CN101588996A - 玻璃基板成型用模具、玻璃基板的制造方法、信息记录介质玻璃基板的制造方法及信息记录介质的制造方法 - Google Patents

玻璃基板成型用模具、玻璃基板的制造方法、信息记录介质玻璃基板的制造方法及信息记录介质的制造方法 Download PDF

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Abstract

提供一种玻璃基板成型用模具、用该模具制造玻璃基板的制造方法等，其中，能够通过模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的方法，制造具有高平面度的玻璃基板。一种模具，备有下模和上模，其下模备有被供给熔融玻璃、用来加压被供给的该熔融玻璃的第1成型面，其上模备有用来在与第1成型面之间加压熔融玻璃的第2成型面，第1成型面中，加压后与熔融玻璃接触的周边部的表面粗糙度Ra，大于加压前与熔融玻璃接触的中心部的表面粗糙度Ra。

Description

玻璃基板成型用模具、玻璃基板的制造方法、信息记录介质玻璃基板的制造方法及信息记录介质的制造方法
技术领域
本发明涉及玻璃基板成型用模具、用该成型用模具制造玻璃基板的制造方法、使用由该制造方法制造的玻璃基板制造信息记录介质玻璃基板的制造方法，以及信息记录介质的制造方法。
背景技术
在具有利用磁、光、光磁等性质记录层的信息记录介质中，代表性的有磁盘。以往曾广泛采用铝基板作为磁盘的基板。但是近年来，随记录密度提高，要求降低磁头浮上量，使用玻璃基板作为磁盘基板的比例正在增加，玻璃基板与铝基板相比表面平滑性优异，而且表面缺陷少，所以能够实现降低磁头的浮上量。
这种磁盘等信息记录介质玻璃基板，是通过对被称之为坯料的玻璃基板施行研磨加工等制成。有关玻璃基板(坯料)的制造方法，周知的有模压成型和裁剪由漂浮法等制成的玻璃板等。这些方法中，尤其是直接模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的方法，可以期待高生产性，受到注目。
但是，模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的方法中，制成的玻璃基板其平面度差，必须退火工序等以修正平面度等，后工序花费大量时间和劳力，存在问题。
为了改善由于玻璃基板翘起引起的平面度恶化，有一种模压成型的方法被建议，其中采用的模具是对受模及对面模，或受模及对面模的成型面的至少一部分进行断热加工(例如参照专利文献1)。并且，专利文献1中，作为断热加工，还建议了使成型面成为粗面的方法。
但是，本发明人员通过实验发现，即使按照专利文献1的记载，使用上模的模压面及下模的模压面为粗面的模具，玻璃基板的翘起量也几乎没有降低，平面度也得不到改善。
本发明人员重复锐意检讨发现，模压成型熔融玻璃制成的玻璃基板其平面度恶化是由于模压成型时，熔融玻璃(玻璃基板)在中心部和周边部的冷却速度存在差异，熔融玻璃固化的时机存在偏差而引起的。熔融玻璃的中心部先与下模接触冷却固化，后与下模接触的周边部的冷却、固化变迟，此时的热收缩引起玻璃基板平面度恶化。即使按照专利文献1的记载，使用上模模压面及下模模压面为粗面的模具，但对于减小熔融玻璃在中心部与周边部的冷却速度差异来说是没有效果的，所以依然没有解决成型后玻璃基板翘起之问题。
专利文献1：特开平10-194763号公报。
发明内容
本发明鉴于上述技术问题，目的在于提供一种玻璃基板成型用模具、用该模具制造玻璃基板的制造方法、使用由该制造方法制成的玻璃基板制造信息记录介质玻璃基板的制造方法，以及信息记录介质的制造方法，其中，通过模压成型熔融玻璃制造玻璃基板，能够制造具有高平面度的玻璃基板。
为了解决上述课题，本发明具有下述特征。
1.一种用来模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的玻璃基板成型用模具，其特征在于，备有下模和上模，所述下模备有被供给所述熔融玻璃、用来加压被供给的该熔融玻璃的第1成型面，所述上模备有用来在与所述第1成型面之间加压所述熔融玻璃的第2成型面，所述第1成型面中，加压后与所述熔融玻璃接触的周边部的表面粗糙度Ra，大于加压前与所述被供给的熔融玻璃接触的中心部的表面粗糙度Ra。
2.上述1中记载的玻璃基板成型用模具，其特征在于，所述中心部的表面粗糙度Ra为0.05～3.00μm，所述周边部的表面粗糙度Ra为0.07～10.00μm。
3.上述1或2中记载的玻璃基板成型用模具，其特征在于，所述周边部的表面粗糙度Ra是所述中心部的表面粗糙度Ra的1.5倍以上20倍以下。
4.一种模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的玻璃基板的制造方法，其特征在于，
具有：熔融玻璃供给工序，向下模上形成的第1成型面供给熔融玻璃；加压工序，用所述第1成型面及上模上形成的第2成型面，边加压边冷却被供给到所述第1成型面的所述熔融玻璃，得到玻璃基板；
所述第1成型面中，加压后与所述熔融玻璃接触的周边部的表面粗糙度Ra，大于加压前与所述被供给的熔融玻璃接触的中心部的表面粗糙度Ra。
5.上述4中记载的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述中心部的表面粗糙度Ra为0.05～3.00μm，所述周边部的表面粗糙度Ra为0.07～10.00μm。
6.上述4或5中记载的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述周边部的表面粗糙度Ra是所述中心部的表面粗糙度Ra的1.5倍以上20倍以下。
7.上述4至6的任何一项中记载的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板是用来制造信息记录介质玻璃基板的玻璃基板。
8.一种信息记录介质玻璃基板的制造方法，其特征在于，备有研磨工序，研磨由上述7中记载的玻璃基板制造方法制造的玻璃基板。
9.信息记录介质的制造方法，其特征在于，具有形成记录层之工序，在由述8中记载的信息记录介质玻璃基板的制造方法制成的信息记录介质玻璃基板上，形成记录层。
根据本发明，能够从第1成型面的周边起部提高冷却速度，由此能够遍及所有熔融玻璃均匀固化的时机。因此，在模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的方法中，能够制造具有高平面度的玻璃基板。
附图说明
图1：本发明的玻璃基板成型用模具例示意图。
图2：下模11的模式图。
图3：被供给到模具的熔融玻璃中心部及周边部的温度变化曲线模式示意图。
图4：熔融玻璃供给工序中下模11和熔融玻璃23等的模式示意图。
图5：加压工序中玻璃基板成型用模具10和玻璃基板24的模式示意图。
图6：由本发明的信息记录介质玻璃基板制造方法制成的信息记录介质玻璃基板的一例示意图。
符号说明
10玻璃基板成型用模具
11   下模
12   上模
13   第1成型面
13a  第1成型面13的中心部
13b  第1成型面13的周边部
14   第2成型面
23   熔融玻璃
24   玻璃基板
30   信息记录介质玻璃基板
具体实施方式
以下参照附图，对本发明的实施方式作详细说明。
玻璃基板成型用模具
图1是本发明玻璃基板成型用模具的例子示意图。玻璃基板成型用模具10具有下模11和上模12，其中，下模11备有第1成型面13，其用来被供给熔融玻璃，加压被供给的该熔融玻璃；上模12备有第2成型面14，其用来在与下模11的第1成型面13之间加压熔融玻璃。
图2是下模11的模式图，图2(a)是俯视图，图2(b)是立体图。下模11的第1成型面13中，加压后才与熔融玻璃接触的周边部13b的表面粗糙度Ra，大于在加压前与熔融玻璃接触的中心部13a的表面粗糙度Ra。因此，能够提高从周边部的熔融玻璃的冷却速度，遍及所有熔融玻璃，固化的时机被均匀化，能够制造具有高平面度的玻璃基板。
在此，说明通过使第1成型面13周边部13b的表面粗糙度Ra大于中心部13a的表面粗糙度Ra能够提高玻璃基板平面度的理由。通过模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的方法中，向被保持在所定温度的模具，供给比模具高温的熔融玻璃。高温熔融玻璃在用上下模具加压期间变形同时放热，冷却固化形成玻璃基板。此时，放热的大部分从与模具的接触面进行。
下模11的第1成型面13被供给熔融玻璃时，熔融玻璃首先与第1成型面13的中心部13a接触，开始冷却。之后，被加压而延展的熔融玻璃的周边部在加压后开始与第1成型面13的周边部13b接触。所以熔融玻璃的中心部和周边部产生温度差。
图3是被供给到模具中的熔融玻璃中心部(与第1成型面13的中心部13a接触的部分)及周边部(与第1成型面13的周边部13b接触的部分)的温度变化曲线模式示意图。图3(a)的曲线，是采用以往周知的第1成型面的表面粗糙度遍及整个面都均匀的下模的情况，图3(b)的曲线，是采用本发明的玻璃基板成型用模具10的情况。曲线中，用虚线表示熔融玻璃中心部的温度变化，用实线表示熔融玻璃周边部的温度变化。
曲线的横轴为时间。T1表示熔融玻璃被供给到下模11的第1成型面13时，T2表示因加压而熔融玻璃与第1成型面13的周边部13b接触时，T3表示熔融玻璃的中心部温度达到T2的时间。曲线的纵轴为温度。T1表示下模11的温度，T2表示熔融玻璃固化的温度，T3表示被供给到下模11时的熔融玻璃温度。
玻璃本来是温度降低导致粘性连续增加的物质。因此，玻璃的固化温度T2严密地说不能定为1点，而应该认为是持有某幅度的温度范围。但是其幅度的大小在此并不太成为问题，所以忽视该幅度，用单纯化了的模式进行说明。此时可以认为T2是玻璃转移点(Tg)附近的温度。
采用以往的模具时，如图3(a)所示，一旦被供给熔融玻璃，便由于从下模11的第1成型面13的放热开始冷却。因此，熔融玻璃的中心部(虚线)是从熔融玻璃被供给到第1成型面13时(T1)起马上开始冷却，在时间T3时被冷却到玻璃的固化温度T2，最终接近下模11的温度T1。熔融玻璃的周边部(实线)比中心部慢，从由于加压而熔融玻璃与第1成型面13的周边部13b接触的T2起开始冷却，最终接近下模11的温度T1。
这里成为问题的是：熔融玻璃中心部温度达到T2时(T3)中心部与周边部的温度差(ΔT)。最终各温度接近下模11温度，但是在此之前，熔融玻璃周边部仅有相当于ΔT的量热收缩量大于中心部。熔融玻璃还没有固化之前，即使温度差引起热收缩量不同，也可以通过玻璃流动解消变形，所以不会成为问题。但在中心部达到T2之后，由于玻璃不能流动，所以不能解消热收缩量的差，于是玻璃基板的平面度恶化。
但是，本发明的玻璃基板成形用模具10，其中，第1成型面13周边部13b的表面粗糙度Ra大于中心部13a的表面粗糙度Ra。因此，周边部13b与熔融玻璃接触时的实效表面积大，熔融玻璃的放热速度快。因此如图3(b)所示，熔融玻璃周边部的冷却速度比中心部的冷却速度快，与此相应，能够减小熔融玻璃的中心部温度达到T2时(T3)中心部与周边部的温度差(ΔT)。结果，中心部与周边部的热收缩量差减小，能够得到具有高平面度的玻璃基板。
如上所述，通过使第1成型面13周边部13b的表面粗糙度Ra大于中心部13a的表面粗糙度Ra，能够得到提高玻璃基板平面度之效果。
第1成型面13周边部13b的表面粗糙度Ra大于中心部13a的表面粗糙度Ra，且通过使中心部13a的表面粗糙度Ra为0.05～3.00μm，所述周边部13b的表面粗糙度Ra为0.07～10.00μm范围，进一步提高玻璃基板的平面度。较优选中心部13a的表面粗糙度Ra为0.08～2.00μm，所述周边部13b的表面粗糙度Ra为0.10～8.00μm范围，更优选中心部13a的表面粗糙度Ra为0.10～1.50μm，所述周边部13b的表面粗糙度Ra为0.12～5.00μm范围。
如果中心部13a的表面粗糙度Ra小于0.05μm，则与熔融玻璃的反应性太高，玻璃与模具的脱模性大大降低，对于实现良好的平面度来说不优选，但如果大于3.00μm的话，则表面凹凸的影响太强，高温液体玻璃接触时发生起因于表面凹凸的固位凹效果，玻璃吃入，玻璃与模具不能彻底分离，容易出现伤痕、缺损、裂缝等表面缺陷，不优选。另外，如果周边部13b的表面粗糙度Ra小于0.07μm，则增大与熔融玻璃接触的实效表面积提高放热速度之效果减小，不优选，如果大于10μm，则由于氧化及与熔融玻璃的反应等，模具的劣化显著，不优选。
另外，通过使第1成型面13周边部13b的表面粗糙度Ra在中心部13a的表面粗糙度Ra的1.5倍以上，能够进一步提高玻璃基板的平面度。反之，如果第1成型面13周边部13b的表面粗糙度Ra超过中心部13a表面粗糙度Ra的20倍，则熔融玻璃周边部的冷却速度太快，玻璃基板的平面度反而有恶化的情况。因此，为了得到具有高平面度的玻璃基板，优选使第1成型面13周边部13b的表面粗糙度Ra在中心部13a表面粗糙度Ra的1.5倍以上20倍以下。
表面粗糙度Ra是指由JIS B0601：2001规定的算术平均高度Ra。表面粗糙度Ra可以用市场上销售的触针式表面粗糙度测定机等进行测定。
第1成型面13的周边部13b与中心部13a的境界位置没有特别限制，只要是加压前接触熔融玻璃的区域为中心部13a，加压后开始接触熔融玻璃的区域为周边部13b即可。境界的直径可以根据熔融玻璃的供给量和供给条件、所制造的玻璃基板的大小等适当设定。为了保持放热的平衡，得到具有高平面度的玻璃基板，尤其优选使周边部13b与中心部13a的境界直径为所制造的玻璃基板的直径的0.3倍～0.7倍。
玻璃基板成型用模具所采用的材料，只要是具有放热作用的材料都可以，优选耐热性高、腐蚀性(与玻璃的反应性)低、热传导良好的材料。与玻璃接触的模具的热传导低的话，熔融玻璃的冷却不充分，玻璃的固化不进展，需要长时间成型。高温状态下玻璃与模具长时间接触会引起玻璃与模具反应，导致脱模困难，模压成型后脱模时平面度恶化。优选模具材料的热传导(W/mK)在10以上，较优选在5以上，更优选在25以上。
具体可以举出下述物质。括号内表示热传导率(W/mK)。
铸造物(60～100)
碳钢(50)
耐热性不锈钢
奥氏体类：SUS302B(16)、SUS309B(15)、SUS309S(14)、SUS310S(14)、SUS316(14)、SUS316L(16)
铁酸盐类：SUS430(26)、SUS436L(25)、SUS444(25)
马氏体类：SUS403(25)、SUS431(20)、SUS440A(24)、SUS440B(24)、SUS440C(24)
其他：SUH660(15)
耐热特殊钢(不锈钢类之外)
铬镍铁合金：600、617、625、686、690、718(15)、751(14)
哈司特洛伊耐蚀高镍合金：HB、HC
アンビロイ(130)
科尔莫诺伊/Ni基合金：4、6、22、56
以碳化钨(WC)为主成分的超硬材料(30-75)
陶瓷原材料
碳化硅(75)
氮化硅(25)
氮化铝(170)
氧化铝(38)
氧化锆(3)
富铝红柱石(2)
堇青石(2)
叶长石(2)
碳类原材料
玻璃碳(6)
碳陶瓷(67)
另外，作为尤其优选的材料，可以举出下述物质。
马氏体类耐热不锈钢
耐热特殊钢(铬镍铁合金、アンビロイ)
以碳化钨(WC)为主体的超硬度钢
碳陶瓷
碳钢
上述材料可以单独使用，也可以混合后、叠层后作为复合材料。下模11和上模12可以用同种材料构成，也可以分别用不同材料构成。
在使第1成型面13的周边部13b的表面粗糙度Ra大于中心部13a的表面粗糙度Ra时，只要在制造模具时，适当设定研磨加工和研削加工的条件即可。还可以在将两者加工成同样表面粗糙度之后，通过吹送磨料处理和浸蚀处理第1成型面13的周边部13b进行粗面化。粗面化也可以在大气中通过由加热的氧化处理进行。在第1成型面13上形成保护膜时，可以先对基底进行粗面化，在其上形成保护膜，也可以先形成保护膜，然后对形成的保护膜进行粗面化。
本发明的玻璃基板成型用模具可以是1个上模12和1个下模11成组使用，也可以是多个任意一方或双方。例如，可以是1个上模12和1个下模11成组使用，以及2个以上上模和2个以上下模成组使用。
玻璃基板的制造方法
本发明的玻璃基板的制造方法是模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的方法，具有下述工序：熔融玻璃供给工序，向形成在下模11上的第1成型面13供给熔融玻璃；加压工序，用第1成型面13以及形成在上模12上的第2成型面14边加压边冷却被供给到第1成型面13的熔融玻璃，得到基板。模具是使用具有下模11的模具10，该下模11的第1成型面13中，加压后开始接触熔融玻璃的周边部13b的表面粗糙度Ra，大于加压前接触所述熔融玻璃中心部13a的表面粗糙度Ra。
熔融玻璃供给工序向形成在下模的第1成型面供给熔融玻璃。图4是熔融玻璃供给工序中的下模11和熔融玻璃23等的模式示意图。首先，从流出管口21流出熔融玻璃23，供给到下模11(图4(a))。一旦熔融玻璃达到所定量，由刀片22切断熔融玻璃23，分离熔融玻璃23(图4(b))。熔融玻璃供给工序中，被供给的熔融玻璃23与第1成型面13的中心部13a接触，主要通过从中心部13a的放热开始冷却。
下模11事先被加热到所定温度。下模11的温度没有特别限制，可以根据玻璃的种类和玻璃基板的尺寸等适当设定。下模11的温度太低会引起玻璃基板的平面度恶化、向转印面发生皱纹等问题。相反，如果加热到超过需要温度则与玻璃发生融着，模具的劣化显著，不优选。通常优选的温度范围是从成型玻璃的Tg(玻璃转移点)-200℃到Tg+100℃程度。
对下模11的加热手段也没有特别限制，可以从周知的加热手段中适当选择使用。例如，可以采用埋入下模11内部使用的筒形加热器，还有使之与下模11的外侧接触使用的片状加热装置等。还可以采用红外线加热装置、高频感应加热装置进行加热。
加压工序
加压工序是用第1成型面13以及形成在上模12上的第2成型面14边加压边冷却被供给到第1成型面13的熔融玻璃，得到基板24之工序。
图5是加压工序中玻璃基板成型用模具10和玻璃基板24的模式示意图。在熔融玻璃供给工序中被供给了熔融玻璃23的下模11水平移动到与上模12面对面的位置。之后由下模11的第1成型面13和上模12的第2成型面14加压熔融玻璃。经加压熔融玻璃延展，接触到第1成型面13的周边部13b。熔融玻璃通过从与第1成型面13以及第2成型面14的接触面放热而冷却、固化，形成玻璃基板24。
如上所述，本发明的制造方法中所使用的模具，其第1成型面13中，加压后开始与熔融玻璃接触的周边部13b的表面粗糙度Ra，大于加压前与所述熔融玻璃接触的中心部13a的表面粗糙度Ra。因此，从第1成型面周边部的放热速度大于从中心部的放热速度。结果能够减小熔融玻璃中心部的温度到达T2时(T3)中心部与周边部的温度差(ΔT)，能够得到具有高平面度的玻璃基板。
并且，上模12被加热到与下模11同样的所定温度。关于加热温度和加热手段与上述下模11的情况相同。加热温度可以与下模11相同也可以不同。
在下模11和上模12上加载加压熔融玻璃的加压手段，可以适当选择使用周知的加压手段。例如可以举出采用空气汽缸、油压汽缸、伺服马达的电动汽缸等。
信息记录介质玻璃基板的制造方法
通过至少对用上述制造方法制成的玻璃基板(坯料)进行研磨工序，能够制造信息记录介质玻璃基板。图6是用本发明的信息记录介质玻璃基板制造方法制成的信息记录介质玻璃基板的一例示意图。图6(a)是立体图，图6(b)是截面图。信息记录介质玻璃基板30是形成了中心孔33的圆板状玻璃基板，有主表面31、外周端面34、内周端面35。外周端面34和内周端面35上分别形成了去角部36、37。
研磨工序是对制成的玻璃基板(坯料)主表面进行研磨，加工成作为信息记录介质玻璃基板最终被要求的平滑性。研磨方法可以就此采用被用作信息记录介质玻璃基板制造方法的周知的方法。例如可以通过下述方法进行：在面对面配置的2个能够旋转的定盘相对的面上贴衬垫，将玻璃基板放在2个衬垫之间，使衬垫接触玻璃基板并旋转，同时向玻璃基板供给研磨剂。另外，优选改变研磨剂的粒度和衬垫的种类，分例如粗研磨工序、精密研磨工序等多个工序进行研磨。
作为研磨剂，可以举出例如氧化铈、氧化锆、氧化铝、氧化锰、胶体二氧化硅、金刚石等。其中，优选采用与玻璃反应性高、能够以短时间得到平滑研磨面的氧化铈。
衬垫可以分硬质衬垫和软质衬垫，可以根据需要适当选择使用。作为硬质衬垫，可以举出以硬质丝绒、尿烷泡沫、含有沥青的绒面革等为原材料的衬垫；作为软衬垫，可以举出以绒面革、丝绒等为原材料的衬垫。
本发明的信息记录介质玻璃基板的制造方法中，除了研磨玻璃基板(坯料)主表面的研磨工序之外，优选另外进行内外周加工工序和抛光工序。内外周加工工序是中心孔的穿孔加工、为了确保外周端面和内周端面的形状以及尺寸精度的研削加工、内外周端面的研磨加工等工序，抛光工序是为了使形成了记录层的面的平面度和厚度及平行度等得到满足，在研磨工序之前进行的抛光加工工序。采用化学强化玻璃和结晶玻璃作为玻璃基板材料时，可以根据需要适当进行：将玻璃基板浸渍在被加热过的化学强化处理液中进行离子交换的化学强化工序；通过热处理进行结晶化的结晶化工序等。这些内外周加工工序、抛光工序、化学强化工序、结晶化工序等各工序，可以通过通常被用作信息记录介质玻璃基板制造方法的方法进行。
本发明的信息记录介质玻璃基板的制造方法中，也可以有上述之外的各种工序。例如，为了缓和玻璃基板内部变形进行热处理的退火工序、为了确认玻璃基板强度信赖性的热震工序、除去残留在玻璃基板表面的研磨剂和化学强化处理液等异物的洗净工序、各种检查评价工序等。
玻璃基板的材料没有特别限制，可以适当选择使用被用作信息记录介质玻璃基板的材料。其中，优选耐冲击性耐振动性优异的化学强化玻璃和结晶玻璃。作为能够化学强化的玻璃材料，可以举出例如：以SiO2、Na2O、CaO为主要成分的碱石灰玻璃；以SiO2、Al2O3、R2O(R＝K、Na、Li)为主要成分的硅铝酸盐玻璃；硼硅酸盐玻璃；Li2O-SiO2类玻璃；Li2O-Al2O3-SiO2类玻璃；R’O-Al2O3-SiO2类玻璃(R’＝Mg、Ca、Sr、Ba)等。
玻璃基板的大小也没有特别限制。可以采用例如外径为2.5英寸、1.8英寸、1英寸、0.8英寸等各种大小的玻璃基板。玻璃基板的厚度也没有特别限制。可以采用例如1mm、0.64mm、0.4mm等各种厚度的玻璃基板。
信息记录介质的制造方法
通过在本发明的信息记录介质玻璃基板上至少形成记录层，能够制造信息记录介质。记录层没有特别限定，可以采用利用磁、光、光磁等性质的各种记录层，尤其适合于用磁性层作为记录层的信息记录介质(磁盘)的制造。
作为磁性层所用的磁性材料没有特别限定，可以适当选择使用周知的材料。可以举出例如以Co为主要成分的CoPt、CoCr、Co Ni、CoNiCr、CoCr Ta、CoPtCr、CoNiPt、CoNiCrPt、Co NiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtSiO等。也可以用非磁性膜(例如Cr、CrMo、CrV等)分割磁性层构成多层结构，以实现降低噪声。
作为磁性层，除了上述Co类材料之外，还可以采用铁酸盐类、铁-稀土族类材料、在由SiO2、BN构成的非磁性膜中散布了Fe、Co、CoFe、CoNiPt等磁性粒子构造的颗粒等。磁性层可以是面内型或垂直型的任意一种。
作为磁性膜的形成方法，可以采用周知的方法。可以举出例如溅射法、化学沉积法、旋涂法等。
可以进一步根据需要，在磁盘上设基底层、保护层、润滑层等。这些层都可以适当选择使用周知的材料。作为基底层，可以举出例如Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Ni等。作为保护层，可以举出例如Cr、Cr合金、C、ZrO2、SiO2等。作为润滑层，可以举出例如：涂布由全氟聚醚(PFPE)等构成的液体润滑剂，根据必要进行了加热处理的等。
实施例
实施例1～6
准备玻璃基板成型用模具，使下模的第1成型面中心部的表面粗糙度Ra为0.1μm，周边部的表面粗糙度Ra为0.12μm(实施例1)、0.15μm(实施例2)、0.5μm(实施例3)、1μm(实施例4)、2μm(实施例5)、3μm(实施例6)。通过调整研磨加工的磨石的磨粒度，进行表面粗糙度Ra的调整。这里以第1成型面中直径35mm圆内侧的区域为中心部，外侧区域为周边部。上模以及下模的材料采用超硬度钢(M 45，東芝タンガロイ株式会社制造)，热传导率为42W/mK。
下模和上模都加热到400℃，向第1成型面供给熔融玻璃后，在与上模的第2成型面之间进行模压成型。玻璃材料用硼硅酸盐。用上下模进行5秒加压后单方打开，回收玻璃基板。玻璃基板的外径约为70mm，玻璃基板的厚度约为1mm。
接下去测定所得玻璃基板的平面度。平面度用干涉仪测定，用偏离理想平面的量PV值表示。平面度的判定以10μm以下时为非常良好(判定：◎)、超过10μm在20μm以下时为良好(判定：○)。平面度超过20μm的话，为了制造信息记录介质玻璃基板的后工序必须大量的时间和劳力，所以存在问题(判定：×)。判定通过测定10张玻璃基板的平面度求得平均值进行。
在表1中出示结果。实施例1～6的平面度都在20μm以下，为良好。尤其是第1成型面周边部的表面粗糙度Ra为中心部的表面粗糙度Ra的1.5倍以上20倍以下的实施例2～5，平面度都在10μm以下，为非常良好。
【表1】
  第1成型面周边部13b的表面粗糙度Ra(μm)   第1成型面中心部13a的表面粗糙度Ra(μm)   玻璃基板的平面度(μm) 判定
 比较例1   0.05   0.1   32   ×
 比较例2   0.1   0.1   23   ×
 实施例1   0.12   0.1   14   ○
 实施例2   0.15   0.1   8   ◎
 实施例3   0.5   0.1   7   ◎
 实施例4   1   0.1   5   ◎
 实施例5   2   0.1   6   ◎
 实施例6   3   0.1   12   ○
比较例1、2
除了使下模第1成型面周边部的表面粗糙度Ra为0.05μm(比较例1)、0.1μm(比较例2)之外，其他与实施例1～6相同，进行玻璃基板的成型评价。结果一起出示在表1中。
比较例1、2的平面度都超过20μm，没有能得到良好的玻璃基板。
(实施例7～10)
准备玻璃基板成型用模具，使下模的第1成型面中心部的表面粗糙度Ra为1μm，周边部的表面粗糙度Ra为1.3μm(实施例7)、1.5μm(实施例8)、2μm(实施例9)、5μm(实施例10)。上模以及下模的材料采用碳陶瓷(BS11509，虹技株式会社制造)，热传导率67W/mK。其他用与实施例1～6相同的条件进行玻璃基板的成型评价。结果出示在表2中。
【表2】
  第1成型面周边部13b的表面粗糙度Ra(μm)   第1成型面中心部13a的表面粗糙度Ra(μm) 玻璃基板的平面度(μm) 判定
  比较例3   0.5   1   30   ×
  比较例4   1   1   22   ×
  实施例7   1.3   1   13   ○
  实施例8   1.5   1   8   ◎
  实施例9   2   1   6   ◎
  实施例10   5   1   5   ◎
实施例7～10的平面度都在20μm以下，为良好。尤其是实施例8～10的平面度都在10μm以下，为非常良好。
比较例3、4
除了使下模第1成型面周边部的表面粗糙度Ra为0.5μm(比较例3)、1μm(比较例4)之外，其他与实施例7～10相同，进行玻璃基板的成型评价。结果一起出示在表2中。
比较例3、4的平面度都超过20μm，没有能得到良好的玻璃基板。

Claims (9)

1.一种用来模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的玻璃基板成型用模具，其特征在于，
备有下模和上模，所述下模备有被供给所述熔融玻璃、用来加压被供给的该熔融玻璃的第1成型面，所述上模备有用来在与所述第1成型面之间加压所述熔融玻璃的第2成型面，
所述第1成型面中，加压后与所述熔融玻璃接触的周边部的表面粗糙度Ra，大于加压前与所述被供给的熔融玻璃接触的中心部的表面粗糙度Ra。
2.权利要求1中记载的玻璃基板成型用模具，其特征在于，所述中心部的表面粗糙度Ra为0.05-3.00μm，所述周边部的表面粗糙度Ra为0.07-10.00μm。
3.权利要求1或2中记载的玻璃基板成型用模具，其特征在于，所述周边部的表面粗糙度Ra是所述中心部的表面粗糙度Ra的1.5倍以上20倍以下。
4.一种模压成型熔融玻璃制造玻璃基板的玻璃基板的制造方法，其特征在于，
具有：熔融玻璃供给工序，向下模上形成的第1成型面供给熔融玻璃；加压工序，用所述第1成型面及上模上形成的第2成型面，边加压边冷却被供给到所述第1成型面的所述熔融玻璃，得到玻璃基板；
所述第1成型面中，加压后与所述熔融玻璃接触的周边部的表面粗糙度Ra，大于加压前与所述被供给的熔融玻璃接触的中心部的表面粗糙度Ra。
5.权利要求4中记载的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述中心部的表面粗糙度Ra为0.05-3.00μm，所述周边部的表面粗糙度Ra为0.07-10.00μm。
6.权利要求4或5中记载的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述周边部的表面粗糙度Ra是所述中心部的表面粗糙度Ra的1.5倍以上20倍以下。
7.权利要求4至6的任何一项中记载的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板是用来制造信息记录介质玻璃基板的玻璃基板。
8.一种信息记录介质玻璃基板的制造方法，其特征在于，备有研磨工序，研磨通过权利要求7中记载的玻璃基板制造方法制造的玻璃基板。
9.一种信息记录介质的制造方法，其特征在于，具有形成记录层之工序，在通过权利要求8中记载的信息记录介质玻璃基板的制造方法制成的信息记录介质玻璃基板上，形成记录层。
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