CN101411255A - 导电性基板的制造方法和导电性基板 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种导电性基板的制造方法，是在基板的至少一个面上以网状叠层金属微粒层的方法，包括使用有机溶剂处理金属微粒层的工序；和接下来的酸处理工序。还提供了通过该方法制造出的导电性基板。通过该制造方法，可以以高生产率制造具有优异的透明性、和高水平的导电性，适合作为电磁波屏蔽膜等的导电性基板。

Description

导电性基板的制造方法和导电性基板

技术领域

本发明涉及透明性、导电性和生产性优异的导电性基板的制造方法、以及通过该制造方法得到的导电性基板，更详细地说，涉及适合在例如等离子显示面板和液晶电视等的平板显示器中使用的电磁波屏蔽基板用的导电性基板、以及该导电性基板的制造方法。

背景技术

导电性基板作为电路材料在各种机器中使用，其已在电磁波屏蔽基板和太阳电池用途中使用。

电磁波屏蔽基板主要是为了抑制以家电用品、手机、电脑、电视为代表的电子设备放射出的各种电磁波而使用的。特别是，在发展显著的数字家电中，从等离子显示面板和液晶电视等平板显示器放射出较强的电磁波，可能对人体产生影响。由于对于这些显示器，人们是在较近的距离，且有时长时间观察图像，所以用于抑制这些电磁波的电磁波屏蔽基板是必须的，已对其进行了深入的研究。

一般，在显示面板使用的电磁波屏蔽基板中使用了透明的导电性基板，目前使用的电磁波屏蔽基板用导电性基板的制造方法采用了各种方法。例如，将铜箔与聚酯薄膜贴合在一起，利用光刻来形成有规则的网状图案，将该铜箔蚀刻成网状，从而制作出导电性部分是铜的网状导电性薄膜(专利文献1)。

除此之外，作为设置了图案化的导电性层的导电性基板的制造方法，已提出了例如，将金属微粒溶液印刷在基板上，从而设置金属微粒的导电性层的方法等(专利文献2和3)。

另外，一般为了提高金属微粒层的导电性，需要高温、长时间的热处理，高温、长时间的热处理，例如，在使用聚酯薄膜等热塑性树脂作为基板时，存在造成热塑性树脂变形等的问题。面对该问题，已提出了在不进行高温、长时间的热处理的情况下提高金属微粒层的导电性的方法(专利文献2～5)。

专利文献1：特开2001-210988号公报

专利文献2：特开2004-79243号公报

专利文献3：特开2004-297558号公报

专利文献4：特开2005-32458号公报

专利文献5：特开2004-127851号公报

发明内容

但上述现有技术存在下述问题。

专利文献1记载的蚀刻铜箔的方法，是得到精度非常高的网状的优异方法，但通常铜箔贴合工序、光刻工序、蚀刻工序等的收率不好，在各工序中容易出现产品损失。特别是在蚀刻工序中会产生有害的废液，在环境方面存在许多问题。进而，如果使用铜箔作为材料，并且然后要通过蚀刻铜箔来提高透过性，需要通过蚀刻将铜箔的大部分溶出形成废液，在材料的回收使用方面存在许多问题。

另外，对于在专利文献2～5中记载的通过金属微粒溶液的印刷来得到金属微粒的导电性层的方法而言，由于仅通过印刷不能得到充分的导电性，所以需要进行一些处理。在专利文献2中提出了作为提高导电性的处理，对金属微粒层通电而烧结的方法，但要通电就存在下述问题，即需要电源、端子的连接等特别装置和操作。

进而，在专利文献3～5中，作为提高导电性的处理，提出了通过介由喷墨用接收层、限定了平均表面粗度的由亲水性树脂形成的中间层、或含有多孔无机填料的接收层而设置金属微粒层的技术，但需要预先在基材中设置接收层、中间层，这增加了生产工序，所以存在生产效率降低的问题。

本发明的目的在于，提供可克服上述现有技术中的缺点的、有效制备具有透明性和导电性的导电性基板的方法、以及通过该方法得到的导电性基板。

为了解决上述课题，本发明所涉及的导电性基板的制造方法包括下述方法，所述方法是在基板的至少一个面上以网状叠层金属微粒层的导电性基板的制造方法，其特征在于，具有：对所述金属微粒层使用有机溶剂进行处理的工序；和接着使用酸进行处理的工序。

本发明还提供了通过上述方法制造出的导电性基板。该导电性基板适合在例如等离子显示器用电磁波屏蔽基板中使用。

根据本发明的导电性基板的制造方法，通过对网状的金属微粒层进行特定处理，可以得到具有优异的透明性、导电性、生产性的导电性基板。该方法特别是在使用热塑性树脂膜作为基板来制作导电性基板时是优选的制造方法。通过本发明所涉及的制造方法得到的导电性基板，适合作为在等离子显示面板和液晶电视等的平板显示器中使用的电磁波屏蔽基板。

附图说明

图1是表示不规则网状结构的金属微粒层的一个实例的导电性基板的部分俯视图。

图2是表示不规则网状结构的金属微粒层的另一个实例的导电性基板的部分俯视图。

符号说明

1、2不规则网状结构

具体实施方式

下面，对本发明的导电性基板的制造方法、和使用该方法得到的导电性基板，与优选的实施方式一起进行详细说明。

对本发明中的金属微粒的大小没有特殊限定，但数均粒径优选为0.001～5.0μm。如果金属微粒的数均粒径超过该范围，则有时难以使金属层形成网状。金属微粒的数均粒径优选为0.001～2.0μm，更优选为0.002～1.5μm，特别优选为0.002～0.2μm。在数均粒径小于0.001μm时，很多情况下金属微粒之间的连续接触中断，结果有时不能得到充分的导电性。在数均粒径大于5.0μm时，有时难以通过进行后述的本发明中的使用有机溶剂处理的工序、和接下来的酸处理工序得到提高导电性的效果，得不到充分的导电性。无论金属微粒层中含有的金属微粒的粒径分布是宽，还是窄，粒径不均匀，还是均匀，均可以。作为金属微粒使用的金属，没有特殊限定，可以列举出铂、金、银、铜、镍、钯、铑、钌、铋、钴、铁、铝、锌、锡等。可以使用1种金属，也可以组合使用2种以上。

本发明中的金属微粒层是由上述那样的金属微粒形成的层，除了金属微粒以外，还可以含有其它的各种添加剂，例如分散剂、表面活性剂、保护树脂、抗氧化剂、耐热稳定剂、耐气候稳定剂、紫外线吸收剂、颜料、染料、有机或无机粒子、填充剂、防静电剂等无机成分和有机成分。

在本发明中，通过以网状叠层金属微粒层，可以得到透明且具有导电性的基板，通过对该金属微粒层进行特定处理，可以得到优异的透明性、导电性、和生产性。使用本发明的制造方法制造出的导电性基板的总光线透过率优选为50％以上，更优选为60％以上，进而优选为70％以上，最优选为75％以上。光线透过率小于50％时，有时在导电性基板的透明性方面会出现问题。

对在基板上叠层金属微粒层的方法没有特殊限定，只要是在基板的至少一个面上以连接成网状的结构形成金属微粒层即可。

可以从下述各种方法中选择，例如，将作为可形成金属微粒层的化合物的溶液即金属微粒的溶液、或金属氧化物微粒的溶液、或有机金属化合物的溶液、或它们中的2种以上混合而成的溶液等印刷成网状的方法；将上述溶液涂布成网状的方法；将上述溶液叠层在基板的整个面上，然后进行物理研削或化学蚀刻处理，使金属微粒层变成网状的方法；以及，对基板进行凿削、压型出型等，预先在基板的至少一个面上制作网状的沟，然后向沟中填充上述溶液的方法等。

在使用可形成金属微粒层的化合物的溶液形成网状结构时，可以优选使用例如固体成分是以由金属微粒和分散剂等有机成分形成的粒子为主成分的溶液(金属氯化物溶液)，进行印刷或涂布的方法。作为金属氯化物溶液的溶剂，可以使用水、各种有机溶剂。

在本发明中，作为可形成金属微粒层的化合物的形态，优选使用例如，将选自金属微粒、金属氧化物微粒、和有机金属化合物中的至少一种物质分散或溶解在溶剂中而成的溶液。还可以优选使用下述溶液，即在制作出上述溶液之后，在不损害特性的范围内在该溶液中添加树脂成分、其它的各种添加剂例如抗氧化剂、耐热稳定剂、耐气候稳定剂、紫外线吸收剂、有机润滑剂、颜料、染料、有机或无机的微粒、填充剂、防静电剂、成核剂等，从而形成的溶液。

另一方面，在将上述可形成金属微粒层的化合物与树脂成分一起混炼，或将其分散在树脂成分中而使用时，有时通过后述的本发明的酸处理不能发挥充分的提高导电性的效果，得不到优异的导电性，所以不优选。另外，在将可形成金属微粒层的化合物分散在树脂成分中，然后加入溶剂调节粘度的方法；以及，将可形成金属微粒层的化合物与树脂成分成分和溶剂一起与树脂成分混炼的方法，有时不能充分发挥本发明的酸处理效果，得不到优异的导电性，所以不优选。

在使用将选自金属微粒、金属氧化物微粒、和有机金属化合物中的至少一种物质分散或溶解在溶剂中而成的溶液时，令人惊讶地发现了，通过使用低浓度的酸溶液容易得到本发明的酸处理效果。在使用高浓度的酸时，有时操作性降低，生产性恶化，所以不优选。在将金属微粒与树脂成分混炼，或将金属微粒分散在树脂成分中而使用时，有时即使使用低浓度的酸溶液，也得不到优异的导电性。

金属微粒层含有的金属微粒与树脂成分的混合比，相对于树脂成分100重量份，金属微粒优选为900重量份以上，更优选为1900重量份以上，进而优选4900重量份以上，最优选不含有树脂成分。

作为金属微粒的调制方法，可以使用例如，在液相中还原金属离子成金属原子，经由原子簇向纳米粒子生长的化学方法；在惰性气体中使成块的金属蒸发，使用冷阱捕捉变成微粒的金属的方法；对在聚合物薄膜上通过真空蒸镀得到的金属薄膜进行加热，来破坏金属薄膜，使金属纳米粒子以固相状态分散在聚合物中的物理方法等

本发明中的金属微粒层的网状结构，可以是规则结构，也可以是不规则结构。在将通过本发明的制造方法制造出的导电性基板作为例如平板显示器的电磁波屏蔽基板使用时，如果网状的结构是不规则结构，则不会出现莫尔(moire)条纹现象，所以优选。莫尔条纹现象是指“点或线几何上有规则分布的物体重合时出现的条状斑纹”，另外，根据日本词典“广辞苑”的记载，“点或线几何上有规则分布的物体重合时出现的条状斑纹。在以网版印刷物为原稿来复制网版等时容易出现。”，对平板显示器来说，是指图面上出现条状图案。这里，当设置在显示器前面的导电性基板的网状金属微粒层是规则结构时，金属微粒层与显示器本身中的、分隔RGB(R：红色、G：绿色、B：蓝色)各色像素的有规则的格状隔壁等相互作用，出现莫尔条纹现象。它们彼此有规则地排列，特别是对于分隔像素的格状隔壁而言，不可能改变其有规则的形状，所以作为消除该莫尔条纹现象的一个有效方法可以列举出，使导电性基板的网状结构不规则的方法。不规则的网状结构可以在扫描电镜的观察像中确定，该网状结构，从其形状而言，可观察到空隙部分的形状和大小不整齐的状态，即不规则状态。因此，观察到构成网的部分，即线状部分的形状是不整齐的状态，即不规则状态。图1(不规则网状结构1)和图2(不规则网状结构2)示出了不规则网状的结构例，但并不限定这些。

要形成不规则网状结构，使用印刷、蚀刻或形成沟的方法难以形成不规则且具有良好的透明性和导电性的网状结构。具体地讲，对于印刷而言，由于形成的线宽度宽，所以有时透明性降低，难以同时得到良好的透明性和导电性。对于蚀刻和形成沟的方法而言，由于容易得到直线，所以不规则性不好，有时出现较强的莫尔条纹。

在本发明中，如上所述，不优选印刷、蚀刻和形成沟的方法，而优选下述方法，即例如在特开平10-340629号公报中记载的，在基板上涂布用于形成金属微粒层的溶液，利用微粒部分聚集形成网线的现象即自组织现象，来形成微粒的网。使用这样的方法时，网眼容易变得不规则，且线的宽度度较细，且通过后述的本发明中的使用有机溶剂处理的工序、和接下来的酸处理工序容易形成具有良好导电性的网状结构，可以得到不规则且同时具有良好的透明性和导电性的基板。即，优选使用“自组织化溶液”。这里，“自组织化溶液”是指，如果涂布在基板的一个面上并放置，在基板上会自然形成网状结构的溶液。作为这样的用于形成金属微粒层的溶液，可以使用例如Cima NanoTech公司制的CE102-2、CE103-7等。

在本发明中，通过进行使用有机溶剂处理金属微粒层的工序、和接着酸处理的工序，可以提高金属微粒层的导电性。

本发明中的酸，没有特别限定，可以从各种有机酸、和无机酸中选择。作为有机酸，可以列举出乙酸、草酸、丙酸、乳酸、苯磺酸等。作为无机酸，可以列举出盐酸、硫酸、硝酸、磷酸等。其可以是强酸，也可以是弱酸。优选乙酸、盐酸、硫酸和它们的水溶液，更优选盐酸、硫酸、和它们的水溶液。

在导电性基板的制造工序中，关于在哪一个阶段使用酸处理金属微粒层，没有特别限定，可以在基板上以网状叠层金属微粒层之后，使用酸处理，也可以在基板的整个面上叠层金属微粒之后，使用酸处理，然后通过蚀刻等将金属微粒层制成网状，但在基板上以网状叠层金属微粒之后使用酸处理的方法，提高导电性的效果优异，从生产性方面来看是有效的，所以优选使用。还可以在酸处理前或后，在叠层有金属微粒层的基板上印刷或涂布另外的层，进行叠层。另外，还可以在酸处理前或后，对叠层有金属微粒层的基板进行干燥，热处理，或紫外线照射处理等。

大多情况下，酸处理的时间在几分钟以内即可，有时即使延长处理时间也不能提高导电性效果，或导电性提高效果恶化。酸处理时间例如，优选为15秒～60分钟，更优选为15秒～30分钟，进而优选为15秒～2分钟，特别优选15秒～1分钟。

酸处理的温度，在常温下就可充分进行。如果在高温下处理，会产生酸蒸气，造成周围的金属装置劣化，或在使用热塑性树脂膜作为基材时，有时会使基材白化，有损透明性，所以不优选。优选的处理温度为40℃以下，更优选为30℃以下，进而优选为25℃以下。

对使用酸进行处理的方法没有特殊限定，可以使用例如下述方法，即将叠层有金属微粒层的基板浸渍在酸或酸溶液中；在金属微粒层上涂布酸或酸溶液；或者，使酸或酸溶液的蒸气遇到金属微粒层。其中，将叠层有金属微粒层的基板浸渍在酸溶液中，以及在金属微粒层上涂布酸或酸溶液等使基板与酸的液体直接接触的方法，导电性提高效果优异，所以优选。即，作为酸处理条件，优选在40℃以下的温度，将叠层有金属微粒层的基板浸渍在酸溶液中，或者在金属微粒层上涂布酸或酸溶液。

在使用酸溶液时，酸的浓度优选为10mol/L以下，更优选为5mol/L以下，进而优选为1mol/L以下。如果酸的浓度高，则有时操作性降低，生产性恶化，或在使用热塑性树脂膜作为基材时，有时会使基材白化，有损透明性，所以不优选。另外，在酸浓度过低时，得不到酸处理的效果，所以优选为0.05mol/L以上，更优选为0.1mol/L以上。

另外，在由数均粒径为0.2μm以下的金属微粒形成金属微粒层时，即使上述那样低浓度的酸，也可以充分发挥本发明的酸处理效果，所以金属微粒的数均粒径特别优选为0.2μm以下。

另外，如上所述，在将金属微粒、金属氧化物微粒、有机金属化合物等可形成金属微粒的化合物与树脂成分混炼，或将它们分散在树脂成分中使用时，有时使用上述那样的低浓度的酸溶液得不到优异的导电性。

另一方面，在使用将选自金属微粒、金属氧化物微粒、有机金属化合物中的至少一种物质分散或溶解在溶剂中而成的溶液时，即使是低浓度的酸溶液也可以得到优异的导电性。

在将可形成金属微粒的化合物分散在树脂成分中而使用时，有时如果使用上述那样的低浓度的酸溶液得不到优异的导电性，而在使用将选自金属微粒、金属氧化物微粒、有机金属化合物中的至少一种物质分散或溶解在溶剂中而成的溶液时，通过低浓度的酸溶液就可发挥导电性的提高效果，该机理尚不明确，但推测如下。

即推测是由于：树脂成分中的分散状态是，容易出现可形成金属微粒的化合物浓度高的部分、和低的部分，可形成金属微粒的化合物的分散状态不均匀，所以即使是在形成的金属微粒层中添加少量的树脂成分时，也会出现埋藏在金属微粒层间的树脂成分的量非常多的地方，为了除去这些树脂，有时需要使用高浓度的酸，对树脂成分进行蚀刻等处理。与此相对的是，对于将选自金属微粒、金属氧化物微粒、有机金属化合物中的至少一种物质分散或溶解在溶剂中而成的溶液而言，这些可形成金属微粒的化合物，容易形成在不同位置没有浓度偏差的均匀分散状态，所以形成的金属微粒层，不易出现埋藏在金属微粒之间的其它绝缘成分的量非常多的地方。所以无需使用高浓度的酸对其它绝缘成分进行蚀刻处理，如果使用低浓度的酸溶液，也可以发挥充分的处理效果。

另外，在本发明中，在使用酸处理金属微粒层之前，需要使用有机溶剂进行处理。将有机溶剂处理和酸处理按照该顺序进行组合，可以在极短的时间内进行处理，且不需要高温，就得到优异的导电性。另外，即使不使用高浓度的酸进行处理，也可得到优异的导电性。因此，在使用热塑性树脂膜时，不需使用使热塑性树脂膜白化，有损透明性的条件，就可得到优异的导电性。

作为使用有机溶剂处理金属微粒层的时间段，可以在将金属微粒层以网状叠层在基板上之后，进行有机溶剂处理；也可以在将金属微粒叠层在基板的整个面上之后，进行有机溶剂处理，然后通过蚀刻等将金属微粒层制成网状。其中，在将金属微粒以网状叠层在基板上之后使用有机溶剂进行处理的方法，导电性提高的效果优异，从生产性的方面来看效率高，所以优选使用。在使用有机溶剂处理之前或后，可以在叠层有金属微粒层的基板上印刷或涂布其它层而叠层。另外，在有机溶剂处理前或后，还可以对叠层有金属微粒层的基板进行干燥、热处理、或紫外线照射处理等。

在有机溶剂处理工序与酸处理工序之间，可以进行其它工序例如，对金属微粒层的网眼的开口部分等印刷或涂布其它层，进行叠层等。

有机溶剂的处理温度，在常温下即可。如果在高温下处理，在使用热塑性树脂膜作为基材时，有时会使基材白化，有损透明性，所以不优选。优选的处理温度为40℃以下，更优选为30℃以下，进而优选为25℃以下。

对使用有机溶剂进行处理的方法没有特殊限定，可以使用例如下述方法，即将叠层有金属微粒层的基板浸渍在有机溶剂的溶液中；在金属微粒层上涂布有机溶剂；使有机溶剂的蒸气遇到金属微粒层；等等。其中，将叠层有金属微粒层的基板浸渍在有机溶剂的溶液中，以及在金属微粒层上涂布有机溶剂的方法，导电性提高效果优异，所以优选。

作为有机溶剂的例子，可以使用甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、1，3-丁二醇、3-甲基-1，3-丁二醇等醇类，丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、环戊酮等酮类，乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类，己烷、庚烷、癸烷、环己烷等烷烃类，N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲亚砜等双极性非质子溶剂，甲苯、二甲苯、苯胺、乙二醇丁醚、乙二醇、乙醚、乙二醇甲醚、氯仿等，以及它们的混合溶剂。其中，含有酮类、酯类、甲苯时，导电性提高效果优异，所以更加优选，特别优选酮类。

可以将有机溶剂用水稀释后使用。有机溶剂与水的混合比，以重量比计，优选5/95以上，更优选50/50以上，进而优选为70/30以上，最优选为接近100/0的比例。

使用有机溶剂进行处理的时间，几分钟以内即可，有时即使延长处理时间也不能提高导电性效果，或导电性提高效果恶化。有机溶剂处理时间优选为1秒～5分钟，更优选为1秒～1分钟，进而优选为1秒～30秒，特别优选1秒～15秒。

关于本发明中的金属微粒层的导电性，优选表面电阻率为10Ω/□以下。更优选为7Ω/□以下，进而优选为5Ω/□以下。表面电阻率为10Ω/□以下时，在作为导电性基板而通电使用时，电阻负荷小，所以可以抑制发热，可以在低电压下使用，等等，从这些方面来看优选。另外，在作为例如，等离子显示面板或液晶电视等平板显示器的电磁波屏蔽基板用导电性基板使用时，电磁波屏蔽性良好，所以优选。表面电阻率的测定，例如，在通常状态(23℃、相对湿度65％)下放置24小时后，在该气氛下，依照JIS-K-7194的方式，使用ロレスタ-EP(三菱化学株式会社制，型号：MCP-T360)进行测定。

本发明中使用的基板，没有特别限定，可以使用玻璃、树脂等各种基板。另外，还可以将2种以上的玻璃、树脂等基板进行贴合等，组合使用。

在本发明中，由于不需要为了提高金属微粒层的导电性而进行高温、长时间的热处理，所以可以使用热塑性树脂膜作为基板。在基板是热塑性树脂膜时，从透明性、柔软性、加工性等方面来看是优选的。本发明所称的热塑性树脂膜，是受热则熔融或软化的薄膜的总称，没有特殊限定，作为代表例，可以使用聚酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜等聚烯烃薄膜、聚乳酸薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚苯乙烯薄膜等丙烯酸系薄膜、尼龙等聚酰胺薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚氨酯薄膜、氟系薄膜、聚苯硫醚薄膜等。

它们可以是均聚物，也可以是共聚物。其中，从机械特性、尺寸稳定性、透明性等方面来看，优选聚酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚酰胺薄膜等，进而，从机械强度、通用性等观点来看，特别优选聚酯薄膜。

聚酯薄膜中的聚酯，是以酯键为主链的主要键的高分子的总称，优选使用以选自对苯二甲酸乙二醇酯、对苯二甲酸丙二醇酯、2，6-萘二甲酸乙二醇酯、对苯二甲酸丁二醇酯、2，6-萘二甲酸丙二醇酯、α，β-二(2-氯苯氧基)乙烷-4，4’-二甲酸乙二醇酯等中的至少一种构成成分为主要构成成分的聚酯。这些构成成分，可以仅使用1种，也可以并用2种以上，其中，如果综合判断品质、经济性等，则特别优选以对苯二甲酸乙二醇酯为主要构成成分的聚酯即聚对苯二甲酸乙二醇酯。另外，在对基材作用热或收缩应力等时，更优选具有优异的耐热性、刚性的聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯。在这些聚酯中，还可以共聚一部分，优选为20摩尔％以下的其它的二羧酸成分、二醇成分。

另外，还可以在不损害聚酯特性的范围内在该聚酯中添加各种添加剂例如抗氧化剂、耐热稳定剂、耐气候稳定剂、紫外线吸收剂、有机润滑剂、颜料、染料、有机或无机的微粒、填充剂、防静电剂、成核剂等。

上述聚酯的特性粘度(在25℃的邻氯苯酚中测定)优选是0.4～1.2dl/g，更优选是0.5～0.8dl/g的范围，这在实施本发明时是优选的。

使用上述聚酯而成的聚酯薄膜，优选为双轴取向的，双轴取向的聚酯薄膜一般指，将未拉伸状态的聚酯薄片或薄膜沿长度方向和宽度方向各拉伸2.5～5倍左右，然后进行热处理，完成了结晶取向的薄膜，通过广角X射线衍射可显示出双轴取向的图案。

对聚酯薄膜的厚度没有特别限定，可以根据用途和种类来适当选择，从机械强度和操作性等方面来看，通常优选10～500μm，更优选为38～250μm，最优选为75～150μm。另外，聚酯薄膜基材可以是通过共挤出而成的复合膜。另一方面，可以使用各种方法将得到的薄膜贴合使用。

除基板、金属微粒层以外，本发明的导电性基板上还可以叠层其它各种层。没有特别限定，例如，可以在基板和金属微粒层之间设置用于改善密合性的底涂层等，还可以在金属微粒层上设置保护层，也可以在基板的一个面或两个面上设置粘合层、脱模层、保护层、接合性促进层、耐气候性层等。

下面，更具体地举例说明本发明的导电性基板的制造方法，但并不以此为限。作为第1方法是，在双轴拉伸聚酯薄膜上以格状印刷银微粒的溶液，以格状结构叠层银微粒层。然后，为了使用有机溶剂处理银微粒层，而将整个双轴拉伸聚酯薄膜放入丙酮中放置几秒～1分钟左右。然后，使付着在薄膜上的有机溶剂干燥，然后为了使用酸处理银微粒层，将整个双轴拉伸聚酯薄膜加入到0.1N的盐酸中，放置几秒钟～60分钟。然后取出双轴拉伸聚酯薄膜，水洗并干燥。

作为第2方法，在双轴拉伸聚酯薄膜上涂布银微粒子可自组织的溶液，以不规则的网状结构叠层银微粒层。然后为了使用有机溶剂处理银微粒层，而将整个双轴拉伸聚酯薄膜放入丙酮中放置几秒～1分钟左右。然后，使付着在薄膜上的有机溶剂干燥，然后为了使用酸处理银微粒层，而将整个双轴拉伸聚酯薄膜放入到0.1N的盐酸中放置几秒钟～60分钟。然后取出双轴拉伸聚酯薄膜，水洗并干燥。

使用本发明的导电性基板的制造方法，可以以生产性优异的方法得到具有透明性和高水平的导电性的导电性基板。

通过本发明的导电性基板的制造方法得到的导电性基板，具有透明性和高水平的导电性，所以可以作为等离子显示面板和液晶电视等的平板显示器用的电磁波屏蔽膜使用，此外，还可以适合在电路材料用途、太阳能电池用途等各种导电性基板用途中使用。

实施例

[特性的测定方法和效果的评价方法]

在各实施例和比较例中制作的导电性基板的特性测定方法和效果的评价方法如下。

(1)金属微粒的数均粒径

将分散有金属微粒的溶液滴到铜网上，使用透射电镜(H-7100FA型，(株)日立制作所制)观察，来求出金属微粒的数均粒径。测定100个金属微粒的粒径，将它们的平均值作为数均粒径。

(2)表面观察

使用场致发射扫描电镜(JSM-6700F型，日本电子(株)制)观察导电性基板的金属微粒层，观察网眼的形状和网眼部分的大小。另外，切出导电性基板的剖面，然后同样使用场致放射扫描电镜观察该剖面，观察网眼部分的厚度。

(3)导电性

通过表面电阻率来测定导电性基板的金属微粒层的导电性。表面电阻率的测定，是在通常状态(23℃、相对湿度65％)下放置24小时后，在该气氛下，依照JIS-K-7194的方式，使用ロレスタ-EP(三菱化学株式会社制，型号：MCP-T360)进行的。单位是Ω/□。另外，本测定器可以测定1×10⁶Ω/□以下的表面电阻率。如果表面电阻率为10Ω/□以下，则评价为A，表示导电性良好，如果比10Ω/□大，则评价为B，表示导电性不好。

(4)总光线透过率

总光线透过率，是将导电性基板放置在通常状态(23℃、相对湿度65％)下2小时后，使用スガ试验机(株)制全自动直读式浊度计算机“HGM-2DP”测定的。将3次测定的平均值作为该导电性基板的总光线透过率。如果总光线透过率为50％以上，则透明性良好。另外，在仅在基板的一个面上叠层有金属微粒层的导电性基板的情况中，设置导电性基板使光线从叠层有金属微粒层的一侧射入。如果总光线透过率为75％以上，则评价为AA，表示透明性较优异，如果是50％以上，但小于75％，则评价为A，表示透明性良好，将小于50％的评价为B，表示透明性不好。

(5)耐莫尔条纹现象

耐莫尔条纹现象是通过下述方法评价的，即作为等离子显示器使用松下电器产业株式会社制“高清晰等离子显示器(high vision plasma display)”TH-42PHD7，在显示出图像的画面前，以画面与导电性基板大致平行的方式固定基板，一边保持画面与基板面大致平行的状态，一边使基板旋转360°，目视观察旋转时是否出现了莫尔条纹现象。没有观察到莫尔条纹的是良好。另外，在仅在基板的一个面上叠层了不规则的网状层的情况中，以没有叠层不规则网状层的面面向显示器画面的方式固定导电性基板。

下面，基于实施例来说明本发明。

(金属微粒层形成溶液1)

作为金属微粒层形成溶液1，使用作为银微粒层形成溶液的藤仓化成株式会社制XA-9053。银微粒的数均粒径是0.04μm。

(金属微粒层形成溶液2)

作为金属微粒层形成溶液2，使用在有机溶剂中分散了银微粒而成的银微粒层形成自组织化溶液Cima NanoTech公司制CE103-7。银微粒的数均粒径是0.08μm。

(金属微粒层形成溶液3)

作为金属微粒层形成溶液3，使用银微粒层形成溶液Cima NanoTech公司制CE102-2。

实施例1

使用丝网印刷将金属微粒层形成溶液1以不规则的网状印刷在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(东レ(株)制，ルミラ一(注册商标)U94)的一个面上。然后将已印刷的金属微粒层形成溶液1在150℃下干燥1分钟，从而得到以不规则的网状叠层了银微粒层的叠层基板。网眼的线厚度是2μm，线宽50μm。

接着，作为丙酮处理，将整个薄膜浸渍在25℃的丙酮(ナカライテスク(株)制，特级)中30秒，然后取出薄膜，在25℃下干燥3分钟。接着，作为酸处理，将整个薄膜浸渍在25℃的1N(1mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，N/1-盐酸)中1分钟，然后取出薄膜，用水洗涤。然后，在150℃下干燥1分钟。该薄膜的表面电阻率是5Ω/□，总光线透过率是70％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例2

除了使用25℃的5N(5mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，5N-盐酸)处理以外，其他与实施例1进行同样处理而得到导电性基板。该薄膜的表面电阻率是5Ω/□，总光线透过率是70％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例3

除了使用40℃的5N(5mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，5N-盐酸)处理以外，其他与实施例1进行同样处理而得到导电性基板。该薄膜的表面电阻率是5Ω/□，总光线透过率是70％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例4

除了使用40℃的2N(2mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，2N-盐酸)处理以外，其他与实施例1进行同样处理而得到导电性基板。该薄膜的表面电阻率是5Ω/□，总光线透过率是70％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例5

除了在50℃的97％(约18mol/L)的硫酸(石津制药(株)制，97％硫酸，特级试剂)中浸渍5秒钟以外，其他与实施例1进行同样处理而得到导电性基板。该薄膜的表面电阻率是5Ω/□。在该实施例中，经酸处理，聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜出现白化，总光线透过率是50％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例6

在已对一个面进行了亲水化处理的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(东レ(株)制，ルミラ一(注册商标)U46)的亲水化处理层上涂布金属微粒层形成溶液2，然后在25℃下放置10分钟，使银微粒层以不规则网状叠层，然后在150℃下处理2分钟。

接着，作为丙酮处理，将整个薄膜浸渍在25℃的丙酮(ナカライテスク(株)制，特级)中30秒，然后取出薄膜，在25℃下干燥3分钟。接着，作为酸处理，将整个薄膜浸渍在25℃的1N(1mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，N/1-盐酸)中1分钟，然后取出薄膜，用水洗涤。然后，在150℃下干燥1分钟。该薄膜的表面电阻率是4Ω/□，总光线透过率是80％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例7

除了使用25℃的5N(5mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，5N-盐酸)处理以外，其他与实施例6进行同样处理而得到导电性基板。该薄膜的表面电阻率是4Ω/□，总光线透过率是80％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例8

除了使用40℃的5N(5mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，5N-盐酸)处理以外，其他与实施例6进行同样处理而得到导电性基板。该薄膜的表面电阻率是4Ω/□，总光线透过率是80％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例9

除了使用40℃的2N(2mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，2N-盐酸)处理以外，其他与实施例6进行同样处理而得到导电性基板。该薄膜的表面电阻率是4Ω/□，总光线透过率是80％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例10

除了在50℃的97％(约18mol/L)的硫酸(石津制药(株)制，97％硫酸，特级试剂)中浸渍5秒钟以外，其他与实施例6进行同样处理而得到导电性基板。该薄膜的表面电阻率是4Ω/□。在该实施例中，经酸处理，聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜出现白化，总光线透过率是50％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

实施例11

除了以线厚度3μm，线宽50μm，间距300μm的格状印刷网眼以外，其他与实施例1进行同样处理而得到导电性基板。该薄膜的表面电阻率是5Ω/□，总光线透过率是70％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中发现了莫尔条纹现象。

实施例12

在已对一个面进行了亲水化处理的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(东レ(株)制，ルミラ一(注册商标)T60)的亲水化处理层上涂布金属微粒层形成溶液3，然后在25℃下放置10分钟，银微粒层以不规则网状叠层，然后在120℃下处理1分钟。接着，将整个薄膜浸渍在25℃的丙酮(ナカライテスク(株)制，特级)中30秒，然后取出薄膜，在25℃下干燥3分钟。接着，将整个薄膜浸渍在25℃的0.1N(0.1mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，N/10-盐酸)中2分钟，然后取出薄膜，用水洗涤，然后在120℃下干燥1分钟。该薄膜的表面电阻率是7Ω/□，总光线透过率是80％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

比较例1

在已对一个面进行了亲水化处理的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(东レ(株)制，ルミラ一(注册商标)U46)的亲水化处理层上涂布金属微粒层形成溶液2，然后在25℃下放置10分钟，银微粒层以不规则网状叠层，然后在150℃下处理2分钟，从而制作出基板。该薄膜的表面电阻率是100Ω/□，总光线透过率是80％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

比较例2

在已对一个面进行了亲水化处理的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(东レ(株)制，ルミラ一(注册商标)U46)的亲水化处理层上涂布金属微粒层形成溶液2，然后在25℃下放置10分钟，使银微粒层以不规则网状叠层，然后在150℃下处理2分钟。

接着，作为丙酮处理，将整个薄膜浸渍在25℃的丙酮(ナカライテスク(株)制，特级)中30秒钟，然后取出薄膜，在25℃下干燥3分钟，从而制作基板。该薄膜的表面电阻率是20Ω/□，总光线透过率是80％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

比较例3

在已对一个面进行了亲水化处理的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(东レ(株)制，ルミラ一(注册商标)U46)的亲水化处理层上涂布金属微粒层形成溶液2，然后在25℃下放置10分钟，银微粒层以不规则网状叠层，然后在150℃下处理2分钟。

接着，作为酸处理，将整个薄膜浸渍在25℃的1N(1mol/L)的盐酸(ナカライテスク(株)制，N/1-盐酸)中1分钟，然后取出薄膜，用水洗涤。然后，在150℃下干燥2分钟。从而制作出基板。该薄膜的表面电阻率是12Ω/□，总光线透过率是80％。在耐莫尔条纹现象评价的结果中没有发现莫尔条纹现象。

在实施例11中，由于形成了规则的格状网眼，所以发现了莫尔条纹现象。与此相对的是，在实施例1～10、和实施例12中，通过使网眼变得不规则，没有发现莫尔条纹现象。

与实施例1～4相比，实施例6～9和实施例12由于使用了自组织化的溶液来叠层金属微粒层，所以得到了具有更好的总光线透过率，且同时以高水平具有良好的透明性和导电性的导电性基板。

在实施例5和10中，由于使用酸进行处理的温度高，酸溶液浓度高，所以薄膜白化，总光线透过率下降。与此相对的是，实施例1～4、6～9、11和12，通过降低酸处理温度，且降低酸溶液浓度，而未出现白化，得到了理想的总光线透过率。

比较例1～3由于没有进行有机溶剂处理和/或酸处理，所以表面电阻率高。

产业可利用性

使用本发明的导电性基板的制造方法，可以以生产性优异的方法得到具有透明性和高水平的导电性的导电性基板。通过本发明的导电性基板的制造方法制造出的导电性基板具有透明性和高水平的导电性。因此，适合在例如等离子显示面板和液晶电视等平板显示器中使用。

Claims (12)

1.一种导电性基板的制造方法，是在基板的至少一个面上以网状叠层金属微粒层的导电性基板的制造方法，其特征在于，包括：对所述金属微粒层使用有机溶剂进行处理的工序；和接着使用酸进行处理的工序。

2.根据权利要求1所述的导电性基板的制造方法，使用酸处理所述金属微粒层的工序，是将所述导电性基板浸渍在酸溶液中，和/或在所述导电性基板上涂布酸溶液。

3.根据权利要求1所述的导电性基板的制造方法，在使用酸处理所述金属微粒层时，使用40℃以下的酸溶液进行处理。

4.根据权利要求1所述的导电性基板的制造方法，在使用酸处理所述金属微粒层时，使用10mol/L以下的酸溶液进行处理。

5.根据权利要求1所述的导电性基板的制造方法，使用将选自金属微粒、金属氧化物微粒、和有机金属化合物中的至少一种物质分散或溶解在溶剂中而成的溶液，来叠层所述金属微粒层。

6.根据权利要求5所述的导电性基板的制造方法，所述溶液是在所述基板上自组织成网状的溶液。

7.根据权利要求1所述的导电性基板的制造方法，所述金属微粒层中含有的金属微粒的数均粒径为0.2μm以下。

8.根据权利要求1所述的导电性基板的制造方法，通过对金属微粒层使用有机溶剂处理的工序、和接着使用酸进行处理的工序，使该金属微粒层的表面电阻率为10Ω/□以下。

9.根据权利要求1所述的导电性基板的制造方法，所述基板是热塑性树脂膜。

10.一种导电性基板，是通过权利要求1～9的任一项所述的导电性基板的制造方法得到的。

11.根据权利要求10所述的导电性基板，总光线透过率是50％以上。

12.一种等离子显示器用电磁波屏蔽基板，使用了权利要求10所述的导电性基板。

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