CN101322075A - 制作平版印刷印版的方法 - Google Patents

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Abstract

一种制作平版印刷印版的方法,所述方法包括以下步骤:a)提供平版印刷印版前体,所述前体包括(i)具有亲水表面或提供有亲水层的载体,(ii)在所述载体上包括可光聚合层和任选的在可光聚合层与载体之间的中间层的涂层,其中所述可光聚合层包含可聚合化合物、聚合引发剂和连接料,和b)在印版记录机中按图像暴露所述涂层,c)在预热单元中加热所述前体,d)在包括至少一个第一上胶单元的上胶站中通过施用胶溶液到前体涂层上处理所述前体,从而从所述载体上除去可光聚合层的非暴露区,且其中步骤(c)和(d)是在所述预热单元和所述第一上胶单元中离机进行,且其中所述预热单元与所述第一上胶单元通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。

Description

制作平版印刷印版的方法
发明领域
本发明涉及一种制作平版印刷印版的方法,其中使阴图制版感光聚合物印版前体按图像暴露,在预热单元中加热且在上胶站的上胶单元中用胶溶液处理,其中使印版在单个步骤中显影并上胶,且其中使预热单元与上胶单元彼此连接或集成在单个装置中。
发明背景
在平版印刷中,所谓的印刷底版如印版安装在印刷机滚筒上。底版的表面上带有平版印刷图像,通过将油墨施用到所述图像,随后使油墨从底版转移到承印材料上而得到印刷副本,承印材料通常为纸张。在常规所谓的“湿法”平版印刷中,将油墨以及润版水溶液(还称为润版液)供应给由亲油(或疏水,即接受油墨而排斥水的)区域以及亲水(或疏油,即接受水而排斥油墨的)区域组成的平版印刷图像。在所谓的“无水平版胶印”中,平版印刷图像由接受油墨和阻隔油墨(排斥油墨的)区域组成,在无水平版胶印期间中,向底版只供应油墨。
印刷底版通常通过所谓的计算机直接制胶片(computer-to-film,CtF)法得到,其中各种预印刷步骤如字体选择、扫描、分色、加网、补漏白(trapping)、版面编排和整版都是用数字化方式完成且使用图像记录机将各颜色选择转印到制版印刷胶片上。显影之后,胶片可作为掩模用于称为印版前体的成像材料的曝光,且在印版显影之后,得到可用作底版的印版。自大致1995年以来,所谓的“计算机直接制版”(CtP)法得到了许多关注。该方法(还称为“直接制版”)绕过胶片的产生,因为数字文件利用所谓印版记录机直接转印到印版前体上。CtP的印版前体经常称为数字印版。
数字印版可粗略地分为三类:(i)银印版,它根据银盐扩散转印机理工作;(ii)感光聚合物印版,它含有在曝光时硬化的可光聚合组合物和(iii)热敏印版,其中成像机理通过热或光-热转化触发。热敏印版主要对830nm或1064nm下发射的红外激光灵敏。感光聚合物可对蓝光、绿光或红光(即波长范围为450nm-750nm)、紫光(即波长范围为350nm-450nm)或红外光(即波长范围为750nm-1500nm)灵敏。激光源已日益用于使对相应激光波长灵敏的印版前体曝光。通常可使用氩激光器(488nm)或FD-YAG激光器(532nm)使对可见光灵敏的感光聚合物印版曝光。可大规模使用的最初开发利用DVD进行数据储存的低成本蓝色或紫色激光二极管能够制造在较短波长下操作的印版记录机。更具体地说,使用InGaN材料已实现350-450nm发射的半导体激光器。还可使用在约830nm发射的红外激光二极管或在约1060nm发射的Nd-YAG激光器。
通常,感光聚合物印版前体包括载体、可光聚合涂层和罩面层。可光聚合涂层包含可聚合化合物、聚合引发剂和连接料,罩面层通常包含阻碍氧在涂层中渗透的聚乙烯醇连接料。在按图像曝光后,由引发剂形成的自由基没有被氧猝灭且可引发可聚合化合物交联和/或聚合,引起暴露区硬化或固化。已暴露前体通常在pH>10的碱性显影液中显影,其中除非暴露区中的可光聚合涂层外,前体的罩面层也溶解于显影溶液中。US2004/0131974公开了一种制作这类平版印刷印版的方法,其中在按图像曝光后,在预洗涤步骤中用水将罩面层除去,使得碱性显影液中的淤浆形成减少,且其中防止在非图像部分着色。
当前,大多数市售平版印刷印版需要在使曝光印版显影之后和将其放在印刷机上之前的额外上胶工艺,以保护印版不受例如氧化、指纹、脂肪、油脂或灰尘的污染或在操作印版期间不受例如刮痕的损害。这样的另外上胶步骤对于最终用户不方便,因为它是一个耗时步骤且需要另外上胶站。
WO 02/101469公开了一种使可用作可碱性显影的平版印刷印版前体的可成像元件显影的方法,其中用包含具有特定结构的水溶性多羟基化合物的碱性显影-上胶水溶液使所述元件显影并上胶。
EP 1342568公开了一种制作热敏平版印刷印版的方法,其中按图像加热的前体用胶溶液显影,所述前体包括加热时聚结的疏水性热塑性聚合物颗粒的涂层。这类印版的实用实施方案由Agfa以商品名Azura引进。
在US 6,027,857、US 6,171,735、US 6,420,089、US 6,071,675、US 6,245,481、US 6,387,595、US 6,482,571、US 6,576,401和US6,548,222中,公开了一种制备平版印刷印版的方法,其中感光聚合物印版在按图像曝光后安装在印刷机上且通过施用油墨和润版液在机显影以从载体除去未暴露区。US 2003/16577和US 2004/13968还公开了一种方法,其中包括可光聚合层的印版可用润版液和油墨或非碱性水性显影液在机显影来显影。粘着促进化合物也可加到印版前体中以改善在机显影的显影性和改善印刷过程中印版的耐用性。通常这些化合物具有烯属不饱和键和能够吸附到载体表面上的官能团。其他化合物和聚合物也可用作粘着促进化合物。如EP 851299、EP 1 091 251、US 2004/214105、EP 1 491 356、US2005/39620、EP 1 495 866、EP 1 500 498、EP 1 520 694和EP 1 557262中所公开,所述化合物可存在于可光聚合层中或可存在于载体与可光聚合层之间的中间层中。
与在机显影这类感光聚合物印版相关的第一个问题是缺乏日光稳定性,即图像在显影前不稳定且因此在曝光后已暴露的印版需要在短时间内显影。然而,因为在机显影不可能在印刷作业期间进行,所以最终用户必须等到先前印刷作业已完成后,才可将已暴露的印版安装在印刷机上且进行显影。因此,用于下次印刷作业的印版曝光必须推迟临到先前印刷作业完成,以避免未显影的印版受周围光影响。或者已暴露的印版必须保持避光,但此举再次降低了通常与例如紫光和红外敏感的感光聚合物印版相关的使用简易性和方便性。
关于可在机显影的感光聚合物印版在现有技术中仍未解决的第二个问题是在曝光和显影之间缺乏可见图像。虽然已知将着色剂加到光敏涂层中,以在通过显影除去涂层的未暴露区之后得到可见图像,但这不能在按图像曝光后立即辨别出已暴露的印版与未暴露的印版,更谈不上在曝光后检察图像质量,因为可见图像仅在在机显影之后才显现。另外,可在机显影印版通常不含着色剂,因为在机除去涂层的未印刷区可引起润版溶液和/或油墨被污染,且在因所述着色剂的污染消散之前其可得到不可接受数目的印刷副本。
与用润版液和油墨在机显影相关的第三个问题是未暴露区的清除不足。
2005年5月18日提交的未公开的专利申请PCT/EP 2005/052298公开了一种制作平版印刷印版的方法,其中按图像暴露的前体用上胶溶液显影。
发明概述
本发明的一个目标在于提供一种利用感光聚合物印版前体制作平版印刷印版的方法,使用者认识到所述方法不需要显影步骤且其中经暴露的印版可在安装在印刷机上之前在周围光中保持不受限的时间。这个目标通过权利要求1的方法实现,所述方法的具体特征为按图像暴露的印版前体在预热单元中加热且在包括至少一个上胶单元的上胶站中用胶溶液处理,其中使所述印版在单个步骤中显影并上胶且其中使预热单元与上胶单元通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
因为印版已显影并上胶,所以平版印刷图像可不再受环境日光影响。相反地,进一步暴露于日光反而只会提高暴露区的聚合度,即,将使图像增强而不是变坏。相反地,进一步暴露于日光反而将提高暴露区的聚合度,即将使图像增强而不是变坏。
本发明的另一目标在于提供一种利用感光聚合物印版前体制作平版印刷印版的方法,使用者认识到所述方法不需要显影步骤且其中已暴露的印版可在安装在印刷机上之前在周围光中保持不受限的时间,且其中在将印版安装在印刷机上之前提供可见图像。该目标通过将着色剂加到感光聚合物印版的涂层中实现。因为涂层的未印刷区在上胶步骤中除去,所以在开始印刷作业期间不存在润版溶液或油墨污染的风险。
本发明的其他具体实施方案在从属权利要求中规定。
附图简述
图1示意性显示具有预热单元、上胶单元和干燥单元的装置。
图2示意性显示具有预热单元、预洗涤单元、上胶单元和干燥单元的装置。
图3示意性显示具有预热单元、第一上胶单元、第二上胶单元和干燥单元的装置。
发明详述
本发明提供一种制作平版印刷印版的方法,所述方法包括以下步骤:
a)提供平版印刷印版前体,其包括
(i)具有亲水表面或提供有亲水层的载体,
(ii)在所述载体上包括可光聚合层和任选的在可光聚合层与载体之间的中间层的涂层,
其中所述可光聚合层包含可聚合化合物、聚合引发剂和连接料,和
b)在印版记录机中按图像暴露所述涂层,
c)在预热单元中加热所述前体,
d)在包括至少一个第一上胶单元的上胶站中通过施用胶溶液到前体涂层上处理所述前体,从而从所述载体上除去可光聚合层的非暴露区,且
其中步骤(c)和(d)是在所述预热单元和所述第一上胶单元中离机进行,且
其中所述预热单元与所述第一上胶单元通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
在本发明中,印版前体利用印版记录机(即适于按图像暴露前体的激光曝光装置)离机按图像暴露。用于本发明方法中的前体为阴图制版前体,其中在已暴露区涂层硬化。本文中,“硬化”是指涂层变得不可溶解或不可分散于胶溶液中且可通过涂料聚合和/或交联实现。
成像后,将印版前体加热,下文中还称为“预热”,以加强或加速聚合和/或交联反应。这个预热步骤在预热单元中进行,其中前体优选在约80℃-150℃的温度下加热和优选驻留时间为约5秒到1分钟。所述预热单元优选装备有加热元件,如IR灯、UV灯、热空气、热金属辊等。
预热步骤以后,将印版前体在包括至少一个上胶单元的上胶站中处理,即显影并上胶,其中将胶溶液施用到前体涂层上,其中在单个步骤中将可光聚合层的非暴露区从载体上除去且其中非暴露区中载体的亲水表面因吸附胶而受到保护。
用胶溶液显影的另外益处在于由于在非暴露区中的印版上有剩余胶,所以不需要另外上胶步骤来保护非暴露区中载体的表面。因此,将前体在单个步骤中显影并上胶,在印版上得到的平版印刷图像不会受环境日光或污染影响。
在本发明中,使预热单元与上胶单元通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中(如图1、2和3中示意性显示),且此举为最终用户提供的另外益处为由此减少制备印刷印版的印版操作数目。
在印刷步骤中,将印版安装在印刷机印版滚筒上且开始印刷过程。
胶溶液
胶溶液通常为包含一种或多种表面保护化合物的水性液体,所述表面保护化合物能够保护印刷印版的平版印刷图像不受例如氧化、指纹、脂肪、油脂或灰尘的污染或在操作印版期间不受例如刮痕的损害。这类化合物的合适实例有成膜亲水性聚合物或表面活性剂。在用胶溶液处理后保留在印版上的层优选包含0.005-20g/m2,更优选0.010-10g/m2,最优选0.020-5g/m2的表面保护化合物。
在本说明书中,除非另外说明,否则胶溶液中存在的化合物的所有浓度都是以相对于备用胶溶液的重量百分比(%重量或%w/w)表示。胶溶液通常可以浓溶液形式供应,在使用前由最终用户根据供应商说明书用水稀释成备用胶溶液,通常1份胶用1份到10份水稀释。
用作胶溶液中的保护化合物的优选的聚合物为阿拉伯胶;支链淀粉;纤维素衍生物(如羧甲基纤维素、羧乙基纤维素或甲基纤维素);(环)糊精;聚(乙烯醇);聚(乙烯基吡咯烷酮);多糖;丙烯酸、甲基丙烯酸或丙烯酰胺的均聚物和共聚物;乙烯基甲基醚和马来酸酐的共聚物;乙酸乙烯酯和马来酸酐的共聚物;或苯乙烯和马来酸酐的共聚物。高度优选的聚合物为含有羧基、磺酸基或膦酸基或其盐的单体的均聚物或共聚物,例如(甲基)丙烯酸、乙酸乙烯酯、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、乙烯基膦酸或丙烯酰胺基丙磺酸的均聚物或共聚物。
用作表面保护剂的表面活性剂的实例包括阴离子或非离子表面活性剂。胶溶液也可包含一种或多种上述亲水性聚合物作为表面保护剂和另外一种或多种表面活性剂来改善涂层的表面性质。胶溶液的表面张力优选为20-50mN/m。
优选胶溶液包含阴离子表面活性剂,更优选阴离子基团为磺酸基的阴离子表面活性剂。
阴离子表面活性剂的实例包括脂肪酸盐、松香酸盐、羟基烷磺酸盐、烷磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚的盐、N-甲基-N-油基酒石酸钠、N-烷基磺基琥珀酸二钠单酰胺、石油磺酸盐、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛油、脂族烷基酯的硫酸酯的盐、烷基硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的硫酸酯、脂族单甘油酯的硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的硫酸酯的盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚的硫酸酯的盐、烷基磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的磷酸酯的盐、苯乙烯马来酸酐共聚物的部分皂化的化合物、烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化的化合物和萘磺酸盐福尔马林缩合物。这些阴离子表面活性剂中特别优选二烷基磺基琥珀酸盐、烷基硫酸酯的盐和烷基萘磺酸盐。
合适的阴离子表面活性剂的具体实例包括十二烷基苯氧基苯二磺酸钠、烷基化的萘磺酸钠盐、亚甲基-二萘-二磺酸二钠、十二烷基苯磺酸钠、磺化的烷基-二苯醚、全氟烷基磺酸铵或氟烷基磺酸钾和二辛基-磺基琥珀酸钠。
非离子表面活性剂的合适的实例包括聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基芳基醚(其中所述芳基可为苯基、萘基或芳族杂环基团)、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚合物、甘油脂肪酸的偏酯、脱水山梨糖醇脂肪酸的偏酯、季戊四醇脂肪酸的偏酯、丙二醇单脂肪酸酯、蔗糖脂肪酸的偏酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸的偏酯、聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸的偏酯、聚乙二醇脂肪酸酯、聚甘油脂肪酸的偏酯、聚氧乙烯化的蓖麻油、聚氧乙烯甘油脂肪酸的偏酯、脂族二乙醇酰胺、N,N-双-2-羟基烷基胺、聚氧乙烯烷基胺、三乙醇胺脂肪酸酯和三烷基胺氧化物。这些非离子表面活性剂中特别优选聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯烷基萘基醚和聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物。此外,同样可使用氟化和硅化的阴离子和非离子表面活性剂。
可组合使用两种或多种上述表面活性剂。例如可优选两种或多种不同阴离子表面活性剂的组合或阴离子表面活性剂与非离子表面活性剂的组合。这类表面活性剂的量没有特别限制,但优选为0.01-30%重量,更优选为0.05-20%重量。
根据本发明,胶溶液的pH值优选为3-9,更优选4.5-8.5,最优选5-7。胶溶液的pH值通常通过用量为0.01-15%重量,优选0.02-10%重量的无机酸、有机酸或无机盐调整。无机酸的实例包括硝酸、硫酸、磷酸和偏磷酸。有机酸特别用作pH控制剂和减感剂。有机酸的实例包括羧酸、磺酸、膦酸或其盐,例如琥珀酸盐、磷酸盐、膦酸盐、硫酸盐和磺酸盐。有机酸的具体实例包括柠檬酸、乙酸、草酸、丙二酸、对甲苯磺酸、酒石酸、苹果酸、乳酸、乙酰丙酸、植酸和有机膦酸。
胶溶液优选还包含无机盐。无机盐的实例包括硝酸镁、磷酸一钠、磷酸二钠、硫酸镍、六偏磷酸钠和三聚磷酸钠。最优选碱金属的磷酸二氢盐,如KH2PO4或NaH2PO4。其他无机盐可用作缓蚀剂,例如硫酸镁或硝酸锌。无机酸、有机酸或无机盐可单独使用或与其一种或多种组合使用。
根据本发明的另一实施方案,在印版显影中作为显影剂的胶溶液优选包含阴离子表面活性剂与无机盐的混合物。在该混合物中,阴离子表面活性剂优选为具有磺酸基的阴离子表面活性剂,更优选单或二烷基取代的二苯基醚-磺酸的碱金属盐,无机盐优选为一元或二元磷酸盐,更优选碱金属的磷酸二氢盐,最优选KH2PO4或NaH2PO4
根据本发明的另一实施方案,包含阴离子表面活性剂与无机盐的混合物的胶溶液的pH值优选为3-9,更优选为4-8,最优选为5-7。
除上述组分外,胶溶液中还可存在润湿剂,如乙二醇、丙二醇、三甘醇、丁二醇、己二醇、二甘醇、二丙二醇、甘油、三羟甲基丙烷和二甘油。润湿剂可单独使用或与其一种或多种组合使用。通常上述润湿剂的用量优选为1-25%重量。
此外,胶溶液中可存在螯合化合物。稀释用水中所含的钙离子和其他杂质对印刷可有不利影响,且因此引起印刷品污染。该问题可通过向稀释用水中加入螯合化合物而消除。这类螯合化合物的优选的实例包括有机膦酸或膦酰基烷三羧酸。其具体实例有乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、次氮基三乙酸、1-羟基乙烷-1,1-二膦酸和氨基三(亚甲基膦酸)的钾或钠盐。除这些螯合剂的这些钠或钾盐之外,还可使用有机胺盐。相对于稀释形式的胶溶液来说,所加入的这类螯合剂的量优选为0.001-5%重量。
此外,胶溶液中可存在抗菌剂和消泡剂。这类抗菌剂的实例包括苯酚、其衍生物、福尔马林、咪唑衍生物、脱氢乙酸钠、4-异噻唑啉-3-酮衍生物、苯并异噻唑啉-3-酮、苯并三唑衍生物、脒胍衍生物、季铵盐、吡啶衍生物、喹啉衍生物、胍衍生物、二嗪、三唑衍生物、噁唑和噁嗪衍生物。这类抗菌剂的优选加入量使得其可对细菌、真菌、酵母等发挥稳定作用。尽管取决于细菌、真菌和酵母的种类,但是相对于稀释形式的胶溶液来说,抗菌剂优选为0.01-4%重量。此外,优选可组合使用两种或多种抗菌剂以对各种真菌和细菌发挥抗菌作用。消泡剂优选为聚硅氧烷消泡剂。在这些消泡剂之中,可使用乳液分散型或溶解型消泡剂。相对于稀释形式的胶溶液来说,这类消泡剂的适当加入量为0.001-1.0%重量。
除上述组分之外,如果需要,胶溶液中还可存在吸墨剂。这类吸墨剂的实例包括松节油、二甲苯、甲苯、低级庚烷、溶剂石脑油、煤油、矿油精、烃类如沸点为约120℃-约250℃的石油馏分、邻苯二甲酸二酯(例如邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二庚酯、邻苯二甲酸二正辛酯、邻苯二甲酸二(2-乙基己酯)、邻苯二甲酸二壬酯、邻苯二甲酸二癸酯、邻苯二甲酸二月桂酯、邻苯二甲酸丁基苄酯)、脂族二元酸酯(例如己二酸二辛酯、己二酸丁基乙二醇酯、壬二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、癸二酸二(2-乙基己酯)、癸二酸二辛酯)、环氧化的甘油三酯(例如环氧豆油)、磷酸酯(例如磷酸三甲苯酯、磷酸三辛酯、磷酸三氯乙酯)和在1个大气压下凝固点为15℃或15℃以下且沸点为300℃或300℃以上的增塑剂如苯甲酸酯(例如苯甲酸苄酯)。可与这些溶剂组合使用的其他溶剂的实例包括酮(例如环己酮)、卤代烃(例如二氯乙烷)、乙二醇醚(例如乙二醇单甲醚、乙二醇单苯醚、乙二醇单丁醚)、脂肪酸(例如己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、十一烷酸、月桂酸、十三烷酸、肉豆蔻酸、十五烷酸、棕榈酸、十七烷酸、硬脂酸、十九烷酸、花生酸、二十二烷酸、二十四烷酸、二十六烷酸、二十七烷酸、褐煤酸、蜂花酸、虫漆蜡酸、异戊酸)和不饱和脂肪酸(例如丙烯酸、巴豆酸、异巴豆酸、十一烯酸、油酸、反油酸、鲸蜡烯酸、芥子酸、butecidic acid、山梨酸、亚油酸、亚麻酸、花生四烯酸、丙炔酸、硬脂炔酸、
Figure A20068004226900151
鱼酸、塔日酸、里卡利酸)。优选在50℃下为液体的脂肪酸,更优选具有5-25个碳原子,最优选具有8-21个碳原子的脂肪酸。吸墨剂可单独使用或与其一种或多种组合使用。吸墨剂的用量优选为0.01-10%重量,更优选为0.05-5%重量。上述吸墨剂可以水包油乳液形式存在或可借助于增溶剂溶解。
通过加入增粘化合物如聚(环氧乙烷)或聚乙烯醇(例如分子量为104-107),可将胶溶液的粘度值调整为例如1.7-5mPa.s。这类化合物的存在浓度可为0.01-10g/l。
烘烤胶具有与如上所述类似的组成,另外优选在通常的烘烤温度下不蒸发的化合物。烘烤胶溶液或烘烤上胶溶液可为十二烷基苯氧基苯二磺酸钠、烷基化的萘磺酸、磺化的烷基二苯醚、亚甲基双萘磺酸等的水溶液。其他上胶溶液含有亲水性聚合物组分和有机酸组分。其他烘烤上胶溶液还含有羟基亚乙基二膦酸的钾盐。再其他烘烤上胶溶液还含有磺基琥珀酸盐化合物和磷酸。
烘烤胶溶液与印版之间的接触角优选通过加入至少一种表面活性剂降低。优选的表面活性剂为非离子聚二醇和全氟化脂族聚酯丙烯酸酯。
在另一实施方案中,烘烤上胶溶液包含(a)水,(b)至少一种亲水性聚合物和(c)至少一种选自包含至少两个酸官能团且选自苯羧酸、苯磺酸、苯膦酸、烷膦酸及其水溶性盐的水溶性有机酸的组分。所提及溶解于本发明的水溶液中的化合物(b)和(c)为在常用烘烤温度下不蒸发的化合物。所形成的保护层即使在烘烤后仍保持水溶性,且可在不损害印版的情况下容易地除去。
组分(b)尤其包含以下亲水性聚合物:N-聚乙烯基-吡咯烷酮、聚乙烯基甲基醚、含有乙烯单元和马来酸酐单元的共聚物;含有乙烯基膦酸单元、乙烯基甲基次膦酸单元和/或丙烯酸单元的均聚物或共聚物和/或聚亚烷基二醇如聚乙二醇。
组分(c)尤其包含:苯二磺酸、具有3-6个羧基的苯多羧酸、烷基中具有1-3个碳原子的烷二膦酸、烷基中具有5-9个碳原子的含有羧基的烷二膦酸和/或这些酸的水溶性盐(优选碱金属盐或铵盐)中的一种。组分(c)的具体实例包括苯-1,3-二磺酸、苯-1,2,4-三甲酸(偏苯三酸)、苯-1,2,4,5-四甲酸(苯均四酸)、苯六甲酸(苯六羧酸)、甲烷二膦酸(二膦羧基甲烷)、4,4-二膦羧基-庚烷-1,7-二酸(3,3-二膦羧基(phosphone)-庚二酸)和这些酸的钠盐。在其他实施方案中,使用的烘烤上胶溶液还可含有羟基-多羧酸如柠檬酸和/或其盐;具有至少4个碳原子的水溶性烷二醇如1,6-己二醇;和表面活性剂(优选阴离子或非离子表面活性剂)如烷基芳基磺酸盐、烷基酚醚磺酸盐和天然表面活性剂(例如皂角苷(Saponin))。合适的烘烤胶溶液、其成分和浓度的具体实例可在例如EP-A 222 297、EP-A 1 025 992、DE-A 2 626 473和US 4,786,581中见到。
载体
特别优选的平版印刷载体为电化学糙化并阳极化的铝载体。使阳极化铝载体糙化为众所周知的。用于糙化的酸可例如为硝酸或硫酸。优选用于糙化的酸包括盐酸。还可使用例如盐酸与乙酸的混合物。一方面电化学糙化与阳极化参数如电极电压、酸性电解质的性质和浓度或功耗与另一方面得到的关于Ra和阳极重量(在每平方米铝表面上形成的Al2O3的克数)的平版印刷质量之间的关系为众所周知的。关于各种生产参数与Ra或阳极重量之间关系的更多细节可在例如在ATB Metallurgie Journal,第42卷,第1-2期,(2002),第69页上发表的F.R.Mayers的文章“Management of Change in theAluminium Printing Industry(在铝印刷行业中变化的处理)”中见到。
可使阳极化铝载体经受所谓的后阳极处理以改善其表面的亲水性。例如可通过在高温(例如95℃)下用硅酸钠溶液处理铝载体表面而硅酸盐化。或者可施用磷酸盐处理,它涉及用还可含有无机氟化物的磷酸盐溶液处理氧化铝表面。此外,氧化铝表面可用柠檬酸或柠檬酸盐溶液漂洗。这种处理可在室温下进行或可在约30℃-50℃的稍高温度下进行。其他令人感兴趣的处理涉及用碳酸氢盐溶液漂洗氧化铝表面。更进一步,氧化铝表面可用聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚乙烯基磺酸、聚乙烯基苯磺酸、聚乙烯醇的硫酸酯和聚乙烯醇与磺化脂族醛反应形成的缩醛处理。
另一可用的后阳极处理可用聚丙烯酸或包含至少30%摩尔的丙烯酸单体单元的聚合物(例如GLASCOL E15,自ALLIEDCOLLOIDS购得的聚丙烯酸)的溶液进行。
糙化且阳极化的铝载体可为片状材料(如板)或者可为圆柱形元件(如可绕着印刷机的印刷滚筒滑动的套筒)。
所述载体也可为柔性载体,它可提供有亲水层,下文称作“底层”。柔性载体例如为纸张、塑料膜或铝。塑料膜的优选的实例有聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜、醋酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等。塑料膜载体可为不透明或透明的。
所述底层优选为由亲水性连接料与硬化剂如甲醛、乙二醛、聚异氰酸酯或水解的原硅酸四烷基酯交联得到的交联的亲水层。特别优选后者。亲水底层的厚度可在0.2μm至25μm范围内变化,并优选为1-10μm。底层的优选实施方案的更多细节可在例如EP-A 1025992中见到。
涂层
所述载体上的涂层包含至少一个包含可光聚合组合物的层,下文中所述层还称为“可光聚合层”。在所述可光聚合层上,可施用包含水溶性或水可溶胀聚合物的氧阻挡层,下文中所述阻挡层还称为“顶层”或“罩面层”或“覆盖层”。所述涂层还可包括在可光聚合层与载体之间的中间层。
所述涂层的厚度优选为0.4-10g/m2,更优选为0.5-5g/m2,最优选为0.6-3g/m2
所述可光聚合层包含可聚合化合物、能够使所述可聚合化合物在暴露区硬化的聚合引发剂和连接料。所述可光聚合层还可包含粘着促进化合物。
所述可光聚合层的涂层厚度优选为0.4-5.0g/m2,更优选为0.5-3.0g/m2,最优选为0.6-2.2g/m2
粘着促进化合物
粘着促进化合物为能够与所述载体相互作用的化合物,优选具有可加成聚合烯属不饱和键和能够与载体相互作用的官能团,更优选能够与糙化且阳极化的铝载体相互作用的官能团的化合物。“相互作用”应理解为各种类型的物理和/或化学反应或过程,由此在官能团与载体之间形成键,它可为共价键、离子键、配合键、配位键或氢桥键,且它可由吸附过程、化学反应、酸碱反应、配合物形成反应或螯合基团或配体的反应形成。粘着促进化合物可存在于可光聚合层中和/或可光聚合层与载体之间的中间层中。
粘着促进化合物可选自至少一种如以下专利中描述的低分子量化合物或聚合化合物:EP-A 851 299的第3页第22行到第4页第1行、EP-A 1 500 498的第7页[0023]段到第20页[0052]段、EP-A 1 495866的第5页[0030]段到第11页[0049]段、EP-A 1 091 251的第3页[0014]段到第20页[0018]段和EP-A 1 520 694的第6页[0023]段到第19页[0060]段。优选的化合物为包含磷酸酯基或膦酸酯基作为能够吸附在铝载体上的官能团的化合物和包含可加成聚合的烯属双键活性基团的那些化合物,特别是见述于EP-A 851 299的第3页第22行到第4页第1行和EP-A 1 500 498的第7页[0023]段到第20页[0052]段中的化合物。还优选包含三烷氧基硅烷基团(下文还称为“三烷氧基硅烷”基团)的化合物,其中所述烷基优选为甲基或乙基,或其中所述三烷氧基硅烷基团经至少部分水解为硅醇基团作为能够吸附在载体上的官能团,特别是如EP-A 1 557 262的第49页[0279]段和EP-A 1 495866的第5页[0030]段到第11页[0049]段中所述的具有可加成聚合的烯属双键活性基团的硅烷偶合剂。
粘着促进化合物可以占所述组合物的非挥发性组分重量的1-50%,优选3-30%,更优选5-20%的量存在于可光聚合层中。
粘着促进化合物可以占所述组合物的非挥发性组分重量的至少50%,优选至少80%,更优选至少90%,最优选100%的量存在于中间层中。
任选的中间层的涂层厚度优选为0.001-1.5g/m2,更优选为0.003-1.0g/m2,最优选为0.005-0.7g/m2
可聚合化合物和聚合引发剂
根据本发明的一个实施方案,所述可聚合单体或低聚物为包含至少一个环氧或乙烯基醚官能团的单体或低聚物,且所述引发剂为在曝光时任选在敏化剂存在下能够产生游离酸的布朗斯特酸(Bronstedacid)发生剂,下文中所述引发剂还称为“阳离子光引发剂”或“阳离子引发剂”。
合适的多官能环氧单体例如包括3,4-环氧环己烷甲酸3,4-环氧环己基甲酯、己二酸双-(3,4-环氧环己基甲酯)、双官能双酚A环氧氯丙烷环氧树脂和多官能环氧氯丙烷四羟苯基乙烷环氧树脂。
合适的阳离子光引发剂例如包括六氟锑酸三芳基锍、六氟磷酸三芳基锍、六氟锑酸二芳基碘鎓和卤烷基取代的均三嗪。应注意的是,大多数阳离子引发剂也是自由基引发剂,因为在光或热分解期间,除了产生布朗斯特酸之外,它们还产生自由基。
根据本发明的一个更优选的实施方案,所述可聚合单体或低聚物为具有至少一个末端烯基的烯属不饱和化合物,下文中还称为“可自由基聚合的单体”,且所述引发剂为在曝光时任选在敏化剂存在下能够产生自由基的化合物,下文中也将所述引发剂称为“自由基引发剂”。
合适的可自由基聚合的单体例如包括多官能(甲基)丙烯酸酯单体(如乙二醇、三羟甲基丙烷、季戊四醇、乙氧基化的乙二醇和乙氧基化的三羟甲基丙烷的(甲基)丙烯酸酯,多官能氨基甲酸酯化的(甲基)丙烯酸酯和环氧化的(甲基)丙烯酸酯)和低聚胺二丙烯酸酯。除(甲基)丙烯酸酯基团以外,(甲基)丙烯酸类单体还可具有其他双键或环氧化物基团。(甲基)丙烯酸酯单体还可含有酸性官能团(如羧酸)或碱性官能团(如胺)。
在曝光时能够直接或在敏化剂存在下产生自由基的任何自由基引发剂均可用作本发明的自由基引发剂。合适的自由基引发剂例如包括苯乙酮衍生物(如2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮和2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙-1-酮);二苯甲酮;苯偶酰;香豆素酮(如3-苯甲酰基-7-甲氧基香豆素和7-甲氧基香豆素);呫吨酮(xanthone);噻吨酮(thioxanthone);苯偶姻或烷基取代的蒽醌;鎓盐(如六氟锑酸二芳基碘鎓、三氟甲磺酸二芳基碘鎓、六氟锑酸(4-(2-羟基十四烷基-氧基)-苯基)苯基碘鎓、六氟磷酸三芳基锍、对甲苯磺酸三芳基锍、六氟锑酸(3-苯基丙-2-酮基)三芳基鏻和六氟磷酸N-乙氧基(2-甲基)吡啶鎓和如美国专利第5,955,238号、第6,037,098号和第5,629,354号中所述的鎓盐);硼酸盐(如三苯基(正丁基)硼酸四丁基铵、三苯基(正丁基)硼酸四乙基铵、四苯基硼酸二苯基碘鎓和三苯基(正丁基)硼酸三苯基锍和如美国专利第6,232,038号和第6,218,076号中所述的硼酸盐);卤烷基取代的均三嗪(如2,4-双(三氯甲基)-6-(对甲氧基苯乙烯基)-均三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基-萘-1-基)-均三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-胡椒基-均三嗪和2,4-双(三氯甲基)-6-[(4-乙氧基-乙烯氧基)-苯-1-基]-均三嗪和如美国专利第5,955,238号、第6,037,098号、第6,010,824号和第5,629,354号中所述的均三嗪);和二茂钛(双(etha.9-2,4-环戊二烯-1-基)双[2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)苯基]钛)。鎓盐、硼酸盐和均三嗪为优选的自由基引发剂。二芳基碘鎓盐和三芳基锍盐为优选的鎓盐。三芳基烷基硼酸盐为优选的硼酸盐。三氯甲基取代的均三嗪为优选的均三嗪。
在本发明的组合物中可使用已知的光聚合引发剂,在本发明的一个优选的实施方案中,本发明的可光聚合组合物包含单独或与其他光引发剂组合作为光聚合引发剂的六芳基-双咪唑(HABI;三芳基-咪唑的二聚物)化合物。
制备六芳基双咪唑的方法见述于DE 1470 154中且它们在可光聚合组合物中的用途记载于EP 24 629、EP 107 792、US 4 410 621、EP215 453和DE 3 211 312中。优选的衍生物例如为2,4,5,2′,4′,5′-六苯基双咪唑、2,2′-双(2-氯苯基)-4,5,4′,5′-四苯基双咪唑、2,2′-双(2-溴苯基)-4,5,4′,5′-四苯基双咪唑、2,2′-双(2,4-二氯苯基)-4,5,4′,5′-四苯基双咪唑、2,2′-双(2-氯苯基)-4,5,4′,5′-四(3-甲氧基苯基)双咪唑、2,2′-双(2-氯苯基)-4,5,4′,5′-四(3,4,5-三甲氧基苯基)-双咪唑、2,5,2′,5′-四(2-氯苯基)-4,4′-双(3,4-二甲氧基苯基)双咪唑、2,2′-双(2,6-二氯苯基)-4,5,4′,5′-四苯基双咪唑、2,2′-双(2-硝基苯基)-4,5,4′,5′-四苯基双咪唑、2,2′-二邻甲苯基-4,5,4′,5′-四苯基双咪唑、2,2′-双(2-乙氧基苯基)-4,5,4′,5′-四苯基双咪唑和2,2′-双(2,6-二氟苯基)-4,5,4′,5′-四苯基双咪唑。相对于可光聚合组合物的非挥发组分来说,HABI光引发剂的量通常为0.01-30%重量,优选为0.5-20%重量。
在本发明的上下文下,极高灵敏性可通过作为敏化剂的荧光增白剂和作为光引发剂的六芳基双咪唑组合得到。
除了六芳基双咪唑化合物之外,合适种类的光引发剂包括芳族酮、芳族鎓盐、有机过氧化物、硫基化合物、酮肟酯化合物、硼酸盐化合物、吖嗪鎓(azinium)化合物、金属茂化合物、活性酯化合物和具有碳-卤键的化合物,但优选组合物包含不含硼的光聚合引发剂且特别优选的光聚合引发剂包含无硼化合物。适于本发明的光引发剂的许多具体实例可见于EP-A 1 091 247中。其他优选的引发剂为三卤基甲基砜。
优选六芳基双咪唑化合物和/或金属茂化合物单独或与其他合适的光引发剂组合使用,特别是与芳族酮、芳族鎓盐、有机过氧化物、硫基化合物、酮肟酯化合物、吖嗪鎓化合物、活性酯化合物或具有碳卤键的化合物组合使用。
在本发明的一个优选的实施方案中,六芳基双咪唑化合物构成用于本发明的可光聚合组合物中的所有光引发剂的多于50%摩尔,优选至少80%摩尔且特别优选至少90%摩尔。
根据本发明的另一实施方案,所述可聚合单体或低聚物可为包含至少一个环氧或乙烯基醚官能团的单体或低聚物与具有至少一个末端烯属基团的可聚合烯属不饱和化合物的组合,且所述引发剂可为阳离子引发剂与自由基引发剂的组合。包含至少一个环氧或乙烯基醚官能团的单体或低聚物与具有至少一个末端烯属基团的可聚合烯属不饱和化合物可为相同化合物,其中所述化合物含有烯属基团和环氧或乙烯基醚基团两者。这类化合物的实例包括环氧官能丙烯酸类单体,如丙烯酸缩水甘油酯。自由基引发剂与阳离子引发剂可为相同化合物,条件是所述化合物能够产生自由基和游离酸两者。这类化合物的实例包括各种鎓盐,如六氟锑酸二芳基碘鎓;和均三嗪,如2,4-双(三氯甲基)-6-[(4-乙氧基乙烯氧基)-苯-1-基]-均三嗪,它们能够在敏化剂存在下产生自由基和游离酸两者。
所述可光聚合层还可包含多官能单体。这种单体含有至少两个选自烯属不饱和基团和/或环氧或乙烯基醚基团的官能团。用于感光聚合物涂料的具体多官能单体公开于US 6,410,205、US 5,049,479、EP 1079276、EP 1369232、EP 1369231、EP 1341040、US 2003/0124460、EP 1241002、EP 1288720中和参考书(包括引用的参考文献):Chemistry&Technology UV & EB formulation for coatings,inks &paints(涂料、油墨和颜料的UV和EB制剂的化学和技术)-第2卷-N.S.Allen,M.A.Johnson,P.K.T.Oldring,M.S.Salim的Prepolymers andReactive Diluents for UV and EB Curable Formulations(UV和EB可固化制剂的预聚物和活性稀释剂)-P.K.T.Oldring编辑-1991-ISBN 0947798102中。特别优选氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯多官能单体,它可单独使用或与其他(甲基)丙烯酸酯多官能单体组合使用。
所述可光聚合层还可包含共引发剂。通常共引发剂与自由基引发剂和/或阳离子引发剂组合使用。用于感光聚合物涂料的具体共引发剂公开于US 6,410,205、US 5,049,479、EP 1079276、EP1369232、EP 1369231、EP 1341040、US 2003/0124460、EP1241002、EP 1288720中和参考书(包括引用的参考文献):Chemistry&Technology UV&EB formulation for coatings,inks & paints(涂料、油墨和颜料的UV和EB制剂的化学和技术)-第3卷-K.K.Dietliker的Photoinitiators for Free Radical and Cationic Polymerisation(自由基和阳离子聚合的光引发剂)-P.K.T.Oldring编辑-1991-ISBN 0 947798161中。
所述可光聚合层还可包含抑制剂。用于感光聚合物涂料的具体抑制剂公开于US 6,410,205、EP 1288720和2004年5月6日提交的未公开专利申请EP-A 04101955中。
可光聚合层的连接料
所述可光聚合层还可包含连接料。所述连接料可选自广泛的有机聚合物。还可使用不同连接料的组合物。可用的连接料例如包括氯化的聚烯烃(尤其是氯化聚乙烯和氯化聚丙烯)、聚甲基丙烯酸烷基酯或烯基酯(尤其是聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯、聚(甲基)丙烯酸丁酯、聚(甲基)丙烯酸异丁酯、聚(甲基)丙烯酸己酯、聚(甲基)丙烯酸(2-乙基己酯)和(甲基)丙烯酸烷基酯或烯基酯与其他可共聚单体(尤其是与(甲基)丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、苯乙烯和/或丁二烯)的聚(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物、聚氯乙烯(PVC,氯乙烯/(甲基)丙烯腈共聚物、聚偏二氯乙烯(PVDC)、偏二氯乙烯/(甲基)丙烯腈共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡咯烷酮或烷基化的乙烯基吡咯烷酮的共聚物、聚乙烯基己内酰胺、乙烯基己内酰胺的共聚物、聚(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯腈/苯乙烯共聚物、(甲基)丙烯酰胺/(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物、(甲基)丙烯腈/丁二烯/苯乙烯(ABS)三元共聚物、聚苯乙烯、聚(α-甲基苯乙烯)、聚酰胺、聚氨酯、聚酯、甲基纤维素、乙基纤维素、乙酰基纤维素、羟基-(C1-C4-烷基)纤维素、羧甲基纤维素、聚乙烯醇缩甲醛和聚乙烯醇缩丁醛。特别优选的连接料为具有乙烯基己内酰胺、乙烯基吡咯烷酮或烷基化的乙烯基吡咯烷酮作为单体单元的聚合物。烷基化的乙烯基吡咯烷酮聚合物可通过将α-链烯接枝到乙烯基吡咯烷酮聚合物主链上得到。这类产品的典型实例为自ISP购得的AgrimerAL接枝聚合物。烷基化基团的长度可为C4-C30。其他可用的连接料为含羧基的连接料,尤其是含有α,β-不饱和羧酸单体或α,β-不饱和二羧酸单体单元(优选丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、乙烯基乙酸、顺丁烯二酸或衣康酸)的共聚物。在本发明的上下文中,术语“共聚物”应理解为含有至少两种不同单体单元的聚合物,因此也包括三元共聚物和更高级混合聚合物。可用的共聚物的具体实例为含有(甲基)丙烯酸单元与(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯和/或(甲基)丙烯腈单元的共聚物以及含有巴豆酸单元与(甲基)丙烯酸烷基酯和/或(甲基)丙烯腈单元的共聚物和乙烯基乙酸/(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物。含有马来酸酐或顺丁烯二酸单烷基酯单元的共聚物也适合。在这些共聚物中例如有含有马来酸酐与苯乙烯、不饱和醚或酯或不饱和脂肪烃单元的共聚物和由这类共聚物得到的酯化产物。其他合适的连接料为可通过含羟基聚合物与分子内二酸酐的转化得到的产物。其他可用的连接料为存在具有酸氢原子的基团的聚合物,其中部分或所有酸氢原子用活化的异氰酸酯转化。这些聚合物的实例有通过含羟基聚合物与脂族或芳族异氰酸磺酰酯或次膦酸异氰酸酯的转化得到的产物。具有脂族或芳族羟基的聚合物,例如含有(甲基)丙烯酸羟烷基酯、烯丙醇、羟基苯乙烯或乙烯醇单元的共聚物以及环氧树脂也适合,条件是它们带有足够数目的游离OH基。具体可用的连接料和具体可用的活性连接料公开于EP 1 369 232、EP 1 369231、EP 1 341 040、US 2003/0124460、EP 1 241 002、EP 1 288720、US 6,027,857、US 6,171,735和US 6,420,089中。
用作连接料的有机聚合物的典型平均分子量Mw为600-700000,优选为1000-350000。还优选聚合物的酸值为10-250,优选为20-200,或羟值为50-750,优选为100-500。相对于组合物的非挥发性组分的总重量来说,连接料的量通常为10-90%,优选为20-80%。
还特别合适的连接料为乙酸乙烯酯和乙烯醇的共聚物,优选包含10-98%摩尔,更优选35-95%摩尔,最优选40-75%摩尔的乙烯醇,最佳结果是用50-65%摩尔的乙烯醇得到。乙酸乙烯酯和乙烯醇的共聚物的酯值(通过DIN 53 401中所规定的方法测量)的范围优选为25-700mg KOH/g,更优选为50-500mg KOH/g,最优选为100-300mg/g。乙酸乙烯酯和乙烯醇的共聚物的粘度是如DIN53 015中所规定在20℃下以4%重量水溶液测量,粘度范围优选为3-60mPa.s,更优选为4-30mPa.s,最优选为5-25mPa.s。乙酸乙烯酯和乙烯醇的共聚物的平均分子量Mw优选为5 000-500 000g/mol,更优选为10 000-400 000g/mol,最优选为15 000-250 000g/mol。其他优选的连接料公开于EP 152 819 B1的第2页第50行至第4页第20行和EP 1 043 627B1的第3页上的[0013]段中。
在另一实施方案中,所述聚合物连接料包含疏水性主链和例如包括亲水性聚(氧化烯)链段的侧基。聚合物连接料还可包括连接于疏水性主链的侧氰基。还可使用这类连接料的组合。通常聚合物连接料在室温下为固体,且通常为非弹性热塑性塑料。聚合物连接料包含亲水区和疏水区,认为这对于通过促进可显影性提高已暴露区与未暴露区分化具有重要性。通常聚合物连接料的特征在于数均分子量(Mn)为约10,000-250,000,更通常为约25,000-200,000。可聚合组合物可包含聚合物连接料的离散颗粒。优选所述离散颗粒为悬浮在可聚合组合物中的聚合物连接料的颗粒。离散颗粒的存在倾向于提高未暴露区的可显影性。根据该实施方案的聚合物连接料的具体实例见述于US 6,899,994、2004/0260050、US2005/0003285、US2005/0170286和US2005/0123853中。除该实施方案的聚合物连接料之外,可成像层可任选包含一种或多种共连接料。典型的共连接料为水溶性或水分散性聚合物,如纤维素衍生物、聚乙烯醇、聚丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸、聚乙烯基吡咯烷酮、聚交酯(polyactide)、聚乙烯基膦酸;合成共聚物,如烷氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯的共聚物。共连接料的具体实例见述于US2004/0260050、US2005/0003285和US2005/0123853中。印版前体,包含连接料和任选的根据该实施方案且更详细地见述于US2004/0260050、US2005/0003285和US2005/0123853中的共连接料的可成像层任选包含顶涂层和中间层。
表面活性剂
可将各种表面活性剂加至可光聚合层中,以允许或提高胶溶液对前体的可显影性。聚合物和小分子表面活性剂均可使用。优选非离子表面活性剂。优选的非离子表面活性剂为含有一个或多个聚醚(如聚乙二醇、聚丙二醇和乙二醇与丙二醇的共聚物)链段的聚合物和低聚物。优选的非离子表面活性剂的实例有丙二醇与乙二醇的嵌段共聚物(还称为环氧丙烷与环氧乙烷的嵌段共聚物);乙氧基化或丙氧基化的丙烯酸酯低聚物;以及聚乙氧基化烷基酚和聚乙氧基化的脂肪醇。非离子表面活性剂的加入量优选为涂料重量的0.1-30%,更优选为0.5-20%,最优选为1-15%。
敏化剂
所述光可固化组合物还可包含敏化剂。非常优选的敏化剂为紫光吸收敏化剂,其吸收光谱为350nm-450nm,优选为370nm-420nm,更优选为390nm-415nm。特别优选的敏化剂公开于EP 1 349 006的[0007]段-[0009]段、2003年9月22日提交的EP-A-3103499和WO2004/047930(包括这些专利申请中所引用的参考文献)中。其他非常优选的敏化剂为红外光吸收染料,其吸收光谱为750nm-1300nm,优选为780nm-1200nm,更优选为800nm-1100nm。特别优选的敏化剂为七甲川青(heptamethinecyane)染料,特别是在EP 1359008的[0030]段至[0032]段中公开的染料。其他优选的敏化剂为蓝光、绿光或红光吸收敏化剂,其吸收光谱为450nm-750nm。可用的敏化剂可选自在US 6,410,205、US 5,049,479、EP 1 079 276、EP 1 369 232、EP 1369 231、EP 1341040、US 2003/0124460、EP 1 241 002和EP 1 288 720中公开的增感染料。
着色剂
所述涂层的可光聚合层或另一层还可包含着色剂。着色剂可存在于可光聚合层中或可光聚合层以下或以上的单独层中。在用胶溶液显影之后,至少部分着色剂保留在硬化涂层区上,且可见图像可通过在胶显影中除去未暴露区处包含着色剂的涂层而在载体上产生。
着色剂可为染料或颜料。当包含染料或颜料的层具有人眼可见的颜色时,所述染料或颜料可用作着色剂。
着色剂可为颜料。可使用各种类型的颜料,如有机颜料、无机颜料、炭黑、金属粉末颜料和荧光颜料。优选有机颜料。
有机颜料的具体实例包括喹吖啶酮颜料、喹吖啶酮醌颜料、二噁嗪颜料、酞菁颜料、蒽素嘧啶颜料、蒽嵌蒽二酮颜料、阴丹酮颜料、黄烷士酮林颜料、苝颜料、二酮基吡咯并吡咯颜料、索南士林(perinone)颜料、奎酞酮颜料、蒽醌颜料、硫靛颜料、苯并咪唑酮颜料、异吲哚啉酮颜料、偶氮甲碱颜料和偶氮颜料。
可用作着色剂的颜料的具体实例如下(本文中,C.I.为染料索引的缩写;蓝色颜料应理解为人眼看来为蓝色的颜料;其他颜色颜料无疑应以类似方式理解):
-蓝色颜料,它包括C.I.颜料蓝1、C.I.颜料蓝2、C.I.颜料蓝3、C.I.颜料蓝15:3、C.I.颜料蓝15:4、C.I.颜料蓝15:34、C.I.颜料蓝16、C.I.颜料蓝22、C.I.颜料蓝60等;和C.I.瓮蓝4、C.I.瓮蓝60等;-红色颜料,它包括C.I.颜料红5、C.I.颜料红7、C.I.颜料红12、C.I.颜料红48(Ca)、C.I.颜料红48(Mn)、C.I.颜料红57(Ca)、C.I.颜料红57:1、C.I.颜料红112、C.I.颜料红122、C.I.颜料红123、C.I.颜料红168、C.I.颜料红184、C.I.颜料红202和C.I.颜料红209;
-黄色颜料,它包括C.I.颜料黄1、C.I.颜料黄2、C.I.颜料黄3、C.I.颜料黄12、C.I.颜料黄13、C.I.颜料黄14C、C.I.颜料黄16、C.I.颜料黄17、C.I.颜料黄73、C.I.颜料黄74、C.I.颜料黄75、C.I.颜料黄83、C.I.颜料黄93、C.I.颜料黄95、C.I.颜料黄97、C.I.颜料黄98、C.I.颜料黄109、C.I.颜料黄110、C.I.颜料黄114、C.I.颜料黄128、C.I.颜料黄129、C.I.颜料黄138、C.I.颜料黄150、C.I.颜料黄151、C.I.颜料黄154、C.I.颜料黄155、C.I.颜料黄180和C.I.颜料黄185;
-橙色颜料,包括C.I.颜料橙36、C.I.颜料橙43及这些颜料的混合物;
-绿色颜料,包括C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36及这些颜料的混合物;
-黑色颜料,包括:Mitsubishi Chemical Corporation制造的黑色颜料,例如2300号、900号、MCF 88、33号、40号、45号、52号、MA 7、MA 8、MA 100和2200B号;Columbian Carbon Co.,Ltd.制造的黑色颜料,例如Raven 5750、Raven 5250、Raven 5000、Raven3500、Raven 1255和Raven 700;Cabot Corporation制造的黑色颜料,例如Regal 400R、Regal 330R、Regal 660R、Mogul L、Monarch 700、Monarch 800、Monarch 880、Monarch 900、Monarch 1000、Monarch1100、Monarch 1300和Monarch 1400;及Degussa制造的黑色颜料,例如Color Black FW 1、Color Black FW 2、Color Black FW 2V、ColorBlack FW 18、Color Black FW 200、Color Black S 150、Color Black S160、Color Black S 170、Printex 35、Printex U、Printex V、Printex 140U、Special Black 6、Special Black 5、Special Black 4A和Special Black4。
其他类型的颜料如棕色颜料、紫色颜料、荧光颜料及金属粉末颜料也可用作着色剂。颜料可单独或以两种或多种颜料的混合物形式用作着色剂。
优选蓝色颜料,包括青色颜料。
颜料可在使颜料颗粒经受表面处理或不使颜料颗粒经受表面处理的情况下使用。优选使颜料经受表面处理。表面处理的方法包括施用树脂表面涂层的方法、施用表面活性剂的方法和使活性物质(例如硅烷偶联剂、环氧化合物、聚异氰酸酯等)粘合到颜料表面的方法。经表面处理的颜料的合适实例有WO 02/04210中所述的改性颜料。具体地说,WO 02/04210中所述的蓝色改性颜料优选作为本发明中的着色剂。
优选颜料的粒径小于10μm,更优选小于5μm且特别优选小于3μm。分散颜料的方法可为用于制备油墨或调色剂等的任何已知的分散法。分散机器包括超声波分散器、砂磨机、磨碎机、珠磨机、超级磨、球磨机、叶轮、分配器、KD研磨机、胶体磨、负阻器(dynatron)、三辊碾压机和压力捏合机。其细节见述于“Latest PigmentApplied Technology(最新颜料应用技术)”(CMC Publications,1986出版)中。
在制备所谓自分散颜料的分散体中可摒弃分散剂。自分散颜料的具体实例为经受表面处理由此使颜料表面与分散液相容的颜料。在水性介质中自分散颜料的典型实例有具有离子基团或可离子化基团或与颗粒-表面偶联的聚氧化乙烯链的颜料。离子基团或可离子化基团的实例有酸基或其盐,如羧酸基团、磺酸、磷酸或膦酸及这些酸的碱金属盐。自分散颜料的合适实例见述于WO 02/04210中且在本发明中优选这类颜料。优选WO 02/04210中的蓝色自分散颜料。
通常颜料在涂层中的量可为约0.005g/m2-2g/m2,更优选为约0.007g/m2-0.5g/m2,更优选为约0.01g/m2-0.2g/m2,最优选为约0.01g/m2-0.1g/m2
着色剂还可为染料。任何已知的染料(如可购得的染料或在例如“Dye Handbook(染料手册)”(由Organic Synthetic ChemistryAssociation(有机合成化学协会)编辑,1970年出版)中所述的染料,其具有人眼可见的颜色)可用作可光聚合涂层中的着色剂。其具体实例包括偶氮染料、金属络合盐偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、蒽醌染料、酞菁染料、carbionium染料、醌亚胺染料、甲川染料等。优选酞菁染料。合适的染料为成盐有机染料且可选自油溶性染料和碱性染料。其具体实例有(本文中,CI为染料索引的缩写):油溶黄101、油溶黄103、油溶粉红312、油溶绿BG、油溶Bue GOS、油溶蓝603、油溶黑BY、油溶黑BS、油溶黑T-505、维多利亚艳蓝、结晶紫(CI42555)、甲基紫(CI42535)、乙基紫、罗丹明B(CI415170B)、孔雀绿(CI42000)、亚甲基蓝(CI52015)。GB 2 192 729中公开的染料也可用作着色剂。
通常染料在涂层中的量可为约0.005g/m2-2g/m2,优选为约0.007g/m2-0.5g/m2,更优选为约0.01g/m2-0.2g/m2,最优选为约0.01g/m2-0.1g/m2
印出剂(printing-out agent)
涂层的可光聚合层或另一层还可包含印出剂,即在曝光时能够改变涂层颜色的化合物。在使前体按图像暴露后,可产生可见图像,下文中还称为“印出图像”。印出剂可为EP-A-1491356的第19页和第20页的[0116]-[0119]段和US 2005/8971的第17页的[0168]-[0172]段中所述的化合物。优选的印出剂为2005年7月1日提交的未公开PCT申请PCT/EP 2005/053141的第9页的第1行到第20页的第27行中所述的化合物。更优选如2005年6月21日提交的未公开专利申请EP 05 105 440.1的第5页第32行到第32页第9行中所述的IR染料。
对比度
在按图像曝光且用胶溶液显影后形成的图像的对比度定义为已暴露区的光学密度与未暴露区的光学密度之差,且优选该对比度尽可能高。这使最终用户能够立即确定前体是否已曝光且经胶溶液显影,以区别不同颜色选择且检验经处理印版前体上的图像的质量。
对比度随着已暴露区中光学密度的增加和/或未暴露区中光学密度的降低而增加。已暴露区中光学密度可随着保留在已暴露区中的着色剂的量和消光系数及由印出剂形成的颜色的强度而增加。在未暴露区中,着色剂的量优选尽可能低且印出剂形成颜色的强度尽可能低。光学密度可以由装有数个滤光器(例如青色、品红、黄色)的光学密度计得到的反射率测量。已暴露区及未暴露区处的光学密度的差值优选至少为0.3,更优选至少为0.4,最优选至少为0.5。虽然对比度值不存在具体上限,但对比度通常不高于3.0或甚至不高于2.0。为了得到人类观测者的优良视觉对比,着色剂的颜色类型也是重要的。着色剂的颜色优选为青色或蓝色,即蓝色理解为人眼看来为蓝色的颜色。
顶层
涂层可包括充当氧阻挡层的顶层,下文中还称为“覆盖层”或“罩面层”。可用于顶层中的优选的连接料为聚乙烯醇和2003年9月22日提交的EP-A-3103498、US 6,410,205和EP 1 288 720(包括这些专利和专利申请中引用的参考文献)中公开的聚合物。最优选的顶层连接料是聚乙烯醇。聚乙烯醇的水解度优选为74%摩尔-99%摩尔。聚乙烯醇的重量平均分子量可如DIN53 015中所规定在20℃下以4%重量水溶液的粘度来测量,且该粘度值的范围优选为3-26,更优选为3-15,最优选为3-10。
顶层的涂层厚度优选为0.25-1.75g/m2,更优选0.25-1.3g/m2,最优选0.25-1.0g/m2。在本发明的一个更优选的实施方案中,顶层的涂层厚度为0.25-1.75g/m2且包含水解度为74%摩尔-99%摩尔且如上定义的粘度值为3-26的聚乙烯醇。
在一个优选的实施方案中,使顶层的组成和厚度优化,以便得到高灵敏性、优良的日光稳定性和在显影期间形成较少或不形成残渣。为了减少残渣,顶层包含较少聚乙烯醇,使用较低分子量、粘度优选小于26、更优选小于10且厚度尽可能小但大于0.25g/m2的聚乙烯醇。为了提高灵敏性,需要使用具有高水解度(优选88-98%)和较大厚度的聚乙烯醇或顶层得到的优良氧阻挡层。为了提高日光稳定性,需要通过使用具有降低氧阻挡性的氧阻挡层,优选通过使用较小厚度的顶层和较低水解度的聚乙烯醇得到较小氧渗透性。由于这些因素的优良平衡,可得到前体的最优性能。
顶层还可包含选自如上所述胶溶液的化合物的组分。
曝光
按图像曝光步骤是在印版记录机(即适于通过激光器如在约830nm发射的激光二极管、在约1060nm发射的NdYAG激光器、在约400nm发射的紫光激光器或气体激光器如Ar激光器,或通过数字调节的紫外曝光(例如借助于数字微镜器件)或通过与掩模接触的常规曝光的按图像曝光前体的曝光装置)中离机进行。在本发明一个优选的实施方案中,前体是通过发射IR光或紫光的激光器按图像曝光。
预热
在这个按图像暴露步骤后,将前体在预热单元中加热以加强或加速聚合和/或交联反应。这个预热步骤优选在约80℃-150℃下和优选约5秒到1分钟的驻留时间下进行。预热单元优选装备有加热元件,如IR灯、UV灯、热空气、热金属辊等。
根据本发明,预热单元通过机械式印版输送设备与上胶单元连接或所述两个单元集成在单个装置中(如图1、2和3示意性显示)。
洗涤
在预热步骤之后且在胶-显影步骤之前,可在预洗涤站中洗涤前体,其中可通过在前体涂层上施用洗涤液(即,水或水溶液)以除去至少部分顶层。洗涤液优选为水,更优选为自来水。
术语水性包括水或水与水混溶性有机溶剂的混合物,所述有机溶剂如醇,例如甲醇、乙醇、2-丙醇、丁醇、异戊醇、辛醇、鲸蜡醇等;二醇,例如乙二醇;甘油;N-甲基吡咯烷酮;甲氧基丙醇;和酮,例如2-丙酮和2-丁酮;等。水混溶性有机溶剂在这些混合物中的存在量可为至多50%重量,优选少于20%重量,更优选少于10%重量,最优选在水性溶液中没有有机溶剂。水性溶液还可包含溶解在或分散在水或水与水混溶性溶剂的混合物中的化合物。这类化合物可选自如上所述胶溶液的化合物。
用于该步骤的洗涤液的温度优选为15℃-85℃,更优选为18℃-65℃,最优选为20℃-55℃。
预洗涤站可包括至少一个预洗涤单元,其中洗涤液通过喷雾、喷射、浸泡或包括旋涂、辊涂、条缝涂布或凹版涂布的涂布技术或通过用浸渍垫擦入或通过手动或以自动装置浇入而施用到前体上。优选喷雾、喷射、浸泡或涂布技术。
可用于喷雾技术的喷雾喷嘴的实例有自Spraying SystemsBelgium,Brussels购得的SUJ1型空气辅助喷雾喷嘴。喷雾喷嘴可安装在喷嘴距接收底材50mm-200mm处。喷雾溶液的流速可设定为7ml/分钟。在喷雾过程中,在喷头上可使用4.80×105Pa的气压。该层可在喷雾过程中和/或喷雾过程之后干燥。可用于喷射技术的喷射喷嘴的典型实例有喷墨喷嘴和阀门喷射喷嘴。
至少一个预洗涤单元可提供有至少一个在将洗涤液施用到涂层上的同时用于擦和/或刷涂层的辊。
用于预洗涤步骤的洗涤液可收集于槽中且洗涤液可多次使用。洗涤液可通过向预洗涤单元的槽中加入新鲜水和/或新鲜水溶液而补充。所述新鲜水和新鲜水溶液分别为在之前未用于洗涤前体的水和水溶液。在一种供选方法中,洗涤液可仅使用一次,即优选通过喷雾或喷射技术仅将新鲜水或新鲜水溶液施用到涂层上。在该供选方法中优选使用自来水。
预洗涤站可包括两个或多个预洗涤单元,优选两个或三个预洗涤单元。
在本发明的一个优选的实施方案中,预洗涤站包括第一预洗涤单元和第二预洗涤单元,其中前体首先在第一预洗涤单元中洗涤且随后在第二预洗涤单元中洗涤。前体可优选通过喷雾或喷射技术首先在第一预洗涤单元中用已在第二预洗涤单元中用过的洗涤液洗涤且随后在第二预洗涤单元中用新鲜水或新鲜水溶液洗涤。在一种供选方法中,第一预洗涤单元和第二预洗涤单元优选具有级联系统构型,其中用于在第一预洗涤单元和第二预洗涤单元中洗涤前体的洗涤液分别存在于第一槽和第二槽中,且其中当向第二预洗涤单元中加入新鲜水或新鲜水溶液时第二槽的洗涤液溢流到第一槽中。
在本发明的另一实施方案中,预洗涤站可包括第一预洗涤单元、第二预洗涤单元和第三预洗涤单元,其中前体首先在第一预洗涤单元中洗涤,随后在第二预洗涤单元中洗涤且最后在第三预洗涤单元中洗涤。前体可优选通过喷雾或喷射技术首先在第一预洗涤单元中用已在第二预洗涤单元中用过的洗涤液洗涤,随后在第二预洗涤单元中用已在第三预洗涤单元中用过的洗涤液洗涤,且最后在第三预洗涤单元中用新鲜水或新鲜水溶液洗涤。在一种供选方法中,第一预洗涤单元、第二预洗涤单元和第三预洗涤单元优选具有级联系统构型,其中用于在第一预洗涤单元、第二预洗涤单元和第三预洗涤单元中洗涤前体的洗涤液分别存在于第一槽、第二槽和第三槽中,且其中当向第三预洗涤单元中加入新鲜水或新鲜水溶液时第三槽的洗涤液溢流到第二槽中且第二槽的洗涤液溢流到第一槽中。
在本发明的另一实施方案中,用于各预洗涤单元中的洗涤液还可通过除去洗涤液中存在的不溶性物质而再生。洗涤液中不溶性物质的存在可由多种原因引起,例如含颜料涂层的洗涤,洗涤液的溶剂或水的蒸发或洗涤液中组分的沉降、凝聚或絮凝。不溶性物质可通过多种技术如过滤、超滤、离心或倾析除去。用于处置废液如本发明的洗涤液的合适装置描述于EP-A 747 773中。可使该装置与预洗涤单元的槽连接以通过使用过的洗涤液经过滤器或滤膜循环而再生。洗涤液可连续地、周期性地或在洗涤时间期间经过滤器或滤膜循环,或可通过测量洗涤液的混浊度或透明度(即光学透射度)调节该循环,其中当混浊度超出上限值时开始循环且当达到下限值时停止循环。可相对于所需纯化度选择浑浊度值上限和下限,洗涤液的光学透射度通常不低于其起始值的50%,优选不低于80%,更优选不低于95%。
至少部分顶层可在洗涤步骤中除去,优选除去大于50%、更优选大于80%,最优选大于95%的顶层。可光聚合层在这个洗涤步骤中基本不浸出或溶解,其中用于这个洗涤步骤中的洗涤液不含可光聚合层的组分,可光聚合层的这些成分的浓度小于2%重量、更优选小于1%重量、最优选小于0.5%重量。在洗涤液中优选尽可能摒弃的可光聚合层的组分有可聚合单体、多官能单体、引发剂、抑制剂和/或敏化剂。
根据本发明的一个优选的实施方案,预热单元、预洗涤单元和上胶单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中(如图2示意性显示)。
胶-显影
在预热单元中进行加热步骤之后或当存在洗涤步骤时在洗涤步骤之后,前体通过将胶溶液施用到前体涂层上而在上胶站中显影,其中从载体上除去可光聚合层的非暴露区且以单个步骤使印版上胶。上胶站包括至少一个上胶单元,其中胶通过喷雾、喷射、浸泡或涂布技术或通过用浸渍垫擦入或通过手动或以自动装置浇入而施用到前体上。
可用于喷雾技术的喷雾喷嘴的实例有自Spraying SystemsBelgium,Brussels购得的SUJ1型空气辅助喷雾喷嘴。喷雾喷嘴可安装在喷嘴距接收底材50mm-200mm处。喷雾溶液的流速可设定为7ml/min。在喷雾过程中,在喷头上可使用4.80×105Pa的气压。该层可在喷雾过程中和/或喷雾过程之后干燥。可用于喷射技术的喷射喷嘴的典型实例有喷墨喷嘴和阀门喷射喷嘴。
至少一个上胶单元可提供有至少一个将胶施用到涂层上的同时用于擦和/或刷涂层的辊。用于显影步骤的胶可收集于槽中且所述胶可多次使用。胶可通过向上胶单元的槽中加入补充溶液而补充。在一种供选方法中,胶溶液可仅使用一次,即优选通过喷雾或喷射技术仅将原料胶溶液施用到涂层上。所述原料胶溶液为在之前未用于使前体显影且具有与显影开始时所用的胶溶液相同组成的胶溶液。
所述补充溶液是可选自原料胶溶液、浓胶溶液、稀胶溶液、非离子表面活性剂的溶液、水、pH范围为4-7的缓冲剂的溶液或烘烤胶。浓胶溶液或稀胶溶液分别是包含较高浓度如上定义的胶添加物的溶液或较低浓度的如上定义的胶添加物的溶液。当胶溶液中活性产物的浓度低于所需量时,浓胶溶液可作为补充溶液加入。当胶溶液中活性产物的浓度高于所需量时或当胶溶液的粘度增加时或当胶溶液的体积例如由于溶剂或水蒸发而低于所需量时,可使用稀胶溶液或水。当胶溶液需要较高浓度的表面活性剂或当需要将胶溶液的pH值控制在所需pH值下或在两个pH值范围(例如4-7)之间的所需pH值下时,可加入非离子表面活性剂溶液或缓冲剂溶液。
补充溶液的加入(即补充溶液的类型和量)可通过测量以下参数中的至少一个或其至少两个的组合来调节:如显影印版前体的数目和面积、显影时间、各上胶单元的容量(最小量和最大量)、胶溶液的粘度(或粘度增加)、胶溶液的pH(或pH改变)、胶溶液的密度(或密度增加)及胶溶液的传导性(或传导性增加)。胶溶液的密度(或密度增加)可用PAAR密度计测量。
用于该步骤的胶溶液的温度优选为15℃-85℃,更优选为18℃-65℃,最优选为20℃-55℃。
在本发明的一个优选的实施方案中,上胶站包括第一上胶单元和第二上胶单元,其中前体首先在第一上胶单元中显影且随后在第二上胶单元中显影。前体可优选通过喷雾或喷射技术首先在第一上胶单元中用已在第二上胶单元中用过的胶溶液显影且随后在第二上胶单元中用原料胶溶液显影。在一种供选方法中,第一上胶单元和第二上胶单元优选具有级联系统构型,其中用于在第一上胶单元和第二上胶单元中使前体显影的胶溶液分别存在于第一槽和第二槽中,且其中当向第二上胶单元中加入补充溶液时第二槽的胶溶液溢流到第一槽中。任选也可向第一上胶单元中加入补充溶液且这种补充溶液可与加入第二上胶单元中的补充溶液相同或为另一种补充溶液,例如稀胶溶液、非离子表面活性剂溶液或水可作为补充剂加入第一上胶单元中。
在本发明的另一实施方案中,上胶站包括第一上胶单元、第二上胶单元和第三上胶单元,其中前体首先在第一上胶单元中显影,随后在第二上胶单元中显影且最后在第三上胶单元中显影。前体可优选通过喷雾或喷射技术首先在第一上胶单元中用已在第二上胶单元中用过的胶溶液显影,随后在第二上胶单元中用已在第三上胶单元中用过的胶溶液显影且最后在第三上胶单元中用原料胶溶液显影。在一种供选方法中,第一上胶单元、第二上胶单元和第三上胶单元优选具有级联系统构型,其中用于在第一上胶单元、第二上胶单元和第三上胶单元中使前体显影的胶溶液分别存在于第一槽、第二槽和第三槽中,且其中当向第三上胶单元中加入补充溶液时第三槽的胶溶液溢流到第二槽中,且其中第二槽的胶溶液溢流到第一槽中。任选也可向第二上胶单元和/或第一上胶单元中加入补充溶液且这种补充溶液可与加入第三上胶单元中的补充溶液相同或为另一种补充溶液,例如稀胶溶液、非离子表面活性剂溶液或水可作为补充剂加入第二上胶单元或第一上胶单元中。在另一选择中,还可将两种不同的补充溶液加入一个上胶单元中,例如原料胶溶液和水。
在本发明的另一实施方案中,用于每一上胶单元中的胶溶液可通过除去存在于上胶单元的胶溶液中的不溶性物质而再生。胶溶液中不溶性物质的存在可由多种原因引起,例如含颜料涂层的显影,胶溶液的溶剂或水的蒸发或胶溶液中组分的沉降、凝聚或絮凝。不溶性物质可通过多种技术如过滤、超滤、离心或倾析连续或分批式除去。用于处置废显影液如本发明的胶溶液的合适装置描述于EP-A747 773中。可使该装置与上胶单元的槽连接以通过使胶溶液经过滤器或滤膜循环而使用过的胶溶液再生。胶溶液可连续、周期性地或在显影期间经过滤器或滤膜循环,或可通过测量胶溶液的混浊度或透明度(即光学透射度)调节该循环,其中当混浊度超出上限值时开始循环且当达到下限值时停止循环。可相对于所需纯化度选择浑浊度值上限和下限,胶溶液的光学透射度通常不低于其起始值的50%,优选不低于80%,更优选不低于95%。
根据本发明的另一优选的实施方案,预热单元、第一上胶单元和第二上胶单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中(如图3示意性显示)。
任选如图1、2和3所示的干燥单元,在这个装置中也可将它们摒弃。
干燥
胶显影步骤之后,可在干燥单元中干燥印版。印版可通过在干燥单元中加热印版而干燥,干燥单元可包括至少一个选自IR灯、UV灯、热金属辊或热空气的加热元件。印版还可用在传统显影机的干燥部分中已知的方式用热空气干燥。
根据本发明的另一优选的实施方案,预热单元、预洗涤单元(存在时)、上胶单元和干燥单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中(如图1、2和3示意性显示)。
烘烤
胶显影之后或当干燥印版时则在干燥之后,可在烘烤单元中加热印版。在本发明的一个优选的实施方案中,当在烘烤单元中加热印版时,在显影步骤中用烘烤胶溶液使前体显影且这种溶液优选通过加入补充烘烤胶来补充。所述补充烘烤胶为可选自原料烘烤胶(即具有与显影开始时所用的烘烤胶相同组成的溶液)、浓烘烤胶或稀烘烤胶(即分别具有比原料胶溶液的添加物浓度高或低的添加物的溶液)的溶液和水。
烘烤单元可包括至少一个选自IR灯、UV灯、热金属辊或热空气的加热元件。印版优选在烘烤单元中在高于150℃且低于涂料分解温度的温度下加热,更优选在200℃-295℃下加热,最优选在250℃-290℃下加热。当使用较低加热温度时,通常使用较长的加热时间,且当使用较高加热温度时,通常使用较短的加热时间。印版优选加热少于10分钟,更优选少于5分钟,最优选少于2分钟。
在本发明的一个优选的实施方案中,印版通过如EP-A 1 506 854中所述的方法加热。在本发明的另一优选的实施方案中,印版通过如WO 2005/015318中所述的方法加热。
根据本发明的另一优选的实施方案,预热单元、预洗涤单元(存在时)、上胶单元、干燥单元(存在时)和烘烤单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
在本发明的另一实施方案中,干燥步骤和加热步骤可合并成单个步骤,其中在胶显影步骤之后,使印版在集成的干燥-烘烤单元中干燥并加热。
根据本发明的另一优选的实施方案,预热单元、预洗涤单元(存在时)、上胶单元和干燥-烘烤单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
根据本发明的另一优选的实施方案,所述预热单元还通过机械式印版输送设备与所述印版记录机连接,其中使前体避开周围光,或集成在单个装置中。
实施例
铝载体S-1的制备:
0.3mm厚的铝箔通过在65℃下用含有26g/l NaOH的水溶液喷雾2秒来脱脂,并用去离子水漂洗1.5秒。随后在37℃下,在含有15g/lHCl、15g/l SO4 2-离子和5g/l Al3+离子的水溶液中使用交流电在约100A/dm2的电流密度下,用电化学方法使所述箔片糙化10秒时间。随后通过在36℃下用含有5.5g/l NaOH的水溶液蚀刻2秒将铝箔剥黑膜,并用去离子水漂洗2秒。随后使箔片在50℃和17A/dm2的电流密度下在含有145g/l硫酸的水溶液中进行阳极氧化15秒,随后用去离子水洗涤11秒,并在70℃下用含有2.2g/l聚乙烯基膦酸的溶液喷雾将它后处理3秒,用去离子水漂洗1秒,并在120℃下干燥5秒。
这样得到的载体的特点在于表面粗糙度Ra(用干涉仪NT1100测量)为0.35-0.4μm且阳极重量为3.0g/m2
光敏层P-1的制备:
光敏层P-1的涂料组合物通过混合表2所说明的成分来制备。将所得溶液涂布在载体上。涂布之后,将印版在120℃的循环炉中干燥1分钟。所得施用量为1.20g/m2
表2:光敏层溶液的组成
  组成/成分   P-1
  Koma 30(1)(g)   138.20
  FST 426R(2)(g)   8.82
  Mono Z1620(3)(g)   93.13
  Heliogene Blue D7490(4)(g)   55.97
  DISB(5)(g)   2.92
  HABI(6)(g)   4.42
  MBT(7)(g)   0.20
  Hostanox 03(8)(g)   0.34
  Edaplan LA411(9)(g)   0.68
  Dowanol PM(10)(g)   526.39
  Butanone(g)   168.92
(1)Koma 30为用偏苯三酸酯化的乙烯基丁缩醛、乙烯醇和乙酸乙烯酯的共聚物,13.9%重量,可自Clariant购得
(2)FST 426R为包含88.2%重量得自1摩尔2,2,4-三甲基-六亚甲基二异氰酸酯和2摩尔甲基丙烯酸羟乙酯的反应产物的2-丁酮溶液(25℃下粘度为3.30mm2/s)
(3)Mono Z1620为包含30.1%重量得自1摩尔六亚甲基二异氰酸酯、1摩尔甲基丙烯酸2-羟乙酯和0.5摩尔2-(2-羟乙基)-哌啶的反应产物的2-丁酮溶液(25℃下粘度为1.7mm2/s)
(4)Heliogene Blue D7490分散体(9.9%重量,25℃下粘度为7.0mm2/s),BASF的商品名,如EP 1072956所规定
(5)DISB为1,4-二[3,5-二甲氧基,4-异丁氧基-苯乙烯基]苯
(6)HABI为2,2’-双(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2-双咪唑
(7)MBT为2-巯基苯并噻唑
(8)Hostanox 03为酚类抗氧剂,可自Clariant购得
(9)Edaplan LA411为自Munzing Chemie得到的表面活性剂(10%重量的Dowanol PM
Figure A20068004226900431
(Dow Chemical Company的商标)溶液)
(10)Dowanol PM为丙二醇单甲醚,Dow Chemical Company的商标。
罩面层OC-1的制备:
在光敏层上面涂布具有表3所规定的组成的水溶液且在110℃下干燥2分钟。如此形成的保护罩面层OC-1的干厚度为1g/m2
表3:罩面层溶液的组成
  组分   OC-1
  部分水解的聚乙烯醇(水解度为88%,20℃下4%重量溶液的粘度为4mPa·s)(g)   9.73
  部分水解的聚乙烯醇(水解度为88%,20℃下4%重量溶液的粘度为8mPa·s)(g)   4.25
  完全水解的的聚乙烯醇(水解度为98%,20℃下4%重量溶液的粘度为6mPa·s)(g)   8.50
  Acticide LA1206(1)(g)   0.05
  Lupasol P(2)(g)   0.23
  Lutensol A8(3)(g)   0.22
  水(g)   977.03
(1)Acticide LA1206为杀生物剂,可自Thor购得
(2)Lupasol P为50%重量的聚乙烯亚胺的水溶液,可自BASF购得
(3)Lutensol A8(90%重量)为表面活性剂,可自BASF购得。
印版的制备
在紫印版记录机Advantage DL3850(分辨力:1270dpi)用25μJ/cm2能量使前体成像。按图像曝光之后,使印版前体在如图1所示的本发明装置中预热并显影。本发明装置的不同部分见图1。在这个实施方案中,使用三部分:预热部分、上胶单元和干燥部分。印版通过装置的传输速度为1.2米/分钟。
在预热部分中,设定110℃的印版温度(在印版前体的背侧测量)。
预热之后,使印版前体在充满胶-1溶液的上胶单元中显影。上胶单元的温度为室温。胶-1溶液的补充速率为30ml/m2
通过在Heidelberg GTO46印刷机上印刷得到展现优良清除和良好印刷而无沾色(toning)的印版。
胶-1为如下制备的溶液:
向750g去矿质水中搅拌加入
100ml Dowfax 3B2(可自Dow Chemical购得)
31.25g 1,3-苯二磺酸二钠盐(自Riedel de Haan购得)
31.25ml Versa TL77(自Alco Chemical购得的聚苯乙烯磺酸)
10.4g柠檬酸三钠二水合物
2ml的Acticide LA1206(得自Thor的杀生物剂)
2.08g的Polyox WSRN-750(自Union Carbide购得)且进一步加入去矿质水直到1000g。
pH为7.2-7.8。

Claims (13)

1.一种制作平版印刷印版的方法,所述方法包括以下步骤:
a)提供平版印刷印版前体,所述前体包括
(i)具有亲水表面或提供有亲水层的载体,
(ii)在所述载体上包括可光聚合层和任选的在可光聚合层与载体之间的中间层的涂层,
其中所述可光聚合层包含可聚合化合物、聚合引发剂和连接料,和
b)在印版记录机中通过激光器按图像暴露所述涂层,
c)在预热单元中加热所述前体,
d)在包括至少一个第一上胶单元的上胶站中通过施用胶溶液到前体涂层上处理所述前体,从而从所述载体上除去可光聚合层的非暴露区,且
其中步骤(c)和(d)是在所述预热单元和所述第一上胶单元中离机进行,且
其中所述预热单元与所述第一上胶单元通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
2.权利要求1的方法,其中所述上胶站包括第一上胶单元和至少一个第二上胶单元,其中所述前体首先在所述第一上胶单元中处理且随后在所述第二上胶单元中处理且其中步骤(c)和(d)是在所述预热单元、所述第一上胶单元和所述第二上胶单元中连续离机进行,且
其中所述预热单元、所述第一上胶单元和所述第二上胶单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
3.权利要求1的方法,其中所述上胶站包括第一上胶单元、第二上胶单元和至少一个第三上胶单元,其中所述前体首先在所述第一上胶单元中处理,随后在所述第二上胶单元中处理且随后在所述第三上胶单元中处理,其中步骤(c)和(d)是在所述预热单元、所述第一上胶单元、所述第二上胶单元和所述第三上胶单元中连续离机进行,且
其中所述预热单元、所述第一上胶单元、所述第二上胶单元和所述第三上胶单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
4.前述权利要求中任一项的方法,其中所述方法包括在步骤(d)之后的在干燥单元中干燥所述印版的另一步骤(e),且其中步骤(c)、(d)和(e)是在所述预热单元、所述第一上胶单元、当其存在时的所述其他上胶单元和所述干燥单元中连续离机进行,且
其中所述预热单元、所述第一上胶单元、当其存在时的所述其他上胶单元和所述干燥单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
5.权利要求4的方法,其中所述方法包括在步骤(e)之后的在烘烤单元中加热所述印版的另一步骤(h),且其中步骤(c)、(d)、(e)和(h)是在所述预热单元、所述第一上胶单元、当其存在时的所述其他上胶单元、所述干燥单元和所述烘烤单元中连续离机进行,且
其中所述预热单元、所述第一上胶单元、当其存在时的所述其他上胶单元、所述干燥单元和所述烘烤单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
6.权利要求5的方法,其中所述步骤(e)和所述步骤(h)由在干燥-烘烤单元中加热所述印版的单个步骤(eh)替代,从而干燥并烘烤所述印版,且其中步骤(c)、(d)和(eh)是在所述预热单元、所述第一上胶单元、当其存在时的所述其他上胶单元和所述干燥-烘烤单元中连续离机进行,且
其中所述预热单元、所述第一上胶单元、当其存在时的所述其他上胶单元和所述干燥-烘烤单元以此顺序通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
7.前述权利要求中任一项的方法,其中所述涂层还包括在所述可光聚合层上的顶层且其中所述方法还包括在步骤(c)之后且在步骤(d)之前的在包括至少一个预洗涤单元的预洗涤站中洗涤所述印版的另一步骤(w),其中将水或水溶液施用到所述前体上,从而除去至少一部分顶层,且
其中用于执行所述步骤的所述单元通过机械式印版输送设备彼此连接或集成在单个装置中。
8.前述权利要求1至6中任一项的方法,其中所述涂层不含充当所述可光聚合层上的氧阻挡层的顶层。
9.前述权利要求中任一项的方法,其中所述可光聚合层还包含聚合物颗粒。
10.前述权利要求中任一项的方法,其中所述印版记录机还通过机械式印版输送设备与所述预热单元连接,其中使所述前体避开周围光,或集成在单个装置中。
11.前述权利要求中任一项的方法,其中所述胶溶液的pH值为3-9。
12.前述权利要求中任一项的方法,其中所述激光器发射紫光。
13.权利要求1-11中任一项的方法,其中所述激光器发射红外光。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103080844A (zh) * 2010-08-13 2013-05-01 Az电子材料Ip(日本)株式会社 光刻用清洗液以及使用其的图案形成方法
WO2018033115A1 (zh) * 2016-08-19 2018-02-22 浙江康尔达新材料股份有限公司 一种可成像涂层、热敏阴图平版印刷版及其制版方法
CN111033691A (zh) * 2017-08-30 2020-04-17 富士胶片株式会社 输送型清洗装置
WO2023071054A1 (zh) * 2021-10-26 2023-05-04 浙江康尔达新材料股份有限公司 一种光敏阴图型平版印刷版前体及其利用该前体形成平版印刷版制版方法

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009069761A (ja) * 2007-09-18 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
US7763413B2 (en) 2007-10-16 2010-07-27 Eastman Kodak Company Methods for imaging and processing negative-working imageable elements
US8323874B2 (en) 2008-01-22 2012-12-04 Eastman Kodak Company Method of making lithographic printing plates
PL2105799T3 (pl) * 2008-03-26 2012-07-31 Agfa Nv Sposób wytwarzania litograficznych płyt drukarskich
EP2304505B1 (en) 2008-07-16 2012-09-19 Agfa Graphics N.V. A method for preparing lithographic printing plate precursors
EP2186637B1 (en) 2008-10-23 2012-05-02 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate
JP2010197620A (ja) 2009-02-24 2010-09-09 Fujifilm Corp 平版印刷版原版の自動現像装置及び処理方法
JP2011090294A (ja) 2009-09-24 2011-05-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2011221522A (ja) 2010-03-26 2011-11-04 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2012073595A (ja) 2010-08-31 2012-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2012073594A (ja) 2010-08-31 2012-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
EP4239411A1 (en) 2022-03-04 2023-09-06 Eco3 Bv Method and apparatus for processing a lithographic printing plate precursor

Family Cites Families (83)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE635804A (zh) 1962-03-21
US3953225A (en) * 1973-08-08 1976-04-27 Buckler Industries, Inc. Basic unit processor for offset plates and method of processing them
CH613059A5 (en) 1975-06-30 1979-08-31 Hoechst Ag Method for producing a flat-bed printing forme
GB2036993B (en) * 1978-02-06 1983-03-09 Napp Systems Inc Desensitizing solution and process for treating a diazo photosensitive printing plate
US4190345A (en) * 1978-07-14 1980-02-26 Scott Paper Company Lithographic plate processing apparatus
US4252887A (en) 1979-08-14 1981-02-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
US4370406A (en) * 1979-12-26 1983-01-25 Richardson Graphics Company Developers for photopolymer lithographic plates
US4459349A (en) 1981-03-27 1984-07-10 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition
US4410621A (en) 1981-04-03 1983-10-18 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
JPS5956403A (ja) 1982-09-27 1984-03-31 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
DE3404366A1 (de) 1984-02-08 1985-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3410522A1 (de) 1984-03-22 1985-10-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten und verfahren zur herstellung einer offsetdruckform
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
DE3539992A1 (de) 1985-11-12 1987-05-14 Hoechst Ag Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten
JPH065384B2 (ja) 1986-06-12 1994-01-19 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
JPS639442A (ja) 1986-06-28 1988-01-16 園部 尚俊 投薬の自動監査調剤方法及びその装置
JPS63109442A (ja) * 1986-10-27 1988-05-14 Konica Corp ネガ型とポジ型を共通に安定に処理できる感光材料の処理方法
US4873174A (en) * 1988-02-03 1989-10-10 Hoechst Celanese Corporation Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates
DE3832032A1 (de) 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3938108A1 (de) * 1989-11-16 1991-05-23 Hoechst Ag Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten mit deckschicht sowie verfahren zur herstellung von druckformen
US6010824A (en) 1992-11-10 2000-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same
WO1996020434A1 (en) 1994-12-27 1996-07-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method and apparatus for treating developer for pigment-containing nonsilver photosensitive material, and automatic developing machine
US5629354A (en) 1995-02-28 1997-05-13 Eastman Kodak Company Photopolymerization initiator system comprising a spectral sensitizer and a polycarboxylic acid co-initiator
US5925497A (en) 1995-04-27 1999-07-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
JPH09239942A (ja) 1996-03-08 1997-09-16 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要平版印刷原版及びその製版方法
US6514668B1 (en) 1996-12-26 2003-02-04 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive lithographic printing plate
EP0869393B1 (en) 1997-03-31 2000-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
US6218076B1 (en) 1997-08-26 2001-04-17 Showa Denko K.K. Stabilizer for organic borate salts and photosensitive composition containing the same
US6232038B1 (en) 1998-10-07 2001-05-15 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it
KR100521301B1 (ko) * 1998-10-27 2005-10-14 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 마이크로리소그래피를 위한 포토레지스트 및 방법
EP1025992B1 (en) 1999-02-02 2003-07-23 Agfa-Gevaert A method for making positive printing plates
DE19915717A1 (de) 1999-04-08 2000-10-12 Agfa Gevaert Ag Aufzeichnungsmaterial mit pigmentgefärbter strahlungsempfindlicher Schicht
DE10022786B4 (de) 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
US6071675A (en) 1999-06-05 2000-06-06 Teng; Gary Ganghui On-press development of a lithographic plate comprising dispersed solid particles
DE19933139A1 (de) 1999-07-19 2001-01-25 Agfa Gevaert Ag Stabile Pigmentdispersion und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE19940921A1 (de) 1999-08-27 2001-03-01 Agfa Gevaert Ag Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19944073A1 (de) 1999-09-14 2001-03-15 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit Deckschicht
JP4037015B2 (ja) 1999-09-22 2008-01-23 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、画像形成材料及び平版印刷版用版材
US6558873B1 (en) 1999-10-05 2003-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
US6245481B1 (en) 1999-10-12 2001-06-12 Gary Ganghui Teng On-press process of lithographic plates having a laser sensitive mask layer
DE60143890D1 (de) 2000-07-06 2011-03-03 Cabot Corp Druckplatten mit modifizierten pigmentprodukten
US6482571B1 (en) 2000-09-06 2002-11-19 Gary Ganghui Teng On-press development of thermosensitive lithographic plates
US6576401B2 (en) 2001-09-14 2003-06-10 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic plates utilizing an onium or borate salt initiator
US6548222B2 (en) 2000-09-06 2003-04-15 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic printing plates
US6387595B1 (en) 2000-10-30 2002-05-14 Gary Ganghui Teng On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat
JP4098483B2 (ja) 2001-03-12 2008-06-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4266077B2 (ja) 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7261998B2 (en) 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
US6893797B2 (en) 2001-11-09 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc High speed negative-working thermal printing plates
US6723493B2 (en) 2001-06-04 2004-04-20 Gary Ganghui Teng Negative lithographic printing plate comprising a specific compound in the photosensitive layer
US6649319B2 (en) * 2001-06-11 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method of processing lithographic printing plate precursors
US6590817B2 (en) 2001-07-23 2003-07-08 Micron Technology, Inc. 6F2 DRAM array with apparatus for stress testing an isolation gate and method
EP1288720B1 (en) 2001-08-29 2012-02-01 FUJIFILM Corporation Plate-making method of printing plate
JP2003252939A (ja) 2002-03-01 2003-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US7316891B2 (en) * 2002-03-06 2008-01-08 Agfa Graphics Nv Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution
EP1342568B1 (en) 2002-03-06 2005-10-12 Agfa-Gevaert N.V. Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution
EP1349006B1 (en) 2002-03-28 2013-09-25 Agfa Graphics N.V. Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm.
US7172850B2 (en) 2002-04-10 2007-02-06 Eastman Kodak Company Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element
US7659046B2 (en) 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
JP4238523B2 (ja) 2002-05-29 2009-03-18 コニカミノルタホールディングス株式会社 感光性平版印刷版材料の処理方法
US20040009426A1 (en) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared photosensitive composition and image recording material for infrared exposure
JP2004012706A (ja) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
CN1469194A (zh) * 2002-06-24 2004-01-21 富士胶片株式会社 制备平板印刷版的方法
US6902865B2 (en) 2002-07-22 2005-06-07 Gary Ganghui Teng Non-alkaline aqueous development of thermosensitive lithographic printing plates
US7052418B2 (en) 2002-11-26 2006-05-30 Lifetime Products, Inc. Basketball backboard
WO2004095141A1 (en) * 2003-04-24 2004-11-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Method and apparatus for refreshment and reuse of loaded developer
JP2005014348A (ja) 2003-06-25 2005-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP4418714B2 (ja) 2003-07-10 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
CN1839354B (zh) 2003-07-17 2010-09-29 柯达彩色绘图有限责任公司 处理成像材料的设备及方法
DE602004030519D1 (de) 2003-07-22 2011-01-27 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches Druckverfahren
EP1506854B1 (en) 2003-08-13 2008-04-23 Agfa Graphics N.V. Method for postbaking a lithographic printing plate
JP2005067006A (ja) 2003-08-22 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
JP2005084092A (ja) * 2003-09-04 2005-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
US20050170282A1 (en) 2004-01-23 2005-08-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2005305740A (ja) * 2004-04-20 2005-11-04 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体、その製造方法及び感光性平版印刷版材料
CN1981239B (zh) 2004-05-06 2011-01-26 爱克发印艺公司 感光聚合物印刷版前体
WO2005111727A1 (en) * 2004-05-19 2005-11-24 Agfa-Gevaert Method of making a photopolymer printing plate
US20080311524A1 (en) 2004-07-08 2008-12-18 Agfa Graphics N.V. Method For Making Negative-Working Heat-Sensitive Lithographic Printing Plate Precursor
JP2008515014A (ja) * 2004-10-01 2008-05-08 アグファ・ゲヴェルト・ナームロゼ・ベンノートチャップ 平版印刷版の製造方法
DE602005005804T2 (de) 2005-06-21 2009-04-09 Agfa Graphics N.V. Wärmeempfindliches Bildaufzeichnungselement

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103080844A (zh) * 2010-08-13 2013-05-01 Az电子材料Ip(日本)株式会社 光刻用清洗液以及使用其的图案形成方法
CN103080844B (zh) * 2010-08-13 2015-05-13 默克专利有限公司 光刻用清洗液以及使用其的图案形成方法
WO2018033115A1 (zh) * 2016-08-19 2018-02-22 浙江康尔达新材料股份有限公司 一种可成像涂层、热敏阴图平版印刷版及其制版方法
US11220098B2 (en) 2016-08-19 2022-01-11 Zhejiang Konita New Materials Co., Ltd. Imageable coating layer, thermal negative-working lithography printing plate, and platemaking method therefor
CN111033691A (zh) * 2017-08-30 2020-04-17 富士胶片株式会社 输送型清洗装置
CN111033691B (zh) * 2017-08-30 2024-03-08 富士胶片株式会社 输送型清洗装置
WO2023071054A1 (zh) * 2021-10-26 2023-05-04 浙江康尔达新材料股份有限公司 一种光敏阴图型平版印刷版前体及其利用该前体形成平版印刷版制版方法

Also Published As

Publication number Publication date
US8092983B2 (en) 2012-01-10
CN101322075B (zh) 2011-08-10
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PL1788442T3 (pl) 2011-01-31
EP2214056B1 (en) 2012-12-26
EP2214056A2 (en) 2010-08-04
ATE475908T1 (de) 2010-08-15
DE602005022594D1 (de) 2010-09-09
WO2007057336A1 (en) 2007-05-24
US20080274427A1 (en) 2008-11-06
EP1788442A1 (en) 2007-05-23

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