CN101548324A - 光学信息记录介质 - Google Patents

光学信息记录介质 Download PDF

Info

Publication number
CN101548324A
CN101548324A CNA2008800009278A CN200880000927A CN101548324A CN 101548324 A CN101548324 A CN 101548324A CN A2008800009278 A CNA2008800009278 A CN A2008800009278A CN 200880000927 A CN200880000927 A CN 200880000927A CN 101548324 A CN101548324 A CN 101548324A
Authority
CN
China
Prior art keywords
reflectance coating
recording medium
durability
reflectivity
rom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2008800009278A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101548324B (zh
Inventor
大川直树
田内裕基
中井淳一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Kobelco Research Institute Inc
Sony Music Solutions Inc
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Kobelco Research Institute Inc
Sony Disc and Digital Solutions Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd, Kobelco Research Institute Inc, Sony Disc and Digital Solutions Inc filed Critical Kobe Steel Ltd
Publication of CN101548324A publication Critical patent/CN101548324A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101548324B publication Critical patent/CN101548324B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/252Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
    • G11B7/258Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers
    • G11B7/259Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers based on silver

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

本发明公开了一种包括反射膜的只读光学信息记录介质,该反射膜具有高反射率,并且在被保持在高温高湿环境中时的耐环境性以及在被保持在高强度光照射环境中时的耐光性和对于重复再生试验的重复再生耐用性方面都很优良。在基板上顺序层压了至少一层反射膜和至少一层透光层的只读光学信息记录介质中,所述反射膜由包括0.01at%~1.0at%的Bi和0.1at%~13.0at%的Cu的Ag基合金构成。

Description

光学信息记录介质
技术领域
本发明涉及例如CD-ROM(只读存储器)、DVD-ROM、BD(蓝光光盘)-ROM或HD DVD-ROM等的只读光学信息记录介质,具体地,涉及诸如BD或HD DVD的使用蓝色激光来执行再生的只读光学信息记录介质。
背景技术
光学信息记录介质(光盘)根据记录和再生的原理被大致划分为三种类型,即,只读型、一次写入型和可重写型。
图1示意性示出了只读光盘的典型结构。只读光盘具有这样的结构,其中,在由透明塑料等构成的基板1上按顺序层压了包括Ag(银)、Al(铝)、Au(金)等作为主要组分的反射膜2,以及透光层3。通过凸起和凹陷(即,凸部(land)和凹区(pit))的组合所构成的信息(记录数据)被存储在基板1上,例如,由聚碳酸酯构成的厚度为1.1mm、直径为12cm的基板可用作基板1。透光层3通过粘结透光片或者涂覆透光树脂并固化透光树脂来形成。通过检测施加于光盘的激光的相位差或反射差来执行记录数据的再生。
图1的实施例示出了在基板1上包括一层反射膜2和一层透光层3的单层光盘;但是,例如,如图2所示,也可以使用包括第一信息记录面11和第二信息记录面12的双层光盘。换句话说,双层光盘具有这样的结构,其中,在其上存储了通过凸起和凹陷(即,凸部和凹区)的组合所构成的信息(记录数据)的基板1上顺序层压了第一反射膜2A、第一透光层3A、第二反射膜2B以及第二透光层3B。在第一透光层3A上,通过凹区和凸部的组合存储与在基板1上所存储的信息不同的信息。
作为光盘中所使用的反射膜,迄今为止,已经使用了Au、Cu(铜)、Ag、Al以及包括它们作为主要组分的合金。
这其中,包括Au作为主要组分的反射膜具有化学稳定性高以及记录特性随时间的变化小的优点。这种反射膜特别昂贵,但具有对于在BD或HD DVD上记录/再生所用的蓝色激光(波长为405nm)不能获得足够高的反射率的问题。此外,包括Cu作为主要组分的反射膜不贵;但是,该反射膜在传统的反射膜材料中具有最低化学稳定性。此外,与Au一样,该反射膜具有对于蓝色激光的反射率低的缺点,因此,这种反射膜的应用受到限制。包括Al作为主要组分的反射膜具有化学稳定性低于Ag基或Au基反射膜的缺点。
另一方面,包括Ag作为主要组分的反射膜在作为实际波长区的400nm~800nm范围内表现出足够高的反射率,目前,在使用蓝色激光的光盘中,根据诸如反射率和透射率的光学特性能够被用于反射膜的金属仅为Ag。但是,纯Ag在化学稳定性或记录特性(晶体织构的热稳定性)随时间变化的方面逊于Au基反射膜。因此,为了提高耐用性,提出了使用各种Ag基合金(例如,参照专利文献1~4)。
在专利文献1中,披露了包括Au、Cu、Pd(钯)、Rh(铑)等元素的Ag基合金,而在专利文献2中,披露了包括Zn(锌)等元素的Ag基合金。在专利文献3和4中,披露了与本发明相同的申请人的用于光盘的反射膜。这当中,在专利文献3中,披露了通过将诸如Nd(钕)的稀土元素添加至Ag来减小晶体织构随时间的变化的反射膜,而在专利文献4中,披露了通过将Bi(铋)添加至Ag来提高在被保持在高温高湿环境中时的耐用性的反射膜。
但是,对于光盘的反射膜的耐用性的要求已经提高了,具体地,在使用蓝色激光的诸如BD-ROM或HD DVD-ROM的光盘中,要求更高的耐用性(时间劣化的减少)。典型地,在用于光盘的反射膜中,除了高反射率之外,还要求在被保持在高温高湿环境中用于评价时间劣化时光盘特性的改变较小(耐环境性)。此外,在使用蓝色激光的光盘中,除了上述特性之外,例如,还要求在通过将光盘保持在高强度光照射环境中从而评价在施加日光或荧光灯的光时的光盘特性的劣化而进行的试验(加速光照射试验)中的特性的改变较小(耐光性),或者对于用于评价在重复再生时的特性的改变的试验的耐用性优良(重复再生耐用性)。因为例如在BD-ROM中,在用于读取的激光入射的一侧的反射膜上所形成的透光层的厚度近似为100μm,比传统光盘的CD或DVD中的更薄,因此,透光层对反射膜的保护效果较小。因此,在BD-ROM等中所使用的反射膜需要比以往具有更高的耐用性。
专利文献1:日本未审查专利申请公开第H6-208730号
专利文献2:日本未审查专利申请公开第2002-117587号
专利文献3:日本未审查专利申请公开第2002-15464号
专利文献4:日本专利第3655907号
发明内容
鉴于上文所述,本发明的一个目的在于提供一种包括下述反射膜的光学信息记录介质:该反射膜具有高反射率,并且在被保持在高温高湿环境中时具有较小的光盘特性的改变(优良的耐环境性),并且在被保持在高强度光照射环境中时具有优良的耐光性以及对于重复再生试验的优良的耐用性(重复再生耐用性),特别地,适用于诸如DB-ROM或HD DVD-ROM的使用蓝色激光的光盘并具有非常优良的耐用性。
本发明的第一光学信息记录介质为在基板上按顺序层压至少一层反射膜和至少一层透光层的只读光学信息记录介质,并且反射膜为包括Ag作为主要组分的合金(Ag基合金)。Ag基合金包括0.01at%~1.0at%的Bi和0.1at%~13.0at%的Cu。
本发明的第二光学信息记录介质为在基板上按顺序层压第一反射膜、第一透光层、第二反射膜以及第二透光层的只读光学信息记录介质,并且第一反射膜和第二反射膜由包括0.01at%~1.0at%的Bi和0.1at%~3.0at%的Cu的Ag基合金构成。只要满足上述要求,第一反射膜和第二反射膜的组分可以彼此相同或者彼此不同。优选地,Ag基合金可以为包括0.05at%~1.0at%的稀土元素(例如,Nd)的Ag基合金。此外,期望通过蓝色激光来执行信息的再生。
根据本发明,能够提供包括具有高反射率,耐环境性、耐光性以及重复再生耐用性优良的只读光学信息记录介质。
附图说明
[图1]图1是示出了在只读光盘(单层光盘)的圆周方向上的主要部分的示意性截面图。
[图2]图2是示出了在另一只读光盘(双层光盘)的圆周方向上的主要部分的示意性截面图。
具体实施方式
为了提供包括具有很高耐用性(耐环境性、耐光性、重复再生耐用性)的反射膜的只读光学信息记录介质,特别是适合用作使用蓝色激光来执行再生的BD-ROM或HD DVD-ROM的光学信息记录介质,本发明已经进行了深入的试验。
结果,得出在BD-ROM中,当同一数据单元被重复再生接近几千万次时,读取误差增大,并能变得不能读取。根据这个基本试验,考虑到“跟以往不同,通过对于光学信息记录介质所使用的典型的耐用性试验(加速环境试验,其中,将BD-ROM存放于温度为80℃并且相对湿度约为85%的高温高湿环境中,或者加速光照射试验,其中,将BD-ROM保持在具有比正常环境更高的强度的光线的照射下)不能充分评价耐用性,而是需要提供重复再生耐用性也很优良的反射膜”,本发明已经进行了更多的试验。结果发现,(a)当使用包括预定量的Bi和Cu的Ag-Bi-Cu合金时,获得了具有高反射率并且耐环境性优良、耐光性优良以及重复再生耐用性非常优良的反射膜,以及(b)当使用在上述Ag-Bi-Cu合金中包括稀土元素的Ag-Bi-Cu-稀土合金时,进一步提高了耐环境性,从而实现了本发明。
另外,在本说明书中,“耐用性优良”意味着在被保持在高温高湿环境中时的耐环境性、在被保持在高强度光照射环境中时的耐光性、以及对于重复再生试验的重复再生耐用性的所有方面都优良。
更具体而言,“耐环境性优良”指的是,当执行将介质保持在温度为80℃和相对湿度约为85%的环境中240小时的加速环境试验从而测量在加速环境试验前后的反射率的改变时,反射率的改变量在±3%以内。因此,能够评价在高温高湿条件下长期存放时的耐用性。
此外,“耐光性优良”指的是,当执行将具有为正常户外环境20倍的强度的光线施加于介质240小时的加速光照射试验从而测量加速光照射试验前后的反射率的改变时,反射率的改变量在±3%以内。
“重复再生耐用性优良”指的是,如将要在下述的实施例中被详细描述的一样,当执行1200万次的单个数据单元的再生从而测量符号误差率(SER)作为读取信号误差的指标时,SER在10×10-4以下。
下文中,将与实现上述结构的方式一起来描述在本发明中所使用的Ag基合金。
为了开发新的耐用性优良的Ag基合金,本发明人针对在上述专利文献4中所披露的Ag基合金中的Bi、稀土元素以及各种Z组元素,更具体地说,作为基本元素的Ag-Bi-Z组元素(在这种情况下,Z元素组指的是在专利文献4中所披露的“Cu、Au、Rh、Pd和Pt(铂)”的元素组)或Ag-Bi-Z组元素稀土元素合金对耐用性(特别地,重复再生耐用性)的影响进行了指定的试验。具体而言,在聚碳酸酯基板(其上通过使用具有各种组分的Ag基合金溅射靶的溅射方法形成了凹部和凸部)上形成了各种Ag合金薄膜之后,形成其中形成了由UV可固化树脂所构成的透光层的单层BD-ROM光盘,并且检查了各种耐用性。结果,发现了下面的情况。
首先,发现为了确保优良的耐环境性和优良的耐光性同时维持光学信息记录介质所要求的传统特性(即,高反射率),Bi的添加是绝对必要的。另外,此处还没有考虑到重复再生耐用性。如在下述的实施例中所示,与没有添加Bi的组相比,在添加了Bi的组中,上述特性得到改进。猜测因为Bi的添加防止了由于加热所引起的Ag原子的扩散和表面粗糙度的增大从而改进了耐环境性,因此,在加速环境试验后的反射率的下降被大大降低。此外,作为耐光性试验的结果,在耐光性试验后的抖动值的改变很小(表中没有示出),但是却观察到反射率的下降。原因不是非常清楚,然而,猜测是直接层压在Ag基合金反射膜上的紫外可固化树脂中的未反应组分等与在Ga基合金中所包括的稀土元素等之间的反应导致了该下降。
但是,发现仅通过添加Bi不能提高重复再生耐用性(参照下述的实施例)。当通过扫描电子显微镜分析由不包括Cu的Ag-Bi基合金所构成的反射膜从而查明重复再生劣化的原因时,在反射膜的激光入射侧观察到Ag粒子的沉积,因此,猜测激光散射和凹部形状的改变导致了SER的增大。
因此,为了改进重复再生耐用性,执行使用被添加至作为基本元素的Ag-Bi基合金的各种Z组元素的试验。结果,发现仅在Z组中所包括的元素中的Cu被使用的情况下,重复再生耐用性得以提高(参照下述的实施例)。具体而言,在添加了Cu的情况下,即使在由Ag-Bi合金维持优良的特性(高反射率、优良的耐环境性以及优良的耐光性)的同时执行重复再生试验,也完全没有观察到SER的增大。猜测通过添加与Ag相比易于被氧化的Cu而在反射膜的紫外可固化树脂的表面形成了Cu氧化层等,而Cu氧化层具有保护层的功能并具有防止Ag原子表面扩散的效果。
另一方面,在使用除Cu之外的Z组元素的情况下,如下述的实施例中所示,完全没有观察到与添加Cu的情况相同的重复再生耐用性的提高效果。原因不是非常清楚,但是猜测Pd、Au、Pt以及Rh化学稳定,并且具有的耐氧化性等于或高于Ag的耐氧化性,因此,在表面上没有形成氧化保护层,并且没有有效地发挥与添加Cu的情况相同的提高重复再生耐用性的效果。另外,在下述的实施例中,没有示出添加Rh的情况的数据,但是猜测Rh与Au或Pd一样为贵金属元素,从而不会有助于提高重复再生耐用性。
另外,对在专利文献2中所披露的用Zn来代替Z组元素的添加的Ag合金执行耐用性试验;但是,如下述的实施例所示,仅得到与使用Pd等的情况相同的结果,而重复再生耐用性下降。
因此,具体得出,仅在使用包括Cu的Ag-Bi-Cu合金的情况下,获得了满足所有期望特性的只读光学信息记录介质。
此外,当本发明人检查稀土元素对于耐用性的影响时,得出当进一步将稀土元素添加至Ag-Bi-Cu合金中时,进一步提高了耐环境性。
根据上述试验结果,在本发明中,指定Ag-Bi-Cu合金(优选地,Ag-Bi-Cu-稀土元素合金)作为用于耐用性非常优良的只读光学信息记录介质的反射膜。
接下来,将在下文中详细描述在本发明中所使用的构成Ag基合金的每种元素。
另外,在下面的说明中,表示每种元素的组分比的“%”指的是“at%”。
Bi:0.01%~1.0%
Bi是当被保持在高温高湿环境中时对于聚集抑制作用(维持结晶织构稳定性和表面平滑度)等有帮助的元素,并且通过Bi的添加来提高耐加速环境特性或耐光性。为了有效发挥上述效果,Bi量的下限被定为0.01%。在Bi量低于0.01%的情况下,表面粗糙度增大,并且增大了加速环境试验后反射率的下降。另一方面,当Bi量大于1.0%时,耐光性试验后的反射率的下降将增大,因此,Bi量的上限被定为1.0%。Bi的量优选处于大于等于0.05%并小于等于0.8%的范围内,更加优选地,处于大于等于0.1%并小于等于0.6%的范围内。
Cu:0.1%~13.0%
Cu是有助于提高重复再生耐用性的元素。在Cu量小于0.1%的情况下,得不到所期望的重复再生特性,因此,Cu量的下限被定为0.1%。Cu量优选为0.2%以上,更加优选为0.3%以上。另一方面,当Cu量超过13.0%时,初始反射率下降,并且,例如,得不到用于使用蓝色激光的光盘的再生所需的信号,因此,Cu量的上限被定为13.0%。此外,在本发明的反射膜被具体应用于双层光盘的情况下,如随后所描述的一样,Cu量的上限优选为3.0%,更加优选为2.0%。
现在,将在下面描述Cu量的上限依赖于所要应用的光盘类型而改变的原因。例如,在通过与本申请人相同的申请人所申请的上述专利文献4的反射膜中,Cu量的上限为3%,远低于本发明的Cu量的上限(13%),其原因为,在上述专利文献中,在反射膜主要被应用于作为申请时(2002)时的主流的DVD的设想下,力图降低反射率并降低热导率。首先,关于反射率,在DVD标准中,指定在光盘的情况下,相对于具有650nm波长的激光来说,确保单层光盘中的反射率为45%~65%,并且在双层光盘中为18%~30%,尤其是,在反射膜被用在双层光盘中时,处于远离激光入射侧的一侧的层被读出,因此,期望高的反射率。在专利文献4中,为了满足上述标准,实现88%以上反射率的Ag合金薄膜单层的试验样品被认为是验收标准,因此,Cu的添加量的上限被设定为3%。
但是,在专利文献4申请后所开发的蓝光光盘(BD)、HD DVD等中,使用波长为405nm的蓝色激光,通过标准所指定的反射率在单层光盘中近似为40%,而在双层光盘中近似为15%。换句话说,与DVD相比,对于使用蓝色激光的光盘的反射膜所期望的反射特性非常低(特别地,在单层光盘中)。另一方面,关于热导率,在专利文献4申请时的状态是没有建立用于热导率的标准,而为了通过有机记录膜的使用获得到良好的记录信号,要求反射膜具有高的热导率。但是,目前的状态是记录层被替换为无机记录膜,使用无机记录膜的光盘不需要具有很高的热导率,不像专利文献4申请时一样严格地要求高的热导率。在这种环境的改变下,当实际形成包括不同量的Cu的Ag-Bi-Cu合金的反射膜的BD并且测量每个BD的反射率时,如下述的实施例所示,可以得到,即使Cu被添加至13%的量,也能够充分确保用于BD所需的反射率的标准(在单层光盘中近似为40%)。因此,在被期待具体应用于BD的本发明中,Cu量的上限被设定为13%。
另外,优选地,Cu量的上限严格意义上依赖于光盘中的记录层数而适当改变。例如,在Ag基合金被用作包括两层以上的记录层的光盘的反射膜材料的情况下,当考虑到由更接近于激光入射侧的一侧上的第二反射膜的光吸收而产生的第一记录表面的反射率时,期待反射膜的反射率高于单层的情况。因此,Cu量的上限优选为3%。
因此,Cu量的上限为13.0%(在包括两层以上的光盘的情况下为3%),高于作为下述选择元素的上述Bi或稀土元素的含量的上限。典型地,当添加元素被添加至Ag时,初始反射率倾向于降低,但是与Bi或稀土元素相比,通过Cu的添加,Cu具有很低的降低初始反射率的效果,因此,可以增加添加量。
本发明的Ag基合金基本上包括在上述范围内的Bi和Cu,Ag及必然的杂质构成Ag基合金的其余部分。
但是,为了进一步提高特性,可以在大于等于0.05%并小于等于1.0%的范围内添加稀土元素,从而如Bi的情况一样,提高耐环境性。
在本发明中所使用的稀土元素指的是包括镧系元素(包括在周期表中从原子序数57的La至原子序数71的Lu的共15种元素)加上Sc(钪)和Y(钇)的元素组。可以仅使用从它们中所选择的一种,或者使用两种以上的组合。其中,优选Nd、Sm(钐)、Tb(铽)、Y以及Gd(钆),最优选Nd。
稀土元素的含量优选在大于等于0.05%至小于等于0.1%的范围内。在稀土元素的含量小于0.05%的情况下,不能抑制聚集,不能充分维持晶体织构稳定性,增大了表面粗糙度,并且增大加速环境试验后反射率的降低。另一方面,当稀土元素的含量超过1.0%时,发生了加速光照射试验后反射率的下降,因此,上限优选为1.0%。稀土元素含量的下限更优选为0.1%,稀土元素含量的上限更优选为0.8%,进一步更优选为0.6%。
主要考虑反射率,在元素被用于单层光盘的反射膜的情况下,被添加至Ag的元素(Bi和Cu,优选为稀土元素)总量的上限优选为20%,而在将它们用于双层光盘的情况下为5%。如上所述,典型地,当一种元素被添加至Ag从而将它们合金化时,初始反射率倾向于降低,但是,可以确定添加元素的总量,从而满足在BD-ROM光盘中的反射率的指定值(在单层光盘中近似为40%并且在双层光盘中近似为15%)。
在本发明中所使用的Ag基合金可用作光盘反射膜的材料,并且能够被应用于包括一层或多层记录层的光盘。根据实际使用,反射膜的厚度优选为5nm~50nm。在反射膜的厚度小于5nm的情况下,不能确保足够的反射率,并且很难读取信号。另一方面,众所周知,当反射膜的厚度超过50nm时,再生信号的清晰度损失(抖动值增大);因此,上限优选为50nm。具体而言,反射膜的优选厚度依赖于光盘的记录层,例如,在反射膜被用于单层光盘的情况下,厚度优选在近似为20nm~50nm的范围内。另一方面,在双层光盘的激光入射侧上的第二反射膜的厚度优选在近似为5nm~30nm的范围内。当第二反射膜的厚度超过30nm时,在第一透光层的记录面上再生的光线不能充分通过第二反射膜。另一方面,在第二反射膜的厚度小于5nm的情况下,不能充分获得用于在第二透光层的记录面上再生的反射光。第一反射膜的厚度优选为20nm~50nm。
以上,描述了在本发明中所使用的Ag基合金。
本发明的只读光学信息记录介质的特征在于通过使用上述Ag基合金作为反射膜的材料,而应用了Ag基合金的光盘的结构或类型(多种透光层、基板等)没有具体限制,可以使用任意典型使用的光盘。
此外,基板的类型没有具体限制,可以使用广泛用于光盘基板的树脂,例如,聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂等。考虑到价格和机械特性,优选使用聚碳酸酯树脂。
基板的厚度优选在0.4mm~1.2mm范围内。此外,在基板上所形成的凹区的深度优选在50mm~100nm的范围内。
此外,透光层的种类没有限制,例如,可以使用紫外可固化树脂、聚碳酸酯树脂等。在单层光盘中,透光层的厚度优选近似为100μm,而在双层光盘中,第一透光层的厚度优选近似为25μm,第二透光层的厚度优选近似为75μm。
例如,可以通过溅射法、气相沉积法等来形成在本发明中所使用的Ag基合金薄膜,而且,优选溅射法。这是因为,通过溅射法,上述合金元素能够被均匀扩散进Ag基体中,从而获得均质的膜,并且能够获得稳定的光学特性或耐用性。
可以通过熔融/铸造法、粉末烧结法、喷镀成型法等的任意一种来制造在溅射法中所使用的溅射靶,特别地,优选通过真空熔融/铸造法来制造溅射靶。通过真空熔融/铸造法所制造的Ag基合金溅射靶包括比通过任何其他方法所制造的溅射靶更小的诸如氮或氧的杂质组分的含量,并且当使用该溅射靶时,溅射速率稳定,并且通过使用这种溅射靶所形成的第一反射膜或第二反射膜的诸如反射膜组分稳定性的特性非常优良,能够提供具有高性能和高可靠性的光盘。
实施例
下文中,将参照实施例更加具体地描述本发明。但是,本发明不限于下述实施例,而是可以通过在遵循本发明上述和下述目的的范围内适当地修改它们来实施本发明,并且所有修改都被包括在本发明的技术范围内。
实施例1
在本实施例中,通过下面的步骤来形成单层BD-ROM。
首先,通过使用具有凸部和凹部的Ni(镍)压模利用注入成型聚碳酸酯来获得厚度为1.1mm的基板。另一方面,通过真空熔融/铸造法,形成包含表1中所示的各种组分的Ag基合金溅射靶。
通过使用以这种方式所获得的每一个Ag基合金溅射靶,通过DC磁控溅射在上述基板上形成厚度为35nm的反射膜。溅射条件包括Ar气流率为20sccm、Ar气压为2mTorr(0.266Pa)、膜形成功率为DC400W、以及极限真空度为2.0×10-6Toor(266×10-6Pa)以下。接下来,通过旋涂法来涂覆紫外可固化树脂,从而使其厚度为100μm,并且通过紫外照射固化树脂来形成透光层,从而获得单层BD-ROM。
评价以这种方式所获得的单层BD-ROM的以下特性。
(反射率的测量)
在BD中,反射率被定义为在17PP调制信号中的8T信号的反射率的最大值(R8H)。在该实施例中,通过具有激光波长为405nm的激光拾取器和数值孔径(NA)为0.85的物镜从透光层侧再生信息信号,并且通过使用预先知道反射率的光盘信号来转换再生的信号,从而通过计算确定单层BD-ROM的反射率(执行下面试验前的初始反射率)。具有35%以上的反射率的单层BD-ROM被认为是合格的。
(耐环境性)
执行BD被存放在温度为80℃、相对湿度近似为85%的空气气氛中240小时的高温高湿试验,从而测量试验前后的反射率的改变量。在本实施例中,加速环境试验前后的反射率的改变量在±3%内的单层BD-ROM被认为是合格的。
(耐光性)
通过照射强度为室内照明灯所照射的波长为300nm~400nm的紫外线的20倍的光线240小时来执行用于评价耐光性的加速光照射试验,从而根据试验前后反射率的改变量来评价耐光性。具体而言,通过使用东芝照明及技术有限公司(Toshiba Lighting&Technology Corporation)的灯FHF32EX并将以上述方式获得的每个BD-ROM的透光层放置在距离灯30cm的位置并使其面对灯来进行试验,从而测量反射率的改变量。在本实施例中,加速光照射试验前后反射率改变量在±3%内的BD-ROM被认为是合格的。
(重复再生耐用性)
在以9.8m/s的线速度用0.35mW的再生激光功率执行1200万次单个数据单元的再生之后,测量符号误差率(SER)来作为读取信号误差的指标。具有10×10-4以下SER的BD-ROM被认为是合格的。另外,确认在任意的BD-ROM中,初始SER为1×10-5以下。
在上述情况下获得的初始反射率、耐环境性、耐光性、以及重复再生耐用性的所有结果在表1中示出。表1具有示出综合评价的栏,所有特性合格的BD-ROM被表示为○,而某些特性不合格的BD-ROM被表示为×。
表1
Figure A200880000927D00181
通过表1能够得到下面的结果。
第5号为Ag-Bi-Cu合金,满足本发明的需要,第6~10和12及13号为Ag-Bi-Cu-稀土元素合金,满足本发明的优选需要,并且它们都具有高反射率,并且所有的耐用性都优良。
另一方面,不满足本发明某些需要的以下实施例具有下面的缺陷。
(第1号和第2号)
第1号和第2号为没有添加Bi的实施例。在这两个实施例中,第1号为添加Pd作为Z组元素的实施例,但是,第1号在耐光性方面很差。第2号为添加Nd来代替Z组元素的实施例。通过添加Nd来代替Bi,提高了耐环境性,但是,第2号在耐光性方面很差。
通过这些结果可以得到,为了提高耐光性,Bi的添加绝对必要。
(第3、4、11以及14~17号)
第3、4、11以及14~17号为没有添加Cu(第3、4以及14~17号)或Cu的添加量大(第11号)的实施例。
如表1所示,没有添加Cu的上述实施例在重复再生耐用性方面很差。此外,在第4号中,作为稀土元素的Nd的添加量很大,因此,耐光性也下降。此外,当Cu的添加量与第11号的情况一样大时,合金元素的总量增大,从而反射率下降。
第15~17号为除Cu之外的元素被用作Z组元素的实施例,在所有实施例中,没有观察到重复再生耐用性的提高。此外,第14号为使用Zn来代替Z组元素的实施例,并且没有观察到重复再生耐用性的提高。另外,在第14~17号中,仅评定了重复再生耐用性,没有执行对耐环境性和耐光性的试验。
通过上述试验结果发现,为了提高重复再生耐用性,Cu的添加是绝对必要的,并且当在本发明所指定的范围内添加Cu时,获得了高的反射率和优良的耐用性。此外,确定包括Ag-Bi-Cu合金和Ag-Bi-Cu-稀土元素合金的反射膜的光学信息记录介质具有高的反射率,并且在耐环境性、耐光性以及重复再生耐用性的所有方面都是优良的。
实施例2
在该实施例中,通过下面的步骤形成双层BD-ROM。在这种情况下,表2中所示的Ag合金膜被用于形成第一反射膜和第二反射膜。
首先,通过使用具有凸部和凹部的Ni压模利用注射成型聚碳酸酯来得到厚度为1.1mm的基板。另一方面,通过真空熔融/铸造法,形成包括表2中所示的组分的Ag基合金溅射靶。
通过使用以这种方式所获得的每一个Ag基合金溅射靶,通过DC磁控溅射在上述基板上形成厚度为40nm的第一反射膜。溅射条件与上述实施例1相同。接下来,通过旋涂法来涂覆紫外可固化树脂,使其厚度为25μm,并通过紫外照射固化树脂来形成第一透光层(厚度为25μm)。
此外,通过DC磁控溅射形成厚度为20nm的第二反射膜。溅射条件与上述实施例1相同,只是膜形成功率变为DC100W。接下来,通过旋涂法涂覆紫外可固化树脂,使其厚度为75μm,并通过紫外照射固化树脂来形成第二透光层(厚度为75μm),从而获得双层BD-ROM。
与上述实施例1的情况一样,测量以这种方式所获得的每个双层BD-ROM的SER。在本实施例中,在第一信息记录面和第二信息记录面上的SER都为10×10-4以下的双层BD-ROM被认为是合格的。
表2中示出了这些结果。
[表2]
Figure A200880000927D00211
在表2中,表2中不包括Cu的第2号在第一信息记录面的重复再生耐用性方面很差,而表2中包括在本发明范围内的Cu的第1号在重复再生耐用性方面优良。通过试验结果,与单层BD-ROM的情况一样,在双层BD-ROM中也证实了通过Cu的添加对重复再生耐用性的提高效果。另外,尽管没有在表2中示出,但是可以确认表2的第1号具有高的反射率,并且在耐环境性和耐光性的方面都优良。

Claims (5)

1.一种光学信息记录介质,为在基板上按顺序层压至少一层反射膜和至少一层透光层的只读光学信息记录介质,
其中,所述反射膜由包括0.01at%~1.0at%的Bi和0.1at%~13.0at%的Cu的Ag基合金构成。
2.一种光学信息记录介质,为在基板上按顺序层压第一反射膜、第一透光层、第二反射膜和第二透光层的只读光学信息记录介质,
其中,所述第一反射膜和所述第二反射膜彼此相同或不同,并由包括0.01at%~1.0at%的Bi和0.1at%~3.0at%的Cu的Ag基合金构成。
3.根据权利要求1或2所述的光学信息记录介质,其中,
所述Ag基合金包括0.05at%~1.0at%的稀土元素。
4.根据权利要求3所述的光学信息记录介质,其中,
所述Ag基合金包括作为所述稀土元素的Nd。
5.根据权利要求1所述的光学信息记录介质,其中,
信息的再生通过蓝色激光来执行。
CN2008800009278A 2007-04-13 2008-04-10 光学信息记录介质 Expired - Fee Related CN101548324B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007106344A JP4540687B2 (ja) 2007-04-13 2007-04-13 読み出し専用の光情報記録媒体
JP106344/2007 2007-04-13
PCT/JP2008/057090 WO2008133020A1 (ja) 2007-04-13 2008-04-10 光情報記録媒体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101548324A true CN101548324A (zh) 2009-09-30
CN101548324B CN101548324B (zh) 2012-12-19

Family

ID=39925479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008800009278A Expired - Fee Related CN101548324B (zh) 2007-04-13 2008-04-10 光学信息记录介质

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20100143636A1 (zh)
EP (1) EP2088594A4 (zh)
JP (1) JP4540687B2 (zh)
CN (1) CN101548324B (zh)
TW (1) TWI381377B (zh)
WO (1) WO2008133020A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102346271A (zh) * 2010-07-23 2012-02-08 精工爱普生株式会社 干涉滤光器、光模块以及分析装置
CN103680664A (zh) * 2012-08-31 2014-03-26 株式会社神户制钢所 平板显示器的半透过电极用Ag合金膜及平板显示器用半透过电极

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5103462B2 (ja) * 2009-11-18 2012-12-19 株式会社神戸製鋼所 Ag合金熱拡散制御膜およびこれを備えた熱アシスト記録用磁気記録媒体

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5948497A (en) * 1992-10-19 1999-09-07 Eastman Kodak Company High stability silver based alloy reflectors for use in a writable compact disk
KR100308217B1 (ko) * 1996-09-09 2001-11-02 모리시타 요이찌 광학적정보기록매체와그제조방법,광학적정보기록·재생방법및광학적정보기록·재생장치
JPH10177742A (ja) * 1996-10-15 1998-06-30 Kao Corp 光記録媒体
US6544616B2 (en) 2000-07-21 2003-04-08 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6007889A (en) * 1998-06-22 1999-12-28 Target Technology, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6764735B2 (en) * 1998-06-22 2004-07-20 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US7045187B2 (en) * 1998-06-22 2006-05-16 Nee Han H Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6790503B2 (en) * 1998-06-22 2004-09-14 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6852384B2 (en) * 1998-06-22 2005-02-08 Han H. Nee Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6905750B2 (en) * 1998-06-22 2005-06-14 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
US6451402B1 (en) * 1998-06-22 2002-09-17 Target Technology Company, Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
JP3365762B2 (ja) * 2000-04-28 2003-01-14 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用の反射層または半透明反射層、光情報記録媒体及び光情報記録媒体用スパッタリングターゲット
SG116432A1 (en) * 2000-12-26 2005-11-28 Kobe Steel Ltd Reflective layer or semi-transparent reflective layer for use in optical information recording media, optical information recording media and sputtering target for use in the optical information recording media.
JP4801279B2 (ja) * 2001-05-09 2011-10-26 石福金属興業株式会社 スパッタリングターゲット材
HK1037473A2 (en) * 2001-09-20 2002-03-15 Kui Wong Yeung An air-ventilator with high efficiency thermal exchanger and air filter
KR100491931B1 (ko) * 2002-01-25 2005-05-30 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 반사 필름, 반사형 액정 표시소자 및 상기 반사 필름을형성하기 위한 스퍼터링 타겟
JP2003272232A (ja) * 2002-03-18 2003-09-26 Ricoh Co Ltd 光記録媒体
CN1238554C (zh) * 2002-06-24 2006-01-25 株式会社钢臂功科研 银合金溅射靶及其制造方法
JP3655907B2 (ja) 2002-08-20 2005-06-02 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用反射膜と半透過反射膜、および光情報記録媒体
US7514037B2 (en) * 2002-08-08 2009-04-07 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
JP4153484B2 (ja) * 2002-08-20 2008-09-24 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用Ag基合金スパッタリングターゲット
CN100430215C (zh) * 2003-04-18 2008-11-05 目标技术有限公司 光学存储介质反射层或半反射层用金属合金
JP2004326955A (ja) * 2003-04-25 2004-11-18 Tdk Corp 光記録媒体
JP3993530B2 (ja) * 2003-05-16 2007-10-17 株式会社神戸製鋼所 Ag−Bi系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP4009564B2 (ja) * 2003-06-27 2007-11-14 株式会社神戸製鋼所 リフレクター用Ag合金反射膜、及び、このAg合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このAg合金反射膜のAg合金薄膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2005029849A (ja) * 2003-07-07 2005-02-03 Kobe Steel Ltd リフレクター用Ag合金反射膜、及び、このAg合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このAg合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2005048231A (ja) * 2003-07-28 2005-02-24 Ishifuku Metal Ind Co Ltd スパッタリングターゲット材
US20050112019A1 (en) * 2003-10-30 2005-05-26 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho(Kobe Steel, Ltd.) Aluminum-alloy reflection film for optical information-recording, optical information-recording medium, and aluminum-alloy sputtering target for formation of the aluminum-alloy reflection film for optical information-recording
TWI325134B (en) * 2004-04-21 2010-05-21 Kobe Steel Ltd Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target
JP4320000B2 (ja) * 2004-04-21 2009-08-26 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用半透過反射膜と反射膜、および光情報記録媒体ならびにスパッタリングターゲット
ATE379836T1 (de) * 2004-06-29 2007-12-15 Kobe Steel Ltd Halbreflektierende und reflektierende schicht für ein optisches informationsaufzeichnungsmedium, informationsaufzeichnungsmedium, und sputter target
JP3907666B2 (ja) * 2004-07-15 2007-04-18 株式会社神戸製鋼所 レーザーマーキング用再生専用光情報記録媒体
JP2006240289A (ja) * 2005-02-07 2006-09-14 Kobe Steel Ltd 光情報記録媒体用記録膜および光情報記録媒体ならびにスパッタリングターゲット
JP4328310B2 (ja) * 2005-04-14 2009-09-09 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用反射膜および光情報記録媒体
JP2006294195A (ja) * 2005-04-14 2006-10-26 Kobe Steel Ltd 光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2007002275A (ja) * 2005-06-21 2007-01-11 Toyoshima Seisakusho:Kk 薄膜形成用材料、及びそれを用いて形成された薄膜並びにその形成方法
JP4527624B2 (ja) * 2005-07-22 2010-08-18 株式会社神戸製鋼所 Ag合金反射膜を有する光情報媒体
JP4377861B2 (ja) * 2005-07-22 2009-12-02 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2007035104A (ja) * 2005-07-22 2007-02-08 Kobe Steel Ltd 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP4377877B2 (ja) * 2005-12-21 2009-12-02 ソニー株式会社 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2008156753A (ja) * 2006-12-01 2008-07-10 Kobe Steel Ltd 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のスパッタリングターゲット
JP2009015391A (ja) * 2007-06-29 2009-01-22 Toshiba Corp 情報処理装置および情報処理装置の制御方法
JP4694543B2 (ja) * 2007-08-29 2011-06-08 株式会社コベルコ科研 Ag基合金スパッタリングターゲット、およびその製造方法
JP4833942B2 (ja) * 2007-08-29 2011-12-07 株式会社コベルコ科研 Ag基合金スパッタリングターゲット

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102346271A (zh) * 2010-07-23 2012-02-08 精工爱普生株式会社 干涉滤光器、光模块以及分析装置
CN102346271B (zh) * 2010-07-23 2017-07-04 精工爱普生株式会社 干涉滤光器、光模块以及分析装置
CN103680664A (zh) * 2012-08-31 2014-03-26 株式会社神户制钢所 平板显示器的半透过电极用Ag合金膜及平板显示器用半透过电极

Also Published As

Publication number Publication date
WO2008133020A1 (ja) 2008-11-06
EP2088594A4 (en) 2010-11-10
JP4540687B2 (ja) 2010-09-08
EP2088594A1 (en) 2009-08-12
TWI381377B (zh) 2013-01-01
TW200907953A (en) 2009-02-16
US20100143636A1 (en) 2010-06-10
JP2008262654A (ja) 2008-10-30
CN101548324B (zh) 2012-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW432369B (en) Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
CN100430215C (zh) 光学存储介质反射层或半反射层用金属合金
KR100445083B1 (ko) 광정보 기록매체용 반사층 또는 반투명 반사층, 광정보기록매체 및 광정보 기록매체용 스퍼터링 타겟
CA2490901C (en) Corrosion resistive silver metal alloys for optical data storage and recordable optical storage media containing same
CN1901054B (zh) 光学信息记录介质用银合金反射膜,为此的银合金溅射靶和光学信息记录介质
US7833604B2 (en) Ag alloy reflective layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target for forming Ag alloy reflective layer for optical information recording medium
TWI373766B (en) Information recording medium
KR20040063839A (ko) 광기록 매체
CN102640219A (zh) 光信息记录介质用记录层、光信息记录介质及溅射靶
CN100411032C (zh) 光学记录介质及其制造方法、以及在光学记录介质上记录数据的方法和重放记录在光学记录介质上的数据的方法
CN101548324B (zh) 光学信息记录介质
JP2007504593A (ja) 光学データ記憶装置のための銀合金及びこれを含有する光学媒体
CN102339615A (zh) 光学记录介质
CN101684544B (zh) 光介质及其制造方法
CN102150211B (zh) 只读光信息记录媒体和该光信息记录媒体的反射膜形成用溅射靶
TW200822108A (en) Recording layer for optical information recording medium, sputtering target, and optical information recording medium
CN113348510B (zh) 光记录介质、记录层以及记录层形成用溅射靶
JP4132800B2 (ja) 光情報記録媒体用の半透明反射層および光情報記録媒体
JP6838558B2 (ja) 光記録媒体
JP4099516B2 (ja) 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のスパッタリングターゲット
TWI267844B (en) Silver-reactive metal alloys for optical data storage and recordable storage media containing same
JP2002074753A (ja) 半透明反射膜及びこれを用いて形成される光学記録媒体
JP2008165952A (ja) 光記録媒体
TW202000959A (zh) 記錄層、光資訊記錄媒體及濺鍍靶
CN109493887A (zh) 记录层、光信息记录介质、溅射靶

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20121219

Termination date: 20150410

EXPY Termination of patent right or utility model