CN107324655A - 一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料 - Google Patents

一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料 Download PDF

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Abstract

一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料,属于瓷砖制备技术领域。其特征在于:重量份组成包括:长石25~30份,晶彩熔块 15~20份,刚玉3~5份,高岭土 7~10份,氧化锌8~10份,硅灰石 8~11份,氧化钡1~3份,石英 10~15份。本发明的釉料在烧制后不但硬度高,而且会自然呈现出柔光效果,其表面的粗糙度也会出现天然大理石的触感,这种烧制后自然呈现的柔光效果和大理石触感在柔抛后会出呈现高度仿真的打磨大理石的视觉和触觉,并表现出更好的排污性。

Description

一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料
技术领域
[0001] —种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料,属于瓷砖制备技术领域。
背景技术
[0002] 柔光瓷砖,又称柔光雅面瓷砖,现有的制造工艺主要有以下几种:一是通过喷釉柜 或甩釉柜以湿式方式把透明的水晶粒子均匀平铺在陶瓷砖表面上,其优点是与坯体的结合 性好,缺点是干粒流动性差,易堵喷枪眼,生产不好控制,平整度较差,硬度较低;二是通过 淋釉柜以湿式方式把透明的水晶粒子均匀平铺在陶瓷砖表面上,优点是烧制成的瓷砖平整 度较好,缺点是硬度较低,干粒流动性差,易沉淀,生产不好控制;三是把干粒制成花釉通过 丝网印花机以印花的方式印在砖面上,虽然,其优点是干粒分布均匀,硬度高,平整度较好, 但是,由于花釉是釉与水晶粒子混合而成的,受花釉自身的性质所决定,而且网版破损率 大,成本高。现有的釉料中普遍采用水晶粒子才能实现柔光效果,导致柔光瓷砖的成品率较 低、生成成本高,或硬度较低、平整度较差。
发明内容
[0003] 本发明要解决的技术问题是:克服现有技术的不足,提供一种防污性、耐磨性好, 所得釉层视觉和触觉高度仿真的防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料。
[0004]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:该防污柔光大理石瓷砖的面釉釉 料,其特征在于,重量份组成包括:长石25〜30份,晶彩熔块15〜20份,刚玉3〜5份,高岭土 7〜 10份,氧化锌8〜10份,硅灰石8〜11份,氧化钡1〜3份,石英10〜15份。
[000S]本发明的釉料在烧制后不但硬度高,而且会自然呈现出柔光效果,其表面的粗糙 度也会出现天然大理石的触感,这种烧制后自然呈现的柔光效果和大理石触感在柔抛后会 出呈现高度仿真的打磨大理石的视觉和触觉,并表现出更好的排污性。
[0006]优选的,所述的重量份组成包括:长石27〜28份,晶彩熔块17〜18份,刚玉4份,高岭 土 8份,氧化锌9份,硅灰石9〜10份,氧化钡2份,石英12〜14份。本发明优选的釉料在烧制 后能够与大理石相似度更高的触感。
[0007]优选的,所述的晶彩熔块的质量百分比组成为氧化硅50%〜52%,氧化铝19%〜21%, 氧化钾1 • 5%〜2 • 5%,氧化钠〇 • 5%〜1 • 5%,氧化钙12%〜14%,氧化镁3 • 5%〜4 • 5%,氧化氟2 • 7%〜 3_3%,氧化磷0_8%〜1_2%,氧化硼4%〜6%。本发明给出晶彩熔块的组成对本发明的配方适应性 最好,能够使坯体和釉层的发色效果更好,两者的大理石纹理更加匹配。
[0008]更优选的,所述的晶彩恪块的质量百分比组成为:氧化娃51%,氧化招20%,氧化钾 2%,氧化钠1%,氧化钙13%,氧化镁4%,氧化氟3%,氧化磷1%,氧化硼5%。能够达到本发明的最 佳效果。
[0009] 优选的,釉料的细度为8〇〇〜900目。釉料颗粒大小能够影响烧成后的表面粗糙度, 优选的釉料细度在油料烧成后的表面粗糙度与大理石完全一致。
[0010] 优选的,所述的硅灰石为低温三斜硅灰石。优选的硅灰石不但能够使烧成后釉层 的硬度更大,更耐磨,而且使得釉层具有一种玉质温润感,触感更加舒适。
[0011]与现有技术相比,本发明的一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料所具有的有益效 果是:本发明的釉料制得瓷砖釉层的柔光效果结合亮光类瓷砖的高调明艳装饰和哑光类瓷 砖的低调内敛搭配效果,产品的反光率与天然大理石一直,从而达到人体舒适的视觉感受 以及无光污染的空间装饰效果。釉层的质感更柔和、光感细腻润泽,从而解决了亮光瓷砖产 品的光污染问题。从而营造出视觉舒适且具有艺术情调的温暖空间,以更适合人居环境的 “柔和空间”理念。釉层耐磨且不易刮花,同时也解决了仿古砖容易藏污的问题,清洁打理更 轻松。相对于全抛釉、微晶石出现划痕很容易显现出来,本柔光砖的划痕不容易看出。总之, 本发明能达到目测、触感与天然打磨大理石完全一致,并且防污性、耐磨性、发色效果、防 开裂等均优于天然大理石。
具体实施方式
[0012]下面结合具体实施例对本发明做进一步说明,其中实施例1为最佳实施例。
[0013] 实施例i 本实施例中所用晶彩熔块的组成均为氧化硅51%,氧化铝20%,氧化钾2%,氧化钠1%,氧 化钙13%,氧化镁4%,氧化氟3%,氧化磷1 %,氧化硼5%; 按重量份组成长石32份,晶彩熔块4份,叶腊石12.5份,白泥30份,高铝石18份将坯体 原料混合均匀,然后送入球磨机中进行球磨,然后过筛除铁,细度达到250目;随后经过喷雾 制粉工序形成粉料,之后经过压力为300bar的压机进行压制成型; 成型后放在大生产输送线上,先淋底釉;面釉喷墨打印为大理石图案,釉料的重量份组 成为:长石27份,晶彩熔块17份,刚玉4份,高岭土 8份,氧化锌9份,硅灰石10份,氧化钡2 份,石英13份; 之后进行烧成,最高温度为1120°C,烧成时间为60min; 釉烧后进行柔抛即得,柔抛的前半程采用柔抛工艺,柔抛工艺所用的磨料的细度为 4200目,最大切削厚度为0.02_;柔抛的后半程采用靠形抛光工艺; 通过检测,该实施例制备的柔光釉面砖的釉面光泽度为60°,表面粗糙度Ra值为0.44U m,具有较好的柔光效果;碳素笔画痕利用棉布毛巾能实现无水擦净。
[0014] 实施例2 本实施例中所用晶彩熔块的组成均为氧化硅51%,氧化铝20%,氧化钾2%,氧化钠1%,氧 化耗13%,氧化镁3 • 5%,氧化氟3.3%,氧化磷1.2%,氧化硼5%; 按重量份组成长石32份,晶彩熔块4份,叶腊石13份,白泥28份,高铝石19份将坯体原料 混合均匀,然后送入球磨机中进行球磨,然后过筛除铁,细度达到250目;随后经过喷雾制粉 工序形成粉料,之后经过压力为300bar的压机进行压制成型; 成型后放在大生产输送线上,先淋底釉;面釉喷墨打印为大理石图案,釉料的重量份组 成为:长石27份,晶彩熔块18份,刚玉4份,高岭土 8份,氧化锌9份,硅灰石10份,氧化钡2份, 石英12份; 之后进行烧成,最高温度为1120 °C,烧成时间为60min; 釉烧后进行柔抛即得,柔抛的前半程采用柔抛工艺,柔抛工艺所用的磨料的细度为 4000目,最大切削厚度为0. 01 mm;柔抛的后半程采用靠形抛光工艺; 通过检测,该实施例制备的柔光釉面砖的釉面光泽度为58°,表面粗糙度Ra值为0.42y m,具有较好的柔光效果;碳素笔画痕利用棉布毛巾能实现无水擦净。
[0015] 实施例3 本实施例中所用晶彩熔块的组成均为氧化硅51%,氧化铝20%,氧化钾2%,氧化钠1%,氧 化辛丐13%,氧化镁4.5%,氧化氟2.7%,氧化磷0.8,氧化硼5%; 按重量份组成长石33份,晶彩熔块4份,叶腊石12份,白泥32份,高铝石17份将坯体原料 混合均匀,然后送入球磨机中进行球磨,然后过筛除铁,细度达到250目;随后经过喷雾制粉 工序形成粉料,之后经过压力为300bar的压机进行压制成型; 成型后放在大生产输送线上,先淋底釉;面釉喷墨打印为大理石图案,釉料的重量份组 成为:长石28份,晶彩熔块17份,刚玉4份,高岭土 8份,氧化锌9份,硅灰石9份,氧化钡2 份,石英14份; 之后进行烧成,最高温度为1120°C,烧成时间为60min; 釉烧后进行柔抛即得,柔抛的前半程采用柔抛工艺,柔抛工艺所用的磨料的细度为 4500目,细度为4000〜4500目最大切削厚度为0.03mm;柔抛的后半程采用靠形抛光工艺; 通过检测,该实施例制备的柔光釉面砖的釉面光泽度为55°,表面粗糙度Ra值为0.38y m,具有较好的柔光效果;碳素笔画痕利用棉布毛巾能实现无水擦净。
[0016] 实施例4 本实施例中所用晶彩熔块的组成均为氧化硅50%,氧化铝21%,氧化钾1.5%,氧化钠 1 • 5%,氧化钙12%,氧化镁4.5%,氧化氟2.7%,氧化磷0.8%,氧化硼6%; 按重量份组成长石30份,晶彩熔块5份,叶腊石10份,白泥35份,高铝石15份将坯体原料 混合均匀,然后送入球磨机中进行球磨,然后过筛除铁,细度达到250目;随后经过喷雾制粉 工序形成粉料,之后经过压力为300bar的压机进行压制成型; 成型后放在大生产输送线上,先淋底釉;面釉喷墨打印为大理石图案,釉料的重量份组 成为:长石30份,晶彩熔块15份,刚玉5份,高岭土 7份,氧化锌10份,硅灰石8份,氧化钡3 份,石英10份; 釉烧后进行柔抛即得,柔抛的前半程采用柔抛工艺,柔抛工艺所用的磨料的细度为 3000目,最大切削厚度为0.1mm;柔抛的后半程采用靠形抛光工艺; 通过检测,该实施例制备的柔光釉面砖的釉面光泽度为67°,表面粗糙度Ra值为0.32U m,具有较好的柔光效果;碳素笔画痕利用棉布毛巾能实现无水擦净。
[0017] 实施例5 本实施例中所用晶彩熔块的组成均为氧化硅52%,氧化铝19%,氧化钾2.5%,氧化钠 0.5%,氧化钙14%,氧化镁3 • 5%,氧化氟3.3%,氧化磷1.2%,氧化硼4%; 按重量份组成长石35份,晶彩熔块3份,叶腊石15份,白泥25份,高铝石20份将坯体原料 混合均匀,然后送入球磨机中进行球磨,然后过筛除铁,细度达到250目;随后经过喷雾制粉 工序形成粉料,之后经过压力为300bar的压机进行压制成型; 成型后放在大生产输送线上,先淋底釉;面釉喷墨打印为大理石图案,釉料的重量份组 成为:长石25份,晶彩熔块20份,刚玉3份,高岭土 10份,氧化锌8份,硅灰石11份,氧化钡1份, 石英15份; 釉烧后进行柔抛即得,柔抛的前半程采用柔抛工艺,柔抛工艺所用的磨料的细度为 5000目,最大切削厚度为〇.〇〇5mm;柔抛步骤的后半程采用靠形抛光工艺; 通过检测,该实施例制备的柔光釉面砖的釉面光泽度为53°,表面粗糙度Ra值为48wn, 具有较好的柔光效果;碳素笔画痕利用棉布毛巾能实现无水擦净。
[0018] 对比例i 本实施例中所用晶彩溶块的组成均为氧化桂51%,氧化招2〇%,氧化钾2%,氧化钠1%,氧 化钙13%,氧化镁4%,氧化氟3%,氧化鱗1%,氧化硼5%; 按重量份组成长石32份,晶彩熔块4份,叶腊石12.5份,白泥30份,高铝石18份将坯体 原料混合均匀,然后送入球磨机中进行球磨,然后过筛除铁,细度达到250目;随后经过喷雾 制粉工序形成粉料,之后经过压力为300bar的压机进行压制成型; 成型后放在大生产输送线上,先淋底釉;面釉喷墨打印为大理石图案,釉料的重量份组 成为:石英27份,晶彩熔块20份,刚玉8份,高岭土4份,氧化锌12份,硅灰石7份,氧化钡2份, 长石13份; 之后进行烧成,最高温度为1120°C,烧成时间为60min; 釉烧后进行柔抛即得,柔抛的前半程采用柔抛工艺,柔抛工艺所用的磨料的细度为 4200目,最大切削厚度为0.02mm;柔抛的后半程采用靠形抛光工艺; 通过检测,该对比例制备的柔光釉面砖的釉面光泽度为87°,表面粗糙度Ra值为0 • 12u m,具有较强的亮光效果。
[0019]以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非是对本发明作其它形式的限制,任 何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等 效实施例。但是凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所 作的任何简单修改、等同变化与改型,仍属于本发明技术方案的保护范围。

Claims (6)

1. 一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料,其特征在于,重量份组成包括:长石25〜30份, 晶彩熔块15〜20份,刚玉3〜5份,高岭土 7〜10份,氧化锌8〜10份,硅灰石8〜11份,氧化钡1〜3 份,石英10〜15份。
2. 根据权利要求1所述的一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料,其特征在于:所述的重 量份组成包括:长石27〜28份,晶彩熔块17〜18份,刚玉4份,高岭土 8份,氧化锌9份,硅灰石 9〜10份,氧化钡2份,石英12〜14份。
3.根据权利要求1或2所述的一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料,其特征在于:所述 的晶彩熔块的质量百分比组成为氧化硅50%〜52%,氧化铝19%〜21%,氧化钾1.5%〜2.5%,氧化 钠0 • 5%〜1 • 5%,氧化钙12%〜14%,氧化镁3 • 5%〜4 • 5%,氧化氟2.7%〜3.3%,氧化磷0 • 8%〜1.2%,氧 化硼4%〜6%。
4.根据权利要求1或2所述的一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料,其特征在于:所述 的晶彩熔块的质量百分比组成为:氧化娃51%,氧化铝20%,氧化钾2%,氧化钠1%,氧化钙 13%,氧化镁4%,氧化氟3%,氧化磷1%,氧化硼5%。
5.根据权利要求1或2所述的一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料,其特征在于:釉料 的细度为800〜900目。
6.根据权利要求1或2所述的一种防污柔光大理石瓷砖的面釉釉料,其特征在于:所述 的桂灰石为低温二斜桂灰石。
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