CN101360990A - 层叠薄膜的制造方法、层叠薄膜的缺陷检测方法、层叠薄膜的缺陷检测装置、层叠薄膜、以及图像显示装置 - Google Patents

层叠薄膜的制造方法、层叠薄膜的缺陷检测方法、层叠薄膜的缺陷检测装置、层叠薄膜、以及图像显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101360990A
CN101360990A CNA200780001727XA CN200780001727A CN101360990A CN 101360990 A CN101360990 A CN 101360990A CN A200780001727X A CNA200780001727X A CN A200780001727XA CN 200780001727 A CN200780001727 A CN 200780001727A CN 101360990 A CN101360990 A CN 101360990A
Authority
CN
China
Prior art keywords
laminate film
light
inspection
image pickup
pickup part
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA200780001727XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN101360990B (zh
Inventor
小林孝正
萩原陆宏
矢野祐树
自然浩次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Publication of CN101360990A publication Critical patent/CN101360990A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101360990B publication Critical patent/CN101360990B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21Polarisation-affecting properties
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • G01N21/896Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

本发明在使用检查用偏光滤光器或检查用相位差滤光器对具有偏振镜的层叠薄膜进行缺陷检查时,按照适当的顺序配置应该在拍摄光程中配置的构件。提供层叠有偏振片(1)和光学补偿层的层叠薄膜(11)的缺陷检测方法,包括:通过配置在层叠薄膜(11)的薄膜面的偏振片叠层侧的光源照射光的工序、通过配置在薄膜面的光学补偿层侧的摄像部(12)对层叠薄膜(11)的透过光像进行拍摄的工序、和根据由摄像部(12)拍摄的透过光像对存在于层叠薄膜(11)的缺陷进行检测的缺陷检测工序,通过位于光源(13)和摄像部(12)之间的光程上且与摄像部(13)邻接配置的检查用滤光器(15)、和位于光源(13)和摄像部(12)之间的光程上且配置在检查用偏光滤光器(15)和层叠薄膜(11)之间的检查用相位差滤光器(16),利用摄像部(12)进行摄像。

Description

层叠薄膜的制造方法、层叠薄膜的缺陷检测方法、层叠薄膜的缺陷检测装置、层叠薄膜、以及图像显示装置
技术领域
本发明涉及至少层叠有偏振片和光学补偿层的层叠薄膜的制造方法、层叠薄膜的缺陷检测方法、层叠薄膜的缺陷检测装置、层叠薄膜、以及图像显示装置。
背景技术
作为本发明的层叠薄膜,已知有通过粘合剂层在偏振片上层叠了相位差薄膜(相当于光学补偿层)而成的膜。该层叠薄膜的层叠结构例如图12所示。该层叠薄膜11是由以偏振镜1a和在其两侧通过胶粘剂层层叠的保护薄膜1b所构成的偏振片1、和光学补偿层、例如在偏振片1的一个面上通过粘合剂层2a层叠的相位差薄膜2(或者,直接层叠在偏振片1的一个面上的相位差层)构成。当对在该偏振片1中存在的异物、损伤、裂点(knick)等缺陷进行检查时,利用适当的光源向偏振片1照射光,借助线传感器摄像机或二维电视摄像机等的摄像部获得其反射光像或透过光像,根据获得的图像数据,进行缺陷检测。另外,在进行偏振片的检查时,在使检查用偏光薄膜介于光源和摄像部之间的光程中的状态下,获得图像数据。通常该检查用偏光滤光器的偏光轴(例如,偏光吸收轴)被配置成与作为检查对象的偏振片1的偏光轴(例如,偏光吸收轴)正交的状态(交叉尼科耳)。通过配置成交叉尼科耳,假设不存在缺陷,则从摄像部输入全面黑的图像,如果存在缺陷,则该部分不为黑。因此,通过设定适当的阈值,可以检测出缺陷。
但是,在除了偏振镜之外还存在具有相位差的光学补偿层的层叠薄膜中,来自光源的光通过光学补偿层,由此出现光轴错位,实质上偏振镜和检查用偏光滤光器不会达到交叉尼科尔状态。其结果,存在无法高精度地检查偏振片的缺陷的问题。
作为解决了该问题的层叠薄膜(带有保护膜的偏振片)的缺陷检测装置,公知的是下述专利文献1所公开的偏振片检查装置。该偏振片检查装置具有配置在偏振片的一侧的光源、配置在偏振片的另一侧并对偏振片的透过光像进行拍摄的摄像部、配置在偏振片和光源之间的光程中的检查用偏光滤光器以及检查用相位差板。使用使来自光源的光成为直线偏振光的检查用偏光滤光器,使该直线偏振光入射到带有保护膜的偏振片,根据其透过光像进行缺陷检测。进而,在从光源透过带有保护膜的偏振片的光程上,配置有对由保护膜的光的双折射进行补偿的相位差板。通过另外配置该相位差板,可以消除由具有相位差的保护膜的相位变化,对由保护膜的光的双折射进行补偿。进而,为了对每个产品的由微妙不同的保护膜的双折射进行补偿,还公开有配置可以通过电压调节光的相位角的可变偏振光用光学元件的结构例。
专利文献1:特开2005-9919号公报
但是,最近,包含偏振片的层叠薄膜的大型化也在不断进展,在上述专利文献1所述的方法中存在大量不良情况。
首先,随着检查对象即层叠薄膜的大型化,由于要向薄膜面内照射均匀的光,所以光源也在大型化。与此相伴随,在专利文献1那样的结构中,需要具有与能够覆盖光源相对应的面积的检查用滤光器。例如,由于要检查具有达1500mm的宽度方向长度的薄膜,为了向端部也照射均匀的光,通常需要使用宽1800mm左右的光源,但同样也需要宽1800mm以上的检查用滤光器。为此,检查用滤光器的保养变得非常困难。进而,有时与根据每个产品不同的偏光轴或光学轴对应地使上述检查用滤光器旋转,但此时,需要与光源同等大小的检查用滤光器,更换等保养或旋转所需的作业更是具有难度。
在上述专利文献1的结构中,检查用滤光器接近光源,通常以一定状态被暴露,所以由于热或光能而滤光器容易劣化。其结果,不仅用于更换检查用滤光器的成本耗费大,而且随着检查用滤光器的劣化,缺陷的检测精度也劣化,所以缺陷制品的流出增加。
发明内容
本发明正是鉴于上述情况而完成的发明,其课题在于,提供在使用检查用偏光滤光器或检查用相位差滤光器对具有偏振片的层叠薄膜进行缺陷检查时、能够通过适当配置应该在拍摄光程中配置的构件而使上述层叠薄膜的缺陷的检测遗漏极少且使层叠薄膜长时间品质稳定的层叠薄膜的制造方法,层叠薄膜的缺陷检测方法,以及层叠薄膜的缺陷检测装置。
为了解决上述课题,本发明的层叠薄膜的制造方法,其包括:
至少层叠偏振片和光学补偿层制造层叠薄膜的工序、和对所制造的层叠薄膜进行缺陷检查的工序,其特征在于,上述缺陷检查工序包括:
通过配置在层叠薄膜的偏振片叠层侧的光源向层叠薄膜照射光的工序、
通过配置在层叠薄膜的光学补偿层侧的摄像部对层叠薄膜的透过光像进行拍摄的工序、和
根据由摄像部拍摄的透过光像对存在于层叠薄膜的缺陷进行检测的缺陷检测工序,
通过位于光源和摄像部之间的光程上且与摄像部邻接配置的检查用滤光器、和位于光源和摄像部之间的光程上且配置在检查用偏光滤光器和层叠薄膜之间的检查用相位差滤光器,利用上述摄像部进行摄像。
另外,为了解决上述课题,本发明的层叠薄膜的缺陷检测方法,是至少层叠有偏振片和光学补偿层的层叠薄膜的缺陷检测方法,其特征在于,包括:
通过配置在层叠薄膜的偏振片叠层侧的光源向层叠薄膜照射光的工序、
通过配置在层叠薄膜的光学补偿层侧的摄像部对层叠薄膜的透过光像进行拍摄的工序、和
根据由摄像部拍摄的透过光像对存在于层叠薄膜的缺陷进行检测的缺陷检测工序;
通过位于光源和摄像部之间的光程上且与摄像部邻接配置的检查用滤光器、和位于光源和摄像部之间的光程上且配置在检查用偏光滤光器和层叠薄膜之间的检查用相位差滤光器,利用上述摄像部进行摄像。
对基于该结构的层叠薄膜的缺陷检测装置的作用、效果进行说明。成为检查对象的层叠薄膜至少层叠有偏振片和光学补偿层。在层叠薄膜的薄膜面的偏振片侧配置光源,在光学补偿层侧配置摄像部(例如,线传感器摄像机)。另外,在光源和摄像部之间的光程中配置检查用偏光滤光器和检查用相位差滤光器。检查用偏光滤光器与摄像部邻接配置,检查用相位差滤光器被配置在检查用偏光滤光器和层叠薄膜之间。从光源照射的光通过检查用偏光滤光器变成偏振光,由摄像部输入层叠薄膜的透过光像。另外,通过检查用相位差滤光器,可以使其作用于消除由光学补偿层导致的相位差的方向。缺陷检测部根据该已输入的透过光像的图像数据进行缺陷检测。其中,进行缺陷检测时的手法或算法多数是公知的,并不限于特定的检测方法。
通过上述结构,由于检查用偏光滤光器与摄像部邻接配置,所以夹持层叠薄膜而位于光源的相反侧。因此,可以缓和由光源的光或热的影响,偏光滤光器难以劣化,所以可以维持需要的特性。这对于检查用相位差滤光器也是相同的。进而,由于作为检查对象的层叠薄膜是依次更换,所以与常时位于恒定位置的检查用滤光器相比,对由光或热引起的劣化的影响少。其结果,可以提供在使用检查用偏光滤光器或检查用相位差滤光器对具有偏振镜的层叠薄膜进行缺陷检查时已按照适当的顺序配置了应该在拍摄光程中配置的构件的层叠薄膜的制造方法以及缺陷检测方法。
进而,就本发明的结构而言,在宽度方向长度为1350nm以上的大型层叠薄膜的制造中,其效果特别明显,大大有助于具有较大面积的层叠薄膜中缺陷检查的精度提高以及与装置的大型化相伴随的效率化。
本发明的层叠薄膜的制造方法,具有至少层叠偏振片和光学补偿层制造层叠薄膜的工序、和对如前所述的层叠薄膜进行缺陷检查的工序,所以可以消除具有缺陷的不合格品的流出。
为了解决上述课题,本发明的层叠薄膜的缺陷检测装置,是至少层叠有偏振片和光学补偿层的层叠薄膜的缺陷检测装置,其特征在于,具有:
配置在层叠薄膜的偏振片叠层侧并对层叠薄膜照射光的光源,
配置在层叠薄膜的光学补偿层侧并对层叠薄膜的透过光像进行拍摄的摄像部,
根据由摄像部拍摄的透过光像对存在于层叠薄膜的缺陷进行检测的缺陷检测部,
在光源和摄像部之间的光程上且与摄像部邻接配置的检查用偏光滤光器,和
在光源和摄像部之间的光程上且配置在检查用偏光滤光器和层叠薄膜之间的检查用相位差滤光器。
通过该结构,如前所述,可以提供在使用检查用偏光滤光器或检查用相位差滤光器对具有偏振镜的层叠薄膜进行缺陷检查时已按照适当的顺序配置了应该在拍摄光程中配置的构件的层叠薄膜的缺陷检测装置。
本发明的光学补偿层是将相位差的取向角偏差控制在4°以内的相位差层,上述检查用相位差滤光器优选为具有与相位差层相同特性的检查用相位差滤光器。
通过该结构,可以有效消除相位差的错位。上述取向角偏差表示薄膜面内的相位差偏差,是表示从对光学补偿层的相位差进行控制的分子的需要取向方向(取向角度)错开何种程度的指标。本发明可以优选适用于在图像显示装置等最终产品中使用的、具有取向角偏差被控制在4°以下的光学补偿层的层叠薄膜中,可以进行高精度检查。就该取向角偏差而言,例如在薄膜的宽度方向均等地测定3~6点左右的取向角,求出其最大值和最小值的差即可,上述取向角可以通过市售的相位差测定装置来测定,例如可以使用王子计测机器(株)制的KOBRA-21ADH进行测定。
本发明的光学补偿层含有圆盘状液晶层,上述检查用相位差滤光器优选为具有相同特性的检查用圆盘状液晶层。由此,可以有效消除相位差的错位。
在本发明中,优选还具有对检查用偏光滤光器的偏光轴和偏振片的偏光轴的相对角度位置进行调节的第一光轴调节部。通过该结构,可以发现最佳相对角度位置,通过对应于层叠薄膜的种类或薄膜面内的取向角偏差来调节检查用偏光滤光器的偏光轴,可以对各种产品将检查用偏光滤光器配置在合适的位置。
在本发明中,优选还具有对检查用相位差滤光器的光轴和上述光学补偿层的光轴的相对角度位置进行调节的第二光轴调节部。通过该结构,可以发现最佳相对角度位置,通过对应于层叠薄膜的种类或薄膜面内的取向角偏差来调节检查用相位差滤光器的光轴,可以对各种产品将检查用相位差滤光器配置在合适的位置。
附图说明
图1是表示层叠薄膜的缺陷检测装置的结构的示意图。
图2是表示层叠薄膜的缺陷检测装置的其他结构的示意图。
图3是对检查用偏光滤光器与检查用相位差滤光器的偏光轴的调节机构进行说明的图。
图4是对检查用偏光滤光器的偏光轴的调节机构的其他实施方式进行说明的图。
图5是表示对具有相位差层的偏振片进行拍摄时的图像信号的图。
图6是表示使用相对于具有相位差层的偏振片配置成交叉尼科耳的偏光滤光器进行拍摄时的图像信号的图。
图7是表示使用相对于不具有相位差层的偏振片配置成交叉尼科耳的偏光滤光器进行拍摄时的图像信号的图。
图8是表示图5的例子中的原图像和二值化图像的图。
图9是表示图6的例子中的原图像和二值化图像的图。
图10是表示本发明的配置结构和比较例的配置结构的图。
图10A是表示对于经时变化的影响进行实验的结果的图。
图11是表示由本发明的配置结构拍摄的图像与由比较例的配置结构拍摄的图像的图。
图12是表示层叠薄膜的层叠结构例子的图。
图中:1a-偏振镜,1b-保护薄膜,2-相位差薄膜(光学补偿层),11-层叠薄膜,12-摄像部,13-光源,14-图像处理装置,15-检查用偏光滤光器,16-检查用相位差滤光器,17-图像数据获得部,18-监视器,19-存储装置,20-标记装置,21-标记控制部,31-第一光轴调节部,32-第二光轴调节部。
具体实施方式
使用附图对本发明的层叠薄膜的缺陷检测方法以及装置的优选实施方式进行说明。图1是表示缺陷检测方法以及装置的结构的示意图。作为检查对象的层叠薄膜11如图12所示至少由偏振片1和在该偏振片1上层叠的光学补偿层构成。作为光学补偿层,举出相位差薄膜或取向液晶层作为例子。
在图1中,层叠薄膜11是从被卷绕成未图示的卷筒的状态被拉出,并从图的左侧被运送到右侧。在层叠薄膜11的薄膜面的一侧(在图1中的下方)配置检查用的光源13。作为光源,可以使用荧光灯、卤素灯、金属卤化物灯、LED等,根据作为检查对象的层叠薄膜11的种类选择适当的光源13。作为光源13的形状,可以适当使用平面状或灯泡形、在薄膜宽度方向长的形状的光源等。
作为摄像部12,由线传感器摄像机或二维电视摄像机等构成。摄像部12与偏振片1的宽度方向尺寸相对应,沿着宽度方向配置1个或多个。图像处理装置14具有通过对由摄像部12拍摄的图像数据进行图像处理而进行偏振片1的缺陷检测的功能。连结摄像部12和光源13的光程被设定成相对于层叠薄膜11的薄膜面垂直,但根据光源13或摄像部12的设置场所的限制,如图2所示可以将光程相对于薄膜面倾斜配置。
检查用偏光滤光器15如图1所示被配置在摄像部12的前面。检查用偏光滤光器15的偏光轴L2(参照图3)通常被配置成与偏振片1的偏振镜的偏光轴L1成为交叉尼科耳的位置关系。通过配置成交叉尼科尔,假设不存在缺陷,则从摄像部输入全面黑的图像,如果存在缺陷,则该部分不为黑。因此,通过设定适当的阈值,可以检测出缺陷。不过,由于在偏振片11上设置有上述光学补偿层,来自光源的光通过光学补偿层而发生光轴错位,实质上不能成为交叉尼科尔的状态。其中,检查用偏光滤光器15是与偏振片1相同的构件,且使用没有缺陷存在的构件。
另外,由于光学补偿层具有面内相位差,所以从层叠薄膜11上的位置向摄像部12输入的光量不同,所以存在被输入到摄像部12的图像在中心部和端部的亮度不同的问题。理想的是缺陷部和其以外的图像部分的对比度不受图像中场所的限制而为恒定,但基于上述理由对比度变得不均匀。其结果,虽然存在明显大的气孔等的亮点,但仍被判断为合格,相反,虽然是应被判断为合格的非常小的缺陷,但有可能被误判断为不合格。即,在图像的中心部和端部需要缺陷检测能力恒定。
鉴于该问题,与检查用偏光滤光器15相邻配置检查用相位差滤光器16。检查用相位差滤光器16以与检查用偏光滤光器15相邻的形式被配置在检查用偏光滤光器15和层叠薄膜11之间。通过使其邻接,可以实现检查装置的小型化,同时可以提高保养性。检查用相位差滤光器16优选具有与构成层叠薄膜11的光学补偿层相同的特性(例如相同材质、厚度、相位差)。例如,只要光学补偿层是带有圆盘状液晶层的三乙酰纤维素薄膜(偏振镜保护薄膜),就可以使用具有拥有相同特性的检查用圆盘状液晶层的薄膜。由此,可以消除(或者抑制)因光学补偿层的存在引起的相位差,稳定地进行缺陷检测。
图3是对检查用偏光滤光器15的偏光轴L2以及检查用相位差滤光器16的光学轴L3的调节进行说明的图。第一光轴调节部31提供在平面内使检查用偏光滤光器15旋转的机构。旋转中心与连结光源13和摄像部12的光程一致。同样地,第二光轴调节部32提供在平面内使检查用相位差滤光器16旋转的机构。旋转中心与连结光源13和摄像部12的光程一致。检查用偏光滤光器15或检查用相位差滤光器16还可以配置成固定状态,但可以旋转,由此在考虑了光学补偿层的取向角偏差的基础上,可以相对于偏振片1的偏光轴L1调节偏光滤光器的偏光轴,或相对于光学补偿层的光学轴调节检查用相位差滤光器16的光学轴,可以将它们设定在最佳位置。
进而,构成作为检查对象的层叠薄膜11的光学补偿层存在各种种类,所以根据层叠薄膜11的种类而最佳的检查用偏光滤光器15或检查用相位差滤光器16的配置不同。因此,如图3所示,通过设置使检查用偏光滤光器15或检查用相位差滤光器16水平旋转的机构,可以根据层叠薄膜11的种类进行适当的缺陷检测。此时,优选事先在检查用偏光滤光器15或检查用相位差滤光器16上刻印·印刷旋转角度或贴附标记以知道使检查用偏光滤光器15或检查用相位差滤光器16相对于基准位置旋转了多少度。另外,可以构成为将层叠薄膜11的种类和角度位置的关系储存在存储器中,通过第一光轴调节部31或第二光轴调节部32自动设定成规定的角度位置。
回到图1,通过摄像部12拍摄的图像信号被图像数据获得部17变换成已数字数据化的图像数据,而被输送给图像处理装置14。图像处理装置14是以软件的功能为核心而构成,具备缺陷检测部的功能。缺陷检测部通过对由摄像部12获得的图像数据进行图像处理来进行缺陷检测,关于缺陷检测算法可以使用公知的手法。例如,由于存在缺陷的场所的亮度变亮,所以利用规定水平的阈值将获得的图像数据二值化,由此可以抽出缺陷。可以计算出所抽出的缺陷的面积、长度、宽度、亮度等特征量,从该特征量中选择1个乃至多个来进行是否合格的判断。
监视器18可以映出由摄像部12拍摄的图像,可以对缺陷的存在进行目视确认。存储装置19在检测出缺陷的情况下对其位置坐标或缺陷的特征量等进行储存。标记装置20是在已抽出缺陷的情况下用于标记该缺陷位置的装置。标记控制部21对标记装置20的动作进行控制。具体而言,根据在存储装置19中储存的缺陷位置的坐标信号,对缺陷位置(或者层叠薄膜11的宽度方向的端部)准确地进行标记,由此对标记装置20进行控制。关于标记装置20,可以使用具有公知结构的装置。例如,标记可以通过自动记分器进行。另外,可以通过喷墨打印机等在层叠薄膜11上打印缺陷的特征量(缺陷信息)。
图4是表示检查用偏光滤光器15的其他实施方式的图。图4(a)是偏光轴不同的3个检查用偏光滤光器15A、15B、15C直线连结而成的结构,通过在光程上设置任意一个偏光滤光器15,可以调节偏光轴的相对角度位置。各检查用偏光滤光器15A、15B、15C的偏光轴L21、L22、L23稍微不同。图4(b)是偏光轴不同的3个偏光滤光器15A、15B、15C在圆周方向上连结而成的结构。在图4的例子中,偏光滤光器15的数量是3个,但并不限于此,可以适当决定。关于检查用相位差滤光器16,也可以采用相同的结构。
接着,举出具体的实施例进行说明。作为层叠薄膜11,使用在市售的偏振片的一个面层叠有光学补偿层(富士胶片(株)制WV薄膜,“WVA038”取向角偏差1.0°)得到的薄膜。作为光源13,使用卤素灯,作为摄像部12,使用线传感器摄像机。拍摄光程中各构件的配置按照图1的配置结构进行。首先,作为检查对象的层叠薄膜11,使用层叠有相位差已被控制的相位差薄膜且不存在缺陷的膜。在摄像部12的前面,从摄像部12侧开始依次配置有检查用偏光滤光器15、检查用相位差滤光器16。由摄像部12得到的图像信号示于图5。尽管在图像的中央部和端部存在若干波动,但线传感器摄像机的视场方向(主扫描方向)的亮度大致恒定,缺陷存在于任何位置都可以稳定地检测到。
验证中使用的光源13使用モリテツクス公司制卤素光源装置MHF-100(100瓦特),将光源亮度(自光源30cm的上方测定的亮度)调节成6060cd/m2
另一方面,将在除了未配置检查用相位差滤光器16以外其他条件与上述实施例1相同的情况下得到图像信号示于图6。与图5相比,中央部的亮度低,越向周边亮度越高。即,在中央部和端部的亮度差较大而不稳定,所以无法稳定地进行缺陷是否合格的判断。
进而,偏振片1使用不存在缺陷的构件,仅配置检查用偏光滤光器15(不使用检查用相位差滤光器16的情况),将此时的图像信号示于图7。
在这里,以图5~7的条件在左端、中央、右端的位置检测出在图7的中央部的位置检测出面积为“20”的缺陷时的面积(像素单位)被示于表1中。此时的面积计算利用Matrox公司制的Inspector。
表1
  図5   図6   図7
  左端   21   14   21
  中央   18   30   20
  右端   17   0   21
就图5或图7的情况而言,缺陷位于任何位置,面积都大致相同,但在图6的情况下,可知因位置的不同而面积会成为“0”,无法进行稳定的缺陷检测。因此,就检查对象仅为偏振片1的情况(在偏振片1上未层叠有相位差层的情况)而言,尤其可以在不使用检查用相位差滤光器16的情况下,仅通过检查用偏光滤光器15进行稳定的检查;就层叠有相位差层的层叠薄膜11的情况而言,还配置特性与该相位差层相同的检查用相位差滤光器16,通过从摄像部12侧开始依次配置检查用偏光滤光器15、检查用相位差滤光器16,可以进行稳定的检查。
图5的情况的实际图像同样示于图8。在图8中,(a1)(b1)表示原图像,(a2)(b2)表示对缺陷周边的原图像已实施二值化处理的图像。从中央部至端部不存在亮度差异,所以可以稳定地进行缺陷检测。将图6的情况的实际图像示于图9。在图9中,(a1)表示右端附近的原图像,(a2)表示缺陷周边的二值化图像。在缺陷和其周边,亮度差小,所以为难以检测出缺陷的状态。(b1)表示中央部附近的原图像,(b2)是已对缺陷周边的原图像实施二值化处理的图像。尽管可以检测出缺陷,但与实际的缺陷大小不同,成为难以看到缺陷的状态。
接着,进行代替检查用相位差滤光器16而插入特性与层叠薄膜11的相位差层不同的偏振片用保护薄膜(东丽薄膜加工制隔离件,セラピ一ルMDA38、取向角偏差8.6°)的情况的比较实验。将其结果示于表2。表2中的数值表示以与表1相同的方法检测出的缺陷的面积(像素单位)。
表2
  相位差薄膜   偏振片保护薄膜
  左端   21   14
  中央   18   0
  右端   17   3
就检查用相位差滤光器的情况(与表1所示的数据相同)而言,偏差少,但如果使用偏振片用保护薄膜则偏差非常大,无法进行稳定的缺陷检测。偏振片用保护薄膜最终被剥离,所以与层叠薄膜11的相位差层相比,取向角偏差增大。因此,无法将采用与该保护薄膜相同的构件作为检查用。对于层叠薄膜11的光学补偿层也是一样的,本发明优选被用于取向角偏差小的构件。作为此时的取向角偏差,优选为4°以下,更优选为3°以下。
<配置结构>
接着,对本发明的配置结构和比较例的配置结构进行说明。本发明的结构如图10(a)所示,在层叠薄膜11的下侧配置光源13,在上侧依次配置摄像部12、检查用偏光滤光器15、检查用相位差滤光器16。另外,关于作为检查对象的层叠薄膜11,偏振片11a配置在光源侧,相位差层11b配置在摄像部侧。其理由在于,如果相位差层11b为光源侧,则在光进入到偏振片11a之前,会出现相位差的影响,所以无法用滤光器很好地消除亮度偏差。
另外,如果在光源13的正上方存在滤光器类,则根据检查对象的种类,难以进行用于切换或旋转薄膜的操作。例如,如前所述,在对宽度方向长度达1500mm的层叠薄膜11进行检查时,由于薄膜也大型化,所以更换等保养或旋转所需的作业增大。
另一方面,作为比较例的(b1)~(b6)(b10)(b11),在光源13侧配置有检查用偏光滤光器15或者检查用相位差滤光器16。这些检查用偏光滤光器15或检查用相位差滤光器16为常时插入到光程中并被固定的状态,由于接近光源13,所以常常暴露于光或热中,容易出现由热能或光能引起的滤光器的劣化。因此,缺陷的检测精度也劣化。另外,这些比较例由于在光源13和层叠薄膜11之间配置滤光器,所以有可能由于光量不足而漏掉层叠薄膜11的微细缺陷。关于对该问题的处理,可以足够增加光源13的光量,但导致消耗电力量的增大或光源的劣化,进而滤光器的劣化更加激烈。
另外,检查用偏光滤光器15或检查用相位差滤光器16尽量接近摄像部12配置,由此可以减小尺寸,使保养也变得容易。因此,(b1)~(b6)(b10)(b11)是检查用偏光滤光器15或检查用相位差滤光器16远离摄像部12配置的结构,不优选。另外,关于(b8)(b9),与检查用偏光滤光器15相比,检查用相位差滤光器16被配置成更靠近摄像部12。因此,其问题在于,通过相位差层的光被检查用偏光滤光器15变成偏振光,然后进入到检查用相位差滤光器16,所以无法顺利消除。另外,关于比较例(b7),与本发明的配置结构大致相同,但偏振片11a与相位差层11b相比更靠近摄像部12侧。因此,如果相位差层11b为光源侧,则在光进入到偏振片11a之前会出现相位差的影响,所以其问题在于,无法用滤光器很好地消除亮度偏差。
<与经时变化有关的数据比较>
接着,说明对经时变化的影响进行的实验的结果。对已获得图5所示的数据的本发明的配置结构(与图10(a)相同)的初始数据和48小时后的数据进行比较,将比较结果示于表3(左侧)和图10A(上端)。作为相同比较例,将对图10(b4)的配置结构的初始数据和48小时后的数据进行比较的结果示于表3(右侧)和图10A(下端)。
表3
Figure A20078000172700161
由这些实验数据可知,利用本发明的配置结构不会产生滤光器的劣化,所以在经过了48小时之后也可以保持缺陷检测的精度。另一方面,可知图10(b4)的结构会因热能或光能而产生滤光器的劣化,难以进行缺陷检测。
其中,进行实验时使用的光源使用上述的モリテツクス公司制卤素光源装置MHF-100(100瓦特),将光源亮度(自光源30cm的上方测定的亮度)调节成6060cd/m2
另外,关于图5的数据,将光源13和层叠薄膜11的距离设为20cm,将层叠薄膜11和检查用相位差滤光器16的距离设为8cm,将检查用相位差滤光器16和检查用偏光滤光器15的距离设为6cm,将检查用偏光滤光器15和摄像部12的距离设为6cm。
另外,关于图10(b4)的数据,将光源13与检查用偏光滤光器15的距离设为6cm,将检查用偏光滤光器15和检查用相位差滤光器16的距离设为6cm,将检查用相位差滤光器16和层叠薄膜11的距离设为8cm,将层叠薄膜11和摄像部12的距离设为20cm。
<由配置结构的不同引起的拍摄图像的差异>
图11是对由配置结构的不同造成的拍摄图像的差进行比较的图。作为检查对象的层叠薄膜11使用层叠偏振片和相位差层而成的薄膜。图11(a)是以往技术的配置结构,仅配置有检查用偏光滤光器15,未配置检查用相位差滤光器16。上段显示配置结构,中段显示实际的拍摄图像,下段显示沿着拍摄图像的P线的亮度分布。在以往技术的情况下,中央和端部的亮度分布不同。(b)是将检查用相位差滤光器16配置摄像部12侧,将检查用偏光滤光器15密合配置在光源13。如果观察亮度分布,可知亮度偏差与(a)相比增大。(c)是本发明的配置结构,从中央部向周边的亮度大致均匀。
其中,进行实验时使用的光源使用上述的モリテツクス公司制卤素光源装置MHF-100(100瓦特),将光源亮度(自光源30cm的上方测定的亮度)调节成6060cd/m2
另外,对具体的尺寸关系进行说明。图11(a)是将光源13和层叠薄膜11的距离设为20cm,将层叠薄膜11和检查用偏光滤光器15的距离设为14cm,将检查用偏光滤光器15和摄像部12的距离设为6cm。
在图11(b)中,使光源13和检查用偏光滤光器15密合,将检查用偏光滤光器15与层叠薄膜11的距离设为20cm,将层叠薄膜11和检查用相位差滤光器16的距离设为14cm,将检查用相位差滤光器16和摄像部12的距离设为6cm。
在图11(c)中,将光源13与层叠薄膜11的距离设为20cm,将层叠薄膜11和检查用相位差滤光器16的距离设为8cm,将检查用相位差滤光器16和检查用偏光滤光器15的距离设为6cm,将检查用偏光滤光器15和摄像部12的距离设为6cm。
<层叠薄膜的具体例子>
作为本发明中处理的层叠薄膜的例子,对层叠有偏振片的结构进行了说明,进而对具体的结构例子进行说明。偏振片形成为长带状,从薄膜状的偏振片原材料冲裁成各种大小的偏振片而得到。偏振片原材料例如可以通过在预先制造的PVA薄膜(偏振镜)的表背两面贴合例如TAC薄膜(保护层)而得到。有必要对在该成为多层结构的偏振片原材料N的表面或内部存在的缺陷(损伤或异物等)进行检测。
偏振片原材料N是利用包含如下工序的制造方法制造的,即(A)对已实施了染色、交联及拉伸处理的聚乙烯醇系薄膜进行干燥而获得偏振镜的工序,(B)在该偏振镜的单侧或两侧粘贴保护层的工序,(C)在粘贴后进行加热处理的工序。
聚乙烯醇系薄膜的染色、交联、拉伸等各处理不需要分别进行,也可以同时进行,另外,各处理的顺序也可以是任意的。而且,作为聚乙烯醇系薄膜,也可以使用实施了溶胀处理的聚乙烯醇系薄膜。一般来说,将聚乙烯醇系薄膜浸渍在含有碘或二色性色素的溶液中,在使之吸附碘或二色性色素而染色后,进行清洗,在含有硼酸或硼砂等的溶液中以3倍~7倍的拉伸倍率进行单向拉伸后,进行干燥处理。通过在含有碘或二色性色素的溶液中进行拉伸后,再在含有硼酸或硼砂等的溶液中进行拉伸(二级拉伸),之后再进行干燥,可以提高碘的取向性,改善偏光度特性,因此特别优选。
作为所述聚乙烯醇系聚合物,例如可以举出在使醋酸乙烯酯聚合后进行了皂化处理的材料、在醋酸乙烯酯上共聚了少量的不饱和羧酸、不饱和磺酸、阳离子性单体等可以共聚的单体的材料等。聚乙烯醇系聚合物的平均聚合度虽然没有特别限制,可以使用任意聚合度的材料,但是优选1000以上,更优选2000~5000。另外,聚乙烯醇系聚合物的皂化度优选在85摩尔%以上,更优选98~100摩尔%。
所制造的偏振镜的厚度虽然一般为5~80μm,但是并不限定于此,另外,关于调整偏振镜的厚度的方法,也没有特别限定,可以使用拉幅机、滚筒拉伸或压延等通常的方法。
对偏振镜与偏振镜保护薄膜的粘接处理没有特别限定,例如可以借助由乙烯醇系聚合物制成的胶粘剂或至少由硼酸或硼砂、戊二醛或三聚氰胺、草酸等乙烯醇系聚合物的水溶性交联剂制成的胶粘剂等进行。该粘接层作为水溶液的涂布干燥层等而形成,在调制该水溶液时,可以根据需要配合其他的添加剂或酸等催化剂。
作为设于偏振镜的单侧或两侧的偏振镜保护薄膜,可以使用适宜的透明薄膜。其中,优选使用由透明性或机械强度、热稳定性或水分屏蔽性等优良的聚合物制成的薄膜。作为该聚合物,可以举出如三乙酰纤维素等乙酸酯系树脂,聚碳酸酯系树脂、聚芳酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂,聚酰亚胺系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂,聚乙烯醇系树脂,聚氯乙烯系树脂,聚降冰片烯系树脂,聚甲基丙烯酸甲酯系树脂,液晶聚合物等。薄膜也可以用浇注法、压延法、挤出法中的任意方法制造。
另外,可以举出特开2001-343529号公报(WO01/37007)中记述的聚合物薄膜,例如含有(A)在侧链上具有取代和/或未取代亚氨基的热塑性树脂、和(B)在侧链上具有取代和/或未取代苯基及腈基的热塑性树脂的树脂组合物。作为具体例,可以举出含有由异丁烯和N-甲基顺丁烯二酰亚胺构成的交替共聚物和丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂组合物的薄膜。作为薄膜可以使用由树脂组合物的混合挤出品等制成的薄膜。这些薄膜由于相位差小、光弹性系数小,因此可以消除由偏振片的变形造成的不均等不良情形,另外由于透湿度小,因而在加湿耐久性方面也很优良。
此外,偏振镜保护薄膜最好没有着色。所以,优选使用以Rth=[(nx+ny)/2-nz]·d(其中,nx、ny为薄膜平面内的主折射率,nz为薄膜厚度方向的折射率,d为薄膜厚度)表示的薄膜厚度方向的相位差值为-90nm~+90nm的保护膜。通过使用该厚度方向的相位差值(Rth)为-90nm~+90nm的保护膜,可以基本上消除由保护层引起的偏振片的着色(光学着色)。厚度方向的相位差值(Rth)更优选为-80nm~+80nm,特别优选-70nm~+70nm。
从偏光特性或耐久性等方面考虑,优选如三乙酰纤维素等乙酸酯系树脂,特别优选对表面用碱等进行了皂化处理的三乙酰纤维素薄膜。而且,当在偏振镜的两侧设置偏振镜保护薄膜时,也可以在其正反两面使用由不同的聚合物制成的偏振镜保护薄膜。偏振镜保护薄膜的厚度虽然为任意值,但是一般来说,出于偏振片的薄型化等目的,设为500μm以下,优选1~300μm,特别优选5~200μm。
作为与上述偏振片层叠的光学补偿层,可以将本发明用于后述的表面处理层、光学层、相位差薄膜以及取向液晶层。作为此时使用的相位差薄膜,可以简便使用结构与光学补偿层相同的薄膜,但可以使用光学特性与光学补偿层同等的薄膜。在本发明中,对于圆盘状液晶的取向层或相位差薄膜构成的光学补偿层,可以特别有效地利用。
只要不损害本发明的目的,偏振镜保护薄膜也可以是实施了硬膜(hard-coat)处理或防反射处理、以防粘连、或者扩散乃至抗眩光等为目的的处理的材料。硬膜处理是为了防止对偏振片表面的损伤等而实施的,例如可以利用在透明保护薄膜的表面附加由硅酮系等适宜的紫外线固化型树脂形成的、具有良好的硬度和光滑性等的固化被膜的方式等来形成。
另一方面,防反射处理是为了防止偏振片表面上的外来光的反射而实施的,可以通过形成以往的防反射膜等来实现目的。另外,防粘连处理是为了防止与相邻层的密接而实施的,抗眩光处理是为了防止因外来光在偏振片的表面反射而阻碍对偏振片透过光的辨识等而实施的,例如可以通过利用喷砂方式或压花加工方式等的粗糙化方式或透明微粒的配合方式等适宜的方式,在透明保护薄膜的表面附加微细凹凸构造来形成。
本发明的层叠薄膜在实际使用时,可以将各种光学层层叠而作为光学膜使用。对于该光学层,没有特别限定,例如可以举出在所述透明保护层的未粘接偏振镜的面(未设置所述胶粘剂涂布层的面)上,实施硬膜处理或防反射处理、以防粘连或扩散或抗眩光为目的的表面处理,或者层叠以视角补偿等为目的的取向液晶层的方法。另外,还可以举出粘贴1层或2层以上反射板或半透过板、相位差板(包括1/2或1/4等波阻片(λ板))、视角补偿薄膜等在液晶显示装置等的形成中使用的光学薄膜的方法。特别是,如果薄片状制品是偏振片,则适合用作层叠反射板或半透过反射板而形成的反射型偏振片或半透过型偏振片、层叠相位差薄膜而形成的椭圆偏振片或圆偏振片、层叠视角补偿层或视角补偿薄膜而形成的宽视场角偏振片、或者层叠亮度改善薄膜而形成的偏振片。
反射型偏振片是在偏振片上设置了反射层的构件,是用于形成通过使来自辨识侧(显示侧)的入射光反射而进行显示的类型的液晶显示装置等的构件,可以省略背光灯等光源的内置,因而具有容易实现液晶显示装置的薄型化等优点。反射型偏振片的形成可以利用根据需要通过透明保护层等在偏振片的单面上附设由金属等制成的反射层的方式等适宜的方式来进行。
还有,在上述中,半透过型偏振片可以通过作成用反射层反射光的同时使光透过的半透半反镜等半透过型的反射层而获得。半透过型偏振片通常被设于液晶单元的背面侧,可以形成如下类型的液晶显示装置等,即,在比较明亮的环境中使用液晶显示装置等的情况下,反射来自于辨识侧(显示侧)的入射光而显示图像,在比较暗的环境中,使用在半透过型偏振片的背面内置的背光灯等内置光源来显示图像。即,半透过型偏振片在如下类型的液晶显示装置等的形成中十分有用,即,在明亮的环境下可以节约使用背光灯等光源的能量,在比较暗的环境下也可以使用内置光源的类型的液晶显示装置等的形成中非常有用。
对偏振片上还层叠相位差薄膜而构成的椭圆偏振片或圆偏振片进行说明。在将直线偏振光改变为椭圆偏振光或圆偏振光,或者将椭圆偏振光或圆偏振光改变为直线偏振光,或者改变直线偏振光的偏振方向的情况下,可以使用相位差薄膜等。特别是,作为将直线偏振光改变为圆偏振光或将圆偏振光改变为直线偏振光的相位差薄膜,可以使用所谓的1/4波阻片(也称为λ/4板)。1/2波长板(也称为λ/2板)通常用于改变直线偏振光的偏振方向的情况。
椭圆偏振片可以有效地用于以下情形等,即补偿(防止)超扭曲向列相(STN)型液晶显示装置的液晶层因双折射而产生的着色(蓝或黄),从而进行所述没有着色的白黑显示的情形等。另外,控制了三维折射率的偏振片,还可以补偿(防止)从斜向观察液晶显示装置的画面时产生的着色,因而十分理想。圆偏振光片例如可以有效地用于对以彩色显示图像的反射型液晶显示装置的图像的色调进行调整的情形等,而且还具有防反射的功能。
作为相位差薄膜,可以举出对高分子材料进行单向或双向拉伸处理而形成的双折射性薄膜、液晶聚合物的取向薄膜、用薄膜支撑液晶聚合物的取向层的构件等。拉伸处理例如可以利用滚筒拉伸法、沿长间隙拉伸法、拉幅机拉伸法、管式拉伸法等进行。拉伸倍率在单向拉伸的情况下,一般为1.1~3倍左右。对相位差薄膜的厚度也没有特别限定,一般为10~200μm,优选20~100μm。
作为所述高分子材料,例如可以举出聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚甲基乙烯醚、聚羟基乙基丙烯酸酯、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、甲基纤维素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚苯硫醚、聚苯醚、聚烯丙基砜、聚乙烯醇、聚酰胺、聚酰亚胺、聚烯烃、聚氯乙烯、纤维素系聚合物或它们的二元系、三元系各种共聚物、接枝共聚物、混合物等。这些高分子材料可通过拉伸等而成为取向物(拉伸薄膜)。
作为所述液晶聚合物,例如可以举出在聚合物的主链或侧链上导入了赋予液晶取向性的共轭性的直线状原子团(mesogene)的主链型或侧链型各种聚合物等。作为主链型的液晶性聚合物的具体例,可以举出具有在赋予弯曲性的间隔部上结合了直线状原子团的构造的聚合物,例如向列取向性的聚酯系液晶性聚合物、圆盘状聚合物或胆甾醇型聚合物等。作为侧链型的液晶性聚合物的具体例,可以举出如下的化合物等,即,将聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯为主链骨架,作为侧链通过由共轭性的原子团构成的间隔部而具有由赋予向列取向性的对位取代环状化合物单元构成的上述直线原子团部。这些液晶聚合物通过以下方法进行处理,即,在对于形成在玻璃板上的聚酰亚胺或聚乙烯醇等薄膜的表面进行摩擦处理后的材料、斜向蒸镀了氧化硅的材料等的取向处理面上,铺展液晶性聚合物的溶液而进行热处理。
相位差薄膜可以是例如各种波阻片或用于补偿由液晶层的双折射造成的着色或视角等的材料等具有对应于使用目的的适宜的相位差的材料,也可以是层叠2种以上的相位差薄膜而控制了相位差等光学特性的材料。
将偏振片和亮度改善薄膜贴合在一起而成的偏振片通常被设于液晶单元的背面一侧使用。亮度改善薄膜是显示如下特性的薄膜,即,当因液晶显示装置等的背光灯或来自背面侧的反射等,有自然光入射时,反射特定偏光轴的直线偏振光或特定方向的圆偏振光,而使其他光透过。因此将亮度改善薄膜与偏振片层叠而成的偏振片,可以使来自背光灯等光源的光入射,而获得特定偏振光状态的透过光,同时,所述特定偏振光状态以外的光不能透过,被予以反射。借助设于其后侧的反射层等再次反转在该亮度改善薄膜面上反射的光,使之再次入射到亮度改善薄膜上,使其一部分或全部作为特定偏振光状态的光透过,从而增加透过亮度改善薄膜的光,同时向偏振镜提供难以吸收的偏振光,从而增大能够在液晶显示图像的显示等中利用的光量,并由此可以提高亮度。
另外,本发明的层叠薄膜如同所述偏振光分离型偏振片,可以由层叠了偏振片和2层或3层以上的光学层的构件构成。所以,也可以是组合所述反射型偏振片或半透过型偏振片和相位差板而成的反射型椭圆偏振片或半透过型椭圆偏振片等。
在偏振片上层叠了所述光学层的光学膜,可以利用在液晶显示装置等的制造过程中依次独立层叠的方式来形成,但是预先经层叠而成为光学膜的偏振片在质量的稳定性或组装操作等方面优良,因此具有可以改善液晶显示装置等的制造工序的优点。在层叠中可以使用粘合剂层等适宜的粘接手段。在粘接所述偏振片和其他光学层时,它们的光学轴可以根据作为目标的相位差特性等而采用适宜的配置角度。
本发明的偏振片或所述的层叠光学构件中,也可以设置用于与液晶单元等其他构件粘接的粘合层。对于该粘合层没有特别限定,可以用丙烯酸系等基于以往的适宜的粘合剂来形成。从防止由吸湿造成的发泡现象或剥离现象、防止由热膨胀差等造成的光学特性的降低或液晶单元的翘曲以及形成高质量并且耐久性优良的图像显示装置的性质等方面考虑,优选吸湿率低并且耐热性优良的粘合层。另外,可以采用通过含有微粒而显示出光扩散性的粘合层等。粘合层根据需要设置在所需要的面上即可,例如,对由偏振镜和保护层构成的偏振片来说,根据需要在保护层的单面或双面上设置粘合层即可。
对于所述粘合层的露出面,为了在提供于实用之前防止其被污染,可以临时粘贴隔膜而将其覆盖。这样,就可以防止其在通常的处理状态下与粘合层接触。作为隔膜,例如可以使用利用硅酮系或长链烷基系、氟系或硫化钼等适宜的剥离剂对聚酯或聚对苯二甲酸乙二醇酯等透光性塑料薄膜进行了涂敷处理的材料。另外,可以在层叠薄膜的不具有粘合剂层的面上临时粘合在如上所述的透光性塑料薄膜上层叠有粘合剂层的易剥离型保护薄膜,对层叠薄膜进行保护。
还有,在本发明中,对于形成上述的偏振片的偏振镜或透明保护薄膜或光学膜等,另外对于粘合层等各层,也可以利用例如用水杨酸酯系化合物或苯酚系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、镍络合盐系化合物等紫外线吸收剂进行处理的方式,来使之具有紫外线吸收能力等。
本发明的层叠薄膜可适用于液晶显示装置、有机EL显示装置、PDP等图像显示装置的形成中。
本发明的偏振片或光学膜可适用于液晶显示装置等各种装置的形成等中。液晶显示装置的形成可以按照以往的方式进行。即,一般来说,液晶显示装置可通过适宜地组合液晶单元和偏振片或光学膜以及根据需要而加入的照明系统等构成部件并装入驱动电路等而形成,但是,本发明中,除了使用本发明的偏振片或光学膜这一点以外,并没有特别限定,可以按照以往的方式进行。对于液晶单元而言,也可以使用例如TN型或STN型、π型等任意类型的液晶单元。
可以形成在液晶单元的单侧或双侧配置了偏振片或光学薄膜的液晶显示装置、在照明系统中使用了背光灯或反射板的装置等适宜的液晶显示装置。此时,本发明的偏振片或光学膜可以设置在液晶单元的单侧或双侧上。当将偏振片或光学膜设置在双侧时,它们既可以是相同的材料,也可以是不同的材料。另外,在形成液晶显示装置时,可以在适宜的位置上配置1层或2层以上例如扩散板、抗眩光层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列薄片、光扩散板、背光灯等适宜的部件。
下面对有机电致发光装置(有机EL显示装置)进行说明。一般来说,有机EL显示装置是在透明基板上依次层叠透明电极、有机发光层和金属电极而形成发光体(有机电致发光体)。这里,有机发光层是各种有机薄膜的层叠体,已知有:例如由三苯基胺衍生物等构成的空穴注入层和由蒽等荧光性的有机固体构成的发光层的层叠体、或此种发光层和由二萘嵌苯衍生物等构成的电子注入层的层叠体、或者具有这些空穴注入层、发光层及电子注入层的层叠体等各种组合。
在包括如下所述的有机电致发光体的有机EL显示装置中,可以在透明电极的表面侧设置偏振片,同时在这些透明电极和偏振片之间设置相位差薄膜,在上述有机电致发光体中,在通过施加电压而进行发光的有机发光层的表面侧设有透明电极,同时在有机发光层的背面侧设有金属电极。
由于相位差薄膜及偏振片具有使从外部入射并在金属电极反射来的光成为偏振光的作用,因此利用该偏振光作用具有使得从外部无法辨识出金属电极的镜面的效果。特别是,采用1/4波阻片构成相位差薄膜,并且将偏振片和相位差薄膜的偏振光方向的夹角调整为π/4时,可以完全遮蔽金属电极的镜面。
本发明的层叠薄膜可以适用于液晶显示装置等各种装置的形成等中。液晶显示装置可以形成为将本发明的层叠薄膜(例如偏振片)配置在液晶单元的单侧或双侧而成的透过型或反射型或者透过·反射两用型的具有与以往相同的适宜的构造的装置。所以,形成液晶显示装置的液晶单元可以是任意的,例如也可以使用以薄膜晶体管型为代表的单纯矩阵驱动型的液晶单元等适宜类型的液晶单元。
通过本发明,当使用检查用偏光滤光器或检查用相位差滤光器(检查用相位差滤光器或检查用圆盘状液晶层)对具有偏振片以及光学补偿层(相位差薄膜或带有圆盘状液晶的TAC)的层叠薄膜进行缺陷检查时,通过按照适当的顺序配置应该在拍摄光程中配置的上述检查用偏光滤光器或检查用相位差滤光器,可以稳定地进行缺陷检测。
另外,将层叠薄膜11的截面结构示于图12,但本发明并不限于这里所示的层叠结构。

Claims (10)

1.一种层叠薄膜的制造方法,包括:
至少层叠偏振片和光学补偿层制造层叠薄膜的工序、和对所制造的层叠薄膜进行缺陷检查的工序,其特征在于,所述缺陷检查工序包括:
通过配置在层叠薄膜的偏振片叠层侧的光源向层叠薄膜照射光的工序、
通过配置在层叠薄膜的光学补偿层侧的摄像部对层叠薄膜的透过光像进行拍摄的工序、和
根据由摄像部拍摄的透过光像对存在于层叠薄膜的缺陷进行检测的缺陷检测工序,
通过位于光源和摄像部之间的光程上且与摄像部邻接配置的检查用滤光器、和位于光源和摄像部之间的光程上且配置在检查用偏光滤光器和层叠薄膜之间的检查用相位差滤光器,利用所述摄像部进行摄像。
2.一种层叠薄膜的缺陷检测方法,是至少层叠有偏振片和光学补偿层的层叠薄膜的缺陷检测方法,其特征在于,包括:
通过配置在层叠薄膜的偏振片叠层侧的光源向层叠薄膜照射光的工序、
通过配置在层叠薄膜的光学补偿层侧的摄像部对层叠薄膜的透过光像进行拍摄的工序、和
根据由摄像部拍摄的透过光像对存在于层叠薄膜的缺陷进行检测的缺陷检测工序,
通过位于光源和摄像部之间的光程上且与摄像部邻接配置的检查用滤光器、和位于光源和摄像部之间的光程上且配置在检查用偏光滤光器和层叠薄膜之间的检查用相位差滤光器,利用所述摄像部进行摄像。
3.一种层叠薄膜的缺陷检测装置,是至少层叠有偏振片和光学补偿层的层叠薄膜的缺陷检测装置,其特征在于,包括:
配置在层叠薄膜的偏振片叠层侧并对层叠薄膜照射光的光源,
配置在层叠薄膜的光学补偿层侧并对层叠薄膜的透过光像进行拍摄的摄像部,
根据由摄像部拍摄的透过光像对存在于层叠薄膜的缺陷进行检测的缺陷检测部,
在光源和摄像部之间的光程上且与摄像部邻接配置的检查用偏光滤光器,和
在光源和摄像部之间的光程上且配置在检查用偏光滤光器和层叠薄膜之间的检查用相位差滤光器。
4.如权利要求3所述的层叠薄膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述光学补偿层是将相位差的取向角偏差控制在4°以内的相位差层,所述检查用相位差滤光器具有与相位差层相同的特性。
5.如权利要求3或4所述的层叠薄膜的缺陷检测装置,其特征在于,
所述光学补偿层含有圆盘状液晶层,所述检查用相位差滤光器为具有相同特性的检查用圆盘状液晶层。
6.如权利要求3~5中的任意一项所述的层叠薄膜的缺陷检测装置,其特征在于,
具有对检查用偏光滤光器的偏光轴和偏振片的偏光轴的相对角度位置进行调节的第一光轴调节部。
7.如权利要求3~6中的任意一项所述的层叠薄膜的缺陷检测装置,其特征在于,
具有对检查用相位差滤光器的光轴和所述光学补偿层的光轴的相对角度位置进行调节的第二光轴调节部。
8.一种由权利要求3~7中的任意一项所述的所述的缺陷检测装置检查过的层叠薄膜。
9.一种在权利要求8所述的层叠薄膜上层叠有至少一层光学层的层叠薄膜。
10.一种具有权利要求9所述的层叠薄膜的图像显示装置。
CN200780001727XA 2006-01-11 2007-01-10 层叠薄膜的制造方法、层叠薄膜的缺陷检测方法、层叠薄膜的缺陷检测装置、层叠薄膜、以及图像显示装置 Active CN101360990B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006003856 2006-01-11
JP003856/2006 2006-01-11
JP2006340274A JP4869053B2 (ja) 2006-01-11 2006-12-18 積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置、積層フィルム、及び画像表示装置
JP340274/2006 2006-12-18
PCT/JP2007/050121 WO2007080867A1 (ja) 2006-01-11 2007-01-10 積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置、積層フィルム、及び画像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101360990A true CN101360990A (zh) 2009-02-04
CN101360990B CN101360990B (zh) 2012-05-16

Family

ID=38256272

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200780001727XA Active CN101360990B (zh) 2006-01-11 2007-01-10 层叠薄膜的制造方法、层叠薄膜的缺陷检测方法、层叠薄膜的缺陷检测装置、层叠薄膜、以及图像显示装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7850801B2 (zh)
JP (1) JP4869053B2 (zh)
KR (1) KR101249119B1 (zh)
CN (1) CN101360990B (zh)
TW (1) TWI417536B (zh)
WO (1) WO2007080867A1 (zh)

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101806966A (zh) * 2010-03-31 2010-08-18 苏州达信科技电子有限公司 检测装置及检测方法
CN102788805A (zh) * 2011-05-19 2012-11-21 株式会社日立高新技术 多晶硅薄膜检查方法及其装置
CN104390976A (zh) * 2014-11-12 2015-03-04 河北铠朗新型材料科技有限公司 薄膜涂布在线监控系统
CN105866986A (zh) * 2016-05-26 2016-08-17 明基材料有限公司 检测装置及检测方法
CN106940320A (zh) * 2015-09-30 2017-07-11 日东电工株式会社 纵长状的偏振板的检查方法、制造方法以及外观检查装置
CN106990117A (zh) * 2015-09-30 2017-07-28 日东电工株式会社 偏振片的检查方法和偏光板的制造方法
CN107390393A (zh) * 2017-07-24 2017-11-24 惠州高视科技有限公司 一种液晶模组缺陷检测后的复判分层方法
CN107643612A (zh) * 2016-07-22 2018-01-30 日东电工株式会社 检查装置以及检查方法
CN109313302A (zh) * 2016-06-08 2019-02-05 三星Sdi株式会社 用来处理薄膜的装置以及方法
CN109324063A (zh) * 2017-07-31 2019-02-12 日东电工株式会社 偏振膜的摄像装置、检查装置以及检查方法
CN110139827A (zh) * 2016-10-26 2019-08-16 得克萨斯州大学系统董事会 用于反射和透射纳米光子器件的高吞吐量、高分辨率光学计量
CN110235192A (zh) * 2017-01-27 2019-09-13 日本电产三协株式会社 对准装置
CN110736610A (zh) * 2019-10-22 2020-01-31 歌尔股份有限公司 测量光学中心偏移的方法、装置、存储介质及深度相机
CN110987963A (zh) * 2019-12-25 2020-04-10 苏州伟信奥图智能科技有限公司 一种带有膜的移动物体表面缺陷检测方法
CN111257337A (zh) * 2018-11-30 2020-06-09 日东电工株式会社 外观检查方法及外观检查装置
CN111721776A (zh) * 2019-03-22 2020-09-29 住友化学株式会社 检查方法及检查装置
CN111721502A (zh) * 2019-03-22 2020-09-29 住友化学株式会社 检查方法及检查装置
CN111948176A (zh) * 2019-05-15 2020-11-17 住友化学株式会社 光学薄膜的检查方法以及光学薄膜的制造方法
CN113341494A (zh) * 2015-10-05 2021-09-03 日东电工株式会社 具有非偏振部的偏振片的制造方法
TWI826748B (zh) * 2020-10-02 2023-12-21 日商大日本印刷股份有限公司 眩光對比度之修正方法、比較方法及比較裝置、電子顯示器之製造方法及防眩層之製造方法

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5051874B2 (ja) * 2006-01-11 2012-10-17 日東電工株式会社 積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置
JP5158468B2 (ja) * 2006-05-15 2013-03-06 大日本印刷株式会社 被検査基板の検査システム及び被検査基板の検査方法
JP2008216325A (ja) * 2007-02-28 2008-09-18 Nitto Denko Corp 補償層光学特性評価方法および補償層光学特性評価システム
JP5446232B2 (ja) * 2008-04-10 2014-03-19 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ基板の欠陥検査装置および欠陥検査方法
GB0919059D0 (en) * 2009-10-30 2009-12-16 Sencon Europ Ltd Application and inspection system
KR101694265B1 (ko) * 2010-05-14 2017-01-10 삼성디스플레이 주식회사 편광 필름, 편광판, 상기 편광 필름의 제조 방법 및 상기 편광판을 포함한 유기 발광 장치
KR101780051B1 (ko) * 2011-03-28 2017-09-20 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
TWI536003B (zh) * 2011-08-31 2016-06-01 富士軟片股份有限公司 圖案化相位差膜的缺陷檢測裝置與方法以及製造方法
KR101313075B1 (ko) * 2011-10-20 2013-09-30 주식회사 엘지화학 광학 필름의 결함 검사 시스템
US9057896B1 (en) * 2012-12-20 2015-06-16 Amazon Technologies, Inc. Orientation variable polarization
WO2014190228A1 (en) * 2013-05-23 2014-11-27 President And Fellows Of Harvard College Pixelated tunable color filter
JP6156820B2 (ja) * 2013-08-22 2017-07-05 住友化学株式会社 欠陥検査装置、光学部材の製造システム及び光学表示デバイスの生産システム
WO2016009974A1 (ja) * 2014-07-15 2016-01-21 富士フイルム株式会社 検知システムおよび検知方法
KR101713880B1 (ko) * 2014-08-14 2017-03-22 주식회사 엘지화학 필름 텐션 조절 시스템 및 이를 포함하는 편광판 제조 시스템
JP6437329B2 (ja) * 2015-02-03 2018-12-12 住友化学株式会社 光学フィルムの欠陥検査方法
WO2016194874A1 (ja) * 2015-06-05 2016-12-08 住友化学株式会社 光透過性フィルムの欠陥検査方法、直線偏光子フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
KR101975261B1 (ko) * 2015-07-24 2019-05-07 주식회사 엘지화학 편광판 컬 제어 시스템 및 이를 포함하는 편광판 제조 시스템
JP6898492B2 (ja) * 2015-09-30 2021-07-07 日東電工株式会社 偏光子の検査方法および偏光板の製造方法
KR102001445B1 (ko) * 2015-10-30 2019-07-19 주식회사 엘지화학 필터 결합체를 이용한 광학부재 검사 장치 및 그 장치를 이용하여 광학부재의 결함 유무를 검사하는 방법
CN107024482B (zh) * 2015-12-15 2020-11-20 住友化学株式会社 缺陷拍摄装置及方法、膜制造装置及方法、缺陷检查方法
KR102063551B1 (ko) * 2016-05-24 2020-01-08 주식회사 엘지화학 광학필름의 결함 검출 시스템 및 광학필름의 결함 검출 방법
KR102367544B1 (ko) * 2016-11-07 2022-02-24 주식회사 엘지화학 인라인 코팅필름의 핀홀 자동화 표시 시스템 및 방법
JP6865646B2 (ja) * 2016-11-30 2021-04-28 住友化学株式会社 欠陥検査装置、欠陥検査方法、及びセパレータ捲回体の製造方法
KR20190030168A (ko) * 2017-09-13 2019-03-21 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 결함 검사 장치, 결함 검사 방법, 원 편광판 또는 타원 편광판의 제조 방법 및 위상차판의 제조 방법
JP6948215B2 (ja) * 2017-10-11 2021-10-13 住友化学株式会社 欠陥検査装置、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法
KR20200047259A (ko) 2018-10-25 2020-05-07 동우 화인켐 주식회사 광학 필름의 결함 검사 방법 및 장치
JP7374815B2 (ja) 2020-03-04 2023-11-07 住友化学株式会社 検査方法
JP7413209B2 (ja) * 2020-08-28 2024-01-15 住友化学株式会社 検査方法
JP7413210B2 (ja) * 2020-08-28 2024-01-15 住友化学株式会社 検査方法
JP2022072182A (ja) * 2020-10-29 2022-05-17 住友化学株式会社 検査方法
JP2023171051A (ja) * 2022-05-20 2023-12-01 住友化学株式会社 検査方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3678540B2 (ja) * 1997-05-27 2005-08-03 新日本石油株式会社 液晶表示素子
JP4516648B2 (ja) * 1999-12-01 2010-08-04 住友化学株式会社 複合偏光板の検査方法
JP4440485B2 (ja) * 2000-03-08 2010-03-24 富士フイルム株式会社 フィルムの欠陥検査装置、欠陥検査システムおよび欠陥検査方法ならびに複屈折特性を有するフィルムの製造方法
US6650410B2 (en) * 2000-03-08 2003-11-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Apparatus, system and method for checking film for defects
JP2003121642A (ja) 2001-10-10 2003-04-23 Nitto Denko Corp 広視角偏光板及び液晶表示装置
US7006224B2 (en) * 2002-12-30 2006-02-28 Applied Materials, Israel, Ltd. Method and system for optical inspection of an object
JP2005009919A (ja) 2003-06-17 2005-01-13 Taiyo Denki Kk 保護膜付き偏光板の検査装置および検査方法
JP4411139B2 (ja) * 2004-05-25 2010-02-10 新日本石油株式会社 光学フィルムの検査方法
JP5051874B2 (ja) * 2006-01-11 2012-10-17 日東電工株式会社 積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101806966A (zh) * 2010-03-31 2010-08-18 苏州达信科技电子有限公司 检测装置及检测方法
CN102788805A (zh) * 2011-05-19 2012-11-21 株式会社日立高新技术 多晶硅薄膜检查方法及其装置
CN104390976A (zh) * 2014-11-12 2015-03-04 河北铠朗新型材料科技有限公司 薄膜涂布在线监控系统
CN106940320B (zh) * 2015-09-30 2021-03-16 日东电工株式会社 纵长状的偏振板的检查方法、制造方法以及外观检查装置
CN106940320A (zh) * 2015-09-30 2017-07-11 日东电工株式会社 纵长状的偏振板的检查方法、制造方法以及外观检查装置
CN106990117A (zh) * 2015-09-30 2017-07-28 日东电工株式会社 偏振片的检查方法和偏光板的制造方法
CN113341494A (zh) * 2015-10-05 2021-09-03 日东电工株式会社 具有非偏振部的偏振片的制造方法
CN105866986A (zh) * 2016-05-26 2016-08-17 明基材料有限公司 检测装置及检测方法
CN109313302A (zh) * 2016-06-08 2019-02-05 三星Sdi株式会社 用来处理薄膜的装置以及方法
CN107643612B (zh) * 2016-07-22 2022-03-22 日东电工株式会社 检查装置以及检查方法
CN107643612A (zh) * 2016-07-22 2018-01-30 日东电工株式会社 检查装置以及检查方法
CN110139827A (zh) * 2016-10-26 2019-08-16 得克萨斯州大学系统董事会 用于反射和透射纳米光子器件的高吞吐量、高分辨率光学计量
CN110235192A (zh) * 2017-01-27 2019-09-13 日本电产三协株式会社 对准装置
CN107390393A (zh) * 2017-07-24 2017-11-24 惠州高视科技有限公司 一种液晶模组缺陷检测后的复判分层方法
CN109324063A (zh) * 2017-07-31 2019-02-12 日东电工株式会社 偏振膜的摄像装置、检查装置以及检查方法
CN109324063B (zh) * 2017-07-31 2022-09-09 日东电工株式会社 偏振膜的摄像装置、检查装置以及检查方法
CN111257337A (zh) * 2018-11-30 2020-06-09 日东电工株式会社 外观检查方法及外观检查装置
CN111721776A (zh) * 2019-03-22 2020-09-29 住友化学株式会社 检查方法及检查装置
CN111721502A (zh) * 2019-03-22 2020-09-29 住友化学株式会社 检查方法及检查装置
CN111721776B (zh) * 2019-03-22 2024-02-20 住友化学株式会社 检查方法及检查装置
CN111721502B (zh) * 2019-03-22 2024-06-11 住友化学株式会社 检查方法及检查装置
CN111948176A (zh) * 2019-05-15 2020-11-17 住友化学株式会社 光学薄膜的检查方法以及光学薄膜的制造方法
CN111948176B (zh) * 2019-05-15 2024-03-26 住友化学株式会社 光学薄膜的检查方法以及光学薄膜的制造方法
CN110736610A (zh) * 2019-10-22 2020-01-31 歌尔股份有限公司 测量光学中心偏移的方法、装置、存储介质及深度相机
CN110987963A (zh) * 2019-12-25 2020-04-10 苏州伟信奥图智能科技有限公司 一种带有膜的移动物体表面缺陷检测方法
TWI826748B (zh) * 2020-10-02 2023-12-21 日商大日本印刷股份有限公司 眩光對比度之修正方法、比較方法及比較裝置、電子顯示器之製造方法及防眩層之製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI417536B (zh) 2013-12-01
JP4869053B2 (ja) 2012-02-01
KR20080086928A (ko) 2008-09-26
CN101360990B (zh) 2012-05-16
WO2007080867A1 (ja) 2007-07-19
JP2007212442A (ja) 2007-08-23
TW200736602A (en) 2007-10-01
US7850801B2 (en) 2010-12-14
US20090288754A1 (en) 2009-11-26
KR101249119B1 (ko) 2013-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101360990B (zh) 层叠薄膜的制造方法、层叠薄膜的缺陷检测方法、层叠薄膜的缺陷检测装置、层叠薄膜、以及图像显示装置
CN101360989B (zh) 层叠薄膜的制造方法、层叠薄膜的缺陷检测方法、以及层叠薄膜的缺陷检测装置
CN100491983C (zh) 薄片状制品及其检查方法和检查系统、图像显示装置
CN100476414C (zh) 薄片状制品的检查方法及检查系统
KR101369534B1 (ko) 검사 데이터 처리 장치 및 검사 데이터 처리 방법
US9740060B2 (en) Liquid crystal display device
US8395732B2 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal display apparatus
TWI670528B (zh) 偏光板、偏光板之製造方法、影像顯示裝置、影像顯示裝置之製造方法及偏光板之透光率改善方法
US20080193701A1 (en) Optical film products and method for producing optical film products
CN101256321B (zh) 液晶显示装置
KR20180031561A (ko) 액정 패널, 액정 표시 장치 및 편광자의 세트
JP2008292201A (ja) 積層フィルムの検査方法及び積層フィルムの検査装置
JP2002365435A (ja) 配向フィルムの製造方法、偏光フィルム、偏光板および液晶表示装置
US20100110432A1 (en) Method and system for evaluating optical properties of compensation layer
JP2002148142A (ja) 液晶用視野角拡大フィルムの検査方法
TW201321807A (zh) 液晶顯示裝置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant