CN101515125B - 成像设备及其框架单元 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种成像设备及其框架单元，所述成像设备包括：图像载体；曝光单元，用于通过光在图像载体上形成潜像；颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入曝光单元和图像载体之间的光路。颗粒进入防止装置包括设置在光路附近的颗粒储存单元，颗粒储存单元用于将颗粒储存在其中。
Description
技术领域
本发明总体构思涉及一种成像设备，更具体地说，涉及一种可防止曝光单元和图像载体之间的光路的污染的成像设备。
背景技术
成像设备被设计为根据输入的图像信号在打印介质上形成图像。成像设备的示例包括打印机、复印机、传真机和结合上述功能的装置。
在各种成像设备中，电子照相成像设备包括感光构件、曝光单元和显影单元。曝光单元将光扫描到充有预定电势的感光构件上，以在感光构件的表面上形成静电潜像。显影单元将显影剂供应到形成有静电潜像的感光构件上，以形成可视图像。
形成在感光构件上的可视图像被转印到从打印介质送进单元输送来的打印介质上。转印有图像的打印介质在经过用于将转印的图像定影到打印介质上的定影操作之后被排放到成像设备的外部。
通常，曝光单元包括具有光传播部分的壳体和安装在所述壳体中的扫描光学系统。从扫描光学系统产生的光通过光传播部分被发射到壳体外部。发射的光经过曝光单元和感光构件之间的光路被照射到感光构件的表面上，从而在感光构件的表面上形成静电潜像。
成像设备包含多种颗粒，所述颗粒包括从感光构件和显影单元上分散的显影剂、从打印介质上分散的纸尘或从外部被引入的污物。如果所述颗粒进入曝光单元和感光构件之间的光路，则所述颗粒防碍光扫描到感光构件上，导致静电潜像的形成失败或图像质量劣化。
发明内容
本发明总体构思提供一种成像设备以及该成像设备的框架单元，所述成像设备能够防止颗粒进入曝光单元和感光构件之间的光路。
本发明总体构思的其它方面和/或效用将一部分在以下描述中被阐述，一部分通过所述描述将变得清楚，或者可通过实施本发明的总体构思学习到。
本发明总体构思的上述和/或其它方面和效用可通过提供一种成像设备来实现，所述成像设备包括：图像载体；曝光单元，用于通过光在图像载体上形成潜像；颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入曝光单元和图像载体之间的光路，其中，颗粒进入防止装置包括设置在光路附近的颗粒储存单元，颗粒储存单元用于将颗粒储存在其中。
所述成像设备还可包括：框架单元，具有设置在光路上的光窗，并且颗粒储存单元可被设置在光窗附近。
颗粒储存单元可包括形成在框架单元中的颗粒储存凹部。
颗粒储存单元的宽度可大于经过光窗的光的扫描宽度。
颗粒进入防止装置还可包括设置在颗粒储存单元和光路之间的颗粒挡板。
所述成像设备还可包括设置在旋转的图像载体周围的至少一个旋转体，并且颗粒储存单元可被设置在所述旋转体的下方。
颗粒进入防止装置还可包括：侧构件，不仅用于可旋转地支撑旋转体，还用于阻挡光路的侧部。
颗粒进入防止装置还可包括：突出壁，被构造为在光路的附近朝着图像载体突出。
颗粒进入防止装置还可包括：膜构件，其一侧固定到突出壁，并且另一侧与图像载体接触。
颗粒进入防止装置还可包括用于密封图像载体的两端的密封构件。
框架单元可包括主框架和用于覆盖主框架的框架盖，光窗可包括形成在主框架处的第一光传播孔和形成在所述盖处的与第一光传播孔对应的第二光传播孔，颗粒储存凹部可形成在第二光传播孔的附近。
框架单元可将废显影剂储存在其中，并且颗粒进入防止装置还可包括从第一光传播孔的边缘朝上突出的侧壁，以防止废显影剂进入光窗。
曝光单元可包括设置在光路上的光传播构件，并且所述光传播构件与光窗可不垂直对齐。
本发明总体构思的上述和/或其它方面和效用还可通过提供一种成像设备来实现，所述成像设备包括：图像载体；曝光单元，通过光在图像载体上形成潜像；颗粒储存单元，设置在曝光单元和图像载体之间的光路附近，以防止颗粒进入光路，其中，颗粒储存单元的宽度大于经过颗粒储存单元的光的扫描宽度。
本发明总体构思的上述和/或其它方面和效用还可通过提供一种成像设备来实现，所述成像设备包括：感光构件；曝光单元，通过光在感光构件上形成潜像；框架单元，具有设置在曝光单元和感光构件之间的光路上的光窗；颗粒储存单元，用于储存在光窗附近的颗粒，以防止颗粒进入光窗。
本发明总体构思的上述和/或其它方面和效用可通过提供一种用于成像设备的框架单元来实现，所述框架单元包括：光窗，从成像设备的曝光单元扫描的光经过所述光窗；颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入光窗，颗粒进入防止装置可包括设置在光窗附近的颗粒储存单元。
所述框架单元还可包括主框架和用于覆盖主框架的框架盖，并且光窗可包括形成在主框架处的第一光传播孔和形成在框架盖处的与第一光传播孔对应的第二光传播孔。
颗粒储存单元可包括形成在第二光传播孔的一侧的颗粒储存凹部。
颗粒储存凹部的宽度可大于经过第二光传播孔的光的扫描宽度。
颗粒进入防止装置还可包括设置在颗粒储存凹部和第二光传播孔之间的颗粒挡板。
所述框架单元还可包括感光构件，通过经过光窗扫描的光在所述感光构件上形成静电潜像。
所述框架单元还可包括：充电辊，用于给感光构件充电；清洁辊，用于清洁充电辊，并且颗粒储存单元可被设置在清洁辊的下方。
本发明总体构思的上述和/或其它方面和效用可通过提供一种用于成像设备的颗粒进入防止装置来实现，所述成像设备包括框架单元、感光构件、曝光单元和曝光单元与感光构件之间的光路，所述颗粒进入防止装置包括：多个侧构件，附着到框架单元的相对的端部；突出壁，设置在多个侧构件之间，以从框架盖朝着感光构件突出；膜构件，与突出壁和感光构件接触，并且遮蔽突出壁和感光构件之间的空间；多个密封构件，置于感光构件的两侧之间，其中，颗粒进入防止装置防止颗粒进入光路。
附图说明
通过下面结合附图对实施例进行的描述，本发明总体构思的示例性实施例的这些和/或其它方面和效用将会变得清楚和更加容易理解，其中：
图1是显示根据本发明总体构思的实施例的成像设备的构造的示图；
图2是显示图1的成像设备的一些部分的示图；
图3是显示根据本发明总体构思的实施例的成像设备的框架单元的透视图；
图4是显示根据本发明总体构思的实施例的成像设备的框架单元的内部构造的透视图；
图5是图2的局部放大示图；
图6是显示根据本发明总体构思的实施例的成像设备的框架单元的主视图。
具体实施方式
现在，将详细说明本发明总体构思的示例性实施例，其例子被显示在附图中，图中相同的标号始终指代相同的元件。以下，通过参照附图描述实施例以解释本发明的总体构思。
图1是显示根据本发明总体构思的实施例的成像设备的构造的示图。图2是显示图1的成像设备的一些部分的示图。
如图1和图2所示，成像设备1包括主体10、打印介质送进单元20、曝光单元30、感光构件40、框架单元100、显影单元50、转印单元60、定影单元70和打印介质排放单元80。
主体10限定成像设备1的外表，并且支撑安装在其中的多个元件。主体盖11枢转地可旋转地结合到主体10的一侧，以打开或关闭主体10的一部分。
打印介质送进单元20包括：纸盒21，其中装载有打印介质S；拾取辊22，用于一张一张地拾取装载在纸盒21中的打印介质S；输送辊23，用于将拾取的打印介质S输送到转印单元60。
曝光单元30被设置在框架单元100的下方，并且用于将对应于图像信息的光扫描到感光构件40上。曝光单元30包括设置有用于允许光发射到外部的光传播构件31的外壳32以及安装在外壳32中的扫描光学系统。
扫描光学系统包括：光源33，用于根据图像信号发射光；光偏转器34，用于使从光源33发射的光偏转；F-θ透镜35，用于补偿通过光偏转器34偏转的光的像差；反射镜36，用于将经过F-θ透镜35的光朝着感光构件40反射。
光偏转器34包括驱动电机34a和通过驱动电机34a旋转的多面镜34b。多面镜34b具有在其各侧部的多个反射面，并且偏转和扫描来自光源33的光。
具体地说，从光源33发射的光通过旋转多面镜34b偏转，然后，在经过F-θ透镜35之后通过反射镜36朝着光传播构件31反射。被反射镜36反射的光通过光传播构件31发射到曝光单元30的外部。发射到曝光单元30的外部的光经过曝光单元30和感光构件40之间的光路90扫描到感光构件40上，从而在感光构件40的表面上形成静电潜像。用于在感光构件40的表面上形成静电潜像的光源可以是LED式光源。另外，光偏转器34、F-θ透镜35、反射镜36等可根据总体构造而被省略。
感光构件40是用于承载通过曝光单元30形成的静电潜像和通过显影单元50形成的可视图像的图像载体。虽然感光构件40可从鼓式感光构件、可旋转的环形带式(endless belt-type)感光构件等中选择，但是本实施例采用鼓式图像载体。感光构件40可以被可旋转地设置于框架单元100上。由于框架单元100容纳并支撑感光构件40，因此，框架单元100可被称作感光构件单元。
框架单元100被可拆卸地安装在主体10中。当框架单元100被损坏或者框架单元100的寿命终止时，用户可通过从主体10打开主体盖11修理或更换框架单元100。
图3是显示根据本发明总体构思的实施例的成像设备的框架单元100的透视图。图4是显示框架单元的内部构造的透视图。在图4中，框架单元的一些部分被省略而不显示。
如图2至图4所示，框架单元100包括：主框架110，限定框架单元100的整体外表，并支撑安装在其中的多个元件；侧框架120，结合到主框架110的两个横侧；框架盖130，用于覆盖主框架110的顶部；光窗140，被设置在光路90上，以使从曝光单元30扫描的光通过。
充电辊151和清洁辊152可被安装在框架单元100中。各辊151和152用作随同感光构件40一起旋转的旋转件150。充电辊151在曝光单元30将光扫描到感光构件40上之前为感光构件40充电，使其具有预定电势。清洁辊152在与充电辊151接触的状态下按照与充电辊151的旋转方向相同的方向或相反的方向旋转，并且清洁辊152的线速度与充电辊151的线速度不等。清洁辊152去除附着到充电辊151上的颗粒。
参照图2和图3，显影剂收集装置160可被安装在框架单元100中。显影剂收集装置160收集并储存在显影和转印操作的一个周期完成之后残留在感光构件40的表面上的废显影剂。在本实施例中，显影剂收集装置160与框架单元100形成为一体。因此，框架单元100可被称作用于储存显影剂的显影剂储存单元。
显影剂收集装置160包括清洁刀片161、第一显影剂储存部分162、第二显影剂储存部分163、旋转构件164、第一显影剂输送构件165、显影剂运动通道166a和166b以及第二显影剂输送构件167。
主框架110包括：第一框架部分111，向上突出，以在其中限定第一显影剂储存部分162；第二框架部分112，从第一框架部分111延伸，以在其中限定第二显影剂储存部分163。
侧框架120分别结合到第一框架部分111的两个横侧，并且感光构件40的中心轴41被侧框架120可旋转地支撑。感光构件齿轮42被设置在感光构件40的一端。感光构件齿轮42与设置在成像设备的主体10中的感光构件驱动齿轮(未示出)啮合。
感光构件40的两端均与设置在显影单元50中的间隙环(gap ring)54(图2)接触。在图3中，标号43指示感光构件40的与显影单元50的间隙环54接触的间隙环接触部分。
第一显影剂储存部分162具有敞开部分，并且分隔壁168被设置在该敞开部分中。清洁刀片161被设置到分隔壁168的一端。清洁刀片161的布置方式是，其一端与感光构件40接触以刮除存在于感光构件40的表面上的残留显影剂。通过清洁刀片161去除的显影剂被储存在第一显影剂储存部分162中。
旋转构件164和第一显影剂输送构件165被布置在第一显影剂储存部分162中的上部位置和下部位置。上部的旋转构件164在第一显影剂储存部分162中旋转，以搅拌储存在第一显影剂储存部分162中的显影剂，从而防止显影剂结块。下部的第一显影剂输送构件165不仅用于驱动第二显影剂输送构件167(将在随后描述)，还用于搅拌储存在第一显影剂储存部分162中的显影剂。
第一显影剂输送构件165包括：第一偏心轴部分165a和165b，沿着第一方向从其旋转中心偏心地设置；第二偏心轴部分165c，沿着第二方向从旋转中心偏心地设置。第一偏心轴部分165a和165b被设置在第一显影剂储存部分162的两个横侧边缘，第二偏心轴部分165c被设置在第一偏心轴部分165a和165b之间。
第二显影剂储存部分163位于第一显影剂储存部分162的前方，并且储存从第一显影剂储存部分162输送的显影剂。
光窗140被设置在第一显影剂储存部分162和第二显影剂储存部分163之间。显影剂运动通道166a和166b被设置在光窗140的两个横侧部。光窗140允许从曝光单元30扫描的光穿过框架单元100到达感光构件40。显影剂运动通道166a和166b允许储存在第一显影剂储存部分162中的显影剂绕过光窗140运动到第二显影剂储存部分163中。
光窗140包括：第一光传播孔141，在主框架110的底部穿孔形成；第二光传播孔142，在框架盖130中穿孔，以与第一光传播孔141对应。从曝光单元30发射的光可顺序地穿过第一光传播孔141和第二光传播孔142而扫描到感光构件40上。
第二显影剂输送构件167将储存在第一显影剂储存部分162中的显影剂输送到第二显影剂储存部分163中。第二显影剂输送构件167将输送到第二显影剂储存部分163中的显影剂沿着“B”方向向后输送。
第二显影剂输送构件167具有板状，并且按照可直线运动的方式被设置在框架单元100中。
第二显影剂输送构件167在其两个侧端设置有抵触板(interference piece)167a。所述抵触板167a位于第一显影剂储存部分162中。抵触板167a被布置为与旋转的第一显影剂输送构件165的第一偏心轴部分165a和165b抵触。如果抵触板167a与旋转的第一偏心轴部分165a和165b抵触，则抵触板167a被第一偏心轴部分165a和165b推动，使得第二显影剂输送构件167沿着“A”方向运动。
第二显影剂输送构件167还在其两侧端设置有第一弹性构件安装座167b。第一弹性构件安装座167b位于第二显影剂储存部分163中。主框架110设置有与第一弹性构件安装座167b对应的第二弹性构件安装座113。
每个第一弹性构件安装座167b支撑弹性构件169的一端，并且对应的第二弹性构件安装座113支撑弹性构件169的另一端。弹性构件169使第二显影剂输送构件167沿着“A”方向的反方向(“B”方向)弹性地偏置。
如果根据第一显影剂输送构件165的旋转，第一偏心轴部分165a和165b与第二显影剂输送构件167的抵触板167a隔开，则第二显影剂输送构件167通过弹性构件169的弹力沿着“B”方向运动。在这种情况下，储存在第一显影剂储存部分162中的显影剂通过显影剂运动通道166a和166b被输送到第二显影剂储存部分163中。
如图1和图2所示，显影单元50将显影剂供应到形成有静电潜像的感光构件40上。显影单元50可由用于分别容纳不同颜色(例如，黄色(Y)、品红色(M)、青色(C)和黑色(K))的显影剂的四个显影装置50Y、50M、50C和50K组成。
显影装置50Y、50M、50C和50K的每个包括显影剂储存部分51、送进辊52和显影辊53。显影剂储存部分51储存将被供应到感光构件40的显影剂，送进辊52将储存在显影剂储存部分51中的显影剂供应到显影辊53。显影辊53将显影剂附着到感光构件40的形成有静电潜像的表面上，以形成可视图像。
在本实施例中，显影单元50利用非接触显影方法在感光构件40上形成可视图像。显影装置50Y、50M、50C和50K分别具有间隙环54，间隙环54同轴地设置到显影辊53上，以在显影辊53和感光构件40之间保持预定显影间隙。在每个显影辊53的两侧都设置有间隙环54。
转印单元60包括中间转印带61、第一转印辊62和第二转印辊63。
中间转印带61被支撑辊64和65支撑，并且适于按照与感光构件40的线速度相等的线速度运转。第一转印辊62与感光构件40相对，并且中间转印带61介于第一转印辊62与感光构件40之间，以将形成在感光构件40上的可视图像转印到中间转印带61上。
第二转印辊63与支撑辊65相对，并且中间转印带61介于第二转印辊63与支撑辊65之间。在图像从感光构件40转印到中间转印带61上的同时，第二转印辊63与中间转印带61隔开，然后，在感光构件40上的图像被完全转印到中间转印带61上之后，第二转印辊63与中间转印带61在期望的压力下接触。当第二转印辊63与中间转印带61接触时，中间转印带61上的图像被转印到打印介质上。
定影单元70包括具有热源的加热辊71和被设置为与加热辊71相对的加压辊72。当打印介质经过加热辊71和加压辊72之间的间隙时，图像通过从加热辊71传递的热和施加在加热辊71和加压辊72之间的压力被定影到打印介质上。
打印介质排放单元80包括用于将经过定影单元70的打印介质排放到主体10外部的打印介质排放辊81和打印介质支承辊82。
现在，将描述具有上述构造的成像设备的操作。如果打印操作开始，则充电辊151对感光构件40的表面均匀地充电。然后，曝光单元30将对应于任何一种颜色(例如，黄色)的图像信息的光扫描到被均匀充电的感光构件40的表面上，在感光构件40上形成对应于黄色图像信息的静电潜像。
接着，将显影偏压施加到黄色显影单元50Y的显影辊53上，使得黄色显影剂附着到静电潜像上，以在感光构件40上形成黄色可视图像。可视图像通过第一转印辊62被转印到中间转印带61上。
在一页黄色图像的转印完成之后，曝光单元30将对应于另一种颜色(例如，品红色)的图像信息的光扫描到感光构件40上，以在感光构件40上形成对应于品红色图像信息的静电潜像。
品红色显影装置50M将品红色显影剂供应到静电潜像，以形成可视图像。形成在感光构件40上的品红色可视图像通过第一转印辊62被转印到中间转印带61上。在这种情况下，品红色可视图像与先前被转印的黄色可视图像重叠。
通过对青色显影剂和黑色显影剂执行上述操作，可通过重叠黄色图像、品红色图像、青色图像和黑色图像在中间转印带61上形成彩色图像。最终的彩色图像被转印到经过中间转印带61和第二转印辊63之间的间隙的打印介质上。然后，打印介质通过定影单元70和打印介质排放单元80之后被排放到主体10的外部。
在上述打印操作中，当在感光构件40上的图像被转印到中间转印带61上时，一部分显影剂残留在感光构件40上，变为废显影剂。如此导致的残留在感光构件40上的废显影剂被清洁刀片161去除。去除的显影剂首先被存储在框架单元100的第一显影剂储存部分162中，然后，通过第二显影剂输送构件167被输送到第二显影剂储存部分163中。
包括在被供应到或从感光构件40上被去除的过程中分散的显影剂的多种颗粒存在于从曝光单元30发射的光经过的光路90的周围。当颗粒进入光路90时，颗粒使得图像质量劣化。
因此，为了防止在光路90周围存在的颗粒进入光路90，成像设备1包括颗粒进入防止装置。
图5是图2的局部放大示图。图6是显示根据本发明总体构思的实施例的成像设备的框架单元的主视图。
如图3至图5所示，颗粒进入防止装置包括设置在光路90附近的用于将颗粒储存在其中的颗粒储存单元210。颗粒储存单元210容纳存在于光路90周围的颗粒，以限制颗粒的自由运动，从而防止颗粒进入光路90。
颗粒储存单元210(例如)被设置于在成像过程中使用的旋转体(例如，感光构件40、充电辊151或清洁辊152)的下方。这种布置是考虑到附着到旋转体40、151和152上的颗粒(例如，废显影剂、灰尘等)在旋转体40、151和152的旋转过程中掉落得太多的事实。
颗粒储存单元210可被设置在光窗140附近，以防止颗粒进入形成在框架单元100上的光窗140。为了允许颗粒储存单元210有效地防止颗粒阻挡从光窗140发出的光，如图3所示，颗粒储存单元210的宽度(W)(例如)可大于穿过光窗140的光的扫描宽度(d)。虽然图3显示了颗粒储存单元210的宽度(W)大于通过光窗140的光的扫描宽度(d)的示例，但是颗粒储存单元210的宽度(W)小于光窗140的宽度(D)。出于最大程度地防止颗粒进入到光窗140的考虑，(例如)颗粒储存单元210的宽度(W)大于光窗140的宽度(D)。
颗粒储存单元210可包括形成于在第二光传播孔142的一侧的框架盖130处的颗粒储存凹部211。但是，颗粒储存单元210不限于上述构造，而是可被实现为其它各种形状的任何一种，以用于储存光路90周围的颗粒。例如，分离的颗粒储存托盘可被设置在光路90附近，或者颗粒储存凹部可一体地形成在主体10中而不是框架单元100中。
如图5所示，颗粒挡板220可设置在颗粒储存单元210和光路90之间。颗粒挡板220用于防止储存在颗粒储存单元210中的颗粒通过周围的气流朝着光路90溢出。在图3中，颗粒挡板被省略以便于显示。
如图3至图6所示，颗粒进入防止装置还包括侧构件230、突出壁240、膜构件250、密封构件260和侧壁270。
侧构件230被安装在各个侧框架120内。侧构件230不仅用于可旋转地支撑充电辊151的两端和清洁辊152的两端，还用于挡住光窗140的两个横侧部，从而防止颗粒沿着横向进入光窗140。
突出壁240从框架盖130朝着感光构件40突出。突出壁240被设置在光路90和显影单元50之间，并且沿着感光构件40的轴向延伸。
突出壁240防止从布置在框架盖130上方的显影装置50Y、50M、50C和50K分散的显影剂和存在于框架单元100的外部的颗粒进入光路90。
膜构件250可被设置在突出壁240和感光构件40之间，以在突出壁240和感光构件40之间施加弹力。在本实施例中，膜构件250可以是由聚氨酯、硅树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等制成的薄膜构件。膜构件250的一端固定到突出壁240，膜构件250的另一端与感光构件40的表面弹性地接触。膜构件250遮蔽突出壁240和感光构件40之间的空间，从而防止颗粒进入光路90。
密封构件260可被安装到框架单元100的各个侧框架120，以与感光构件40的间隙环接触部分43对应。密封构件260被置于感光构件40的两端和框架单元100的两端之间，以防止外部颗粒进入框架单元100。密封构件260不仅用于密封感光构件和框架单元100之间，还用于清洁附着到感光构件40的间隙环接触部分43上的颗粒。密封构件260可由多孔材料(例如，无纺织物或聚亚安酯)或橡胶类材料(例如，三元乙丙橡胶(EPDM)、天然橡胶(NR)、丁腈橡胶(NBR)、聚氨酯、硅树脂等)制成。
侧壁270从第一光传播孔141的边缘向上突出。侧壁270将光窗140从主框架110中的显影剂储存部分162和163划分出来，以防止储存在框架单元110中的废显影剂进入第一光传播孔141。
本实施例的第一光传播孔141或第二光传播孔142可采取提供预定空的空间的孔的形式，或者可通过透明构件封闭，以传播光。
曝光单元30的光传播构件31可相对于第一光传播孔141和第二光传播孔142沿着侧方向偏心地设置，而不是与光传播孔141和142设置在同一垂直线上。例如，如图2所示，光传播构件31可从第一光传播孔141和第二光传播孔142向图的右侧偏心地布置。因此，即使颗粒进入第一光传播孔141或第二光传播孔142，颗粒也不会聚集在光传播构件31上，这是因为光传播构件31靠右设置。
另外，虽然本实施例描述了由透明玻璃或塑料制成的光传播构件31按照密封的方式被设置在曝光单元30的外壳32上的示例，但是可省略光传播构件31，另一种方案是，光传播孔可形成在壳体32上，以使光能够传播。
从以上描述中清楚地看出，本发明总体构思的各实施例提供一种成像设备，其包括用于限制在曝光单元和感光构件之间的光路周围的颗粒的自由运动的颗粒储存单元，从而防止颗粒进入光路。
此外，作为提供各种结构的结果，具有使光路与光路周围的外部空间隔离的功能，本发明总体构思具有更加有效地防止颗粒进入光路的效果。
虽然已经显示并描述了本发明总体构思的各种实施例，但是本领域技术人员应该理解，在不脱离本发明总体构思的原理和精神的情况下，可对所述实施例进行改变，本发明总体构思的范围由权利要求及其等同物限定。
Claims (19)
1.一种成像设备，包括：
图像载体；
曝光单元，用于通过光在图像载体上形成潜像；
颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入曝光单元和图像载体之间的光路，
框架单元，具有设置在光路上的光窗，
其中，颗粒进入防止装置包括设置在光路附近的颗粒储存单元、颗粒挡板和侧构件，颗粒储存单元用于将颗粒储存在其中，颗粒挡板设置在颗粒储存单元和光路之间，侧构件阻挡光路的侧部，
其中，框架单元包括：
主框架和用于覆盖主框架的框架盖，
光窗包括形成在主框架处的第一光传播孔和形成在所述框架盖处的与第一光传播孔对应的第二光传播孔，
颗粒储存单元形成在第二光传播孔的附近。
2.如权利要求1所述的成像设备，其中，颗粒储存单元包括颗粒储存凹部。
3.如权利要求1所述的成像设备，其中，颗粒储存单元的宽度大于经过光窗的光的扫描宽度。
4.如权利要求1所述的成像设备，还包括：
至少一个旋转体，设置在旋转的图像载体周围，
其中，颗粒储存单元被设置在所述旋转体的下方。
5.如权利要求4所述的成像设备，其中，
所述侧构件用于可旋转地支撑旋转体。
6.如权利要求1所述的成像设备，其中，颗粒进入防止装置还包括：
突出壁，在光路的周围朝着图像载体突出。
7.如权利要求6所述的成像设备，其中，颗粒进入防止装置还包括：
膜构件，其一侧固定到突出壁，并且另一侧与图像载体接触。
8.如权利要求1所述的成像设备，其中，颗粒进入防止装置还包括：
密封构件，用于密封图像载体的两端。
9.如权利要求1所述的成像设备，其中，框架单元将废显影剂储存在其中，并且颗粒进入防止装置还包括从第一光传播孔的边缘朝上突出的侧壁，以防止废显影剂进入光窗。
10.如权利要求1所述的成像设备，其中，曝光单元包括：
光传播构件，设置在光路上，
并且所述光传播构件与光窗不垂直对齐。
11.一种成像设备，包括：
图像载体；
曝光单元，通过光在图像载体上形成潜像；
颗粒储存单元，防止颗粒进入光路，
颗粒挡板，设置在颗粒储存单元和光路之间；
侧构件，阻挡光路的侧部，
框架单元，具有设置在光路上的光窗，
其中，颗粒储存单元的宽度大于经过颗粒储存单元的光的扫描宽度，
其中，框架单元包括：
主框架和用于覆盖主框架的框架盖，
光窗包括形成在主框架处的第一光传播孔和形成在所述盖处的与第一光传播孔对应的第二光传播孔，
颗粒储存单元形成在第二光传播孔的附近。
12.一种成像设备，包括：
感光构件；
曝光单元，通过光在感光构件上形成潜像；
框架单元，具有设置在曝光单元和感光构件之间的光路上的光窗；
颗粒储存单元，用于储存在光窗附近的颗粒，以防止颗粒进入光窗；
颗粒挡板，设置在颗粒储存单元和光路之间；
侧构件，阻挡光路的侧部，
其中，框架单元包括：
主框架和用于覆盖主框架的框架盖，
光窗包括形成在主框架处的第一光传播孔和形成在所述盖处的与第一光传播孔对应的第二光传播孔，
颗粒储存单元形成在第二光传播孔的附近。
13.一种用于成像设备的框架单元，所述框架单元包括：
感光构件；
光窗，从成像设备的曝光单元扫描的光经过所述光窗到达所述感光构件；
颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入光窗，
其中，颗粒进入防止装置包括设置在光窗附近的颗粒储存单元、颗粒挡板和侧构件，颗粒挡板设置在颗粒储存单元和光路之间，侧构件阻挡光路的侧部，其中，所述光路在曝光单元和感光构件之间，
其中，所述框架单元还包括：
主框架；
框架盖，用于覆盖主框架，
其中，光窗包括形成在主框架处的第一光传播孔和形成在框架盖处的与第一光传播孔对应的第二光传播孔。
14.如权利要求13所述的框架单元，其中，颗粒储存单元包括：
颗粒储存凹部，形成在第二光传播孔的一侧。
15.如权利要求14所述的框架单元，其中，颗粒储存凹部的宽度大于经过第二光传播孔的光的扫描宽度。
16.如权利要求14所述的框架单元，其中，所述颗粒挡板设置在颗粒储存凹部和第二光传播孔之间。
17.如权利要求13所述的框架单元，其中，通过经过光窗扫描的光在所述感光构件上形成静电潜像。
18.如权利要求17所述的框架单元，还包括：
充电辊，用于给感光构件充电，
清洁辊，用于清洁充电辊，
其中，颗粒储存单元被设置在清洁辊的下方。
19.一种用于成像设备的颗粒进入防止装置，所述成像设备包括框架单元、感光构件、曝光单元和曝光单元与感光构件之间的光路，所述颗粒进入防止装置包括：
多个侧构件，附着到框架单元的相对的端部；
突出壁，设置在多个侧构件之间，以从框架盖朝着感光构件突出；
膜构件，与突出壁和感光构件接触，并且遮蔽突出壁和感光构件之间的空间；
多个密封构件，置于感光构件的两侧之间，
其中，颗粒进入防止装置防止颗粒进入光窗，
其中，所述框架单元包括主框架以及用于覆盖主框架的所述框架盖，所述框架单元具有设置在光路上的光窗，从成像设备的曝光单元扫描的光经过所述光窗到达所述感光构件，
其中，光窗包括形成在主框架处的第一光传播孔和形成在框架盖处的与第一光传播孔对应的第二光传播孔。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20170224 Address after: Gyeonggi Do Korea Suwon Patentee after: Aisi Printing Solutions Co.,Ltd. Address before: Gyeonggi Do Korea Suwon Patentee before: Samsung Electronics Co.,Ltd. |
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| CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Gyeonggi Do Korea Suwon Patentee after: S-PRINTING SOLUTION Co.,Ltd. Address before: Gyeonggi Do Korea Suwon Patentee before: Aisi Printing Solutions Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20191115 Address after: Texas, USA Patentee after: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT Co.,L.P. Address before: Gyeonggi Do Korea Suwon Patentee before: S-PRINTING SOLUTION Co.,Ltd. |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20131211 |