜；
所述抛光膜包括交替布置的偶联剂层、填充层；其中填充层与微孔和缝隙直接接触，微孔和缝隙的最外层为偶联剂层；
所述填充层由纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液形成；纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液的重量比例为100:5-10；
所述偶联剂层的偶联剂如下式1所示：
Figure GDA0002268951440000031
所述填充层的厚度为0.1-0.3μm；
所述偶联剂层的厚度为0.1-0.2μm。
在上述的抛光瓷砖中，所述偶联剂层、填充层均为2层。
在上述的抛光瓷砖中，所述填充层由纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液形成，气溶胶二氧化硅、苯丙乳液、丙烯酸乳液的重量比为100:5-10:2-5。
在上述的抛光瓷砖中，所述纳米二氧化硅溶液的固含量为10-25％；所述苯丙乳液的固含量为40-50％。
在上述的抛光瓷砖中，所述纳米二氧化硅溶液的固含量为15-25％；所述苯丙乳液的固含量为45-50％；所述丙烯酸乳液的固含量为55-60％。
同时，本发明还公开了一种上所述的抛光瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：将砖坯表面打磨光滑；
步骤2：将填充层所用原料喷涂于砖坯表面，并用带刷毛的滚辊组反复打磨；每平方米喷涂量为40g；打磨时间为0.5min；
步骤3：将偶联剂喷涂于步骤2处理后的砖坯表面，并用带刷毛的滚辊组反复打磨；每平方米喷涂量为2.0g；打磨时间为0.5min；
步骤4：重复步骤2和步骤3至少一次。
同时，本发明还公开了上述方法所采用的设备；包括依次布置的带打磨板的第一打磨机、带多个具有刷毛的滚辊组的第二打磨机、带多个具有刷毛的滚辊组的第三打磨机、带多个具有刷毛的滚辊组的第四打磨机、带多个具有刷毛的滚辊组的第五打磨机；
所述第一打磨机和第二打磨机之间设有用于喷淋填充层所用原料的第一喷头；所述第二打磨机和第三打磨机之间设有用于喷淋偶联剂的第二喷头；所述第三打磨机和第四打磨机之间设有用于喷淋填充层所用原料的第三喷头；所述第四打磨机和第五打磨机之间设有用于喷淋偶联剂的第四喷头。
在上述设备中，所述第二打磨机、第三打磨机、第四打磨机、第五打磨机的滚辊组的滚辊数量均为10个。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明通过特定的偶联剂、填充剂来对抛光砖表面的微孔进行填充，并通过偶联剂层和填充层的交替布置，使偶联剂和填充剂之间连接牢固，能够经受打磨和恶劣的使用环境，保持较好的抗污性能。
附图说明
图1为本发明的设备的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在阐述本发明的方法前，先对本发明所用设备进行详细描述。
具体如下：
参考图1，一种打磨设备，包括依次布置的带打磨板的第一打磨机1、带多个具有刷毛的滚辊组的第二打磨机2、带多个具有刷毛的滚辊组的第三打磨机3、带多个具有刷毛的滚辊组的第四打磨机4、带多个具有刷毛的滚辊组的第五打磨机5；瓷砖在第一打磨机1、第二打磨机2、第三打磨机3、第四打磨机4、第五打磨机5之间移动通过输送带输送。
所述第一打磨机1和第二打磨机2之间设有用于喷淋填充层所用原料的第一喷头6；所述第二打磨机2和第三打磨机3之间设有用于喷淋偶联剂的第二喷头7；所述第三打磨机3和第四打磨机4之间设有用于喷淋填充层所用原料的第三喷头8；所述第四打磨机4和第五打磨机5之间设有用于喷淋偶联剂的第四喷头9，所述第二打磨机2、第三打磨机3、第四打磨机4、第五打磨机5的滚辊组的滚辊数量均为10个。
第一打磨机1与申请人江门市博业陶瓷有限公司于2018年所申请的实用新型专利ZL201811431759.X,主题为：《一种瓷砖打磨装置》的结构相同，其一般来说无需打磨太久，其输送带输送速度为0.5米/秒；打磨板沿输送带方向的长度约为1.5米。任意位置打磨时间约为2-4s。
本设备的主要创新在于第二打磨机2至第五打磨机5，第二打磨机2至第五打磨机5的规格一致，都是带有10个具有刷毛的滚辊组成，同一打磨机的10个滚辊通过皮带连接，皮带通过同一电机电动，所以本发明的滚辊是具有自主转动能力的。
第一喷头6至第四喷头9交替喷洒填充层和偶联剂层。
本发明的设备适用于实施例1,3-5以及对比例1-2。
对比例3和实施例2时，需要在第五打磨机5之后安装第五喷头、第六打磨机、第六喷头、第七打磨机。第六打磨机、第七打磨机和第二打磨机2结构相同。
实施例1
一种抛光瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：将抛光砖表面打磨光滑；
步骤2：将A组分喷涂于步骤1处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使A组分和抛光砖表面的微小坑洞结合；每平方米喷涂量为40g；打磨时间为0.5min；
步骤3将B组分喷涂于步骤2处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使B组分和A组分形成的膜层紧密结合；每平方米喷涂量为1.5g；步骤2和步骤3之间空白等待时间为3s；打磨时间为0.5min；
步骤4：重复步骤2和步骤3一次。
其中，所述A组分包括纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液；
所述B组分为硅烷偶联剂；
所述A组分中纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液的重量比例为100:10。
纳米二氧化硅溶液的产品参数为：固含量25％
苯丙乳液的产品参数为：固含量48％；规格为：乳白色带蓝光液体、固含量48±2％、pH为7.5-9.0、25±1℃时的粘度为500-3000mPa·S、最低成膜温度23±1℃、玻璃化温度为25℃。
苯丙乳液供应商为山东宝达新材料有限公司；牌号为PD-1A；
硅烷偶联剂的结构如下：
Figure GDA0002268951440000061
x＝6；
其制备过程为：硅烷偶联剂的制备
步骤1：将N,N-双(2-羟乙基)甲胺、HOOCCH2(CH2)6CH3按照摩尔比1:2的配比后在次磷酸存在的条件下和氮气惰性环境下，以190℃的温度反应10h，得到酯化产物；
向酯化产物加入KOH,使体系的pH保持在7±0.5，然后加入氯仿通过减压蒸馏提纯得到提纯后的酯化产物，如下：
Figure GDA0002268951440000062
步骤2：将酯化产物和如下述的卤代三甲氧基硅烷加入到有机溶剂(异丙醇和甲醇＝1:1(w/w))中，在KI存在的条件下，在800W的微波环境中以170℃的温度反应12h，反应结束后经减压旋转蒸发溶剂即得所述的硅烷偶联剂；
卤代三甲氧基硅烷结构如下：
Figure GDA0002268951440000071
各原料用量如下表1
表1原料配方表
原料 重量
N,N-双(2-羟乙基)甲胺 119.16g
HOOCCH<sub>2</sub>(CH<sub>2</sub>)<sub>6</sub>CH<sub>3</sub> 316.8g
卤代三甲氧基硅烷 218.59g
次磷酸 8.72g
KI 3.27g
氯仿 87.19g
有机溶剂 327.20g
实施例2
一种抛光瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：将抛光砖表面打磨光滑；
步骤2：将A组分喷涂于步骤1处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使A组分和抛光砖表面的微小坑洞结合；每平方米喷涂量为35g；打磨时间为0.5min；
步骤3：将B组分喷涂于步骤2处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使B组分和A组分形成的膜层紧密结合；每平方米喷涂量为1.5g；步骤2和步骤3之间空白等待时间为3s；打磨时间为0.5min；
步骤4：重复步骤2和步骤3两次。
所述A组分包括纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液；
所述B组分为硅烷偶联剂；
所述A组分中纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液的重量比例为100:12。
纳米二氧化硅溶液的产品参数为：固含量20％；
苯丙乳液的产品参数为：固含量55％；规格为：乳白色带蓝光液体、固含量55±2％、pH为7.5-9.0、25±1℃时的粘度为2000-4000mPa·S、最低成膜温度23±1℃、玻璃化温度为25℃。
苯丙乳液供应商为山东淄博君武化工有限公司；牌号为JW309；
硅烷偶联剂的结构如下：
Figure GDA0002268951440000081
x＝7；
其制备过程为：硅烷偶联剂的制备
步骤1：将N,N-双(2-羟乙基)甲胺、HOOCCH2(CH2)7CH3按照摩尔比1:2.5的配比后在次磷酸存在的条件下和氮气惰性环境下，以200℃的温度反应8h，得到酯化产物；
向酯化产物加入KOH,使体系的pH保持在7±0.5，然后加入氯仿通过减压蒸馏提纯得到提纯后的酯化产物，如下：
Figure GDA0002268951440000082
步骤2：将酯化产物和卤代三甲氧基硅烷加入到有机溶剂(异丙醇和甲醇＝1:1(w/w))中，在KI存在的条件下，在850w的微波环境中以170℃的温度反应12h，反应结束后经减压旋转蒸发溶剂即得所述的硅烷偶联剂；
卤代三甲氧基硅烷结构如下：
Figure GDA0002268951440000083
各原料用量如下表2
表2原料配方表
原料 重量
N,N-双(2-羟乙基)甲胺 119.16g
HOOCCH<sub>2</sub>(CH<sub>2</sub>)<sub>7</sub>CH<sub>3</sub> 158.26 395.65g
卤代三甲氧基硅烷 218.59g
次磷酸 18.34g
KI 5.87g
氯仿 146.68g
有机溶剂 366.7g
实施例3
一种抛光瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：将抛光砖表面打磨光滑；
步骤2：将A组分喷涂于步骤1处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使A组分和抛光砖表面的微小坑洞结合；每平方米喷涂量为40g；打磨时间为0.5min；
步骤3将B组分喷涂于步骤2处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使B组分和A组分形成的膜层紧密结合；每平方米喷涂量为1.5g；步骤2和步骤3之间空白等待时间为3s；打磨时间为0.5min；
步骤4：重复步骤2和步骤3一次。
所述A组分包括纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液；
所述B组分为硅烷偶联剂；
所述A组分中纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液的重量比例为100:15。
气纳米二氧化硅溶液的产品参数为：固含量23％
苯丙乳液的产品参数为：固含量48％；规格为：乳白色带蓝光液体、固含量48±2％、pH为7.5-9.0、25±1℃时的粘度为500-1500mPa·S、最低成膜温度23±1℃、玻璃化温度为25℃。
苯丙乳液的供应商和牌号为南通生达化工有限公司，SD-800；
硅烷偶联剂的结构如下：
Figure GDA0002268951440000101
x＝8；
其制备过程如下：步骤1：将N,N-双(2-羟乙基)甲胺、HOOCCH2(CH2)8CH3按照摩尔比1:2.2的配比后在次磷酸存在的条件下和氮气惰性环境下，以200℃的温度反应9h，得到酯化产物；
向酯化产物加入KOH,使体系的pH保持在7±0.5，然后加入氯仿通过减压蒸馏提纯得到提纯后的酯化产物，如下：
Figure GDA0002268951440000102
步骤2：将酯化产物和卤代三甲氧基硅烷加入到有机溶剂(异丙醇和甲醇＝1:1(w/w))中，在KI存在的条件下，在850W的微波环境中以170℃的温度反应12h，反应结束后经减压旋转蒸发溶剂即得所述的硅烷偶联剂；
卤代三甲氧基硅烷结构如下：
Figure GDA0002268951440000103
各原料用量如下表3
表3原料配方表
Figure GDA0002268951440000104
Figure GDA0002268951440000111
实施例4
一种抛光瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：将抛光砖表面打磨光滑；
步骤2：将A组分喷涂于步骤1处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使A组分和抛光砖表面的微小坑洞结合；每平方米喷涂量为45g；打磨时间为0.8min；
步骤3将B组分喷涂于步骤2处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使B组分和A组分形成的膜层紧密结合；每平方米喷涂量为2.0g；步骤2和步骤3之间空白等待时间为3s；打磨时间为0.5min；
步骤4：重复步骤2和步骤3一次。
所述A组分包括纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液；
所述B组分为如实施例3所述硅烷偶联剂；
所述A组分中纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液的重量比例为100:10:5。
纳米二氧化硅溶液的产品参数为：固含量15％
苯丙乳液的产品参数为：固含量40％；规格为：乳白色带蓝光液体、固含量45±2％、pH为7.5-9.0、25±1℃时的粘度为800-1600mPa·S、最低成膜温度23±1℃、玻璃化温度为25℃。
丙烯酸乳液的产品参数为：固含量55％；规格为：乳白色带蓝光液体、固含量55±2％、pH为7-8，25±1℃时的粘度为,25-50mPa·S、最低成膜温度45℃、玻璃化温度为50℃。
苯丙乳液的供应商和牌号为山东淄博君武化工有限公司，JW309；
丙烯酸乳液的供应商和牌号为英德云超聚合材料有限公司，A323。
实施例5
一种抛光瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：将抛光砖表面打磨光滑；
步骤2：将A组分喷涂于步骤1处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使A组分和抛光砖表面的微小坑洞结合；每平方米喷涂量为50g；打磨时间为1min；
步骤3将B组分喷涂于步骤2处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使B组分和A组分形成的膜层紧密结合；每平方米喷涂量为2.5g；步骤2和步骤3之间空白等待时间为5s；打磨时间为1min；
步骤4：重复步骤2和步骤3一次。
所述A组分包括纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液；
所述B组分为如实施例3所述硅烷偶联剂；
所述A组分中纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液的重量比例为100:12:3。
纳米二氧化硅溶液的产品参数为：固含量10％；
苯丙乳液、丙烯酸乳液同实施例7。
对比例1
一种抛光瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：将抛光砖表面打磨光滑；
步骤2：将A组分喷涂于步骤1处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使A组分和抛光砖表面的微小坑洞结合；每平方米喷涂量为45g；打磨时间为0.8min；
步骤3将B组分喷涂于步骤2处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使B组分和A组分形成的膜层紧密结合；每平方米喷涂量为2.0g；步骤2和步骤3之间空白等待时间为5s；打磨时间为1min；
步骤4：重复步骤2和步骤3一次。
所述A组分包括纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液；
所述B组分为正辛基三甲氧基硅烷；
所述A组分中纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液的重量比例为100:12:3。
纳米二氧化硅溶液的产品参数为：固含量20％；
苯丙乳液的产品参数为：固含量40％；
丙烯酸乳液的产品参数为：固含量55％；苯丙乳液、丙烯酸乳液商品同实施例5。
对比例2
一种抛光瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：将抛光砖表面打磨光滑；
步骤2：将A组分喷涂于步骤1处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使A组分和抛光砖表面的微小坑洞结合；每平方米喷涂量为40g；打磨时间为0.5min；
步骤3将B组分喷涂于步骤2处理后的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨使B组分和A组分形成的膜层紧密结合；每平方米喷涂量为2.0g；步骤2和步骤3之间空白等待时间为5s；打磨时间为0.5min；
步骤4：重复步骤2和步骤3一次。
所述A组分包括纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液；
所述B组分如下；
Figure GDA0002268951440000131
式4的制备方法为：
步骤1：将N,N-双(2-羟乙基)甲胺、HOOCCH2(CH2)6CH3按照摩尔比1:1的配比后在次磷酸存在的条件下和氮气惰性环境下，以190-200℃的温度反应，得到酯化产物；
步骤2：将酯化产物和卤代三甲氧基硅烷加入到有机溶剂中，在KI存在的条件下，在微波环境中以170℃的温度反应12h，制备得到所述的硅烷偶联剂；
所述A组分中纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液的重量比例为100:12:3。
纳米二氧化硅溶液的产品参数为：固含量20％；
苯丙乳液的产品参数为：固含量40％
丙烯酸乳液的产品参数为：固含量55％；苯丙乳液、丙烯酸乳液商品同实施例5。
对比例3
一种抛光瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：将抛光砖表面打磨光滑；
步骤2：将A组分喷涂于抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨；每平方米喷涂量为40g；打磨时间为0.5min；
步骤3：重复步骤2两次；
步骤4：将B组分喷涂于经过步骤3处理的抛光砖表面并用带刷毛的滚辊组反复打磨；每平方米喷涂量为2.0g；打磨时间为0.5min；
步骤5：重复步骤4两次。
所述A组分包括纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液；
所述B组分为如实施例3所述硅烷偶联剂；
所述A组分中纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液的重量比例为100:12:3。
纳米二氧化硅溶液的产品参数为：固含量25％；
苯丙乳液的产品参数为：固含量40％
丙烯酸乳液的产品参数为：固含量55％；苯丙乳液、丙烯酸乳液商品同实施例5。
通过上述方法，实施例1-5以及对比例1-3的各层间结构的各层厚度大约为0.2μm左右。
测试方法：
检测方法1：在抛光砖进行抛光操作后，随机抽取若干样品，通过油性笔(型号938)在打磨后的表面做标记；采用滑石粉对其表面进行打磨，每平方米滑石粉用量为15g，打磨方法为：采用滑石粉上下打磨共6次；然后用流动的温水清洗砖面后用湿抹布擦拭表面，看标记是否消失。
检测方法2：和方法1大体相同，不同的是，将产品进行反复的升温(50℃)和降温(0℃)操作，循环20次、50次、100次，每一个循环内，高温持续时间1h，低温持续时间1h，通过油性笔(型号938)在打磨后的表面做标记；采用滑石粉打磨后，打磨方法同检测方法1，然后用流动的温水清洗砖面后用湿抹布擦拭表面，看标记是否消失。
测试结果
表4
Figure GDA0002268951440000151
通过上述试验结果，可以得到以下结论：
1、双长链酯化基团和季铵基团的组合具有较大位阻效果，其能够和硅溶胶以及苯丙乳液中的聚合物进行牢固的结合，其耐磨性、结合稳定性会明显高于普通的硅烷偶联剂；
2、双长链酯化基团和季铵基团的组合具有较大位阻效果，其能够和硅溶胶以及苯丙乳液中的聚合物进行牢固的结合，其耐磨性、结合稳定性会明显高于普通的位阻小的同类硅烷偶联剂；
3、A组分中，硅溶胶、苯丙乳液、丙烯酸乳液的组合，其在抗污寿命更长，推测是由于丙烯酸乳液其本身具有较好的柔韧性和抗低温性能，在反复的高低温循环过程中，能够提高A组分形成的薄膜的变形后的恢复性能。同时，双长链酯化基团和季铵基团的组合的硅烷偶联剂其具有同等的恢复性能。所以，能够在高频的高低温循环过程中表现优秀的抗污性能。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (7)

1.一种抛光瓷砖，其特征在于，所述抛光瓷砖表面的微孔和缝隙中填充有抛光膜；
所述抛光膜包括交替布置的偶联剂层、填充层；其中填充层与微孔和缝隙直接接触，微孔和缝隙的最外层为偶联剂层；
所述填充层由纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液形成，纳米二氧化硅溶液、苯丙乳液、丙烯酸乳液的重量比为100:5-10:2-5；
所述偶联剂层的偶联剂如下式1所示：
Figure DEST_PATH_IMAGE002A
式1；
所述填充层的厚度为0.1-0.3μm；
所述偶联剂层的厚度为0.1-0.2μm。
2.根据权利要求1所述的抛光瓷砖，其特征在于，所述偶联剂层、填充层均为2层。
3.根据权利要求1所述的抛光瓷砖，其特征在于，所述纳米二氧化硅溶液的固含量为10-25%；所述苯丙乳液的固含量为40-50%。
4.根据权利要求1所述的抛光瓷砖，其特征在于，所述纳米二氧化硅溶液的固含量为15-25%；所述苯丙乳液的固含量为45-50%；所述丙烯酸乳液的固含量为55-60%。
5.一种如权利要求1-4任一所述的抛光瓷砖的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1：将砖坯表面打磨光滑；
步骤2：将填充层所用原料喷涂于砖坯表面，并用带刷毛的滚辊组反复打磨；每平方米喷涂量为40g；打磨时间为0.5min；
步骤3：将偶联剂喷涂于步骤2处理后的砖坯表面，并用带刷毛的滚辊组反复打磨；每平方米喷涂量为2.0g；打磨时间为0.5min；
步骤4：重复步骤2和步骤3至少一次。
6.一种实现权利要求5所述方法的设备，其特征在于，包括依次布置的带打磨板的第一打磨机、带多个具有刷毛的滚辊组的第二打磨机、带多个具有刷毛的滚辊组的第三打磨机、带多个具有刷毛的滚辊组的第四打磨机、带多个具有刷毛的滚辊组的第五打磨机；
所述第一打磨机和第二打磨机之间设有用于喷淋填充层所用原料的第一喷头；所述第二打磨机和第三打磨机之间设有用于喷淋偶联剂的第二喷头；所述第三打磨机和第四打磨机之间设有用于喷淋填充层所用原料的第三喷头；所述第四打磨机和第五打磨机之间设有用于喷淋偶联剂的第四喷头。
7.根据权利要求6所述设备，其特征在于，所述第二打磨机、第三打磨机、第四打磨机、第五打磨机的滚辊组的滚辊数量均为10个。
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