JP2009292690A - ガラス基板ブランクス、ガラス基板ブランクスの製造方法、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】溶融ガラスをプレス成形してガラス基板ブランクスを製造する方法において、ガラス基板ブランクスを金型から離型するときにガラス基板ブランクスの厚みが薄くなっても割れが発生せず、また、平面性の高いガラス基板ブランクス、該ガラス基板ブランクスの製造方法、該製造方法で製造したガラス基板ブランクスを用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体を提供する。
【解決手段】ガラス基板ブランクスの少なくとも一方の表面が、粗面部からなるパターンを有すること。
【選択図】図１

Description

本発明は、ガラス基板ブランクス、ガラス基板ブランクスの製造方法、該製造方法で製造したガラス基板ブランクスを用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体に関する。

磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体のなかで、代表的なものとして磁気ディスクがある。磁気ディスク用基板として、従来アルミニウム基板が広く用いられていた。しかし、近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減の要請に伴い、アルミニウム基板よりも表面の平滑性に優れ、しかも表面欠陥が少ないことから磁気ヘッド浮上量の低減を図ることができるガラス基板を磁気ディスク用基板として用いる割合が増えてきている。また、ガラス基板の製造コストを低減するために基板の厚みを薄くすることが要望されてきている。

このような磁気ディスク等の情報記録媒体用ガラス基板は、ブランク材と呼ばれるガラス基板ブランクスに研磨加工等を施すことによって製造される。ガラス基板ブランクスは、プレス成形によって製造する方法や、フロート法等によって作製された板ガラスを切断して製造する方法等が知られている。これらの方法うち、溶融ガラスを直接プレス成形することによってガラス基板ブランクスを製造する方法は、特に高い生産性が期待できることから注目されている。

しかし、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板ブランクスを製造する方法においては、プレス成形後、金型の成形面からガラス基板ブランクスを剥離するときに割れるという問題があった。特にガラス基板ブランクスの厚さが薄くなると割れやすくなり、生産性が低下するという問題が生じる。

また、作成したガラス基板ブランクスを磁気ディスク用ガラス基板に加工する際に、ガラス基板ブランクスの厚さが薄くなると、最終製品までの加工取しろが減少する。そのため、ガラス基板ブランクスの表面性状である粗さやウネリを、より小さくしないと、加工により十分対応できなくなる。しかし、ガラス基板ブランクスの粗さやウネリを小さくすると、加工時の抵抗（摩擦）が十分でなくなり、結果として加工速度が遅くなり、生産性が低下するという問題が生じる。

ガラス基板ブランクスの製造時における割れの問題に対して、特許文献１においては、プレス成形後の型開き工程において、上型に設けられた貫通口から気体を供給することで離型性を良くする方法が提案されている。
特開２００２−１８７７２７号公報

しかしながら、特許文献１の記載に従った方法を用いた本発明者らによる実験によれば、特にガラス基板ブランクスの厚みが薄くなると、気体による冷却によって局部的に過度に冷やされ、強い歪が残留して成形時や、加工工程で割れやすくなるという問題は解決できなかった。また、貫通穴にガラスが噛み込んでしまい、返って離型性を損なうこともあった。更に、成形時の歪みが、ガラス基板ブランクスの平面性を悪化させ、ガラス基板ブランクスに加工を加える時の加工バラツキの発生や加工速度の低下を招き、生産性が低下するという問題もあった。

本発明は上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板ブランクスを製造する方法において、ガラス基板ブランクスを金型から離型するときにガラス基板ブランクスの厚みが薄くなっても割れが発生しないガラス基板ブランクス及びガラス基板ブランクスの製造方法を提供することである。また、第２の目的は、前記ガラス基板ブランクスを用いることにより、ガラス基板製造時の加工速度を落とすことなく、生産性の高い情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供、及び該情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いた情報記録媒体の製造方法と情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体を提供することである。

上記の課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有するものである。

１．
表面を加工することによりガラス基板を製造するためのガラス基板ブランクスにおいて、
該ガラス基板ブランクスの少なくとも一方の表面が、粗面部からなるパターンを有することを特徴とするガラス基板ブランクス。

２．
前記パターンは、該パターンが形成されたガラス基板ブランクスの表面の中心を同心とする複数の円を有することを特徴とする前記１に記載のガラス基板ブランクス。

３．
前記パターンは、該パターンが形成されたガラス基板ブランクスの表面の中心を起点とする放射形状を有することを特徴とする前記１に記載のガラス基板ブランクス。

４．
前記パターンは、複数の正６角形を有することを特徴とする前記１に記載のガラス基板ブランクス。

５．
前記パターンは、該パターンが形成されたガラス基板ブランクスの表面の中心に対して対称であることを特徴とする前記１乃至４の何れか１項に記載のガラス基板ブランクス。

６．
前記粗面部の表面粗さＲａは、０．１μｍ以上３．０μｍ以下であることを特徴とする前記１乃至５の何れか１項に記載のガラス基板ブランクス。

７．
前記粗面部の幅は、０．２ｍｍ以上５ｍｍ以下であることを特徴とする前記１乃至５の何れか１項に記載のガラス基板ブランクス。

８．
前記パターンの面積は、該パターンが形成されたガラス基板ブランクスの表面の０．０１％以上３０％以下であることを特徴とする前記７に記載のガラス基板ブランクス。

９．
前記１乃至８の何れか１項に記載のガラス基板ブランクスをガラス基板ブランクス成形用金型を用いて製造するガラス基板ブランクスの製造方法であって、
前記ガラス基板ブランクス成形用金型の下型の成形面または上型の成形面の少なくともどちらか一方に、前記ガラス基板ブランクスの表面に形成する粗面部からなるパターンに対応した粗面領域を有し、
前記ガラス基板ブランクス成形用金型の下型の成形面に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程と、
前記下型の成形面に供給された前記溶融ガラスを、前記ガラス基板ブランクス成形用金型の上型の成形面で加圧しながら冷却してガラス基板ブランクスを得る加圧工程と、
を有することを特徴とするガラス基板ブランクスの製造方法。

１０．
前記１乃至８の何れか１項に記載のガラス基板ブランクスの表面を研磨し、情報記録媒体用ガラス基板を製造することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

１１．
前記１０に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板に記録層を形成し、情報記録媒体を製造することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。

１２．
前記１０に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いて製造されることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。

１３．
前記１２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする情報記録媒体。

本発明によれば、ガラス基板の厚みが薄くなってもガラス基板ブランクスを金型から離型するときに、割れが発生せず、また、変形の少ない平面性の高いガラス基板ブランクスが得られる。よって、高品質なガラス基板ブランクスとその製造方法を提供することができる。また、本発明のガラス基板ブランクスを用いることにより、ガラス基板ブランクスの剛性が向上し、ガラス基板ブランクスを加工するときの変形を抑制できる。また、表面を粗面化しているので、表面研磨加工の加工速度が速い。よって、加工安定性が向上し、歩留まりの向上した生産性の高い情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体を提供することができる。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。

（ガラス基板ブランクス）
本発明のガラス基板ブランクスは、該ガラス基板ブランクスの少なくとも一方の表面が、粗面部からなるパターンを有するものである。この粗面部からなるパターンを表面に形成することにより、溶融ガラスをプレス成形した後、金型から成形されたガラス基板ブランクスを離型させるときに離型性が向上し、割れが発生しない。また、成形後の平面性も高く、その後の表面研磨加工においても、割れの発生を抑制できる。また、表面研磨加工時に粗面部の加工速度が速くなり、生産性が向上する。

これは、ガラス基板ブランクスの表面に粗面部からなるパターンを形成することで、ガラス基板ブランクスの剛性が向上し、離型時の応力集中や加工時の変形を抑制することにより、割れを抑制でき、高い平面性を得ることと、粗面部に研磨砥石がかかりやすく、研磨レートが上がるためであると考えられる。

また、パターンとしては、ガラス基板ブランクスの表面の中心を同心とする複数の円からなる形状や、表面の中心を起点とする放射状の形状、正６角形からなる形状などを用いることができる。

また、このパターンは、ガラス基板ブランクスの表面の中心に対して対称であることが好ましい。このガラス基板ブランクスの表面の中心に対して対称である粗面部からなるパターンを形成することにより、ガラス基板ブランクスの成形時に均等な成形応力を発生させる為、成形時や加工工程での割れを大幅に抑制する効果を持つ。

また、粗面部からなるパターンの粗面部の表面粗さＲａは、０．１μｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましい。０．１μｍ未満または３．０μｍを越えると離型性が低下し好ましくない。

また、粗面部の幅は、０．２ｍｍ以上５ｍｍ以下であることが好ましい。０．２ｍｍ未満であっても、また５ｍｍを越えても、ガラス基板の離型性が悪くなり、好ましくない。

また、粗面部からなるパターンの面積は、該パターンが形成されたガラス基板ブランクスの表面の面積の０．０１％以上３０％以下であることが好ましい。この時のパターンの面積とは、ガラス基板ブランクスの表面に粗面部のパターンが形成されていないときの表面の面積に対し、パターンが形成された部分の占める面積である。この面積が０．０１％未満又は３０％越えであるとガラス基板の離型性が悪くなり、好ましくない。

図１は、本発明のガラス基板ブランクスの第１の実施形態の模式図である。図１（ａ）はガラス基板ブランクス１を上方から見た平面図、図１（ｂ）は、図１（ａ）におけるＡ−Ａの断面図である。

本発明の第１の実施形態のガラス基板ブランクス１は、表面１５、１６のうち、片方の表面１５には、幅Ｈ、表面粗さＲａの粗面部２０が、中心Ｐから放射状に８本の帯として形成され、帯と帯との間の角度θがそれぞれ４５度となるパターンを有している。このパターンは、成形面１１の中心Ｐに対して対称である。本実施形態では、片方の表面１５にのみ、粗面部２０のパターンを形成しているが、もう一方の表面１６に形成しても良い。

パターンとしては、図１（ａ）の他に、図２の表面１５の中心Ｐを同心とする粗面部同士の間隔Ｌの複数の円を有するパターンや、図３の中心Ｐからの放射状の直線と同心円とからなるパターン、図４の複数の正６角形からなる形状を有するパターン、図５の複数の三角形を組み合わせたパターン、図６の中心から伸びる複数の曲線が表面の中心Ｐに対して対称性を有するように配置されたパターンなどを用いることができる。パターンは、これらに限らず、ガラス基板ブランクスの表面の中心Ｐに対して対称性を有するパターンであれば、好ましく用いることができる。

次に本発明のガラス基板ブランクスを製造する方法について説明する。

（ガラス基板ブランクスの製造方法）
図７は、本発明のガラス基板ブランクスをプレス成形で作成するための金型の模式図である。ガラス基板ブランクス成形用金型１０は、溶融ガラスが供給され、供給された該溶融ガラスを加圧するための第１の成形面１３を備える下型１１と、下型１１の第１の成形面１３との間で溶融ガラスを加圧するための第２の成形面１４を備える上型１２とを有している。

本発明におけるガラス基板ブランクスの製造方法は、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造する方法であり、下型１１に形成された第１の成形面１３に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程と、第１の成形面１３、及び上型１２に形成された第２の成形面１４で、第１の成形面１３に供給された溶融ガラスを加圧しながら冷却してガラス基板ブランクスを得る加圧工程とを有している。金型の成形面には、前述した本発明のガラス基板ブランクスを成形するために、ガラス基板ブランクスの粗面部のパターンに対応した粗面領域が形成されている。

（溶融ガラス供給工程）
溶融ガラス供給工程は、下型に形成された第１の成形面に溶融ガラスを供給する工程である。図８は、溶融ガラス供給工程における下型１１と溶融ガラス２３等を示す模式図である。先ず、流出ノズル２１から溶融ガラス２３を流出して下型１１に供給する（図８（ａ））。その後、溶融ガラスが所定量に達するとブレード２２によって溶融ガラス２３を切断し、溶融ガラス２３を分離する（図８（ｂ））。溶融ガラス供給工程において供給された溶融ガラス２３は第１の成形面１３の中心部と接触し、主にそこからの放熱によって冷却が始まる。

下型１１は予め所定温度に加熱しておく。下型１１の温度に特に制限はなく、ガラスの種類やガラス基板のサイズ等によって適宜決定すればよい。下型１１の温度が低すぎるとガラス基板の平面度が悪化したり、転写面へのしわの発生、熱衝撃による破損等の問題が起こる。逆に、必要以上に温度を高くしすぎると、ガラスとの融着が発生したり、金型の劣化が著しくなることから好ましくない。通常は、成形するガラスのＴｇ（ガラス転移点）−２００℃からＴｇ＋１００℃程度の温度範囲とすることが好ましい。

下型１１の加熱手段にも特に制限はなく、公知の加熱手段の中から適宜選択して用いることができる。例えば、下型１１の内部に埋め込んで使用するカートリッジヒーターや、下型１１の外側に接触させて使用するシート状のヒーターなどを用いることができる。また、赤外線加熱装置や、高周波誘導加熱装置を用いて加熱することもできる。

（加圧工程）
加圧工程は、第１の成形面１３、及び上型１２に形成された第２の成形面１４で、第１の成形面１３に供給された溶融ガラスを加圧しながら冷却してガラス基板ブランクス１を得る工程である。

図９は、加圧工程におけるガラス基板ブランクス成形用金型１０とガラス基板ブランクス１を示す模式図である。溶融ガラス供給工程において溶融ガラス２３が供給された下型１１は、上型１２と対向する位置まで水平移動する。その後、下型１１の第１の成形面１３と、上型１２の第２の成形面１４とで溶融ガラスを加圧する。溶融ガラスは、加圧によって広がって第１の成形面１３の周辺部にも接触する。溶融ガラスは第１の成形面１３及び第２の成形面１４との接触面から放熱することによって冷却・固化し、ガラス基板ブランクス１となる。

なお、上型１２は、下型１１と同様に所定温度に加熱されている。加熱温度や加熱手段については上述の下型１１の場合と同様である。加熱温度は下型１１と同じであっても良いし異なっていても良い。

下型１１と上型１２に荷重を負荷して溶融ガラスを加圧するための加圧手段は、公知の加圧手段を適宜選択して用いることができる。例えば、エアシリンダ、油圧シリンダ、サーボモータを用いた電動シリンダ等が挙げられる。

次に上型１２をガラス基板ブランクス１から離間させ、吸着部材等で下型１１からガラス基板を取り出す。

本発明のガラス基板ブランクスの製造方法においては成形面に図１（ａ）に示すガラス基板ブランクスの粗面部からなるパターンに対応した粗面領域が形成されている。よって、成形後のガラス基板ブランクスの表面には、粗面部からなるパターンが形成されることにより、上型１２を離間させるときや、下型１１から取り出すときに、ガラス基板ブランクス１を容易に離型させることができ、割れやキズの発生を抑制し、平面性を高くすることができる。

（情報記録媒体用ガラス基板の製造方法）
上述の製造方法によって製造されたガラス基板ブランクスに、少なくとも研磨工程を加えることにより情報記録媒体用ガラス基板を製造することができる。図１０は、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造した情報記録媒体用ガラス基板の１例を示す図である。図１０（ａ）は斜視図、図１０（ｂ）は断面図である。情報記録媒体用ガラス基板３０は中心穴３３が形成された円板状のガラス基板であって、主表面３１、外周端面３４、内周端面３５を有している。外周端面３４と内周端面３５には、それぞれ面取り部３６、３７が形成されている。

本発明の平面性の高いガラス基板ブランクスを用いることで、ガラス基板ブランクスの表面を研磨加工するときに、研磨のバラツキを抑制することができる。

研磨工程は、製造されたガラス基板ブランクスの表面を研磨する工程であり、最終的に情報記録媒体用ガラス基板として要求される平滑性に仕上げる工程である。研磨の方法は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として用いられる公知の方法をそのまま用いることができる。例えば、対向配置した２つの回転可能な定盤の対向する面にパッドを貼り付け、２つのパッド間にガラス基板ブランクスを配置し、ガラス基板表面にパッドを接触させながら回転させると同時に、ガラス基板ブランクスの表面に研磨剤を供給する方法で行うことができる。また、研磨剤の粒度やパッドの種類を変えて、粗研磨工程、精密研磨工程といったように複数の工程に分けて研磨を行うことも好ましい。

研磨剤としては、例えば、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ、ダイヤモンドなどが挙げられる。この中でも、ガラスとの反応性が高く、短時間で平滑な研磨面が得られる酸化セリウムを用いることが好ましい。

パッドは硬質パッドと軟質パッドとに分けられるが、必要に応じて適宜選択して用いることができる。硬質パッドとしては、硬質ベロア、ウレタン発泡、ピッチ含有スウェード等を素材とするパッドが挙げられ、軟質パッドとしては、スウェードやベロア等を素材とするパッドが挙げられる。

また、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板ブランクスの表面を研磨する研磨工程の他、内外周加工工程やラッピング工程を行うことが好ましい。内外周加工工程は、中心孔の穿孔加工、外周端面や内周端面の形状や寸法精度確保のための研削加工、内外周端面の研磨加工等を行う工程であり、ラッピング工程は、記録層が形成される面の平面度、厚み、平行度等を満足させるため、研磨工程の前にラッピング加工を行う工程である。更に、ガラス基板の材料として化学強化ガラスや結晶化ガラスを用いる場合には、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬してイオン交換を行う化学強化工程や、熱処理によって結晶化を行う結晶化工程等を必要に応じて適宜行うことができる。これらの内外周加工工程、ラッピング工程、化学強化工程、結晶化工程等の各工程は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として通常用いられている方法により行うことができる。

なお、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、上記以外の種々の工程を有していても良い。例えば、ガラス基板の内部歪みを緩和するための熱処理を行うアニール工程、ガラス基板の強度の信頼性確認のためのヒートショック工程、ガラス基板の表面に残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する洗浄工程、種々の検査・評価工程等を有していても良い。

ガラス基板の材料に特に制限はなく、情報記録媒体用ガラス基板の材料として用いられる材料を適宜選択して用いることができる。中でも、化学強化ガラスや結晶化ガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため好ましい。化学強化が可能なガラス材料としては、例えば、ＳｉＯ_２、Ｎａ_２Ｏ、ＣａＯを主成分としたソーダライムガラス；ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｒ_２Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；Ｌｉ_２Ｏ−ＳｉＯ_２系ガラス；Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス；Ｒ’Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）などが挙げられる。

ガラス基板の大きさにも特に制限はない。例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチ等種々の大きさのガラス基板を用いることができる。また、ガラス基板の厚みにも制限はない。例えば、１ｍｍ、０．６４ｍｍ、０．４ｍｍ等種々の厚みのガラス基板を用いることができる。

（情報記録媒体の製造方法）
本発明の情報記録媒体用ガラス基板に、少なくとも記録層を形成することで情報記録媒体を製造することができる。図１２に情報記録媒体用ガラス基板３０の表面３１に記録層５１を形成した情報記録媒体５０の断面図を示す。記録層５１は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層を用いることができるが、特に磁性層を記録層として用いた情報記録媒体（磁気ディスク）の製造に好適である。

磁性層に用いる磁性材料としては、特に制限はなく公知の材料を適宜選択して用いることができる。例えば、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯなどが挙げられる。また、磁性層を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成としてもよい。

磁性層として、上記のＣｏ系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、ＳｉＯ２、ＢＮなどからなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＣｏＦｅ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性層は、面内型、垂直型の何れであっても良い。

磁性膜の形成方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、スパッタリング法、無電解メッキ法、スピンコート法などが挙げられる。

磁気ディスクには、更に必要により下地層、保護層、潤滑層等を設けても良い。これらの層はいずれも公知の材料を適宜選択して用いることができる。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどが挙げられる。保護層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｃ、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２などが挙げられる。また、潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。

（実施例１〜２２）
ガラス基板ブランクスの粗面部からなるパターンのタイプ１の実施例として、図１に示すようなガラス基板ブランクスの表面の中心Ｐを起点とする複数の幅Ｈの粗面部からなる帯が放射状に広がったパターンからなり、各帯と帯との間の角度θ、粗面部の表面粗さＲａ、パターンの面積率Ｓ（ガラス基板ブランクスの半径Ｒ、幅Ｈの帯状の粗面部の占める面積Ａとするとき、Ｓ＝Ａ／πＲ^２×１００）が、それぞれ表１に示すものを用いて、実施例１〜１０とした。

また、ガラス基板ブランクスの粗面部からなるパターンのタイプ２の実施例として、図２に示すようなガラス基板ブランクスの表面の中心Ｐを同心とする複数の幅Ｈの粗面部からなる帯の円を有するパターンからなり、中心Ｐと最も内側の帯との間隔及び各隣り合う帯同士の間隔Ｌ、粗面部からなる帯の幅Ｈ、粗面部の表面粗さＲａ、パターンの面積率Ｓが、それぞれ表２に示すものを用いて、実施例１１〜１３とした。

また、ガラス基板ブランクスの粗面部からなるパターンのタイプ３の実施例として、図１１に示すような円形の粗面部がガラス基板ブランクスの表面の中心に対して対照的に配置されたパターンであって、円形の粗面部の直径ｄ１、ガラス基板ブランクスの表面の中心からの距離Ｌ１、隣り合う円形の粗面部との角度θ１、粗面部の表面粗さＲａ、円形の粗面部からなるパターンの面積率Ｓを表３に示すものを用いて、実施例１４〜１９とした。円形の粗面部以外の粗面化されていない領域の表面粗さＲａは、０．０５μｍとした。

また、ガラス基板ブランクスの表面と裏面の両方の表面に前記それぞれのタイプのパターンを形成した。ガラス基板ブランクスをプレス成形するための成形用金型の上型及び下型の材質はＳＵＳ３１０Ｓを用い、それぞれの成形面にパターンに対応した粗面領域を設けた。

下型と上型を共に４００℃に加熱し、溶融ガラスを下型の第１の成形面に供給した後、上型の第２の成形面との間でプレス成形を行った。ガラス材料はボロシリケートガラスを用いた。上下の金型で５秒間加圧した後、上型を離間させ、ガラス基板を取り出した。ガラス基板の外径は約７０ｍｍ、ガラス基板の厚みは約１ｍｍであった。
（実施例２０）
実施例２０においては、実施例１における成形用金型の上型の成形面に粗面領域を設けず、ガラス基板ブランクの表面の表面（成形用金型の上型の成形面に接触する面）に粗面部からなるパターンを形成しなかった他は実施例１と同様にガラス基板を製造した。
（実施例２１）
実施例２１においては、実施例１における成形用金型の下型の成形面に粗面領域を設けず、ガラス基板ブランクスの裏面の表面（成形用金型の下型の成形面に接触する面）に粗面部からなるパターンを形成しなかった他は実施例１と同様にガラス基板を製造した。
（比較例１）
比較例１として、実施例１における成型用金型の上型及び下型のそれぞそれの成形面に粗面領域を設けず、ガラス基板ブランクスの表面及び裏面の表面に粗面部からなるパターンを形成しなかった他は実施例１と同様にガラス基板を製造した。
（評価）
上型を離間させたときのガラス基板との離型性、下型から取り出すときのガラス基板の離型性の評価を取り出した後のガラス基板に発生する割れ、欠け、クラック等の成形欠陥の有無で行った。ガラス基板１００枚を製造し、成形欠陥の全く発生しなかったものを◎、１カ所の成形欠陥の発生したものを○、成形欠陥が２カ所以上発生したものを×とした。また、割れやカケの発生しなかったガラス基板ブランクスの平面度を光干渉式平面度測定器（ＺＹＧＯ社製のＨｅ−Ｎｅレーザ光：波長０．６３２８μｍ）を用いて測定し平均値を算出した。平面度３μｍ以下を◎、３μｍを越えて５μｍ以下を○、５μｍを越えるものを×とした。平面度が５μｍを越えると、その後の情報記録媒体用ガラス基板を製造する過程での研磨工程で安定した研磨を行うことができず、製品の歩留まりが低下することが分かっている。評価結果を表１〜表３に示す。

表１〜表３の実施例１〜２１及び比較例１の結果から、ガラス基板ブランクスの表面に粗面部からなるパターンを形成することにより、プレス成形後のガラス基板ブランクスの剥離性が向上し、剥離時の割れやキズの発生を抑制でき、平面性が向上することが分かる。また、実施例１〜実施例５を比較すると、粗面部の表面粗さＲａは、０．１μｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましいといえる。更に、実施例６〜実施例１０を比較すると、粗面部の幅は、０．２ｍｍ以上５ｍｍ以下であることが好ましいといえる。また、実施例１１〜実施例１３からは、粗面部のパターンとして複数の同心円状のパターンであっても、成形面の中心を起点とする放射状のパターンと同様な効果が認められる。また、実施例１４〜１９の結果からガラス基板ブランクスの表面に占める粗面部からなるパターンの面積率Ｓは、０．０１％〜３０％がより好ましいことがわかる。

本発明のガラス基板ブランクスの表面の粗面部からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板ブランクスの表面の粗面部からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板ブランクスの表面の粗面部からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板ブランクスの表面の粗面部からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板ブランクスの表面の粗面部からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板ブランクスの表面の粗面部からなるパターンを示す模式図である。 ガラス基板ブランクスの成形用金型の例を示す図である。 ガラス基板ブランクス成形用金型の下型に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程を説明するための模式図である。 ガラス基板ブランクス成形用金型により溶融ガラスを加圧する加圧工程を示す模式図である。 本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造した情報記録媒体用ガラス基板の１例を示す図である。 本発明のガラス基板ブランクスの表面の粗面部からなるパターンを示す模式図である。 本発明の情報記録媒体の１例の断面を示す模式図である。

符号の説明

１ ガラス基板ブランクス
１０ 成形用金型
１１ 下型
１２ 上型
１３ 第１の成形面
１４ 第２の成形面
２０ 粗面部
２３ 溶融ガラス
３０ 情報記録媒体用ガラス基板
５０ 情報記録媒体

Claims (13)

1. 表面を加工することによりガラス基板を製造するためのガラス基板ブランクスにおいて、
   該ガラス基板ブランクスの少なくとも一方の表面が、粗面部からなるパターンを有することを特徴とするガラス基板ブランクス。
2. 前記パターンは、該パターンが形成されたガラス基板ブランクスの表面の中心を同心とする複数の円を有することを特徴とする請求項１に記載のガラス基板ブランクス。
3. 前記パターンは、該パターンが形成されたガラス基板ブランクスの表面の中心を起点とする放射形状を有することを特徴とする請求項１に記載のガラス基板ブランクス。
4. 前記パターンは、複数の正６角形を有することを特徴とする請求項１に記載のガラス基板ブランクス。
5. 前記パターンは、該パターンが形成されたガラス基板ブランクスの表面の中心に対して対称であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のガラス基板ブランクス。
6. 前記粗面部の表面粗さＲａは、０．１μｍ以上３．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のガラス基板ブランクス。
7. 前記粗面部の幅は、０．２ｍｍ以上５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のガラス基板ブランクス。
8. 前記パターンの面積は、該パターンが形成されたガラス基板ブランクスの表面の０．０１％以上３０％以下であることを特徴とする請求項７に記載のガラス基板ブランクス。
9. 請求項１乃至８の何れか１項に記載のガラス基板ブランクスをガラス基板ブランクス成形用金型を用いて製造するガラス基板ブランクスの製造方法であって、
   前記ガラス基板ブランクス成形用金型の下型の成形面または上型の成形面の少なくともどちらか一方に、前記ガラス基板ブランクスの表面に形成する粗面部からなるパターンに対応した粗面領域を有し、
   前記ガラス基板ブランクス成形用金型の下型の成形面に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程と、
   前記下型の成形面に供給された前記溶融ガラスを、前記ガラス基板ブランクス成形用金型の上型の成形面で加圧しながら冷却してガラス基板ブランクスを得る加圧工程と、
   を有することを特徴とするガラス基板ブランクスの製造方法。
10. 請求項１乃至８の何れか１項に記載のガラス基板ブランクスの表面を研磨し、情報記録媒体用ガラス基板を製造することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
11. 請求項１０に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板に記録層を形成し、情報記録媒体を製造することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
12. 請求項１０に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いて製造されることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
13. 請求項１２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を有することを特徴とする情報記録媒体。

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