CN101419405B - 具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置 - Google Patents

具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101419405B
CN101419405B CN2008102105553A CN200810210555A CN101419405B CN 101419405 B CN101419405 B CN 101419405B CN 2008102105553 A CN2008102105553 A CN 2008102105553A CN 200810210555 A CN200810210555 A CN 200810210555A CN 101419405 B CN101419405 B CN 101419405B
Authority
CN
China
Prior art keywords
cleaning fluid
widening roll
liquid medicine
felt widening
felt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2008102105553A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101419405A (zh
Inventor
姜辰求
吴相泽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
WEIHAI DMS OPTICAL ELECTROMECHANICAL Co.,Ltd.
DMS Co Ltd
Original Assignee
Display Manufacturing Services Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Display Manufacturing Services Co Ltd filed Critical Display Manufacturing Services Co Ltd
Publication of CN101419405A publication Critical patent/CN101419405A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101419405B publication Critical patent/CN101419405B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Abstract

本发明公开一种具有药液预处理装置的狭缝涂敷装置。所述装置包括:工作台;输送机构,用于在所述工作台上输送基板;狭缝喷头,设置在所述工作台的一侧,且可上下移动,其内部设有用于装填药液的腔室;药液预处理装置,包括一起动辊用以承接由所述狭缝喷头吐出的药液,且与所述起动辊外周面邻接设置有流体通道,并通过所述流体通道注入清洗液或者空气使之与所述起动辊表面接触,从而去除残留在所述起动辊外周面上的药液;及移动机构,可移动地安装在所述工作台上,用于移动所述药液预处理装置。

Description

具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置
技术领域:
本发明涉及狭缝涂敷装置的药液预处理装置,特别涉及一种经过结构改良,将预处理装置中的清洗液喷洒部分及干燥部分构成模块,从而用简单的结构方便去除药液的具有药液预处理装置的狭缝涂敷装置。其中所述清洗液的喷洒部分及干燥部分用于向所述起动辊(priming roller)喷洒清洗液并将其干燥,所述起动辊用于承接由所述狭缝涂敷装置的喷头吐出的药液。
背景技术:
平板显示元件用的基板上的功能性薄膜通常在基板的制程中通过常规的照相平版印刷(photolithography)工序形成预定图案。
所述照相平版印刷工序则是于基板的薄膜上涂敷预定厚度的感光液后,对所述感光液(光刻胶)进行曝光、显影及蚀刻等一系列工序,从而对所述基板的薄膜上形成预定的电路图案的工序。
在所述照相平版印刷工序中,尤其重要的是在涂敷工序中对基板上的薄膜形成均匀厚度的感光层。这是由于,如果出现感光层的厚度比标准值厚或者薄等情况,就会导致不均匀的蚀刻。
作为如此在基板上涂敷感光液的工序,已有报道的是利用旋涂机(spin coater)的旋涂方式和利用狭缝涂敷机(slit coater)的非旋转涂敷方式。
在上述两种涂敷方式中,所述旋涂方式会根据工作条件(如转速及溶剂蒸发等)导致不规则的表面涂层(如形成波纹),因此最近主要应用的是利用狭缝涂敷装置的非旋转涂敷方式。
所述非旋转涂敷方式是,通过狭缝涂敷装置的狭缝喷头喷洒感光液的同时,在基板薄膜上形成预定厚度的照相平版印刷用的感光层(或光刻层)。
而且,在这种非旋转涂敷方式中,通过狭缝涂敷装置向基板表面喷洒药液时,在前后两个基板的涂敷作业之间的等待时间内,由于喷头的喷口与空气接触,会导致药液浓度的增加。如果在这一状态下进行下一个基板的涂敷作业,由于高浓度药液,会出现纵向条纹或者涂层断开的现象。
由于这种原因,设置药液预处理装置以防止上述现象的出现。这种药液预处理装置通常包括:用于存储清洗液的清洗槽;设置在所述清洗槽的内侧,用于承接由喷头的喷口吐出的药液的起动辊;用于向起动辊的表面喷洒清洗液的喷淋头;用于喷洒循环液的喷淋头;用于喷出干燥气体的喷气嘴;以及用于去除残留在所述起动辊表面上药液的挤压式刮板(squeeze)。
当所述药液预处理装置的起动辊旋转时,依次执行溶剂的喷洒、溶剂的喷淋、溶剂的漂洗、起动辊的干燥等步骤。
然而,由于上述现有的药液预处理装置分别设置有用于执行溶剂的喷洒、喷淋、漂洗、干燥等步骤的各个部分,其结构复杂,发生错误动作的频率较高。
而且,该药液预处理装置的结构变得复杂,降低对起动辊的清洗效率。
发明内容:
本发明是为了解决上述问题而提出的,其目的在于提供一种具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,该装置中用于喷洒溶剂及干燥的功能部分被构成为模块,从而用简单的结构提高清洗效率。
本发明的另一个目的是提供一种具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,该装置在起动辊的边缘形成流体通道,并经由所述流体通道使清洗液或者空气流过,从而方便地去除涂敷在起动辊上的药液。
为了实现上述目的,本发明优选的技术方案包括:工作台;输送机构,用于在所述工作台上输送基板;狭缝喷头,设置在所述工作台的一侧,且可上下移动,其内部设有用于装填药液的腔室;药液预处理装置,包括一起动辊用以承接由所述狭缝喷头吐出的药液,且与所述起动辊外周面邻接设置有流体通道,并通过所述流体通道注入清洗液或者空气使之与所述起动辊表面接触,从而去除残留在所述起动辊外周面上的药液;及移动机构,可移动地安装在所述工作台上,用于移动所述药液预处理装置。
本发明由于在起动辊的边缘形成流体通道,并经由所述流体通道使清洗液或空气流过,因此可方便地去除涂敷在所述起动辊上的药液。
另外,本发明通过把对起动辊喷洒清洗液并予以干燥的结构部分模块化,简化了结构,由此提高了清洗效率,减少了错误动作的发生频率。
附图说明:
图1是本发明的具有药液预处理装置的狭缝涂敷装置一个实施例的整体结构示意图。
图2是用于显示图1中的药液预处理装置靠近狭缝涂敷装置状态的侧面示意图。
图3是用于显示狭缝喷头的喷口正对置在图1中的药液预处理装置状态的侧面剖视图。
图4是形成在图1中的药液预处理装置内侧的流体通道的结构示意图。
具体实施方式:
下面结合附图,详细说明本发明狭缝涂敷装置的一个优选实施例。
图1是本发明的具有药液预处理装置的狭缝涂敷装置一个实施例的整体结构示意图,图2是用于显示图1中的药液预处理装置靠近狭缝涂敷装置状态的侧面示意图。
如图中所示,在工作台2的上方设置有输送机构4,该机构用于把基板G向一侧移动。
所述输送机构4可以使用常规的气浮式输送台6,其可用空气压力将所述基板G浮上后在此状态下输送。
即,虽然图中未显示,所述输送台6具有常规的气浮式输送结构,其用托架C固定基板G的状态下用空气压力支持所述基板G的底面,并在此状态下输送基板。
除上述结构之外,所述输送机构4还可以构成为诸如像辊筒式输送机那样的输送结构,该结构可以在辊筒上搭载基板G的状态下将其输送(未图示)。
而且,在所述工作台2的一侧设置有狭缝喷头10。所述狭缝喷头10在通过所述输送台6输送的基板G的薄膜上涂敷感光液,以形成照相平版印刷用的感光层(以下简称“感光层”)。
所述狭缝喷头10具有常规狭缝式(slit type)喷头的外观,具有矩形喷口N。
所述狭缝喷头10设置在所述工作台2的上方,并与所述基板G的输送方向交叉。所述狭缝喷头10同常规的感光液供应装置T相连,并由该装置获得感光液后用常规的方法将感光液涂敷于所述基板G的薄膜上。
另外,所述狭缝喷头10安装于第一支撑架12上并可上下移动。即所述狭缝喷头10可移动地设置在第一支撑架12的第一轨道(r1)上。此时,所述狭缝喷头10包括直线运动块(未图示,以下简称LM块)与驱动源(未图示),并以LM方式结合在所述第一轨道r1上。
因此,当需要涂敷药液或者将在后面叙述的药液预处理装置14靠近时,所述狭缝喷头10可以沿着第一轨道r1往下移动。
与上述狭缝喷头10相邻的位置上设置有能够移动的药液预处理装置14。
即,所述药液预处理装置14可通过移动机构17在工作台2上移动。
所述移动机构17包括:设置在工作台2上的第二轨道r2;用于支持所述药液预处理装置14的第二支撑架16;在所述第二支撑架16的下方可移动地设置在所述第二轨道r2上的LM块L;用于驱动所述LM块L移动的驱动源(未图示)。
因此,当所述驱动源驱动时,所述LM块L可沿所述第二轨道r2前进或后退,从而带动所述药液预处理装置14移动。
如图3及图4所示,所述药液预处理装置14具有清洗槽20,并于所述清洗槽20的内部设有用来存储溶剂的空间。
另外,所述清洗槽20的内部设置有可旋转的起动辊R。所述起动辊R的上方部分稍微突出所述清洗槽20的上端,从而让狭缝喷头10的喷口N在执行涂敷作业之前可易于把剩下的药液w喷到所述起动辊R的外表面上。
所述起动辊R通过逆时针旋转,执行清洗工序以去除其外表面上粘附的药液。
首先,临近所述起动辊R的位置上设置有用来喷洒清洗液的清洗液喷洒单元25。其中所述清洗液最好包括溶剂。此外,所述清洗液喷洒单元25可构成为模块化结构并与清洗槽20相结合,从而简化结构,易于维修或更换。
所述清洗液喷洒单元25包括:第一本体24,设置在临近所述起动辊R的位置上,并与所述起动辊R构成第一流体通道L1;清洗液供应端26,设置在所述第一本体24上方,向所述第一流体通道L1供应溶剂;第一真空端28,设置在所述第一本体24下方,通过真空压力吸收流过所述第一流体通道L1的清洗液及药液。
具体来说,所述第一本体24的一侧面28为曲面,其与所述起动辊R的外周面相邻设置。
因此,第一本体24的一侧面28与起动辊(R)的外周面之间构成一个具有预定长度的第一流体通道L1。
而且,所述第一本体24的一侧设有与所述清洗液供应端26相连而喷洒溶剂的喷孔h1;与所述第一真空端28相连而提供真空压的吸孔h2。
因此,通过所述清洗液供应端26流入的溶剂,由所述喷孔h1喷洒到起动辊R的外周面,而喷洒到起动辊R上的溶剂则通过所述第一流体通道L1沿所述起动辊R的外周面上流动后,被所述吸孔h2所吸收,并离开所述起动辊R。
在此过程中,喷洒到起动辊R上的溶剂同药液混合,并通过所述吸孔h2的吸力,可以很方便地脱离所述起动辊R。
此时,由于所述第一流体通道L1沿所述起动辊R的外周面具有一定的纵向长度,溶剂可获得充裕的时间来沿着所述第一流体通道L1同药液混合,因此可以提高清洗效率。
通过如上过程,可以有效地去除残留在起动辊R外周面上的药液。
所述清洗液喷洒单元25的下方可进一步设置有刮板32,所述刮板32直接与起动辊R的外周面接触,从而去除药液。
即,所述刮板32由具有一定弹力的材料制成,并处于其端部与起动辊R的外周面接触的状态。
因此,所述刮板32可通过机械方式去除所述起动辊R外周面上的药液或溶剂。
所述刮板32可以如前所述那样设置在清洗液喷洒单元25的下方,或者根据工艺类型,可以不设置所述刮板32。
另一方面,所述刮板32的邻接位置上连接有第一排气端34和溢出端36。所述第一排气端34同所述清洗槽20内部的存储空间22相连,用于向外界排出所述存储空间22内的溶剂蒸汽。
而且,当所述存储空间22内的溶剂超出预定水位时,超出部分的溶剂就可从溢出端36排出,从而防止溶剂溢出清洗槽20的上方。
此外,所述清洗槽20的一侧设置有起泡端40,所述起泡端40与气体供应单元(未图示)相连。因此,当溶剂存储在所述清洗槽20内时,可通过所述起泡端40注入空气,并借此在溶剂中产生泡沫,提高清洗效果。
而且,所述清洗槽20的底部连接有排出端42,由此在需要时,可把清洗槽20内的溶剂向外排出。
另一方面,所述清洗槽20的另一侧设有漂洗单元45,用来清除残留在起动辊R上的药液。所述漂洗单元45包括:用于供应溶剂的供应端50;与所述溶剂供应端50相连、用于对起动辊R喷洒溶剂的喷嘴48。
据此,当所述起动辊R经过所述漂洗区域时,从所述喷嘴48喷出溶剂,去除所述起动辊R上的药液。所述供应端50的上方可设置有第二排气端44,由此将清洗槽20内的溶剂蒸汽向外排出。
所述漂洗单元45上方设有干燥单元51,从而干燥起动辊R以完成工序。
所述干燥单元51被构成为模块,从而简化了结构,方便了维修或更换工作。
即,所述干燥单元51包括:第二本体52,设置在同所述起动辊R临近的位置上,并与所述起动辊R构成第二流体通道L2;气体供应端56,设置在所述第二本体52的上方,向所述第二流体通道L2供应空气;第二真空端58,设置在所述第二本体52的下方,通过真空压力吸收流过所述第二流体通道L2的空气,并干燥所述起动辊R。
具体来说,所述第二本体52的一侧面54为曲面,其与所述起动辊R的外周面相邻设置。
由此,所述第二本体52与起动辊R之间形成第二流体通道L2,供所述空气沿所述起动辊R的外周面流动。
另外,所述第二本体52的一侧设置有与所述气体供应端56相连、用于喷射空气的喷气孔h3;以及与所述第二真空端58相连、用于提供真空压的吸气孔h4。
因此,经过所述气体供应端56流入的空气通过喷气孔h3喷射到起动辊R的外周面,并沿所述第二流体通道L2流动的过程中干燥所述起动辊R的外周面。
而且,沿所述第二流体通道L2流动的空气被形成在所述吸气孔h4周围的真空环境所吸收。通过如上过程,所述起动辊R的外周面得以干燥。
此时,由于所述第二流体通道L2沿所述起动辊R的外周面具有一定的纵向长度,空气可获得充裕的时间来沿所述第二流体通道L2流动的同时与所述起动辊R的外周面接触,因此可以提高干燥效率。
而且,所述气体供应端56与第二真空端58被构成为模块,并与第二本体52相结合,从而方便了维修或者更换工作。
下面参照附图详细说明本发明装置的优选实施例的操作过程。
如图1至图5所示,首先,沿所述第二轨道r2,将可移动地设置在工作台2一侧的药液预处理装置14朝狭缝喷头10方向移动。当所述药液预处理装置14移到喷头10下方时,将所述狭缝喷头10沿所述第一轨道r1往下移动。
当所述狭缝喷头10的喷口N靠近所述起动辊R上端时,通过喷口N,把初始量的药液喷到起动辊R上。当药液涂敷到起动辊R上时,所述起动辊R开始旋转,并初步经过清洗液喷洒单元25。
在此过程中,通过清洗液喷洒单元25的清洗液供应端26流入的溶剂,可通过喷孔h1喷洒到所述起动辊R的外周面上。
而且,喷洒到起动辊R的外周面上的溶剂沿所述第一流体通道L1在所述起动辊R的外周面上流动后,被所述吸孔h2所吸收,并离开所述起动辊R。
在此过程中,喷洒到起动辊R上的溶剂和药液混合后,通过所述吸孔h2的吸力,可以方便地脱离所述起动辊R。
通过如上过程,去除残留在起动辊R的外周面上的药液。
经过所述清洗液喷洒单元25后,所述起动辊R接着经过刮板32区域,其中所述刮板32处于其端部与起动辊R的外周面弹性接触的状态。
因此,在所述起动辊R的旋转过程中,所述刮板32可通过机械方式去除残留在起动辊R的外周面上的药液与溶剂。
经过刮板32后,所述起动辊R接着经过清洗槽20的存储空间22,在此过程中,其通过储存在存储空间22内的溶剂得到漂洗。
此时,存储空间22内的溶剂可以是经过所述溶剂喷洒单元25与刮板32后流下的溶剂,也可以是在先前的药液预处理工序中经由所述漂洗单元45的漂洗过程所留下的溶剂。
另外,在所述起动辊R经过所述清洗槽20的存储空间22的过程中,可以根据需要向所述起泡端40注入空气,并借此在溶剂中产生泡沫。
如此在溶剂中产生泡沫,可以提高溶剂的流动性,进而提高清洗效果。
所述起动辊R经过清洗槽20的存储空间22后,接着经过漂洗单元45。在所述漂洗单元45中,由供应端50所提供的溶剂通过喷嘴、并以一定的压力喷洒到所述起动辊R上。
因此,通过喷洒到起动辊R上的溶剂,所述起动辊上的药液得到清除。
经过漂洗单元45后,所述起动辊R最终经过干燥单元51,并在此过程中,其外周面得到干燥。
即,经由与所述干燥单元51的第二本体52一侧相连的气体供应端56所流入的空气,通过喷气孔h3喷到起动辊R上。
因此,通过所述喷气孔h3喷到起动辊R的外周面上的空气,在沿所述第二流体通道L2流动的过程中干燥起动辊R的外周面。
而且,沿所述第二流体通道L2流动的空气被形成在所述吸孔h4周围的真空环境所吸收。通过如上过程,所述起动辊R的外周面得到干燥。
经过如上所述的药液预处理过程后,所述药液预处理装置14回到原位,并在需要时重复以上过程。

Claims (8)

1.一种具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,其特征在于,包括:
工作台;
输送机构,用于在所述工作台上输送基板;
狭缝喷头,设置在所述工作台的一侧,且可上下移动,其内部设有用于装填药液的腔室;
药液预处理装置,包括:清洗槽,用于在其内所形成的存储空间内装填清洗液;起动辊,可旋转地设置在所述清洗槽的内侧,其外周面用于承接由所述狭缝涂敷装置的狭缝喷头吐出的药液;清洗液喷洒单元,构成为模块并与所述清洗槽相结合,所述清洗液喷洒单元具有第一本体,所述第一本体的一侧面为曲面,并且所述第一本体的一侧面与所述起动辊的一侧外周面相邻设置,同所述起动辊构成第一流体通道,所述清洗液喷洒单元用于向所述起动辊喷洒清洗液,并于所述清洗液沿所述第一流体通道在所述起动辊外周面上流动后,吸收及去除所述清洗液与药液;干燥单元,构成为模块并与所述清洗槽相结合,所述干燥单元具有第二本体,所述第二本体的一侧面为曲面,并且所述第二本体的一侧面与所述起动辊的另一侧外周面相邻设置,同所述起动辊构成第二流体通道,所述干燥单元用于向所述起动辊喷射空气,并于所述空气沿所述第二流体通道在所述起动辊外周面上流动后,吸收所述空气,并予以干燥所述起动辊;
移动机构,可移动地安装在所述工作台上,用于移动所述药液预处理装置,
所述药液预处理装置通过所述第一流体通道注入清洗液使之与所述起动辊表面接触,从而去除残留在所述起动辊外周面上的药液。
2.根据权利要求1所述的具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,其特征在于,所述清洗槽包括:
排气端,用于从所述存储空间排放清洗液蒸汽;
起泡端,用于向所述存储空间注入空气,产生泡沫;
溢出端,当所述存储空间内的清洗液填满到预定水位时,向外排出超出部分的清洗液,以防所述清洗液的溢出;及
排出端,用于把所述存储空间内的清洗液向外排出。
3.根据权利要求1所述的具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,其特征在于,所述清洗液喷洒单元包括:
所述第一本体,与所述起动辊构成所述第一流体通道;
清洗液供应端,设置在所述第一本体上方,通过喷孔向所述第一流体通道供应清洗液;
第一真空端,设置在所述第一本体下方,通过吸孔并通过真空压力吸收流过所述第一流体通道的清洗液与药液。
4.根据权利要求1所述的具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,其特征在于,所述清洗液喷洒单元与干燥单元之间进一步包括刮板,所述刮板同所述起动辊接触,用于去除所述药液及清洗液。
5.根据权利要求1所述的具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,其特征在于,进一步包括漂洗单元,用于向所述起动辊喷洒清洗液以漂洗起动辊。
6.根据权利要求5所述的具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,其特征在于,所述漂洗单元包括用于供应清洗液的供应端;以及与所述供应端相连,向所述起动辊喷洒清洗液的喷嘴。
7.根据权利要求1所述的具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,其特征在于,所述干燥单元包括:所述第二本体,与所述起动辊构成所述第二流体通道;气体供应端,设置在所述第二本体上方,通过喷气孔向所述第二流体通道供应空气;第二真空端,设置在所述第二本体下方,通过吸气孔并通过真空压力吸收流过所述第二流体通道的空气。
8.根据权利要求1所述的具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置,其特征在于,所述移动机构包括设置在所述工作台上的第二轨道;用于支持所述药液预处理装置的第二支撑架;设置在所述第二支撑架的下方,可在所述第二轨道上移动的直线运动块;用于驱动所述直线运动块移动的驱动源。
CN2008102105553A 2007-10-22 2008-08-27 具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置 Active CN101419405B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2007-0106294 2007-10-22
KR1020070106294 2007-10-22
KR1020070106294A KR100877798B1 (ko) 2007-10-22 2007-10-22 예비 약액처리수단을 구비한 슬릿코터

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101419405A CN101419405A (zh) 2009-04-29
CN101419405B true CN101419405B (zh) 2012-04-11

Family

ID=40482392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008102105553A Active CN101419405B (zh) 2007-10-22 2008-08-27 具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR100877798B1 (zh)
CN (1) CN101419405B (zh)
TW (1) TWI362972B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5819123B2 (ja) * 2011-07-12 2015-11-18 東レ株式会社 口金洗浄方法
KR101328730B1 (ko) * 2012-03-28 2013-11-11 주식회사 디엠에스 슬릿코터
CN105182689A (zh) * 2015-10-30 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 一种涂胶装置及其出胶喷嘴的清洗方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1701860A (zh) * 2004-05-20 2005-11-30 东京応化工业株式会社 狭缝涂布机的预备排出装置
CN1799707A (zh) * 2004-12-31 2006-07-12 Lg.菲利浦Lcd株式会社 具有预涂敷单元的狭缝涂布机以及使用其的涂布方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1701860A (zh) * 2004-05-20 2005-11-30 东京応化工业株式会社 狭缝涂布机的预备排出装置
CN1799707A (zh) * 2004-12-31 2006-07-12 Lg.菲利浦Lcd株式会社 具有预涂敷单元的狭缝涂布机以及使用其的涂布方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开2005-177707A 2005.07.07
JP特开2005-254090A 2005.09.22

Also Published As

Publication number Publication date
KR100877798B1 (ko) 2009-01-12
TWI362972B (en) 2012-05-01
TW200918180A (en) 2009-05-01
CN101419405A (zh) 2009-04-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100505156C (zh) 基板处理装置以及基板处理方法
TWI384526B (zh) 預塗輥子清洗單元
TWI457266B (zh) And a substrate processing device having a non-contact floating conveyance function
TWI531411B (zh) 塗佈裝置及噴嘴的維護方法
TWI546131B (zh) 基板處理裝置、噴嘴以及基板處理方法
CN101419405B (zh) 具备药液预处理装置的狭缝涂敷装置
CN101219427A (zh) 基板处理装置
KR20080110007A (ko) 기판 처리 장치 및 이에 구비된 노즐의 세정 방법
CN107251191A (zh) 基板处理装置及基板处理装置的控制方法
CN101905209A (zh) 启动加注处理方法和启动加注处理装置
TWI478775B (zh) 預塗處理方法及預塗處理裝置
JP2001284777A (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
KR100343044B1 (ko) 기판처리장치및처리방법
CN108296089A (zh) 喷嘴洗涤方法、涂布装置
JP4830329B2 (ja) スリットノズルの洗浄方法、及びスリットコータ
CN102039254A (zh) 启动加注处理方法和启动加注处理装置
JPH09289161A (ja) 処理液塗布装置
JP3535707B2 (ja) 基板処理装置
CN102566326A (zh) 显影装置
KR100687505B1 (ko) 슬릿코터의 예비토출장치
KR20070122332A (ko) 슬릿코터
KR101303978B1 (ko) 회전 롤의 세정기구 및 회전 롤의 세정 방법
JP3898471B2 (ja) 洗浄処理装置および現像処理装置
JP2003151947A (ja) 表面処理装置および表面処理方法
JP5298083B2 (ja) 塗布装置及びノズルのプライミング処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: WEIHAI DIANMEI SHIGUANG MECHANICAL AND ELECTRONIC

Effective date: 20140306

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20140306

Address after: Gyeonggi Do, South Korea

Patentee after: Display Production Service Co., Ltd.

Patentee after: Weihai dianmei Shiguang electromechanical Co Ltd

Address before: Gyeonggi Do, South Korea

Patentee before: Display Production Service Co., Ltd.

TR01 Transfer of patent right
CP03 Change of name, title or address

Address after: 264205 No. 88-1, Bekaert Road, Weihai Economic and Technological Development Zone, Weihai City, Shandong Province

Patentee after: WEIHAI DMS OPTICAL ELECTROMECHANICAL Co.,Ltd.

Patentee after: DMS Co.,Ltd.

Address before: Gyeonggi Do, South Korea

Patentee before: DMS Co.,Ltd.

Patentee before: WEIHAI DMS OPTICAL ELECTROMECHANICAL Co.,Ltd.

CP03 Change of name, title or address