CN1469194A - 制备平板印刷版的方法 - Google Patents

制备平板印刷版的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1469194A
CN1469194A CNA031487254A CN03148725A CN1469194A CN 1469194 A CN1469194 A CN 1469194A CN A031487254 A CNA031487254 A CN A031487254A CN 03148725 A CN03148725 A CN 03148725A CN 1469194 A CN1469194 A CN 1469194A
Authority
CN
China
Prior art keywords
acid
alkaline
printing plate
alkyl
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA031487254A
Other languages
English (en)
Inventor
长濑博幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of CN1469194A publication Critical patent/CN1469194A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/04Intermediate layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/14Multiple imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/06Preparing for use and conserving printing surfaces by use of detergents

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

提供了一种制备平板印刷版的方法,该方法可以将由成像层组分在制版过程中产生的不溶物很好地分散开,从而抑制了处理浮渣的产生,同时维持了良好的显影性,而且,还可以提供对版上的树胶没有排斥性的版,并改善了涂胶表面的状态。该制备平板印刷版的方法包括:将成像层中含红外吸收染料的光敏平板印刷版原版曝光,并用碱性显影剂显影曝光的光敏平板印刷版原版,其中碱性显影剂包括含磺酸盐基的阴离子表面活性剂。

Description

制备平板印刷版的方法
技术领域
本发明涉及一种从所谓的直接数字平板印刷版原版制备平板印刷版的方法,该印刷版原版可以通过基于计算机等的数字信号的红外激光扫描直接制造。其中使用特殊的碱性显影剂。
背景技术
激光器最近发展显著。特别是对于发射光区从红外到远红外范围的固体激光器和半导体激光器,其高输出和小体积的激光器已经变得很容易获得,这些激光器非常适用于在从数字数据直接制版的体系中作为曝光光源。
至于适合于激光记录的图像记录材料,JP-A-7-285275(此处所用的术语“JP-A”是指“未审查的公布的日本专利申请”)建议,例如这样一种正像记录材料,该材料含诸如甲酚树脂的粘合剂,吸收光产生热量的物质,和可热分解且可以在分解前明显降低粘合剂溶解度的物质,例如醌二叠氮。
在这种图象记录材料中,曝光区的吸光产热物质通过红外照射使记录区可溶解于碱(加热模式类型)。但是,用载体的铝吸收热量使加热效率低,导致显影过程中曝光区在碱性显影剂中的溶解度不足。因此,需要增加显影溶液的碱浓度来保证曝光区的溶解度。
但是,加热模式类型平板印刷原版在上述这种浓碱条件下其图象区的抗碱显影剂溶解性低,具有如下问题:在图像记录材料表面存在的轻微刮痕使图象区被溶解,从而在图象区产生缺陷。特别是在使用在碱性水溶液中具有高溶解度的聚合物的正像平板印刷原版中,这种趋势更加明显。
因此,显影溶液碱浓度的增加是有限度的,以在非图像区不产生残留的膜。
而且,随着近来红外激光曝光类型图象记录材料的发展,倾向于使用与常规的红外吸收染料相比难溶于碱性显影剂的红外吸收染料,例如花青染料。当用碱性显影剂对这种图象记录材料进行显影时,有在显影液中形成红外吸收染料不溶物的倾向。这种不溶物通过和粘合剂聚合物组分和水中的无机物反应进一步形成了不溶物,造成不溶物的聚集和凝结沉积,在连续处理中产生处理浮渣,这是使处理不稳定的一个因素。
具体而言,不溶物产生了如下缺点:不溶物附着在版上而损害图象,或者不溶物在处理浴液中沉淀或分离造成处理浴液维持负担。例如,当进行燃烧处理时,由于在这种条件下处理浮渣附着在非图象区上,还有附着物碳化在印刷品上产生污点的不利之处。
而且,在红外激光曝光类型图象记录材料中,有时在光敏材料中使用氟化合物,以致在版上容易发生胶质排斥性。因此,遇到这样的问题:版上胶质部分被排斥,导致印刷污点,而胶所覆盖的部分相对较厚造成油墨吸附性差。
因而需要提供这样一种版,能够避免上述处理浮渣造成的缺点和胶排斥性问题,并形成在图象区没有缺陷的高明锐和清晰图象。特别是要求增加锐度并改善含点部分或细线的精细图象的重现性。
发明内容
发明概述
本发明的一个目的是提供一种制备平板印刷版的方法,使用该方法抑制了在制版操作中产生的处理浮渣,防止了处理浮渣吸附在版上,或在处理液中沉淀或分离,可以长期稳定地进行显影,可以制备出没有胶排斥性的干版,并可以获得高明锐和清晰图象。
为了实现上述目标,本发明者进行了深入细致的研究,结果发现:向显影液中加入含磺酸盐基的阴离子表面活性剂(含磺酸盐基的阴离子表面活性剂),可以在处理中抑制处理浮渣的产生,同时维持适合于显影液的液体条件,并解决了版上胶排斥性的问题,能够提供改善了涂胶表面状态的版,从而完成了本发明。特别是,发明人发现含特定磺酸盐基的阴离子表面活性剂具有如下特性:这种表面活性剂在处理浮渣组分的分散性方面极好,易溶于高碱浓度的显影液,而且在溶液浑浊方面问题较少。
也就是说,本发明如下:
(1)一种制备平板印刷版的方法,包括:
将成像层中含红外吸收染料的光敏平板印刷版原版曝光;和
用碱性显影剂显影曝光的光敏平板印刷版原版,其中碱性显影剂包括含磺酸盐基的阴离子表面活性剂。
(2)根据(1)条中的方法,其中阴离子表面活性剂是由如下通式表示的阴离子表面活性剂:
Figure A0314872500061
其中R1和R2每个独立地表示氢原子或可以带支链的烷基,M表示一价碱金属。
(3)根据(1)条中的方法,其中碱性显影剂包含:至少一种碱性硅酸盐和一种非还原性糖;以及碱。
(4)根据(1)条中的方法,其中碱性显影剂的pH为12.5~14.0。
(5)根据(1)条中的方法,其中碱性显影剂包含二氧化硅和碱性氧化物:M2O,其中M代表碱金属或铵基。
(6)根据(5)条中的方法,其中二氧化硅和碱性氧化物:M2O的混合比例为0.5~3.0。
(7)根据(1)条中的方法,其中红外吸收染料包括至少一种花青染料、方鎓(squalirium)染料、吡喃鎓盐和镍硫醇盐配合物。
(8)根据(1)条中的方法,其中红外吸收染料包括通式(Z)表示的化合物:
Figure A0314872500062
其中R21~R24每个独立地表示氢原子,或含1~12个碳原子的烷基,链烯基,烷氧基,环烷基或芳基,每一种都可以有取代基,而R21和R22、R23和R24可以相互结合成环结构;R25~R30每个独立地表示含1~12个碳原子的烷基,每个烷基可以有取代基;R31~R33每个独立地表示氢原子,卤素原子或含1-8个碳原子的烷基(可以有取代基),R32可以和R31或R33结合成环结构,而且,当m大于2时,多个R32可以相互结合成环结构;m表示1~8的整数;R34和R35每个独立地表示氢原子,卤素原子或含1~8个碳原子的烷基(可以有取代基),R34可以和R35结合成环结构,而且,当m大于2时,多个R34可以相互结合成环结构;X-表示阴离子。
(9)根据(1)条中的方法,其中成像层包含红外吸收染料的数量占成像层总固体重量的0.01~50%。发明详述
首先描述本发明制版方法所用的碱性显影剂。
处理中所用的碱性显影剂(以后也简称为显影液)是碱性水溶液,可以适当地从常规的水性碱液中选择。
水性碱液包括含碱性硅酸盐或非还原性糖和碱的显影液,特别优选pH为12.5~14.0的显影液。
碱性硅酸盐是溶解在水中显示出碱性的化合物,其实例包括诸如硅酸钠、硅酸钾和硅酸锂的碱金属硅酸盐和硅酸铵。
可以单独使用碱性硅酸盐,或者将它们两种或多种结合在一起使用。
可以通过调节作为硅酸盐组分的二氧化硅:SiO2和碱性氧化物:M2O(M表示碱金属或铵基)的混合比例和浓度很容易地控制水性碱溶液的显影性。
上述碱性溶液中,优选二氧化硅SiO2和碱性氧化物M2O的混合比例(SiO2/M2O摩尔比)为0.5~3.0,更优选混合比例为0.75~1.5。
当SiO2/M2O比例不足0.5时,因为碱性变强了,一般用作平板印刷版原版载体的铝板被蚀刻的副作用有时会显露出来。另一方面,超过3.0有时导致显影性能变差。
而且,优选显影液中碱性硅酸盐浓度为水性碱液重量的1%~10%,更优选为3%~8%,最优选为4%~7%重量。当浓度小于1%重量时,在某些情况下降低了显影性和处理能力。另一方面,当浓度超过10%重量时,易形成沉淀或结晶,而且在中和废液中易出现胶凝作用,有时会造成废液处理上的不利情况。
在含非还原性糖和碱的显影液中,非还原性糖是指由于不含醛基或酮基而没有还原性的糖类。非还原性糖分为三类,海藻糖类低聚糖,其中还原基相互键合在一起;苷,其中糖的还原基和非糖键合;以及通过氢化作用还原糖类而获得的糖醇。本发明中,可以适当采用任一种类的糖类。
海藻糖类低聚糖包括,例如蔗糖和海藻糖,而苷包括,例如,烷基苷、苯酚苷和芥子油苷。
糖醇包括,例如,D-、L-阿糖醇,核糖醇,木糖醇,D-、L-山梨糖醇,D-、L-甘露糖醇,D-、L-艾杜糖醇,D-、L-塔罗糖醇,半乳糖醇和异半乳糖醇。而且,其优选实例包括通过二糖加氢获得的多元糖醇和通过低聚糖加氢得到的还原产物(还原的淀粉糖浆)。
上述糖中,优选糖醇和蔗糖作为非还原性糖,其中更优选D-山梨糖醇、蔗糖和还原的淀粉糖浆,因为它们在中等pH区间内有缓冲作用。
这些非还原性糖可以单独使用,或者两种或多种结合使用。非还原性糖在显影液中所占的比例优选为0.1%~30%重量,更优选为1%~20%重量。
可以从已知的试剂中适当地选择碱性试剂作为碱,和上述的碱性硅酸盐或非还原性糖结合使用。
碱性试剂包括,例如,无机碱性试剂,诸如氢氧化钠,氢氧化钾,氢氧化锂,磷酸三钠,磷酸三钾,磷酸三铵,磷酸氢二钠,磷酸氢二钾,磷酸氢二铵,碳酸钠,碳酸钾,碳酸铵,碳酸氢钠,碳酸氢钾,碳酸氢铵,硼酸钠,硼酸钾和硼酸铵,柠檬酸钾,柠檬酸三钾和柠檬酸钠。
碱性试剂的优选实例还包括有机碱性试剂,例如一甲胺,二甲胺,三甲胺,一乙胺,二乙胺,三乙胺,一异丙胺,二异丙胺,三异丙胺,正-丁胺,一乙醇胺,二乙醇胺,三乙醇胺,一异丙醇胺,二异丙醇胺,乙亚胺,乙二胺和吡啶。
这些碱性试剂可以单独使用或两种或多种结合使用。
其中优选氢氧化钠和氢氧化钾。原因在于通过调整其加入到非还原性糖中的数量,可以在宽的pH范围内调节pH值。此外,磷酸三钠、磷酸三钾、碳酸钠和碳酸钾也是优选的,因为他们本身具有缓冲作用。
本发明使用的显影剂中,上述的包含有带磺酸盐基的阴离子表面活性剂的水性碱液是必不可少的。
阴离子表面活性剂的优选实例包括羟基链烷磺酸盐,链烷磺酸盐,烷基二苯基醚磺酸盐,由如下通式表示的二苯基醚二磺酸盐,二烷基硫代琥珀酸酯盐,烯烃磺酸盐,直链烷基苯磺酸盐,支化的烷基苯磺酸盐,烷基萘磺酸盐,烷基苯氧聚氧乙烯丙基磺酸盐,聚氧乙烯烷基硫代苯基醚盐,N-烷基硫代琥珀一酰胺二钠盐和石油磺酸盐。其中R1和R2每个独立地表示氢原子或可以被支化的烷基,M表示一价碱金属。
优选烷基是含1~40个碳原子的烷基,特别是4~20个碳原子的烷基。其具体实例包括nC8H17和nC12H25。尽管碱金属可以是任意的,其中优选钠、钾和锂。
特别优选的这些化合物的实例包括具有如下结构的化合物。这些化合物可以单独使用或者两种或多种组合使用。其中,为了在显影剂运行结束状态防止处理浮渣粘附,优选在分子中具有两个磺酸盐基的化合物,下列化合物(A-1)-(A-4)是更优选的:
Figure A0314872500092
在本发明中,碱性显影剂优选含有浓度为0.01-10g/L,更优选0.05-3g/L的含磺酸盐基的阴离子表面活性剂。
为了进一步增强显影性能,可以向碱性显影剂中加入下述的添加剂。
添加剂包括,例如,中性盐,如JP-A-58-75152中所述的NaCl、KCl和KBr,螯合剂,如JP-A-58-190952中所述的EDTA和NTA,配合物,如JP-A-59-121336中所述的[Co(NH3)6]Cl3和CoCl2·6H2O,非离子表面活性剂,如U.S.P4,374,920所述的四甲基癸炔二醇,阳离子聚合物,如JP-A-55-95946中所述的对-二甲基氨基甲基聚苯乙烯的氯代甲基四级化合物,两性聚合物电解质,如乙烯基苄基三甲基氯化铵和丙烯酸钠共聚物,还原性无机盐,如JP-A-57-192951中所述的亚硫酸钠,无机锂化合物,如JP-A-58-59444中所述的氯化锂,有机金属表面活性剂,如JP-A-59-75255中所述的有机Si表面活性剂和有机Ti表面活性剂,JP-A-59-84241中所述的有机硼化合物,以及诸如EP101010中所述的四烷基铵氧化物的季铵盐。
而且,显影液的表面张力优选为65达因/cm或更小,更优选小于等于60达因/cm。显影液的表面张力可以用例如振动喷射法来测量。作为测量仪器,有自动动态表面张力仪(喷射型)。
本发明对碱性显影剂的使用方式没有特别的限制。
近年来,为了使制版操作合理化和标准化,制版材料自动处理机得到了广泛的应用,特别是在制版印刷行业。
自动处理机一般包括显影单元和后处理单元,还包括传送印刷版材料的仪器,各个处理液池和喷射装置。将各个泵上来的处理液从喷嘴喷射到曝光的印刷版上,同时水平传送印刷版。最近,还有一种已知的方法,是用安装在液体中的导向辊在传送印刷版的同时将其浸泡在充满处理液的处理液池中进行处理。在这种自动处理中,可以在处理印刷版材料的同时,根据处理量和操作时间向各个处理液中补充补充液。
在这种情况下,向显影液中加入碱性强度高于显影液的水溶液作为补充液,从而能够无需更换池中的显影液就可以长期处理大量的成像材料。还有,在使用本发明的碱性显影剂时,优选的实施方案是采用这种补充体系。至于在这种情况下使用的补充液,可以使用提高上述碱性显影剂的碱性强度而获得的水溶液。
为了增强和抑制显影性能,增加处理浮渣的分散性和印刷版图象区的油墨亲和性,还可以根据需要向显影液和显影液补充液中加入除上述有机试剂外的多种表面活性剂和有机溶剂。
至于有机溶剂,优选苄醇。而且,还优选加入聚乙二醇或其衍生物,或者聚丙二醇或其衍生物。
还可以根据需要加入氢醌,间苯二酚,诸如亚硫酸或亚硫酸氢钠或钾盐的无机盐基还原剂,有机羧酸,消泡剂或水软化剂。
本发明的制版方法还可以和上述显影系统一样用于显影所谓的可易处理的处理系统,该系统中是用基本新鲜的显影液来进行处理。
用含洗涤水和表面活性剂的漂洗液,并用含阿拉伯胶和淀粉衍生物的去敏液(胶溶液)对用上述碱性显影剂显影的平板印刷版进行后处理。可以将这些已知的处理液进行多种组合来进行这种后处理。
下面将描述可用于本发明制版方法的平板印刷版原版。
红外光敏平板印刷版原版包括载体,载体上根据需要有成像层和其他层。成像层包括(A)红外吸收染料,(B1)可溶于碱的含羧基的聚合物,(B2)可溶于碱的树脂,(C)可以和(B1)的可溶于碱的聚合物及(B2)的可溶于碱的树脂相混溶以降低可溶于碱的聚合物及可溶于碱的树脂溶解度的化合物,该化合物在加热时溶解度-降低作用会减弱,和(D)环酸酐。在负像平板印刷版原版中,成像层还包括(E)加热产生酸的化合物和(F)酸交联的交联剂。
下面简要描述各个成分。
(A)红外吸收染料
用于成像层的红外吸收染料没有特别的限制,只要能够吸收红外光并产生热量就行。可以使用多种已知的红外吸收染料。
红外吸收染料包括可购买的染料和文献中所述的已知染料(例如,“Senryo Binran(染料手册)”(Yuki Gosei Kagaku Kyokai编辑(OrganicSynthetic Chemical Society),1970),例如,偶氮染料,金属配合物偶氮染料,吡唑啉酮偶氮染料,萘醌染料,蒽醌染料,酞菁染料,碳鎓染料,醌亚胺染料,次甲基染料,花青染料,方鎓染料,吡喃鎓盐和金属硫醇盐配合物。这些染料中,特别优选吸收红外光或近红外光的染料,因为它们适合采用发射红外光或近红外光的激光器。
这种吸收红外光或近红外光的染料的优选实例包括:JP-A-58-125246、JP-A-59-84356和JP-A-60-78787中所述的花青染料,JP-A-58-173696、JP-A-58-181690和JP-A-58-194595中所述的次甲基染料,JP-A-58-112793、JP-A-58-224793、JP-A-59-48187、JP-A-59-73996、JP-A-60-52940和JP-A-60-63744中所述的萘醌染料,JP-A-58-112792中所述的方鎓染料,英国专利434,875所述的花青染料和U.S.P5,380,635所述的二氢萘嵌间二氮杂苯方鎓(dihydroperimidinesqualilium)染料。
而且,还优选U.S.P5,156,938中所述的近红外吸收感光剂作为染料。还优选U.S.P3,881,924中所述的芳基苯并(硫代)吡喃鎓盐,JP-A-57-142645(U.S.P4,327,169)中所述的三次甲基噻吡喃鎓盐,JP-A-58-181051、JP-A-58-220143、JP-A-59-41363、JP-A-59-84248、JP-A-59-84249、JP-A-59-146063和JP-A-59-146061中所述的吡喃鎓化合物,JP-A-59-216146中所述的花青染料,U.S.P4,283,475中所述的五次甲基硫代吡喃鎓盐,JP-B-13514(此处所用的术语“JP-B”是指“已审查的日本专利出版物”)和JP-B-5-19702中所述的吡喃鎓化合物,以及可商购的Epolight III-178、Epolight III-130、Epolight III-125和Epolight IV-62A(Epolin Inc.制造)。
此外,还优选U.S.P4,756,99中所述的式(I)和(II)表示的近红外吸收染料。
上述染料中,更优选花青染料、方鎓染料、吡喃鎓盐和镍硫醇盐配合物。
更具体而言,染料包括如下通式(Z)表示的化合物:
Figure A0314872500131
其中R21~R24每个独立地表示氢原子,或含1-12个碳原子的烷基,链烯基,烷氧基,环烷基或芳基,每一种都可以有取代基,而R21和R22、R23和R24可以相互结合成环结构。
R21~R24包括,例如,氢原子,甲基,乙基,苯基,十二烷基,萘基,乙烯基,烯丙基和环己基,这些基团每个还可以有取代基。此处所用的取代基包括,例如,卤素原子,羰基,硝基,腈基,磺酰基,羧基,羧酸盐和磺酸盐。
通式中,R25~R30每个独立地表示含1-12个碳原子的烷基,每个烷基可以有取代基。R25~R30包括,例如,甲基,乙基,苯基,十二烷基,萘基,乙烯基,烯丙基和环己基,这些基团每个还可以有取代基。此处所用的取代基包括,例如,卤原子,羰基,硝基,腈基,磺酰基,羧基,羧酸盐和磺酸盐。
通式中,R31~R33每个独立地表示氢原子,卤原子或含1-8个碳原子的烷基(可以有取代基)。R32可以和R31或R33结合成环结构,而且当m大于2时,多个R32可以相互结合成环结构。
R31~R33包括,例如,氯原子,环己基,和R32结合形成的环戊或环己环,这些基团每个还可以有取代基。此处所用的取代基包括,例如,卤原子,羰基,硝基,腈基,磺酰基,羧基,羧酸盐和磺酸盐。
而且,m表示1~8的整数,优选1~3的整数。
通式中,R34和R35每个独立地表示氢原子,卤原子,或含1~8个碳原子的烷基(可以有取代基)。R34可以和R35结合成环结构,当m大于2时,多个R34可以相互结合成环结构。
R34和R35包括,例如,氯原子,环己基,和R34结合形成的环戊或环己环,这些基团每个还可以有取代基。此处所用的取代基包括,例如,卤原子,羰基,硝基,腈基,磺酰基,羧基,羧酸盐和磺酸盐。
而且,m表示1~8的整数,优选1~3的整数。
通式中,X-表示阴离子,其实例包括高氯酸,四氟硼酸,六氟磷酸,三异丙基萘磺酸,5-硝基-邻-甲苯磺酸,5-磺基水杨酸,2,5-二甲基苯磺酸,2,4,6-三甲基苯磺酸,2-硝基苯磺酸,3-氯苯磺酸,3-溴苯磺酸,2-氟-辛基萘磺酸,十二烷基苯磺酸,1-萘酚-5-磺酸,2-甲氧基-4-羟基-5-苯甲酰基-苯磺酸和对-甲苯磺酸。
其中,优选烷基芳香族磺酸,例如六氟磷酸,三异丙基萘磺酸和2,5-二甲基苯磺酸。
上述通式(Z)表示的化合物中,具体而言,如下所示的化合物是适合使用的。但是,应当理解化合物并不局限于此。
Figure A0314872500141
花青染料A花青染料B
Figure A0314872500143
花青染料C
Figure A0314872500144
花青染料D
Figure A0314872500151
花青染料E
上述红外吸收染料的含量优选占成像层固体总重的0.01%~50%,更优选占0.1%~10%,最优选为0.5%~10%重量。
当含量不足0.01%%重量时,灵敏度有时会降低。另一方面,含量超过50%重量时导致成像层均匀性变差,有时会造成耐用性降低。
(B1)可溶于碱的含羧基的聚合物(以后也称作组分(B1))
组分(B1)的聚合物可以是任何聚合物,只要是含羧基的可溶于碱的聚合物就行。但是优选如下定义的聚合物(b1-1)和(b1-2)。
(b1-1)可溶于碱的聚合物,含如下通式(1)表示的可聚合的单体,(以后也称作聚合物(b1-1))
Figure A0314872500152
其中Xm表示单键或双键连接基团,Y表示氢原子或羧基,Z表示氢原子、烷基或羧基。
组成通式(1)表示的可聚合单体单元的单体包括分子中含至少一个羧基和至少一个可聚合不饱和基团的可聚合单体。
这种可聚合单体的具体实例包括α-和β-不饱和羧酸,例如丙烯酸,甲基丙烯酸,马来酸,马来酸酐,衣康酸和衣康酸酐。
和上述含羧基的可聚合单体共聚的单体实例包括,但不局限于如下(1)~(11)的单体:
(1)含羟基的脂肪族丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯,例如丙烯酸(2-羟基乙)酯和甲基丙烯酸(2-羟基乙)酯;
(2)烷基丙烯酸酯,例如丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯,丙烯酸丙酯,丙烯酸丁酯,丙烯酸戊酯,丙烯酸己酯,丙烯酸辛酯,丙烯酸苯甲酯,丙烯酸(2-氯乙)酯,丙烯酸缩水甘油酯和丙烯酸(N-二甲基氨基乙)酯;
(3)甲基丙烯酸烷基酯,例如甲基丙烯酸甲酯,甲基丙烯酸乙酯,甲基丙烯酸丙酯,甲基丙烯酸丁酯,甲基丙烯酸戊酯,甲基丙烯酸己酯,甲基丙烯酸环己酯,甲基丙烯酸苯甲酯,甲基丙烯酸(2-氯乙)酯,甲基丙烯酸缩水甘油酯和甲基丙烯酸(N-二甲基氨基乙)酯;
(4)丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺,例如丙烯酰胺,甲基丙烯酰胺,N-羟甲基丙烯酰胺,N-乙基丙烯酰胺,N-己基甲基丙烯酰胺,N-环己基丙烯酰胺,N-羟基-乙基丙烯酰胺,N-苯基丙烯酰胺,N-硝基苯基丙烯酰胺和N-乙基-N-苯基丙烯酰胺;
(5)乙烯基醚,例如乙基乙烯基醚,2-氯乙基乙烯基醚,羟基乙基乙烯基醚,丙基乙烯基醚,丁基乙烯基醚,辛基乙烯基醚和苯基乙烯基醚;
(6)乙烯基酯,例如乙酸乙烯酯,氯乙酸乙烯酯,丁酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯;
(7)苯乙烯,例如苯乙烯,α-甲基苯乙烯,甲基苯乙烯和氯甲基苯乙烯;
(8)乙烯基酮,例如甲基乙烯基酮,乙基乙烯基酮,丙基乙烯基酮和苯基乙烯基酮;
(9)烯烃,例如乙烯,丙烯,异丁烯,丁二烯和异戊二烯;
(10)N-乙烯基吡咯烷酮,N-乙烯基咔唑,4-乙烯基-吡啶,丙烯腈和甲基丙烯腈;以及
(11)不饱和酰亚胺,例如马来酰亚胺,N-丙烯酰基-丙烯酰胺,N-乙酰基甲基丙烯酰胺,N-丙酰基甲基丙烯酰胺和N-(对-氯苯甲酰基)甲基丙烯酰胺。
此外,还优选使用如下通式(2)表示的单体。
Figure A0314872500171
其中X表示0、S或N-R12,R10~R12每个独立地表示氢原子或烷基,m、n和o每个独立地表示2~5的整数,CmH2m、CnH2n和CoH2o每个都可以是直链或支化结构,p、q和r每个独立地表示0~3,000的整数,而p+q+r大于等于2。
优选R10~R12中的烷基是含1~12个碳原子的烷基。其具体实例包括甲基,乙基,正-丙基和异丙基。p、q和r每个优选表示0~500的整数,更优选为0~100的整数。
对应于上述通式(2)所表示的重复单元的单体实例包括,但不局限于下列:(烯化氧的平均分子量:1000)
Figure A0314872500173
(烯化氧的平均分子量:1000)(烯化氧的平均分子量:500)
Figure A0314872500182
(烯化氧的平均分子量:2000)(烯化氧的平均分子量:1500)
Figure A0314872500191
可以用已知的方法,通过将可商购的羟基聚(氧化烯)材料,例如按商品名Pluronic销售的材料(Asahi Denka Kogyo K.K.制造),Adeka聚醚(Asahi Denka Kogyo K.K.制造),Carbowax(Glico Products Co.制造),Triton(Rohm and Haas Co.制造)以及P.E.G.(Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co.,Ltd.制造),和丙烯酸,甲基丙烯酸,丙烯酰氯,甲基丙烯酰氯或丙烯酸酐反应来制备上述通式(2)表示的重复单元。
除了这些材料,还可以使用用已知方法制备的聚(氧化烯)二丙烯酸酯。
可商购的单体包括由Nippon Oil & Fats Co.Ltd.制造的带羟基末端的聚亚烷基二醇一(甲基)丙烯酸酯,例如Blenmer PE-90,Blenmer PE-200,Blenmer PE-350,Blenmer AE-90,Blenmer AE-200,Blenmer AE-400,Blenmer PP-1000,Blenmer PP-500,Blenmer PP-800,BlenmerAP-150,Blenmer AP-400,BlenmerAP-550,BlenmerAP-800,Blenmer 50PEP-300,Blenmer 70PEP-350B,Blenmer AEP系列,Blenmer 55PET-400,Blenmer30PET-800,Blenmer 55PET-800,Blenmer AET系列,Blenmer 30PPT-800,Blenmer 50PPT-800,Blenmer 70PPT-800,Blenmer APT系列,Blenmer10PPB-500B和Blenmer 10APB-500B。类似地,单体包括Nippon Oil &Fats Co.Ltd.制造的带烷基末端的聚亚烷基二醇一(甲基)丙烯酸酯,例如Blenmer PME-100,Blenmer PME-200,Blenmer PME-400,Blenmer PME-1000,Blenmer PME-4000,Blenmer AME-400,Blenmer 50POEP-800B,Blenmer 50AOEP-800B,Blenmer PLE-200,Blenmer ALE-200,BlenmerALE-800,Blenmer PSE-400,Blenmer PSE-1300,Blenmer ASEP系列,Blenmer FKEP系列,Blenmer AKEP系列,Blenmer ANE-300,Blenmer ANE-1300,Blenmer PNEP系列,Blenmer PNPE系列,Blenmer 43ANEP-500和Blenmer 70ANEP-550,以及Kyoeisha Chemical Co.,Ltd.制造的Light-EsterMC,Light-Ester 130MA,Light-Ester 041MA,Light-Acrylate BO-A,Light-Acrylate EC-A,Light-Acrylate MTG-A,Light-Acrylate 130A,Light-AcrylateDPM-A,Light-Acrylate P-200A,Light-Acrylate NP-4EA和Light-AcrylateNP-8EA。
聚合物(b1-1)中,具有可聚合单体组分(每个分子内含至少一个羧基和至少一个可聚合的不饱和基团)的最小组成单元没有必要只是唯一一种类型。也可以使用通过聚合两种或多种类型的含相同或不同酸基的最小组成单元而获得的化合物。
可以使用常规的接枝共聚、嵌段共聚和无规共聚法作为共聚方法。
(b1-2)含羧基的可溶于碱的聚合物,这种聚合物以由如下通式(3)、(4)或(5)表示的含羧基的二元醇化合物和由如下通式(8)表示的二异氰酸酯化合物的反应产物为基本骨架,(以后也称作聚合物(b1-2))。
Figure A0314872500201
其中R3表示氢原子或烷基,链烯基,芳烷基,芳基,烷氧基或芳氧基,每个都可以有取代基(例如,优选烷基,芳基,烷氧基,酯基,氨基甲酸乙酯基,酰氨基,脲基或卤代基),优选氢原子,含1~8个碳原子的烷基,含2~8个碳原子的链烯基或含6~15个碳原子的芳基。
R14、R15和R16,可以相同也可以不同,每个分别表示二价脂肪族或芳香族烃,这些烃可以含单键或取代基(例如,优选烷基,链烯基,芳烷基,芳基,烷氧基或卤代基),优选含1~20个碳原子的链烯基,或含6~15个碳原子的亚芳基,还更优选含1~8个碳原子的链烯基。
此外,根据需要,R14、R15和R16每个可以含不和异氰酸酯基反应的其它官能团,例如,酯基,氨基甲酸乙酯基,酰氨基,脲基或碳-碳不饱和键。两个或三个R13、R14、R15和R16可以成环。
Ar表示三价芳香烃,这种烃可以有取代基,优选含6~15个碳原子的芳香族基团。
    OCN-R18-NCO                              (8)其中R18表示二价脂肪族或芳香族烃,这些烃可以有取代基(例如,优选烷基,链烯基,芳烷基,芳基,烷氧基或卤代基)。根据需要,R18可以含不和异氰酸酯基反应的其它官能团,例如,酯基,氨基甲酸乙酯基,酰氨基,脲基或碳-碳不饱和键。
如下通式(3)、(4)或(5)表示的含羧基的二元醇化合物的具体实例包括:3,5-二羟基苯甲酸,2,2-双(羟甲基)丙酸,2,2-双(2-羟乙基)丙酸,2,2-双(3-羟丙基)丙酸,双(羟甲基)乙酸,双(4-羟苯基)乙酸,4,4-双(4-羟苯基)戊酸,酒石酸和N,N-双(2-羟乙基)-3-羧基丙酰胺。
优选(b1-2)的含羧基的可溶于碱的聚合物是结合有如下通式(6)或(7)表示的二元醇的反应产物。
Figure A0314872500211
其中R17表示氢原子或含1~8个碳原子的烷基,n表示大于等于2的整数。R17表示的每个含1~8个碳原子的烷基包括甲基,乙基,异丙基,正丁基和异丁基。
下面所列的是上述通式(6)或(7)表示的二元醇的具体实例,但是应当理解本发明不局限于这些化合物。
式(6)二元醇的具体实例
HO-(-CH2CH2O-)3-H
HO-(-CH2CH2O-)4-H
HO-(-CH2CH2O-)5-H
HO-(-CH2CH2O-)6-H
HO-(-CH2CH2O-)7-H
HO-(-CH2CH2O-)8-H
HO-(-CH2CH2O-)10-H
HO-(-CH2CH2O-)12-H
聚乙二醇(平均分子量:1000)
聚乙二醇(平均分子量:2000)
聚乙二醇(平均分子量:4000)
HO-(-CH2CH(CH3)O-)3-H
HO-(-CH2CH(CH3)O-)4-H
HO-(-CH2CH(CH3)O-)6-H
聚丙二醇(平均分子量:1000)
聚丙二醇(平均分子量:2000)
聚丙二醇(平均分子量:4000)
式(7)二元醇的具体实例
HO-(-CH2CH2CH2O-)3-H
HO-(-CH2CH2CH2O-)4-H
HO-(-CH2CH2CH2O-)8-H
HO-(-CH2CH2CH(CH3)O-)12-H
通式(8)表示的二异氰酸酯化合物的具体实例包括芳香族二异氰酸酯化合物,例如2,4-甲苯二异氰酸酯,2,4-甲苯二异氰酸酯二聚体,2,6-甲苯二异氰酸酯,对-苯二亚甲基二异氰酸酯,间-苯二亚甲基二异氰酸酯,4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯,1,5-萘二异氰酸酯和3,3’-二甲基二苯基-4,4’-二异氰酸酯;脂肪族二异氰酸酯化合物,例如1,6-己二异氰酸酯,三甲基己二异氰酸酯,赖氨酸二异氰酸酯和二异氰酸酯二聚酸;脂环族二异氰酸酯化合物,例如异佛尔酮二异氰酸酯,4,4’-亚甲基双(环己基异氰酸酯),甲基环己烷-2,4-(或2,6-)二异氰酸酯和1,3-(异氰酸酯甲基)环己烷;以及二元醇和二异氰酸酯的反应产物----二异氰酸酯化合物,例如1摩尔1,3-丁二醇和2摩尔甲苯二异氰酸酯的加成产物。
二异氰酸酯和合成聚合物(b1-2)所用的二元醇化合物的摩尔比优选为0.8∶1~1.2∶1。当异氰酸基残留在聚合物末端时,用醇或胺处理聚合物以最终合成出不残留异氰酸基的化合物。
可以单独使用上述的聚合物(b1-1)和(b1-2)或者将它们两种或多种结合在一起使用作为组分(B1)。
组分(B1)中带羧基的重复单元的含量大于等于2摩尔%,优选为2~70摩尔%,更优选为5~60摩尔%。
优选组分(B1)的重均分子量为3,000~300,000,更优选为6,000~100,000。
而且,优选组分(B1)的加入量占成像层固体总重量的0.005%~80%,更优选为0.01%~50%,还更优选为1%~20%。
当组分(B1)的加入量不足0.005%重量时,其作用不充分。另一方面,含量超过80%导致涂膜干燥不充分,对光敏材料的性能(例如,灵敏度)有副作用。
(B2)可溶于碱的树脂
可以使用水性可溶于碱的聚合物作为可用的可溶于碱的树脂(以后也称作组分(B2)),这些聚合物在其主链和/或支链结构中含如下(1)~(3)任一种的酸基:
(1)酚基(-Ar-OH)
(2)亚磺酰氨基(-SO2NH-R)
(3)取代的氨磺酰-基酸基(以后称作活性亚氨基)(-SO2NHCOR,-SO2NHSO2R,-CONHSO2R)。
上述(1)~(3)中,Ar表示可以含取代基的二价芳基连接基,R表示可以含取代基的烃基。
下面所示的是其具体实例,但是应当理解本发明并不局限于此。
(1)含酚基的可溶于碱的聚合物包括,例如,酚醛清漆树脂,如苯酚和甲醛缩聚物,间-甲苯酚和甲醛缩聚物,对-甲苯酚和甲醛缩聚物,混合的间-/对-甲苯酚和甲醛的缩聚物,以及苯酚和甲酚(可以是对-,间-,或混合的间-/对-甲苯酚)的缩聚物及焦棓酚和丙酮缩聚物。还包括侧链上含酚基的单体聚合而得的聚合物。
在侧链上含含酚羟基的聚合物包括这样一种聚合物,该聚合物是通过含至少一个酚羟基和至少一个可聚合的不饱和键的可聚合的小分子单体均聚,或者可聚合单体和其它可聚合单体共聚而获得的。
侧链上含酚基的聚合物包括侧链上有酚基的丙烯酰胺,甲基丙烯酰胺,丙烯酸酯,甲基丙烯酸酯和羟基苯乙烯。
具体而言,其优选实例包括:N-(2-羟基苯基)丙烯酰胺,N-(3-羟基苯基)丙烯酰胺,N-(4-羟基苯基)丙烯酰胺,N-(2-羟基苯基)甲基丙烯酰胺,N-(3-羟基苯基)甲基丙烯酰胺,N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺,丙烯酸(邻-羟基苯)酯,丙烯酸(间-羟基苯)酯,丙烯酸(对-羟基苯)酯,甲基丙烯酸(邻-羟基苯)酯,甲基丙烯酸(间-羟基苯)酯,甲基丙烯酸(对-羟基苯)酯,邻-羟基苯乙烯,间-羟基苯乙烯,对-羟基苯乙烯,2-(2-羟基苯基)乙基丙烯酸酯,2-(3-羟基苯基)乙基丙烯酸酯,2-(4-羟基苯基)乙基丙烯酸酯,2-(2-羟基苯基)乙基异丁烯酸酯,2-(3-羟基苯基)乙基异丁烯酸酯和2-(4-羟基苯基)乙基异丁烯酸酯。
考虑到成像性质,上述含酚基的可溶于碱的聚合物的重均分子量优选为5.0×102~2.0×105,其数均分子量优选为2.0×102~1.0×105
而且,含酚基的可溶于碱的聚合物不仅可以单独使用,还可以两种或多种结合使用。当结合使用时,它们可以和含3~8个碳原子烷基取代基的酚和甲醛的缩聚物,例如U.S.P4,123,279中所述的叔-丁基酚和甲醛的缩聚物或辛基酚和甲醛的缩聚物结合在一起使用。
还优选这种缩聚物的重均分子量为5.0×102~2.0×105,其数均分子量优选为2.0×102~1.0×105
(2)含亚磺酰氨基的可溶于碱的聚合物包括,例如,以含亚磺酰氨基的化合物为主要单体组成单元的聚合物,即,通过共聚均聚物或上述单体组成单元和其它可聚合单体而获得的共聚物。
含亚磺酰氨基的可聚合的单体包括低分子量化合物的单体,这种化合物每分子中含至少一个亚磺酰氨基-SO2-NH-,其中至少一个氢原子是结合在氮原子上的,和至少有一个可聚合的不饱和键。其中,优选含丙烯酰基,烯丙基或乙烯氧基,以及取代的或一取代的氨基磺酰基或取代的磺酰亚氨基的低分子量化合物。
低分子量化合物的实例包括,但不局限于如下通式(a)~(e)表示的化合物:
Figure A0314872500251
其中X1和X2每个独立地表示氧原子或NR7;R1和R4每个独立地表示氢原子或CH3;R2、R5、R9、R12和R16每个独立地表示含1~12个碳原子的亚烷基,环烯基,亚芳基或亚芳烷基,每个都可以有取代基;R3、R7和R13每个独立地表示含1~12个碳原子的烷基,环烷基,芳基或芳烷基,每个都可以有取代基;R6和R17每个独立地表示含1~12个碳原子的烷基,环烷基,烯丙基或芳烷基,每个都可以有取代基;R8、R10和R14每个独立地表示氢原子或CH3;R11和R15每个独立地表示含1~12个碳原子的亚烷基,环烯基,亚芳基或亚芳烷基,每个都可以含单键或取代基;Y1和Y2每个独立地表示单键或CO。
其中间-氨基磺酰苯基异丁烯酸酯,N-(对-氨基磺酰苯基)异丁烯酰胺和N-(对-氨基磺酰苯基)丙烯酰胺是适合被采用的。
(3)含活性亚氨基的可溶于碱的聚合物包括,例如,以含活性亚氨基的化合物为主要单体组成单元的聚合物。
以含活性亚氨基的化合物为主要单体组成单元的聚合物包括这样的聚合物,该聚合物是通过每分子中含至少一个如下通式表示的活性亚氨基和至少一个可聚合的不饱和键的低分子量化合物单体的均聚反应,或者通过单体和其它可聚合单体的共聚反应而获得的。
具体而言,这种化合物的优选实例包括N-(对-甲苯磺酰基)甲基丙烯酰胺和N-(对-甲苯磺酰基)丙烯酰胺。
此外,除了上述化合物外,其优选实例包括通过聚合两种或多种上述的含酚基可聚合单体,含亚磺酰氨基的可聚合单体和含活性亚氨基的可聚合单体,或者将这两种或多种可聚合单体和其他可聚合单体进一步共聚而获得的聚合物。
当含亚磺酰氨基可聚合单体(M2)和/或含活性亚氨基可聚合单体(M3)和含酚基可聚合单体(M1)共聚时,其配比(M1∶M2和/或M3重量比)优选为50∶50~5∶95,更优选为40∶60~10∶90。
当可溶于碱的树脂是由含选自上述酸基(1)~(3)中的任何一种酸基的单体组成单元和其他可聚合单体的单体组成单元组成的共聚物时,共聚物中含选自上述酸基(1)~(3)中的任何一种酸基的单体组成单元的含量优选为10摩尔%或更大,更优选大于等于20摩尔%。
当单体组成单元的含量不足10摩尔%时,无法获得足够的碱溶度,有时导致显影范围变窄。
可以采用已知的接枝共聚,嵌段共聚和无规共聚法作为合成上述共聚物的方法。
其他可聚合单体(这些单体每个都和以含选自上述酸基(1)~(3)中的任何一种酸基的单体作为单体组成单元的可聚合单体共聚)的实例包括,但不限于如下的(a)~(l):
(a)含羟基的脂肪族丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯,例如丙烯酸(2-羟基乙)酯和甲基丙烯酸(2-羟基乙)酯;
(b)烷基丙烯酸酯,例如丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯,丙烯酸丙酯,丙烯酸丁酯,丙烯酸戊酯,丙烯酸己酯,丙烯酸辛酯,丙烯酸苯甲酯,丙烯酸(2-氯乙)酯,丙烯酸缩水甘油酯和丙烯酸(N-二甲基氨基乙)酯;
(c)甲基丙烯酸烷基酯,例如甲基丙烯酸甲酯,甲基丙烯酸乙酯,甲基丙烯酸丙酯,甲基丙烯酸丁酯,甲基丙烯酸戊酯,甲基丙烯酸己酯,甲基丙烯酸环己酯,甲基丙烯酸苯甲酯,甲基丙烯酸(2-氯乙)酯,甲基丙烯酸缩水甘油酯和甲基丙烯酸(N-二甲基氨基乙)酯;
(d)丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺,例如丙烯酰胺,甲基丙烯酰胺,N-羟甲基丙烯酰胺,N-乙基丙烯酰胺,N-己基甲基丙烯酰胺,N-环己基丙烯酰胺,N-羟基-乙基丙烯酰胺,N-苯基丙烯酰胺,N-硝基苯基丙烯酰胺和N-乙基-N-苯基丙烯酰胺;
(e)乙烯基醚,例如乙基乙烯基醚,2-氯乙基乙烯基醚,羟乙基乙烯基醚,丙基乙烯基醚,丁基乙烯基醚,辛基乙烯基醚和苯基乙烯基醚;
(f)乙烯基酯,例如乙酸乙烯酯,氯乙酸乙烯酯,丁酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯;
(g)苯乙烯,例如苯乙烯,α-甲基苯乙烯,甲基苯乙烯和氯甲基苯乙烯;
(h)乙烯基酮,例如甲基乙烯基酮,乙基乙烯基酮,丙基乙烯基酮和苯基乙烯基酮;
(i)烯烃,例如乙烯,丙烯,异丁烯,丁二烯和异戊二烯;
(j)N-乙烯基吡咯烷酮,N-乙烯基咔唑,4-乙烯基-吡啶,丙烯腈和甲基丙烯腈;
(k)不饱和酰亚胺,例如马来酰亚胺,N-丙烯酰基-丙烯酰胺,N-乙酰基甲基丙烯酰胺,N-丙酰基甲基丙烯酰胺和N-(对-氯苯甲酰基)甲基丙烯酰胺;和
(l)不饱和羧酸,例如丙烯酸,甲基丙烯酸,马来酸酐和衣康酸酐。
考虑到膜强度,上述可溶于碱的树脂,无论是均聚物或共聚物,其重均分子量优选为2,000或更大,数均分子量优选为500或更大。更优选地,重均分子量为5,000~30,000,数均分子量为800~250,000,分散度(重均分子量/数均分子量)为1.1~10。
此外,当可溶于碱的树脂是酚-甲醛树脂或甲酚-醛树脂时,优选其重均分子量为500~20,000,数均分子量优选为200~10,000。
可溶于碱的树脂的含量,以成像层固体总重量计,优选为30%~99%重量,更优选40%~95%重量,最优选50%~90%重量。
当含量不足30%重量时,成像层的耐用性有时会变差。另一方面,含量超过99%重量时,灵敏度和耐用性有时会变差。
此外,可溶于碱的树脂可以单独使用,或者两种或多种结合使用。
(C)可以和含羧基的可溶于碱的聚合物及可溶于碱的树脂相混溶以降低聚合物及树脂在水性碱液中溶解度的化合物,该化合物在加热时溶解度-降低作用会减弱
这种组分(C)指的是通过分子中存在的氢键官能团的作用和上述组分(B1)和(B2)有良好混溶性的化合物,能够形成成像层的均匀涂液,该组分具有通过和组分(B1)和(B2)反应来抑制组分(B1)和(B2)碱溶解度的功能(溶解度抑制作用)。
考虑到和上述组分(B1)和(B2)的反应,组分(C)可以从能够和上述可溶于碱的聚合物反应的化合物中适当地选择,例如砜化合物,铵盐,磷鎓盐和酰胺化合物。
组分(C)与组分(B1)和(B2)的配比(C/(B1+B2)重量比)一般优选1/99~25/75。
上述(A)红外吸收染料章节中已经描述过的、由通式(Z)表示的化合物,也具有组分(C)的作用。因此,例如,使用通式(Z)表示的花青染料可以同时表现出组分(A)和(C)的作用。
(D)环酸酐
在成像层中还可以使用环酸酐。环酸酐结构中有一个键和羧酸酐的羰基共扼,羰基稳定性的增加将其储存时的分解速度控制在合适的速率上,从而产生酸。因此,可以抑制储存期显影性质变差,从而长期稳定维持其显影性质。
环酸酐包括如下通式(9)或(10)表示的化合物:
Figure A0314872500291
通式(9)中,R41和R42每个独立地表示氢原子,或含1~12个碳原子的烷基,链烯基,烷氧基,环烷基,芳基,羰基,羧基或羧酸盐,每个都可以有取代基。R41和R42可以相互结合成环结构。
上述的R41和R42的优选实例包括,例如,氢原子,含1~12个碳原子的未取代的烷基,芳基,链烯基和环烷基。其具体实例包括氢,甲基,乙基,苯基,十二烷基,萘基,乙烯基,烯丙基和环己基。这些基团还可以有取代基。
当R41和R42可以相互结合成环结构时,环基包括,例如,亚苯基,亚萘基,环己烯基和环戊烯基。
上述取代基包括,例如卤原子,羟基,羰基,磺酸盐基,硝基和腈基。
通式(10)中,R43、R44、R45和R46每个独立地表示氢原子,羟基,诸如氯的卤原子,硝基,腈基,或含1~12个碳原子的烷基,链烯基,烷氧基,环烷基,芳基,羰基,羧基或羧酸盐,每个都可以有取代基。
上述R43、R44、R45和R46的优选实例包括,例如氢原子,卤原子,含1~12个碳原子的未取代的烷基,链烯基和含6~12个碳原子的芳基。其具体实例包括甲基,乙烯基,苯基和烯丙基。这些基团每个还可以有取代基。
上述取代基包括,例如,卤原子,羟基,羰基,磺酸盐基,硝基,腈基和羧基。
环酸酐的优选实例包括邻苯二甲酸酐,3,4,5,6-四氢邻苯二甲酸酐,六氢邻苯二甲酸酐,3,6-桥氧-4-四氢邻苯二甲酸酐,四氯邻苯二甲酸酐,3-羟基邻苯二甲酸酐,3-甲基邻苯二甲酸酐,3-苯基邻苯二甲酸酐,1,2,4-苯三酸酐,1,2,4,5-苯四酸酐,马来酸酐,苯基马来酸酐,二甲基马来酸酐,二氯马来酸酐,氯代马来酸酐和琥珀酸酐。
环酸酐含量,以成像层总固体重量计,优选为0.5%~20%重量,更优选为1%~15%重量,最优选为1%~10%重量。当含量不足0.5%重量时,维持显影性质的效果有时不充分。另一方面,含量超过20%重量导致有时不能形成图象。
下面是组成负像平板印刷版记录层的组分。
(E)加热产生酸的化合物
当成像材料是负像型时,结合使用了加热产生酸的化合物(以后称作生酸剂)。这种生酸剂是在100℃或更高温度时加热分解产生酸的化合物。至于产生的酸,优选pKa小于等于2的强酸,例如磺酸或盐酸。
生酸剂的优选实例包括鎓盐,例如碘鎓盐,硫鎓盐,磷鎓盐,和重氮盐。具体而言,它们包括U.S.P4,708,925和JP-A-7-20629中所述的化合物。其中优选碘鎓盐,硫鎓盐和重氮盐,每个都以磺酸离子作为抗衡离子。
重氮盐的优选实例包括U.S.P3,867,147中所述的重氮盐化合物,U.S.P2,632,703中所述的重氮化合物和JP-A-1-102456和JP-A-102457中所述的重氮树脂。
此外,还优选U.S.P5,135,838和5,200,544中所述的苄磺酸根(benzylsulfonato)化合物,以及JP-A-2-100054、JP-A-2-100055和JP-A-8-9444中所述的活性磺酸盐和二磺酰基化合物。此外,还优选JP-A-7-271029所述的卤代烷基取代的S-三嗪。
生酸剂的加入量,以成像层总固体重量计,优选为0.01%~50%重量,更优选为0.1%~40%重量,最优选为0.5%~30%重量。
(F)酸交联的交联剂
当平板印刷版原版是负像型时,结合使用了酸交联的化合物(以后简称交联剂)。
交联剂包括如下的化合物:
(i)烷氧甲基或羟甲基取代的芳香族化合物;
(ii)含N-羟基甲基,N-烷氧甲基或N-酰氧甲基的化合物;和
(iii)环氧化合物。
而且,它们还包括JP-A-11-254850所述的化合物和酚衍生物。
交联剂的加入量,以成像层固体总重量计,优选为5%~80%重量,更优选为10%~75%重量,最优选为20%~70%重量。
当使用上述酚衍生物作为交联剂时,酚衍生物的加入量,以成像材料固体总重量计,优选为5%~70%重量,更优选为10%~50%重量。
上述各种化合物的详细描述见JP-A-2000-267265。
其他组分
还可以向适合应用碱性显影剂的平板印刷版原版成像层中加入多种添加剂。
例如,为了改善灵敏度,还可以结合使用已知的添加剂,例如苯酚,有机酸或磺酰基化合物。
苯酚包括双酚A,对-硝基苯酚,对-乙氧苯酚,2,4,4’-三羟基二苯甲酮,2,3,4-三羟基二苯甲酮,4-羟基二苯甲酮,4,4’,4”-三羟基三苯基甲烷和4,4’,3”,4”-四羟基-3,5,3’,5’-四甲基三苯基甲烷。
有机酸包括JP-A-60-88942和JP-A-2-96755中所述的磺酸,亚磺酸,烷基硫酸,膦酸,磷酸盐和羧酸。其具体实例包括对-甲苯磺酸,十二烷基苯磺酸,对-甲苯亚磺酸,乙基硫酸,苯基膦酸,苯基次膦酸,磷酸苯酯,磷酸二苯酯,苯甲酸,间苯二酸,己二酸,对-甲苯甲酸,3,4-二甲氧基苯甲酸,邻苯二甲酸,对苯二甲酸,4-环己烯-2,2-二羧酸,芥酸,月桂酸,正-十一烷酸和抗坏血酸。
磺酰基化合物包括,例如,双羟基苯砜,甲基苯砜和二苯基二砜。
酚、有机酸或磺酰基化合物的加入量,以成像层固体总重量计,优选为0.05%~20%重量,更优选0.1%~15%重量,最优选0.1%~10%重量。
为了拓宽可稳定处理的显影条件,可以加入JP-A-62-251740和JP-A-3-208514中所述的非离子表面活性剂,JP-A-59-121044和JP-A-4-13149中所述的两性表面活性剂,和EP-950517所述的硅氧烷化合物和JP-A-11-288093所述的含氟单体的共聚物。
非离子表面活性剂包括,例如,三硬脂酸脱水山梨醇酯,一棕榈酸脱水山梨醇酯,三油酸脱水山梨醇酯,硬脂酸一甘油酯和聚氧乙烯壬基苯基醚。两性表面活性剂包括,例如,烷基二(氨基乙基)甘氨酸,盐酸烷基聚氨基乙基甘氨酸,2-烷基-N-羧基乙基-N-羟基乙基-咪唑啉甜菜碱和N-十四烷基-N,N-甜菜碱型表面活性剂(例如,Dai-ich KogyoSeiyaku Co.,Ltd.制造的Amogen(商标))。
至于硅氧烷化合物,优选二甲基硅氧烷和聚烯化氧的嵌段共聚物,其具体实例包括Chisso Corporation制造的DBE-224,DBE-621,DBE-712,DBP-732和DBP-534,以及聚烯化氧改性的硅氧烷,例如Tego(德国)制造的Tego Glide 100。
所用的非离子表面活性剂或两性表面活性剂的量,以成像层固体总重量计,优选为0.05%~15%重量,更优选0.1%~5%重量。
可以向成像层中加入曝光加热后立即获得可视图象的印出剂和作为图象着色剂的染料或颜料。
印出剂包括,例如,由于曝光加热而释放酸的化合物和可以成盐的有机染料的组合形式。
其具体实例包括JP-A-50-36209和JP-A-53-8128中所述的邻-萘醌二嗪-4-磺酸卤化物和成盐有机染料的组合,JP-A-53-36223、JP-A-54-74728、JP-A-60-3626、JP-A-61-143748、JP-A-61-151644和JP-A-63-58440中所述的三卤代甲基化合物和成盐有机染料的组合。
三卤代甲基化合物包括噁唑化合物和三嗪化合物,每一种在熟化稳定性上都极好,且给出清晰的印刷图象。
除了上述的成盐有机染料,譬如,还可以使用其他的染料作为图象着色剂,其优选实例包括,例如可溶于油的染料和碱性染料。
其具体实例包括Oil Yellow #101,Oil Yellow #103,Oil Pink #312,OilGreen BG,Oil Blue BOS,Oil Blue #603,Oil Black BY,Oil Black BS,OilBlack T-505(上述产品是由Orient Kagaku Kogyo Co.,Ltd.制造的),VictoriaPure Blue,结晶紫(C.I.42555),甲基紫(C.I.42535),乙基紫,若丹明B(C.I.45170B),Malachite Green(C.I.42000)和亚甲基蓝(C.I.52015)。特别优选JP-A-62-293247中所述的染料。
上述各种染料的加入量,以成像层固体总重量计,优选为0.01%~10%重量,更优选0.1%~3%重量。
此外,为了使涂膜具有弹性,可以根据需要加入增塑剂。
增塑剂包括,例如,丁基邻苯二甲酰,聚乙二醇,柠檬酸三丁酯,邻苯二甲酸二乙酯,邻苯二甲酸二丁酯,邻苯二甲酸二己酯,邻苯二甲酸二辛酯,磷酸三甲苯酯,磷酸三丁酯,磷酸三辛酯,油酸四氢糠酯及丙烯酸或甲基丙烯酸低聚物和聚合物。
而且,可以根据需要加入如下的多种添加剂。
例如,可以结合使用加热分解且在未分解状态下基本上降低水性的可溶于碱的聚合物溶解度的化合物,例如鎓盐,邻-醌二叠氮化合物,芳香族砜化合物和芳香族磺酸盐化合物。优选加入这些化合物是考虑到它们能够改善防止图象区在显影液中溶解的能力。
鎓盐包括,例如,重氮盐,铵盐,磷鎓盐,碘鎓盐,硫鎓盐,硒鎓盐和砷鎓盐。
首先,其实例包括S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974),T.S.Bal等,Polymer,21,423(1980)和JP-A-5-158230所述的重氮盐,U.S.P 4,069,055和4,069,056及JP-A-3-140140所述的铵盐,D.C.Necker等.,Macromolecules,17,2468(1984),C.S.We等,The.Proc.Conf.Rad.CuringASIA,p.478,Tokyo,Oct.(1988),U.S.P4,069,055和4,069,056中所述的磷鎓盐,J.V.Crivello等,Macromolecules,10(6),1307(1977),Chem.&Eng.News,p.31,Nov.28(1988),欧洲专利104,143,JP-A-2-150848和JP-A-2-296514所述的碘鎓盐,J.V.Crivello等,Polymer J.,17,73(1985),J.V.Crivello等,J.Org.Chem,43,3055(1978),W.R.Watt等,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984),J.V.Crivello等,PolymerBull.,14,279(1985),J.V.Crivello等,Macromolecules,14(5),1141(1981),J.V.Crivello等,J.Polymer Sci.Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979),欧洲专利370,693,233,567,297,443和297,442,U.S.P4,933,377,3,902,114,410,201,399,049,4,760,013,4,734,444,2,833,827,德国专利2,904,626,3,604,580和3,604,581所述的硫鎓盐,J.V.Crivello等,Macromolecules,10(6),1307(1977)和J.V.Crivello等,J.Polymer Sci.Polymer Chera.Ed.,17,1047(1979)所述的硒鎓盐,以及C.S.Wen等,The.Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p.478,Tokyo,Oct.(1988)所述的砷鎓盐。
其中,优选重氮盐,更优选JP-A-5-158230所述的重氮盐。
鎓盐的抗衡离子包括四氟硼酸,六氟膦酸,三异丙基萘磺酸,5-硝基-邻-甲苯磺酸,5-硫代-水杨酸,2,5-二甲基苯磺酸,2,4,6-三甲基苯磺酸,2-硝基苯磺酸,3-氯苯磺酸,3-溴苯磺酸,2-氟辛基萘磺酸,十二烷基苯磺酸,1-萘酚-5-磺酸,2-甲氧基-4-羟基-5-苯甲酰基苯磺酸和对-甲苯磺酸。
其中优选六氟膦酸,三异丙基萘磺酸和诸如2,5-二甲基苯磺酸的烷基芳香族磺酸。
上述的邻-醌二叠氮化合物是含至少一个邻-醌二叠氮基的化合物,包括通过加热分解增加碱溶解度的化合物。可以使用各种结构的化合物作为这种化合物。
邻-醌二叠氮通过加热分解可以使粘合剂丧失防止溶解的能力,而本身转变成可溶于碱的物质。邻-醌二叠氮由于有这两种作用,促进了平板印刷版原版的溶解。
对于上述的邻-醌二叠氮化合物,可用的有,例如,J.Coaser,Light-Sensitive Systems,339~352页(John Wiley & Sons.Inc.)所述的化合物。最重要的是允许邻-醌二叠氮的磺酸盐或磺酸酰胺和各种芳香族多羟基化合物或芳香族氨基化合物反应。
而且,还优选JP-A-43-28403中所述的苯醌-(1,2)-二叠氮基磺酰氯,或者苯醌-(1,2)-二叠氮基磺酰氯的酯或萘醌-(1,2)-二叠氮基-5-磺酰氯,以及U.S.P3,046,120和3,188,210中所述的酚-甲醛树脂。
此外,还优选萘醌-(1,2)-二叠氮基-4-磺酰氯和酚-甲醛树脂或甲酚-甲醛树脂的酯,或者萘醌-(1,2)-二叠氮基-4-磺酰氯和焦棓酚-丙酮树脂的酯。
此外,例如,还可使用JP-A-47-5303,JP-A-48-63802,JP-A-48-63803,JP-A-48-96575,JP-A-49-38701,JP-A-48-13354,JP-B-41-11222,JP-B-45-9610,JP-B-49-17481,U.S.P2,797,213,3,454,400,3,544,323,3,573,917,3,674,495和3,785,825,英国专利1,227,602,1,251,345,1,267,005,1,329,888和1,330,932以及德国专利854,890中所述的化合物。
这些化合物可以单独使用或者几种混合在一起使用。
上述鎓盐、邻-醌二叠氮化合物或芳香族磺酸盐的加入量,以成像层固体总重量计,优选为0.1%~50%重量,更优选0.5%~30%重量,最优选0.5%~20%重量。
此外,为了增强图象的分辨率和表面的抗刮性,优选结合使用JP-A-2000-187318中所述的聚合物,该聚合物分子中以含2或3个全氟烷基的丙烯酸酯单体为聚合组分,每个全氟烷基含3~20个碳原子。其加入量,以成像层固体总重量计,优选为0.1%~10%重量,更优选0.5%~5%重量。
而且,为了产生抗刮性,还可以加入降低表面静摩擦系数的化合物。其具体实例包括U.S.P6,117,913公开的长链烷基羧酸酯。其加入量以成像层固体总重量计,优选为0.1%~10%重量,更优选为0.5%~5%重量。
此外,为了控制成像层的溶解度,可以加入各种溶解抑制剂。优选使用JP-A-11-119418中所述的二砜化合物或砜化合物作为溶解抑制剂。具体而言,优选使用4,4’-双羟基苯基砜。其加入量以成像层固体总重量计,优选为0.05%~20%重量,更优选为0.5%~10%重量。
应用了本发明制版方法的平板印刷版原版的具体实例还包括这样一种平板印刷版原版,其中成像层是具有双层结构的正像热敏层。即,这种正像热敏层具有层压结构,其特征在于包含有安排在接近表面(暴露表面)位置上的热敏层和安排在靠近载体侧并含有可溶于碱的树脂和可溶于碱的聚合物的底层。热敏层和底层中的一个或两个都可以包含上述的(A)红外吸收染料,(B1)可溶于碱的含羧基的聚合物,(B2)可溶于碱的树脂,(C)可以和(B1),的可溶于碱的聚合物及(B2)的可溶于碱的树脂相混溶以降低可溶于碱的聚合物及可溶于碱的树脂溶解度的化合物,并且该化合物在加热时会降低溶解度-降低作用,和其他组分。
从显影成像的角度考虑,优选丙烯酸树脂作为用在底层中的可溶于碱的树脂,因为这样可以保持底层对含有具有缓冲作用的有机化合物和碱作为主要组分的碱性显影剂的良好溶解度。而且,特别优选这种丙烯酸树脂是含磺酰氨基的树脂。此外,从在非曝光区促成强的氢键而在曝光区部分氢键容易断裂的角度考虑,希望使用含酚羟基的树脂作为用在热敏层中的可溶于碱的聚合物。更优选该树脂是酚醛清漆树脂。
红外吸收染料不仅可以加到热敏层中,也可以加到底层中。向底层中加入红外吸收染料可以使底层也起到热敏层的功能。当红外吸收染料被加入到底层中,上面的热敏层和底层可以使用相同的或不同的染料。
可以单独向底层,单独向热敏层,或者同时向两层中加入其他的添加剂。
平板印刷版原版的成像层可以是这样形成的:将上述各个组分溶解在溶剂中,将所得溶液应用在适当的载体上。溶剂包括,但不局限于:二氯乙烷,环己酮,甲基乙基酮,甲醇,乙醇,丙醇,乙二醇一甲基醚,1-甲氧基-2-丙醇,2-甲氧基乙基乙酸酯,1-甲氧基-2-丙基乙酸酯,二甲氧基乙烷,乳酸甲酯,乳酸乙酯,N,N-二甲基乙酰胺,N,N-二甲基甲酰胺,四甲基脲,N-甲基吡咯烷酮,二甲亚砜,环丁砜,α-丁内酯和甲苯。这些溶剂可以单独使用或两种或多种混合使用。
当成像层具有双层结构时,优选这样的溶剂,该溶剂对热敏层所用的可溶于碱的树脂的溶解度不同于对底层所用的可溶于碱的树脂的溶解度。即,当使用能够溶解底层的可溶于碱的树脂的溶剂作为在载体上所涂底层最上层的涂料溶剂,随后涂以与底层接触的热敏层--上层时,这两层在层界面处的混合是不容忽视的。在极端情况下,无法形成双层结构,导致形成单一的均相层。所以优选用于上层热敏层涂料的溶剂是底层所含可溶于碱的树脂的不良溶剂。
当在载体上涂以成像层时,优选溶剂中所含上述组分的总固体含量一般为1%~10%重量。
 而且,优选载体上形成的成像层在涂敷和干燥后的干涂量(固体含量)一般为0.5~5.0g/m2。在双层结构中,优选热敏层的量为0.05~1.0g/m2,而优选底层的量为0.3~3.0g/m2。随着涂量的减少,表观灵敏度增加,但是成像层的膜特性变差了。
用于涂覆载体的方法可以从各种已知的方法适当地选择。其实例包括棒涂法,旋涂法,喷涂法,幕式淋涂法,浸渍涂布法,气刀涂层法,刮刀涂法和辊涂法。
为了改善涂布性质,可以向成像层涂液中加入表面活性剂,例如,JP-A-62-170950中所述的氟表面活性剂。其加入量以成像层固体总重量计,优选为0.01%~1%重量,更优选为0.05%~0.5%重量。
载体
平板印刷版原版的载体包括,例如,纯铝板,铝合金板和层压了铝或铝沉积的塑料膜。优选对铝板表面进行表面处理,例如修整处理,在硅酸钠、氟锆酸钾或磷酸盐水溶液中浸渍处理,或者阳极氧化处理。
而且,还优选U.S.P2,714,066所述的砂磨修整后用硅酸钠水溶液浸渍处理的铝板,以及JP-B-47-5125所述的经阳极氧化处理后进行碱金属硅酸盐水溶液浸渍处理的铝板。
上述阳极氧化处理是通过使用铝板作为电解液的阳极产生电流而进行的,电解液中有诸如硫酸、磷酸、铬酸、硝酸和硼酸的无机酸,诸如草酸和氨基磺酸的有机酸,或盐的水溶液或非水溶液,这些酸或盐既可以单独使用,也可以两种或多种合并使用。
此外,U.S.P3,658,662所述的硅酸盐电极沉积法也是有效的。
也可以使用U.S.P4,087,341、JP-B-46-27481和JP-A-52-30503中所述的、通过对经过电解表面粗糙化的载体进行上述阳极氧化处理而获得的载体。
还可以使用U.S.P3,834,998所述的铝板,该铝板在砂磨修整后进行化学蚀刻,再进行阳极氧化处理。
这些处理是出于各种目的,例如防止和形成在载体上的成像层的副反应,并改善和成像层的吸附性,以及载体表面的亲水化。
平板印刷版原版包括载体,载体上至少层压了成像层,根据需要载体上还可以有底涂层。
用于底涂层的组分包括各种有机化合物,例如,羧甲基纤维素;糊精;阿拉伯树胶;诸如2-氨基乙基膦酸的含氨基的膦酸;可以带取代基的有机膦酸,例如苯基膦酸,萘基膦酸,烷基膦酸,甘油膦酸,亚甲基二膦酸和亚乙基二膦酸;可以带取代基的有机磷酸,例如苯基磷酸,萘基磷酸,烷基磷酸和甘油磷酸;可以带取代基的有机次膦酸,例如苯基次膦酸,萘基次膦酸,烷基次膦酸和甘油次膦酸;氨基酸,例如甘氨酸和β-丙氨酸;以及含羟基的胺盐酸盐,例如三乙醇胺盐酸盐。
上述有机化合物可以单独使用或者两种或多种混合使用。而且,优选的实施方案是将上述的重氮盐用作底涂层。
此外,还优选使用含至少一种有机聚合物的有机底涂层作为底涂层,这种有机聚合物含如下通式(11)表示的重复单元。其中R51表示氢原子,卤素原子或烷基,R52和R53每个独立地表示氢原子,羟基,卤素原子,烷基,取代烷基,芳基,取代芳基,-OR54,-COOR55,-CONHR56,-COR57或-CN,R52和R53可以相互结合成环结构。R54~R57每个独立地表示氢原子,金属原子或-NR58R59R60R61,其中R58~R61每个独立地表示氢原子,烷基,取代烷基,芳基,取代芳基,而R58和R59可以相互结合成环结构。M表示1~3的整数。
优选底涂层的干涂量为2~200mg/m2,更优选为5~100mg/m2。当干涂量不足2mg/m2时,有时不能获得足够的膜性质。另一方面,即使干涂量超过200mg/m2,也不能获得比涂量为200mg/m2时更好的效果。
可以用如下方法提供底涂层。
即,将上述有机化合物溶解在水、诸如甲醇,乙醇或甲基乙基酮的有机溶剂、或混合溶剂中,制备出底涂层溶液,将其涂在诸如铝板的载体上,随后干燥得到底涂层,或者将诸如铝板的载体浸泡在通过将上述有机化合物溶解在水、诸如甲醇,乙醇或甲基乙基酮的有机溶剂、或混合溶剂中而制备出的底涂层溶液中,使底涂层溶液吸附在载体上,随后用水洗涤并干燥,得到底涂层。
在前一种方法中,优选使用上述有机化合物含量为0.005%~10%重量的底涂层溶液。
另一方面,后一种方法中,优选底涂层溶液中所含的有机化合物浓度为0.01%~20%重量,更优选0.05%~5%重量。优选浸泡温度为20℃~90℃,更优选为25℃~50℃。浸泡时间优选为0.1秒~20分钟,更优选为2秒~1分钟。可以用碱物质,例如氨、三乙胺或氢氧化钾,或者酸物质,例如盐酸或磷酸将底涂层溶液的pH调节到1~12。
而且,为了改善色调的再现性,可以加入黄染料。
在如上所述制备的平板印刷版原版上,可以用红外激光器进行印刷,此外,还可以用紫外灯和带感热头的热记录仪来记录。
至于红外激光器,优选发射波长为700~1,200nm红外线的激光器,更优选发射同样波长范围红外线的固体或半导体激光器。
[实施例]
下面将参照实施例对本发明进行更详细地阐述,但是应当理解,本发明不局限于此。实施例中的所有百分比都是根据重量计算的。
[制备含SiO2的碱性显影液]
如表1所示(单位:g/升),将式1化合物(0.5g)、1.0g式2化合物和各种阴离子表面活性剂(A-1~A-8)加到1升二氧化硅(SiO2)和氧化钾(K2O)混合比为1∶1的4.0%的硅酸钾水溶液中,这样制备出本发明的(1)~(12)碱性显影剂。另一方面,制备如下比较显影液:具有上述相同组成,但是其中不含表面活性剂的比较显影液(1)和含羧酸盐型阴离子表面活性剂(下述的A-9)的比较显影液(2)。
[制备含非还原性糖的碱性显影液]
如表2所示(单位:g/升),将碳酸钾(5g)、0.5g下式S1的化合物、1.0g下式S2的化合物和各种阴离子表面活性剂(A-1~A-8),加到1升由作为非还原性糖组合的D-山梨糖醇/氧化钾(K2O)和碱组成的5.0%钾盐水溶液中,这样制备出本发明的碱性显影剂(13)~(24)。另一方面,制备如下比较显影液:具有上述相同组成,但是其中不含表面活性剂的比较显影液(3)和含羧酸盐型阴离子表面活性剂(下述的A-9)的比较显影液(4)。
Figure A0314872500401
a+b+c+d+e+f=30
Figure A0314872500402
                                  表1
  含SiO2的碱性显影液序号     阴离子表面活性剂    浓度(g/l)    表面张力(达因/cm)
  1     A-1     0.5    31.0
  2     A-2     0.5    30.0
  3     A-3     0.3    33.5
  4     A-3     0.5    29.0
  5     A-3     1    30.5
  6     A-6     0.5    31.0
  7     A-7     0.5    27.0
  8     A-4     0.5    30.5
  9     A-5     0.5    34.5
10 A-5∶A-3=1∶1 0.25∶0.25 34.0
  11     A-5∶A-3=2∶3     0.2∶0.3    34.0
  12     A-8     0.5    29.0
  比较显影液1     --     --    63.0
  比较显影液2     A-9     0.5    40.0
                                     表2
    含非还原性糖的碱性显影液序号   阴离子表面活性剂  浓度(g/l)   表面张力(达因/cm)
    13   A-1  0.5   32.5
    14   A-2  0.5   31.5
    15   A-3  0.3   33.5
    16   A-3  0.5   30.0
    17   A-3  1   31.7
    18   A-6  0.5   32.5
    19   A-7  0.5   28.0
    20   A-4  0.5   30.5
    21   A-5  0.5   34.5
    22     A-5∶A-3=1∶1     0.25∶0.25     34.0
    23     A-5∶A-3=1∶1.5     0.2∶0.3     34.0
    24     A-8     0.5     29.0
    比较显影液3     --     --     64.0
    比较显影液4     A-9     0.5     41.0
每个显影液的表面张力都是用自动动态表面张力仪(JET型,由Kyowa Kaimen Kagaku Co.,Ltd.制造)测量的。
[成像层材料的合成实施例1(组分B1:丙烯酸共聚物)]
向装备有搅拌器、冷凝管和滴液漏斗的20-ml三口瓶中加入6.39g(0.045摩尔)的甲基丙烯酸正丙酯,1.29g(0.015mol)的甲基丙烯酸和20g1-甲氧基-2-丙醇,搅拌所得的混合物同时用热水浴在65℃加热。然后,加入0.15g聚合引发剂(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造的V-601),在氮气流中搅拌所得混合物2小时,同时保持温度在70℃。再通过滴液漏斗向该反应混合物中逐滴加入6.39g(0.045mol)的甲基丙烯酸正丙酯、1.29g(0.015mol)的甲基丙烯酸、20g 1-甲氧基-2-丙醇和0.15g V-601的混合液2小时。滴加完后,再在90℃搅拌所得混合物2小时。终止反应后,向混合物中加入40g甲醇,随后冷却。将所得混合物在搅拌下倒入2升水中,搅拌混合物30分钟。然后,过滤取出沉淀物,干燥获得15g白色固体。
用凝胶渗透色谱法(GPC)测量该共聚物的重均分子量(聚苯乙烯标准),结果是53,000。
[成像层材料的合成实施例2(组分B1:丙烯酸共聚物)]
通过和合成实施例1相同的操作,用甲基丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸异丁酯/甲基丙烯酸(摩尔%:35/35/30)合成出共聚物。用GPC测量共聚物的重均分子量(聚苯乙烯标准),结果是50,000。
[成像层材料的合成实施例3(组分B1:聚氨酯)]
向装备有冷凝器和搅拌器的500-ml三口圆底烧瓶中加入14.6g(0.109mol)的2,2-双(羟甲基)丙酸、13.3g(0.0686mol)的三水缩四乙二醇和2.05g(0.0228mol)的1,4-丁二醇,并溶于118g N,N-二甲基乙酰胺中。然后,向其中加入30.8g(0.123mol)的4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯,13.8g(0.0819mol)的1,6-己二异氰酸酯和0.1g的二-正丁基锡二月桂酸盐作为催化剂,接着在搅拌下在90℃加热7小时。
然后,向该反应溶液中加入100ml的N,N-二甲基乙酰胺、50ml甲醇和50ml乙酸,随后搅拌。此后,将所得溶液在搅拌下倒入4升水中,沉淀出白色聚合物。过滤分离该聚合物,用水洗涤,然后减压干燥,得到60g聚合物。
用GPC测量聚合物的重均分子量(聚苯乙烯标准),结果是70,000。而且,用滴定法测量了羧基含量,结果是1.43meq/g。
[成像层材料的合成实施例4(组分B1:丙烯酸共聚物)]
通过和合成实施例3相同的操作,用4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯(70摩尔%)和1,6-己二异氰酸酯(30摩尔%)作为二异氰酸酯化合物,以及3,5-二羟基苯甲酸(60摩尔%)和1,6-己二醇(40摩尔%)作为二醇化合物,合成共聚物。通过滴定测得的所得共聚物的酸含量为1.72meq/g,重均分子量(聚苯乙烯标准)为80,000。
[成像层材料的合成实施例5(组分B2)]
向装有搅拌器、冷凝器和滴液漏斗的500-ml三口圆底烧瓶中加入31.0g(0.36mol)的甲基丙烯酸,39.1g(0.36mol)的氯甲酸乙酯和200ml乙腈,搅拌所得的混合物同时用冰水浴冷却。然后,通过滴液漏斗向混合物中逐滴加入36.4g(0.36mol)的三乙胺约1小时。滴加完后,移走冰水浴,在室温下搅拌混合物30分钟。向反应混合物中加入51.7g(0.30mol)的对氨基苯磺酰胺,在油浴中于70℃加热的同时搅拌所得混合物1小时。反应终止后,将所得混合物在搅拌下倒入1升水中,搅拌混合物30分钟。过滤该混合物取出沉淀物,将该沉淀物用500ml水调成浆液。然后,过滤该浆液,干燥所得固体,得到N-(对-氨基磺酰苯基)-甲基丙烯酰胺白色固体(产量:46.9g)。
然后,向装有搅拌器、冷凝器和滴液漏斗的20-ml三口瓶中加入4.61g(0.0192mol)的N-(对-氨基磺酰苯基)-甲基丙烯酰胺,2.94g(0.0258mol)的甲基丙烯酸乙酯,0.80g(0.015mol)的丙烯腈和20g N,N-二甲基乙酰胺,搅拌所得的混合物同时用热水浴在65℃加热。然后,向其中加入0.15g聚合引发剂(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造的V-601),在氮气流中搅拌所得混合物2小时,同时保持温度在65℃。再通过滴液漏斗向该反应混合物中逐滴加入4.61gN-(对-氨基磺酰苯基)-甲基丙烯酰胺,2.94g甲基丙烯酸乙酯,0.80g丙烯腈,N,N-二甲基乙酰胺和0.15gV-601的混合液2小时。滴加完后,再在65℃搅拌所得混合物2小时。终止反应后,向混合物中加入40g甲醇,随后冷却。将所得混合物在搅拌下倒入2升水中,搅拌混合物30分钟。然后,过滤取出沉淀物,干燥获得15g白色固体。用凝胶渗透色谱法测量该特定共聚物的重均分子量(聚苯乙烯标准),结果是53,000。
[制备平板印刷版原版]
用三氯乙烯洗涤0.3-mm厚的铝板(材料1050)以除去油脂。然后,用尼龙刷和400-目的浮石水悬浮液砂磨处理其表面,并用水彻底清洗。
洗完后,将铝板浸入45℃的25%氢氧化钠水溶液中9秒钟,进行蚀刻。水洗之后,再将铝板浸在20%硝酸水溶液中20秒,再用水洗。此时砂磨表面的蚀刻量为约3g/m2
然后,用7%硫酸作为电解液,对铝板进行阳极化c氧化,所用直流电的电流密度为15A/dm2,形成3g/m2的阳极化膜,接着用水洗并干燥。
所得的板在30℃下用2.5%硅酸钠水溶液处理10秒。水洗并干燥后,在板上涂以如下的底涂层涂液,并在80℃下干燥15秒,得到载体。底涂层干燥后的干涂量为15mg/m2
(底涂层涂液)如下的共聚物P(分子量:28,000)                   0.3g甲醇                                            100g水                                              1g
Figure A0314872500441
[共聚物P]
将如下的成像层涂液涂在所得的载体上,并在150℃下干燥30秒,使干涂量为1.8mg/m2,这样获得正像平板印刷版原版。
(成像层涂液)上述合成实施例2的共聚物[组分(B1)]                   0.050g上述合成实施例4的共聚物[组分(B1)]                   0.050g上述合成实施例5的共聚物[组分(B2)]                   0.4g间-、对-甲酚线型酚醛清漆[组分(B2)]间/对比例:6/4,重均分子量:8,000,                 0.6g含0.5%未反应的甲酚花青染料A[组分(A+C)]                                0.1g邻苯二甲酸酐[组分D]                                 0.05g对-甲苯磺酸                                         0.002g乙基紫(抗衡离子:6-羟基-β-萘磺酸)                  0.02g萘醌-1,2-二叠氮-5-磺酰氯和焦棓酚-丙酮树脂的酯化产  0.01g物氟表面活性剂(商品名:Megafac F-177,Dainippon Ink& Chemicals,Inc.制造)                              0.05g甲基乙基酮                                          8g1-甲氧基-2-丙醇                                     4g实施例1~24和比较例1~4
用半导体激光器以5m/秒的主扫描速率对上面获得的平板印刷版原版进行曝光,并保持在25℃,所述半导体激光器的输出为500mW,波长为830nm,束直径为17μm(1/e2)。
将曝光的平板印刷版原版用填充了上述碱性显影剂的自动处理机PS900NP(Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造),在30℃的显影温度下处理12秒。在实施例1~24中,如表3~6所示,使用的是碱性显影剂(1)~(24),而在比较例1~4中,使用比较碱性显影剂(1)~(4),如表3~6所示。可处理50-3000m2的原版而不用补充补充液。处理结束后,用水洗原版,然后用树胶(Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造的GU-7(1∶1))处理,获得平板印刷版,完成制版。
对于这样获得的平板印刷版和处理过的显影液,评估如下项目(非图象区的显影性,图象区的膜减少和涂胶表面的状态,浮渣吸附性和显影液中的不溶物)。结果集中列在表3~6中。
印刷是在如下条件下进行的:
印刷机:Heidelberg制造的KOR-D;
油墨:Dainippon Ink & Chemicals,Inc.制造的GEOS(N)Black;以及
阻尼液:1%体积的EU-3,Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造。
<非图象区的显影性评估>
在刚开始显影和分别处理了50m2,100m2,200m2,300m2,400m2,500m2,1000m2,2000m2和3000m2时,观察在非图象区是否存在残留的膜以及在印刷物上是否存在污点,根据如下的标准,对上述的所得平板印刷版非图象区的显影性进行功能性评估。结果见表3~6。
标准
好:版被充分显影。在非图象区观察不到残余的成像层。印刷物上看不到污点。
一般:有些成像层残留在非图象区。印刷物上看不到污点。
差:观察到的显影差,成像层残留在非图象区。印刷物上产生污点。
<图象区的膜减少和涂胶表面状态的评估>
在刚开始显影和分别处理了50m2,100m2,200m2,300m2,400m2,500m2,1000m2,2000m2和3000m2时,目测上述所得的平板印刷版图象区的缺陷和涂胶表面的状态,并根据如下标准进行功能性评估:
标准
好:图象区观察不到缺陷。印刷物上也看不到图象区有空白区。涂胶表面状态是均匀的,没有凸凹现象。
一般:图象区的密度有些降低,部分可见缺陷。印刷物上看不到图象区有空白区。涂胶表面状态有些不平。
差:图象区的密度明显降低,图象区可见缺陷。印刷物上产生图象区的空白区。涂胶表面状态被严重损坏。
<浮渣吸附性评估>
在刚开始显影和分别处理了50m2,100m2,200m2,300m2,400m2,500m2,1000m2,2000m2和3000m2时,计算吸附在上述所得的平板印刷版上的浮渣材料的数量。
<显影液中不溶物的评估>
将每升分别处理了1m2,5m2,10m2,15m2和20m2,平板印刷版原版的显影液放入密封容器中,在35℃恒温箱中储存1个月。其间观察不溶物出现的状态,并根据如下标准进行评估:
好:没有不溶物。
一般:观察到一些不溶物,但是摇晃后溶解消失。
差:不溶物即使摇晃也不消失。
                                     表3<非图象区的显影性质>
  显影液序号                                          处理液量
  刚显影完   50m2   100m2   300m2   500m2   1000m2   2000m2   3000m2
  实施例1~12   1~12   好   好   好   好   好   好   好   好
  实施例13~24   13~24   好   好   好   好   好   好   好   好
  比较例1   1   好   好   好   一般   一般   一般   一般   一般
  比较例2   2   好   好   好   好   好   好   好   好
  比较例3   3   好   好   好   一般   一般   一般   一般   一般
  比较例4   4   好   好   好   好   好   好   好   好
                             表4<图象区的膜减少和涂胶表面状态>
 显影液序号                                                处理液量
  刚显影完     50m2    100m2     300m2     500m2     1000m2     2000m2     3000m2
  实施例1~12  1~12   好     好     好     好     好     好     好     好
  实施例13~24  13~24   好     好     好     好     好     好     好     好
  比较例1  1   差     差     差     差     差     差     差     差
  比较例2  2   一般     一般     一般     一般     一般     一般     一般     一般
  比较例3  3   差     差     差     差     差     差     差     差
  比较例4  4   一般     一般     一般     一般     一般     一般     一般     一般
                                                    表5<浮渣在版上的吸附性>
  显影液序号                                            处理液量
  刚显影完    50m2   100m2     300m2     500m2     1000m2     2000m2     3000m2
  实施例1-5   1-5   0    0   0     0     0     0     0     0
  实施例6   6   0    0   0     0     0     4     8     9
  实施例7   7   0    0   0     0     0     8     13     12
  实施例8   8   0    0   0     0     0     0     0     0
  实施例9   9   0    0   0     0     0     7     10     11
  实施例10   10   0    0   0     0     0     5     7     7
  实施例11   11   0    0   0     0     0     0     0     0
  实施例12   12   0    0   0     0     0     11     19     18
  实施例13-17   13-17   0    0   0     0     0     0     0     0
  实施例18   18   0    0   0     0     0     6     9     8
  实施例19   19   0    0   0     0     0     9     15     13
  实施例20   20   0    0   0     0     0     0     0     0
  实施例21   21   0    0   0     0     0     7     9     11
  实施例22   22   0    0   0     0     0     4     6     8
  实施例23   23   0    0   0     0     0     0     0     0
  实施例24   24   0    0   0     0     0     10     17     18
  比较例1   1   100↑    100↑   100↑     100↑     100↑     100↑     100↑     100↑
  比较例2   2   34    36   57     100↑     100↑     100↑     100↑     100↑
  比较例3   3   100↑    100↑   100↑     100↑     100↑     100↑     100↑     100↑
  比较例4   4   41    43   55     100↑     100↑     100↑     100↑     100↑
                                       表6<显影液中的不溶物>
    显影液序号                             处理液量
    1m2/L     5m2/L     10m2/L     15m2/L     20m2/L
    实施例1-5     1-5     好     好     好     好     好
    实施例6     6     好     好     好     一般     一般
    实施例7     7     好     好     好     一般     一般
    实施例8     8     好     好     好     好     好
    实施例9     9     好     好     好     一般     一般
    实施例10     10     好     好     好     好     一般
    实施例11     11     好     好     好     好     好
    实施例12     12     好     好     好     一般     一般
    实施例13-17     13-17     好     好     好     好     好
    实施例18     18     好     好     好     一般     一般
    实施例19     19     好     好     好     一般     一般
    实施例20     20     好     好     好     好     好
    实施例21     21     好     好     好     一般     一般
    实施例22     22     好     好     好     好     一般
    实施例23     23     好     好     好     好     好
    实施例24     24     好     好     好     一般     一般
    比较例1     1     好     差     差     差     差
    比较例2     2     好     一般     差     差     差
    比较例3     3     好     差     差     差     差
    比较例4     4     好     一般     差     差     差
按照本发明制造平板印刷版的方法,由成像层组分在制版过程中造成的不溶物可以被很好地分散开,从而抑制了处理浮渣的产生,同时维持了良好的显影性。而且,可以提供对版上的树胶没有排斥性的版,并改善了涂胶表面的状态。于是,平板印刷版原版可以长期稳定地显影,并可以形成高锐度和清晰的图象。
每个外国专利申请的全部公开内容---从中在本申请中已经要求了国外优先权的权益---都在此引入作为参考,就像完全陈述一样。

Claims (9)

1、一种制备平板印刷版的方法,包括:
将成像层中含红外吸收染料的光敏平板印刷版原版曝光;和
用碱性显影剂显影曝光的光敏平板印刷版原版,其中碱性显影剂包括含磺酸盐基的阴离子表面活性剂。
2、根据权利要求1的方法,其中阴离子表面活性剂是由如下通式表示的阴离子表面活性剂:
Figure A0314872500021
其中R1和R2每个独立地表示氢原子或可以带支链的烷基,M表示一价碱金属。
3、根据权利要求1的方法,其中碱性显影剂包含:至少一种碱性硅酸盐和一种非还原性糖;以及碱。
4、根据权利要求1的方法,其中碱性显影剂的pH为12.5~14.0。
5、根据权利要求1的方法,其中碱性显影剂包含二氧化硅和碱性氧化物:M2O,其中M代表碱金属或铵基。
6、根据权利要求5的方法,其中二氧化硅和碱性氧化物:M2O的混合比例为0.5~3.0。
7、根据权利要求1的方法,其中红外吸收染料包括至少一种花青染料、方鎓染料、吡喃鎓盐和镍硫醇盐配合物。
8、根据权利要求1的方法,其中红外吸收染料包括通式(Z)表示的化合物:
Figure A0314872500022
其中R21~R24每个独立地表示氢原子,或含1~12个碳原子的烷基,链烯基,烷氧基,环烷基或芳基,每一种都可以有取代基,而R21和R22、R23和R24可以相互结合成环结构;R25~R30每个独立地表示含1~12个碳原子的可以有取代基的烷基,每个烷基可以有取代基;R31~R33每个独立地表示氢原子,卤素原子或含1-8个碳原子的可以有取代基的烷基,R32可以和R31或R33结合成环结构,而且,当m大于2时,多个R32可以相互结合成环结构;m表示1~8的整数;R34和R35每个独立地表示氢原子,卤素原子或含1~8个碳原子的可以有取代基的烷基,R34可以和R35结合成环结构,而且,当m大于2时,多个R34可以相互结合成环结构;X-表示阴离子。
9、根据权利要求1的方法,其中成像层包含红外吸收染料的数量占成像层总固体重量的0.01~50%。
CNA031487254A 2002-06-24 2003-06-24 制备平板印刷版的方法 Pending CN1469194A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002182925 2002-06-24
JP2002182925 2002-06-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN1469194A true CN1469194A (zh) 2004-01-21

Family

ID=29717559

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA031487254A Pending CN1469194A (zh) 2002-06-24 2003-06-24 制备平板印刷版的方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20040002019A1 (zh)
EP (1) EP1376241A1 (zh)
CN (1) CN1469194A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100532120C (zh) * 2004-01-23 2009-08-26 富士胶片株式会社 平版印刷版前体和平版印刷方法
CN101322075B (zh) * 2005-11-18 2011-08-10 爱克发印艺公司 制作平版印刷印版的方法
CN101657761B (zh) * 2007-05-16 2012-07-04 株式会社德山 光刻胶显影液
CN101794086B (zh) * 2009-02-02 2012-07-25 和舰科技(苏州)有限公司 一种分离显影液废液与di水的分离装置及分离方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7018777B2 (en) 2002-09-11 2006-03-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of making lithographic printing plate
US7358032B2 (en) * 2002-11-08 2008-04-15 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor
US20040192876A1 (en) * 2002-11-18 2004-09-30 Nigel Hacker Novolac polymer planarization films with high temparature stability
CN1802603A (zh) * 2003-07-17 2006-07-12 霍尼韦尔国际公司 用于高级微电子应用的平面化薄膜及其生产装置和方法
JP4244309B2 (ja) * 2003-09-12 2009-03-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2006301404A (ja) * 2005-04-22 2006-11-02 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 現像液組成物およびその製造方法、ならびにレジストパターンの形成方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
US5998102A (en) * 1997-10-06 1999-12-07 Agfa Corporation Etch inhibitors in developer for lithographic printing plates
US6004728A (en) * 1997-10-08 1999-12-21 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
US6083663A (en) * 1997-10-08 2000-07-04 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
US6399279B1 (en) * 1998-01-16 2002-06-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method for forming a positive image
JP4050854B2 (ja) * 1999-12-21 2008-02-20 富士フイルム株式会社 画像形成方法
JP4156784B2 (ja) * 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
US6511790B2 (en) * 2000-08-25 2003-01-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
WO2002087882A1 (fr) * 2001-04-26 2002-11-07 Mitsubishi Chemical Corporation Methode et dispositif de traitement et d'impression regeneratifs
JP2003005354A (ja) * 2001-06-20 2003-01-08 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版および平版印刷版の製版方法
US6756183B2 (en) * 2001-08-24 2004-06-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparing lithographic printing plate

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100532120C (zh) * 2004-01-23 2009-08-26 富士胶片株式会社 平版印刷版前体和平版印刷方法
CN101322075B (zh) * 2005-11-18 2011-08-10 爱克发印艺公司 制作平版印刷印版的方法
CN101657761B (zh) * 2007-05-16 2012-07-04 株式会社德山 光刻胶显影液
CN101794086B (zh) * 2009-02-02 2012-07-25 和舰科技(苏州)有限公司 一种分离显影液废液与di水的分离装置及分离方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20040002019A1 (en) 2004-01-01
EP1376241A1 (en) 2004-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1221859C (zh) 感光性平版印刷版
CN1260614C (zh) 热敏平版印刷版
CN1169680C (zh) 平版印刷印版的支持体和感光性树脂平版
CN1289293C (zh) 平版印刷版前体
CN1512267A (zh) 热敏平版印刷版前体
CN1469194A (zh) 制备平板印刷版的方法
CN1311293C (zh) 平版印刷版原版
CN1291836C (zh) 平板印刷版原版
CN1737682A (zh) 平版印刷版原版
CN1251864C (zh) 平版印刷版前体和平版印刷版的生产方法
CN1688441A (zh) 热敏性平版印刷版原版
CN1400505A (zh) 影象形成材料和铵化合物
CN1591183A (zh) 图像记录材料和平版印刷版
CN1688625A (zh) 用于热敏石印板前体的聚合物
CN1234048C (zh) 红外感光光敏组合物
CN1310359A (zh) 平版印刷版原版的制造方法
CN100335268C (zh) 可直接成像型无水平版印刷版原版
CN1394171A (zh) 平版印刷制版用支持体和预涂感光版
CN1816446A (zh) 包含硫酸化聚合物的可成象元件
CN1323852C (zh) 平版印刷版原版及平版印刷版的制造方法
CN1269640C (zh) 用于红外激光的平版印刷版
CN1311299C (zh) 感光性平板印刷板
CN1285011C (zh) 平版印刷版前体
CN1497346A (zh) 红外线敏感的组合物和平版印刷版前体
CN1743955A (zh) 正型感光性组合物

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication