JP5071229B2 - ガラス基板成形用金型、ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

ガラス基板成形用金型、ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、ガラス基板成形用金型、該成形用金型を用いたガラス基板の製造方法、該製造方法で製造したガラス基板を用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法に関する。
磁気、光、光磁気等の性質を利用した記録層を有する情報記録媒体のなかで、代表的なものとして磁気ディスクがある。磁気ディスク用基板として、従来アルミニウム基板が広く用いられていた。しかし、近年、記録密度向上のための磁気ヘッド浮上量の低減の要請に伴い、アルミニウム基板よりも表面の平滑性に優れ、しかも表面欠陥が少ないことから磁気ヘッド浮上量の低減を図ることができるガラス基板を磁気ディスク用基板として用いる割合が増えてきている。また、ガラス基板の製造コストを低減するために基板の厚みを薄くすることが要望されてきている。
このような磁気ディスク等の情報記録媒体用ガラス基板は、ブランク材と呼ばれるガラス基板に研磨加工等を施すことによって製造される。ガラス基板(ブランク材)は、プレス成形によって製造する方法や、フロート法等によって作製された板ガラスを切断して製造する方法等が知られている。これらの方法うち、溶融ガラスを直接プレス成形することによってガラス基板を製造する方法は、特に高い生産性が期待できることから注目されている。
しかし、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造する方法においては、プレス成形後、金型の成形面からガラス基板を剥離するときに割れるという問題があった。特にガラス基板の厚さが薄くなると割れやすくなり、生産性が低下するという問題が生じる。
このような問題に対して、特許文献1においては、プレス成形後の型開き工程において、上型に設けられた貫通口から気体を供給することで離型性を良くする方法が提案されている。
特開2002−187727号公報
しかしながら、本発明者らによる実験によれば、特許文献1の記載に従った金型を用いても、特にガラス基板の厚みが薄くなると、気体による冷却によって局部的に過度に冷やされ、強い歪が残留して成形時や、加工工程で割れやすくなるという問題は解決できなかった。また、貫通穴にガラスが噛み込んでしまい、返って離型性を損なうこともあった。
本発明は上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造する方法において、ガラス基板を金型から離型するときにガラス基板の厚みが薄くなっても割れが発生しないガラス基板成形用金型、該金型を用いたガラス基板の製造方法、該製造方法で製造したガラス基板を用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法を提供することである。
上記の課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有するものである。
1.
溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造するための上型又は下型として用いるガラス基板成形用金型において、
前記ガラス基板成形用金型の成形面が、粗面部からなるパターンを有し、
前記パターンは、該パターンが形成された成形面の中心を同心とする複数の円を有することを特徴とする、ガラス基板成形用金型。
2.
前記パターンは、該パターンが形成された成形面の中心に対して対称であることを特徴とするに記載のガラス基板成形用金型。
3.
前記粗面部の表面粗さRaは、0.1μm以上3.0μm以下であることを特徴とする1乃至2の何れか1項に記載のガラス基板成形用金型。
4.
前記粗面部の幅は、0.2mm以上5mm以下であることを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載のガラス基板成形用金型。
5.
前記パターンの面積は、該パターンが形成された成形面が前記溶融ガラスと接触する面積の0.01%以上30%以下であることを特徴とするに記載のガラス基板成形用金型。
6.
上型及び下型を用いて、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造するガラス基板の製造方法において、
前記下型の成形面に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程と、
前記下型の成形面に供給された前記溶融ガラスを、前記上型の成形面で加圧しながら冷却してガラス基板を得る加圧工程と、を備え、
前記上型及び下型の少なくとも何れか一方が、1乃至5の何れか1項に記載のガラス基板成形用金型であることを特徴とするガラス基板の製造方法。
7.
に記載のガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板を研磨し、情報記録媒体用ガラス基板を製造することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
8.
に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板に記録層を形成し、情報記録媒体を製造することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
本発明によれば、ガラス基板の厚みが薄くなってもガラス基板を金型から離型するときに、割れが発生しないガラス基板成形用金型を提供することができる。よって、該金型を用いた生産性の高いガラス基板の製造方法、該製造方法で製造したガラス基板を用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
(ガラス基板成形用金型)
本発明のガラス基板成形用金型は、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造するための上型又は下型の少なくともどちらか一方に用いられ、ガラス基板成形用金型の成形面が、粗面部からなるパターンを有するものである。この粗面部からなるパターンを成形面に形成したガラス基板成形用金型を、上型又は下型の少なくともどちらか一方に用いて溶融ガラスをプレス成形すると、プレス成形後、金型から成形されたガラス基板を離型させるときに離型性が向上し、割れが発生しない。これは、粗面部からなるパターン部には成形時に溶融ガラスが完全に入らず、空気(気体)層が金型と溶融ガラスの間に介在し、部分的に断熱層として作用するため、金型表面の焼き付きによる離型不良を防ぐと共に、金型とガラスとの接触部分が少なくなり、離型性を高める作用をすると考えられる。
また、パターンとしては、パターンが形成された成形面の中心を同心とする複数の円からなる形状や、成形面の中心を起点とする放射形状、正6角形からなる形状などを用いることができる。
また、この粗面部からなるパターンは、パターンが形成された成形面の中心に対して対称であることが好ましい。この成形面の中心に対して対称性を有する粗面部からなるパターンを形成することにより、ガラス基板の成形時に均等な成形応力を発生させる為、成形時や加工工程での割れを大幅に抑制する効果を持つ。
また、粗面部からなるパターンの粗面部の表面粗さRaは、0.1μm以上3.0μm以下であることが好ましい。0.1μm未満であると、離型性の効果が小さく、また、3.0μmを越えるとパターン部の内部に入る溶融ガラスの量が多くなってしまい、パターン部分が過度に加熱され、断熱層による効果が不十分となって、溶融ガラスとパターン部との接着力が強くなるため離型性が低下し好ましくない。
また、粗面部の幅は、0.2mm以上5mm以下であることが好ましい。0.2mm未満であっても、また5mmを越えても、ガラス基板の離型性が悪くなり、好ましくない。
また、粗面部からなるパターンの面積は、成形面が溶融ガラスと接触する面積の0.01%以上30%以下であることが好ましい。この面積が0.01%未満又は30%越えであるとガラス基板の離型性が悪くなり、好ましくない。
図1は、本発明のガラス基板成形用金型の第1の実施形態の模式図である。ガラス基板成形用金型装置10は、溶融ガラスが供給され、供給された該溶融ガラスを加圧するための第1の成形面13を備える下型11と、下型11の第1の成形面13との間で溶融ガラスを加圧するための第2の成形面14を備える上型12とを有している。
本発明の第1の実施形態のガラス基板成形用金型は、上型12及び下型11の両金型に用いられ、それぞれの成形面13、14に、同じ形状の、粗面部からなるパターン20を有している。
図2(a)は下型11を上方からみた平面図、図2(b)は、図2(a)におけるA−Aの断面図である。下型11の第1の成形面13は、粗面部からなるパターンとして、中心Pから放射状に8本の帯が形成され、帯と帯との間の角度θがそれぞれ45度となるパターンを有している。このパターンは、成形面11の中心に対して対称である。
パターンとしては、図2(a)の他に、図3の成形面の中心Pを同心とするパターン間隔Lの複数の円状のパターンを有するものや、図4の中心からの伸びる放射状の帯のパターンと同心円状のパターンとからなるもの、図5の複数の正6角形からなる形状のパターンを有するもの、図6の複数の三角形を組み合わせたパターン、図7の中心から伸びる複数の曲線が成形面の中心に対して対称性を有するように配置されたパターンなどを用いることができる。パターンは、これらに限らず、成形面の中心に対して対称性を有するパターンであれば、好ましく用いることができる。
本発明に係る粗面部からなるパターンの形成方法としては、上型の成形面又は下型の成形面の少なくとも何れか一方に、前記のパターンを開口部としたマスクを密着させ、その上からブラスト処理や液体ホーニングなどで粗面部を形成することができる。また、成形面にレジスト膜を形成して、レジスト膜をパターン状にエッチングし、レジスト膜が除去されパターン状に開口した面を形成した後、ブラスト処理や液体ホーニングなどを用いて粗面部からなるパターンを形成することができる。また、成形面の全面を所定の粗さに荒らしたのち、前記したパターン以外の領域を開口部としたマスクを密着させ、バフ研磨などで平滑面にすることにより、粗面部からなるパターンを形成することもできる。
(ガラス基板の製造方法)
本発明におけるガラス基板の製造方法は、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造する方法であり、下型11に形成された第1の成形面13に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程と、第1の成形面13、及び上型12に形成された第2の成形面14で、第1の成形面13に供給された溶融ガラスを加圧しながら冷却してガラス基板を得る加圧工程とを有している。上型12及び下型11の金型は、前述した本発明のガラス基板成形用金型を使用する。
(溶融ガラス供給工程)
溶融ガラス供給工程は、下型に形成された第1の成形面に溶融ガラスを供給する工程である。図8は、溶融ガラス供給工程における下型11と溶融ガラス23等を示す模式図である。先ず、流出ノズル21から溶融ガラス23を流出して下型11に供給する(図8(a))。その後、溶融ガラスが所定量に達するとブレード22によって溶融ガラス23を切断し、溶融ガラス23を分離する(図8(b))。溶融ガラス供給工程において供給された溶融ガラス23は第1の成形面13の中心部と接触し、主にそこからの放熱によって冷却が始まる。
下型11は予め所定温度に加熱しておく。下型11の温度に特に制限はなく、ガラスの種類やガラス基板のサイズ等によって適宜決定すればよい。下型11の温度が低すぎるとガラス基板の平面度が悪化したり、転写面へのしわの発生、熱衝撃による破損等の問題が起こる。逆に、必要以上に温度を高くしすぎると、ガラスとの融着が発生したり、金型の劣化が著しくなることから好ましくない。通常は、成形するガラスのTg(ガラス転移点)−200℃からTg+100℃程度の温度範囲とすることが好ましい。
下型11の加熱手段にも特に制限はなく、公知の加熱手段の中から適宜選択して用いることができる。例えば、下型11の内部に埋め込んで使用するカートリッジヒーターや、下型11の外側に接触させて使用するシート状のヒーターなどを用いることができる。また、赤外線加熱装置や、高周波誘導加熱装置を用いて加熱することもできる。
(加圧工程)
加圧工程は、第1の成形面13、及び上型12に形成された第2の成形面14で、第1の成形面13に供給された溶融ガラスを加圧しながら冷却してガラス基板24を得る工程である。
図9は、加圧工程におけるガラス基板成形用金型装置10とガラス基板24を示す模式図である。溶融ガラス供給工程において溶融ガラス23が供給された下型11は、上型12と対向する位置まで水平移動する。その後、下型11の第1の成形面13と、上型12の第2の成形面14とで溶融ガラスを加圧する。溶融ガラスは、加圧によって広がって第1の成形面13の周辺部にも接触する。溶融ガラスは第1の成形面13及び第2の成形面14との接触面から放熱することによって冷却・固化し、ガラス基板24となる。
なお、上型12は、下型11と同様に所定温度に加熱されている。加熱温度や加熱手段については上述の下型11の場合と同様である。加熱温度は下型11と同じであっても良いし異なっていても良い。
下型11と上型12に荷重を負荷して溶融ガラスを加圧するための加圧手段は、公知の加圧手段を適宜選択して用いることができる。例えば、エアシリンダ、油圧シリンダ、サーボモータを用いた電動シリンダ等が挙げられる。
次に上型12をガラス基板24から離間させ、吸着部材等で下型11からガラス基板を取り出す。
上述のように、本発明のガラス基板の製造方法においては、第1の成形面13及び第2の成形面14の両方の成形面に図2(a)に示すように、粗面部からなるパターンが形成されている。よって、上型12を離間させるときや、下型11から取り出すときに、ガラス基板24が成形面に吸着することなく、容易に離型させることができ、割れやキズの発生を抑制することができる。
(情報記録媒体用ガラス基板の製造方法)
上述の製造方法によって製造されたガラス基板(ブランク材)に、少なくとも研磨工程を加えることにより情報記録媒体用ガラス基板を製造することができる。図10は、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造した情報記録媒体用ガラス基板の1例を示す図である。図10(a)は斜視図、図10(b)は断面図である。情報記録媒体用ガラス基板30は中心穴33が形成された円板状のガラス基板であって、主表面31、外周端面34、内周端面35を有している。外周端面34と内周端面35には、それぞれ面取り部36、37が形成されている。
研磨工程は、製造されたガラス基板(ブランク材)の主表面を研磨する工程であり、最終的に情報記録媒体用ガラス基板として要求される平滑性に仕上げる工程である。研磨の方法は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として用いられる公知の方法をそのまま用いることができる。例えば、対向配置した2つの回転可能な定盤の対向する面にパッドを貼り付け、2つのパッド間にガラス基板を配置し、ガラス基板表面にパッドを接触させながら回転させると同時に、ガラス基板表面に研磨剤を供給する方法で行うことができる。また、研磨剤の粒度やパッドの種類を変えて、粗研磨工程、精密研磨工程といったように複数の工程に分けて研磨を行うことも好ましい。
研磨剤としては、例えば、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ、ダイヤモンドなどが挙げられる。この中でも、ガラスとの反応性が高く、短時間で平滑な研磨面が得られる酸化セリウムを用いることが好ましい。
パッドは硬質パッドと軟質パッドとに分けられるが、必要に応じて適宜選択して用いることができる。硬質パッドとしては、硬質ベロア、ウレタン発泡、ピッチ含有スウェード等を素材とするパッドが挙げられ、軟質パッドとしては、スウェードやベロア等を素材とするパッドが挙げられる。
また、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板(ブランク材)の主表面を研磨する研磨工程の他、内外周加工工程やラッピング工程を行うことが好ましい。内外周加工工程は、中心孔の穿孔加工、外周端面や内周端面の形状や寸法精度確保のための研削加工、内外周端面の研磨加工等を行う工程であり、ラッピング工程は、記録層が形成される面の平面度、厚み、平行度等を満足させるため、研磨工程の前にラッピング加工を行う工程である。更に、ガラス基板の材料として化学強化ガラスや結晶化ガラスを用いる場合には、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬してイオン交換を行う化学強化工程や、熱処理によって結晶化を行う結晶化工程等を必要に応じて適宜行うことができる。これらの内外周加工工程、ラッピング工程、化学強化工程、結晶化工程等の各工程は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法として通常用いられている方法により行うことができる。
なお、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、上記以外の種々の工程を有していても良い。例えば、ガラス基板の内部歪みを緩和するための熱処理を行うアニール工程、ガラス基板の強度の信頼性確認のためのヒートショック工程、ガラス基板の表面に残った研磨剤や化学強化処理液等の異物を除去する洗浄工程、種々の検査・評価工程等を有していても良い。
ガラス基板の材料に特に制限はなく、情報記録媒体用ガラス基板の材料として用いられる材料を適宜選択して用いることができる。中でも、化学強化ガラスや結晶化ガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため好ましい。化学強化が可能なガラス材料としては、例えば、SiO、NaO、CaOを主成分としたソーダライムガラス;SiO、Al、RO(R=K、Na、Li)を主成分としたアルミノシリケートガラス;ボロシリケートガラス;LiO−SiO系ガラス;LiO−Al−SiO系ガラス;R’O−Al−SiO系ガラス(R’=Mg、Ca、Sr、Ba)などが挙げられる。
ガラス基板の大きさにも特に制限はない。例えば、外径が2.5インチ、1.8インチ、1インチ、0.8インチ等種々の大きさのガラス基板を用いることができる。また、ガラス基板の厚みにも制限はない。例えば、1mm、0.64mm、0.4mm等種々の厚みのガラス基板を用いることができる。
(情報記録媒体の製造方法)
本発明の情報記録媒体用ガラス基板に、少なくとも記録層を形成することで情報記録媒体を製造することができる。図12に情報記録媒体用ガラス基板30の主表面31に記録層51を形成した情報記録媒体50の断面図を示す。記録層51は特に限定されず、磁気、光、光磁気等の性質を利用した種々の記録層を用いることができるが、特に磁性層を記録層として用いた情報記録媒体(磁気ディスク)の製造に好適である。
磁性層に用いる磁性材料としては、特に制限はなく公知の材料を適宜選択して用いることができる。例えば、Coを主成分とするCoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPt、CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtSiOなどが挙げられる。また、磁性層を非磁性膜(例えば、Cr、CrMo、CrVなど)で分割してノイズの低減を図った多層構成としてもよい。
磁性層として、上記のCo系材料の他、フェライト系や鉄−希土類系の材料や、SiO2、BNなどからなる非磁性膜中にFe、Co、CoFe、CoNiPt等の磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどを用いることもできる。磁性層は、面内型、垂直型の何れであっても良い。
磁性膜の形成方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、スパッタリング法、無電解メッキ法、スピンコート法などが挙げられる。
磁気ディスクには、更に必要により下地層、保護層、潤滑層等を設けても良い。これらの層はいずれも公知の材料を適宜選択して用いることができる。下地層の材料としては、例えば、Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Niなどが挙げられる。保護層の材料としては、例えば、Cr、Cr合金、C、ZrO、SiOなどが挙げられる。また、潤滑層としては、例えば、パーフロロポリエーテル(PFPE)等からなる液体潤滑剤を塗布し、必要に応じ加熱処理を行ったものなどが挙げられる。
(実施例1〜19)
ガラス基板成形用金型のタイプ1の実施例として、図2に示すような成形面の中心を起点とする複数の放射状の帯状に粗面部からなるパターンからなり、各帯と帯との間の角度θ、粗面部の幅H(帯の幅)、中心を通る帯の本数、パターンの表面粗さRa、成形面が溶融ガラスと接触する面積に対する粗面部からなるパターンの面積率Sが、それぞれ表1に示すものを用いて、実施例1〜10とした。
また、ガラス基板成形用金型のタイプ2の実施例として、図3に示すような成形面の中心を同心とする複数の円状のパターンからなり、中心Pと最も内側の帯の中心との間隔及び各隣り合う帯同士の中心間隔L、同心円の数、帯の幅H、パターンの表面粗さRa、成形面が溶融ガラスと接触する面積に対する粗面部からなるパターンの面積率Sが、それぞれ表2に示すものを用いて、実施例11〜13とした。
また、ガラス基板成形用金型のタイプ3の実施例として、図11に示すような円形に粗面化された領域が成形面の中心に対して対照的に配置されたパターンであって、円形の直径d1、成形面の中心からの距離L1、円形の粗面領域の配置角度θ1、円形の粗面領域の数、円形の粗面領域の表面粗さRa、成形面が溶融ガラスと接触する面積に対する粗面部からなるパターンの面積率Sを表3に示すものを用いて、実施例14〜19とした。
上型及び下型の材質はSUS310Sを用い、上型及び下型ともに同じ粗面部からなるパターンを有する成形面とした。上型及び下型の成形面の内、粗面化されていない領域の表面粗さRaは、0.05μmとした。
下型と上型を共に400℃に加熱し、溶融ガラスを下型の第1の成形面に供給した後、上型の第2の成形面との間でプレス成形を行った。ガラス材料はボロシリケートガラスを用いた。上下の金型で5秒間加圧した後、上型を離間させ、ガラス基板を取り出した。ガラス基板の外径は約70mm、ガラス基板の厚みは約1mmであった。
(実施例20)
実施例20においては、実施例1における上型の成形面に粗面部からなるパターンを形成しなかった他は実施例1と同様にガラス基板を製造した。
(実施例21)
実施例21においては、実施例1における下型の成形面に粗面部からなるパターンを形成しなかった他は実施例1と同様にガラス基板を製造した。
(比較例1)
比較例1として、ガラス基板成形用金型の上型及び下型の成形面に粗面部からなるパターンを形成せず、他は実施例1と同様にガラス基板を製造した。
(評価)
上型を離間させたときのガラス基板との離型性、下型から取り出すときのガラス基板の離型性の評価を取り出した後のガラス基板に発生する割れ、欠け、クラック等の成形欠陥の有無で行った。ガラス基板100枚を製造し、成形欠陥の全く発生しなかったものを◎、1カ所の成形欠陥の発生したものを○、成形欠陥が2カ所以上発生したものを×とした。評価結果を表1〜表3に示す。
Figure 0005071229
Figure 0005071229
Figure 0005071229
表1〜表3の実施例1〜21及び比較例1の結果から、ガラス基板成形用金型の成形面に粗面部からなるパターンを有することにより、プレス成形後のガラス基板の剥離性が向上し、剥離時の割れやキズの発生を抑制できることが分かる。また、実施例1〜実施例5を比較すると、粗面部の表面粗さRaは、0.1μm以上3.0μm以下であることが好ましいといえる。更に、実施例6〜実施例10を比較すると、粗面部の幅は、0.2mm以上5mm以下であることが好ましいといえる。また、実施例11〜実施例13からは、粗面部のパターンとして複数の同心円状のパターンであっても、成形面の中心を起点とする放射状のパターンと同様な効果が認められる。更に、実施例14〜19の結果から成形面が溶融ガラスと接触する面積に対する粗面部からなるパターンの面積率Sは、0.01%〜30%がより好ましいことがわかる。
本発明のガラス基板成形用金型の例を示す図である。 本発明のガラス基板成形用金型の下型の溝からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板成形用金型の下型の溝からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板成形用金型の下型の溝からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板成形用金型の下型の溝からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板成形用金型の下型の溝からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板成形用金型の下型の溝からなるパターンを示す模式図である。 本発明のガラス基板成形用金型の下型に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程を説明するための模式図である。 本発明のガラス基板成形用金型により溶融ガラスを加圧する加圧工程を示す模式図である。 本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造した情報記録媒体用ガラス基板の1例を示す図である。 本発明のガラス基板成形用金型の下型の溝からなるパターンを示す模式図である。 本発明の情報記録媒体の1例の断面を示す模式図である。
符号の説明
10 ガラス基板成形用金型装置
11 下型
12 上型
13 第1の成形面
14 第2の成形面
20 溝
23 溶融ガラス
24 ガラス基板
30 情報記録媒体用ガラス基板
50 情報記録媒体

Claims (8)

  1. 溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造するための上型又は下型として用いるガラス基板成形用金型において、
    前記ガラス基板成形用金型の成形面が、粗面部からなるパターンを有し、
    前記パターンは、該パターンが形成された成形面の中心を同心とする複数の円を有することを特徴とする、ガラス基板成形用金型。
  2. 前記パターンは、該パターンが形成された成形面の中心に対して対称であることを特徴とする請求項1に記載のガラス基板成形用金型。
  3. 前記粗面部の表面粗さRaは、0.1μm以上3.0μm以下であることを特徴とする請求項1乃至2の何れか1項に記載のガラス基板成形用金型。
  4. 前記粗面部の幅は、0.2mm以上5mm以下であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載のガラス基板成形用金型。
  5. 前記パターンの面積は、該パターンが形成された成形面が前記溶融ガラスと接触する面積の0.01%以上30%以下であることを特徴とする請求項4に記載のガラス基板成形用金型。
  6. 上型及び下型を用いて、溶融ガラスをプレス成形してガラス基板を製造するガラス基板の製造方法において、
    前記下型の成形面に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給工程と、
    前記下型の成形面に供給された前記溶融ガラスを、前記上型の成形面で加圧しながら冷却してガラス基板を得る加圧工程と、を備え、
    前記上型及び下型の少なくとも何れか一方が、請求項1乃至5の何れか1項に記載のガラス基板成形用金型であることを特徴とするガラス基板の製造方法。
  7. 請求項6に記載のガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板を研磨し、情報記録媒体用ガラス基板を製造することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
  8. 請求項7に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板に記録層を形成し、情報記録媒体を製造することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
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