CN1260614C - 热敏平版印刷版 - Google Patents

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Abstract

一种热敏平版印刷版,其包含:亲水支架;下层,其包含不溶于水但溶于碱的树脂;和上层热敏层,其包含不溶于水但溶于碱的树脂和吸收红外线的染料,其在碱性含水溶液中的溶解经曝光而增加,其中上层热敏层表面以0.1个/μm2或更大,但不超过7个/μm2的比例具有突起,所述突起是由上层热敏层的厚度不均匀引起的,或上层热敏层包含至少两种碱溶性树脂,所述树脂在碱性含水溶液中彼此具有不同的溶解速度,并且至少两种碱溶性树脂彼此引起相分离。

Description

热敏平版印刷版
技术领域
本发明涉及一种图像记录材料,其可用作胶版印刷原版,特别涉及用于所谓的直接制版的热敏平版印刷版,其中可直接从计算机的数字信号等进行制版。
背景技术
近几年,激光器得到了显著发展。特别是,关于在近红外线至红外线波长具有发射区域的固态激光器或半导体激光器,已容易地获得高输出并且小尺寸的产品。这些激光器在从计算机等的数字数据直接制版过程中被特别用作曝光辐射源。
适于红外激光器的阳图型平版印刷版材料包含作为基本组分的可溶于碱性含水溶液的粘合剂树脂和吸收红外线的染料(IR染料),所述染料吸收光以产生热量。在未曝光区域(图像区),由于与粘合剂树脂的相互作用,IR染料作为溶解抑制剂基本上降低粘合剂树脂的溶解,而在曝光区域(非图像区),因为由于产生的热量,使得它与粘合剂树脂的相互作用被削弱,其在碱性显影液中溶解,从而形成平版印刷版。
然而,在这种适于红外激光器的阳图型平版印刷版前体中,不能认为在各种使用条件下,未曝光区域(图像区)对显影液的耐溶解性与曝光区域(非图像区)在显影液中溶解之间的差别是明显的,并且由于使用条件的改变,导致可能发生过度显影和显影失败的问题。而且,由于平版印刷版的图像形成能力依赖于记录层表面上红外激光器曝光的生热性,存在另一个问题,即由于热扩散,导致在支架附近成像不充分,即用于增溶记录层的热量变少,而曝光区域和未曝光区域之间的差别变小,导致高光的可再现性不足。
例如,在通过UV曝光进行制版的阳图型平版印刷版材料中,即包含可溶于碱性含水溶液的粘合剂树脂和鎓盐或醌二叠氮化物化合物,并且具有一种功能的常规平版印刷版材料中,显影宽容度基本不成问题,所述功能为在未曝光区域(图像区),鎓盐或醌二叠氮化物化合物由于与粘合剂树脂相互作用,作为溶解抑制剂发挥作用,而在曝光区域(非图像区),它被光分解以产生酸,并作为溶解促进剂发挥作用。
另一方面,在适于红外激光器的阳图型平版印刷版材料中,红外吸收体仅用作未曝光区域(图像区)的溶解抑制剂,而不促进曝光区域(非图像区)的溶解。因此,在阳图型平版印刷版材料中,为了保证足够的感光度,有必要预先使用在碱性显影液中具有高溶解度的粘合剂树脂,使得曝光区域高度溶解。结果,未曝光区也变得高度溶解。因此,当摩擦表面以形成磨损时,耐溶解性变差,以致由于膜层减少导致显现疤痕。
另一方面,为了抑制由于表面上的磨损造成的膜层减少,有必要设法降低导致感光度降低的光敏层的溶解。因此,存在感光度和耐磨损性彼此不一致的问题。
另外,为了解决这些问题,JP-A-10-250255公开了在成像过程中溶解变化大的热敏层设置在上层,而具有高碱性溶解的层设置在下层。根据JP-A-10-250255的技术,有一定的改进效果,但感光性和耐磨损性的一致并不能达到令人满意的程度。
另一方面,对于用于红外激光的多层阳图型平版印刷版材料,JP-A-11-218914公开了一种在底层利用具有特定结构的粘合剂的多层光敏成像材料。然而,JP-A-11-218914根本未提及耐磨损性。另外,美国专利号6,242,156公开了一种具有低粘性和优异抗粘着性的平版印刷版,其包含具有0.2微米或更大粗糙度(Ra)的辐射敏感层,所述粗糙度由支架的不均匀性引起。然而,美国专利号6,242,156涉及一种所谓的非加工类型,未描述任何关于热阳图型的实施例。
另外,在JP-A-11-218914中公开了具有良好显影宽容度适于直接制版的红外激光成像材料,其中光敏层具有两层结构,并且用记录层改善了低成像性能,所述记录层在它的底层具有设计的碱性含水溶液可溶的高分子化合物。然而,底层碱溶性树脂的改善是不够的。就成像性能而言,必需改善上层部分。
此外,欧洲专利号997,272公开了一种适于红外激光器的多层阳图型平版印刷版材料,其在上层包含一种嵌段共聚物。
发明内容
本发明的目的是提供用于直接制版的热敏平版印刷版,其在成像过程中具有优异的显影宽容度,并且具有高的感光度和优异的耐磨损性。
本发明进行了广泛而深入的研究。结果,已发现在热敏平版印刷版的上层热敏层表面包含特定数量的细小突起可实现上述目的。
具体地,通过下述结构可实现本发明。
(1)一种包含亲水性支架的热敏平版印刷版,在所述亲水性支架上具有下层和上层热敏层,所述下层包含不溶于水但溶于碱的树脂,所述上层热敏层包含不溶于水但溶于碱的树脂和吸收红外线的染料,所述染料在碱性含水溶液中的溶解可由于曝光而增加,其中在上层热敏层表面上,以每平方微米0.1或更多但不超过7的比例包含由于上层热敏层的厚度不均匀产生的细小突起。
(2)如上述(1)中所阐明的热敏平版印刷版,其中在上层热敏层中包含颗粒状物质,作为在上层热敏层表面上形成细小突起的方法,所述细小突起由于上层热敏层的厚度不均匀产生。
(3)如在上述(1)或(2)中所阐明的热敏平版印刷版,其中上层热敏层包含碱溶性树脂,其与包含在下层的碱溶性的树脂相同。
在具有下层和上层热敏层的热敏平版印刷版中,所述下层包含不溶于水但溶于碱的树脂,所述上层热敏层包含不溶于水但溶于碱的树脂和吸收红外线的染料,所述染料在碱性含水溶液中的溶解可因曝光而增加,通过使上层热敏层变薄,可更多地提高感光度,但另一方面,降低了耐磨损性。当将其感光度通过增强耐磨损性而降低的上层热敏层变厚时,降低了感光度。即,在这类热敏平版印刷版中,感光度和耐磨损性实际上处于折衷的状态。
然而,在本发明的热敏平版印刷版中,通过在上层热敏层表面上,以每平方微米0.1或更大但不超过7的比例包含由于上层热敏层的不均匀产生的细小突起,不仅可增强感光度,还可以提高耐磨损性。
这个作用机理一直不清楚。然而,可以推测通过在上层热敏层表面上包含由于上层热敏层不均匀产生的细小突起,获得了与以假拟的方式,将上层热敏层变厚的情形相同的效果,从而增强了耐磨损性,并且不用担心感光度降低,因为感光度依赖于突起间低谷部分的厚度。
另外,本发明人进行了广泛而深入的研究。结果,作为另一方面,已发现通过在热敏平版印刷版的上层热敏层中加入至少两种碱溶性树脂可实现上述目的,所述碱溶性树脂在碱性含水溶液中具有彼此不同的溶解速度,两者均可引起彼此的相分离。
具体地,可通过下述结构实现本发明的另一个方面。
包含亲水性支架的热敏平版印刷版,在所述亲水性支架上具有下层和上层热敏层,所述下层包含不溶于水但溶于碱的树脂,所述上层热敏层包含不溶于水但溶于碱的树脂和吸收红外线的染料,所述染料在碱性含水溶液中的溶解可因曝光而增加,其中上层热敏层具有至少两种碱溶性树脂,所述树脂在碱性含水溶液中彼此具有不同的溶解速度,并且所述至少两种碱溶性树脂彼此之间引起相分离。
本发明的结构可获得高感光度的原因在于:在碱性含水溶液中具有较高溶解速度、被加入到上层热敏层并且以相分离状态存在的树脂,加速了曝光区域在显影液中的溶解。必需进行相分离的原因在于:如果具有不同溶解速度的树脂彼此均一地相容,则降低了未曝光区域的抗碱性。在相分离状态,由于在未曝光区域,在碱性含水溶液中具有较高溶解速度的树脂很少有机会与显影液接触,可能用在碱性含水溶液中具有较低溶解速度的树脂来保证未曝光区域的抗碱性。
具体实施方式
下面将更详细地描述本发明。
在本发明的热敏平版印刷版中,热敏层的特征在于具有层状结构,该层状结构具有设置在靠近表面(曝光表面)的位置的上层热敏层和设置在靠近支架的那一侧的包含碱溶性树脂的下层,并且优选在上层热敏层表面上以每平方微米0.1或更大但不超过7的比例包含由于上层热敏层的厚度不均匀产生的细小突起。
关于形成这类突起的方法,有这样一种方法,其中向上层加入细小颗粒,从而在其中包含颗粒状物质。加入的细小颗粒可以是无机颗粒,金属颗粒或有机颗粒。
无机颗粒的实例包括金属氧化物如氧化铁,氧化锌,二氧化钛和氧化锆;本身在可见光区无吸收、称为白炭黑的含硅的氧化物,如硅酸酐,水合硅酸钙和水合硅酸铝;和粘土无机颗粒如粘土,滑石,高岭土和沸石。另外,金属颗粒的实例包括铁,铝,铜,镍和银。
无机颗粒或金属颗粒具有不超过约1μm的平均颗粒大小,优选0.01-1μm,更优选0.05-0.2μm。当无机颗粒或金属颗粒的平均颗粒大小少于0.01μm时,形成的不均匀性是不够的,因此不显示对耐磨损性的效果。另一方面,当它超过1μm时,可能降低印刷品的分辨率,可能降低对下层的粘附,或者表面附近的颗粒易于脱落。
基于上层热敏层的总固体含量,无机颗粒或金属颗粒的含量优选为约1-30%体积,更优选2-20%体积。当无机颗粒或金属颗粒的含量少于1%体积时,形成的不均匀性是不够的,因此未显示出耐磨损效果。另一方面,当它超过30%体积时,降低了上层热敏层的强度,导致耐印刷性降低。
关于有机颗粒,没有特别的限制,但树脂颗粒可用作颗粒状有机颗粒。在使用过程中必需注意下述要点。当在分散树脂颗粒过程中使用溶剂时,必需选择不溶于该溶剂的树脂颗粒,或选择在其中不溶解树脂颗粒的溶剂。有必要选择当分散或包被树脂颗粒时通过加热不会熔化,变形或分解的材料。可优选交联的树脂颗粒用作能减少要注意的要点数的材料。
优选有机颗粒具有约0.01-1μm的平均颗粒大小,更优选0.05-0.2μm。
基于上层热敏层的总固体含量,优选有机颗粒的含量为约1-30%体积,更优选2-20%体积。
有机颗粒的实例包括聚苯乙烯颗粒和硅氧烷树脂颗粒。交联的树脂颗粒的实例包括包含两种或多种烯属不饱和单体,包含苯乙烯和二乙烯基苯的交联的树脂颗粒,和包含甲基丙烯酸甲酯和二甘醇二甲基丙烯酸酯的交联的树脂颗粒,即丙烯酸树脂的微凝胶,交联的聚苯乙烯和交联的甲基丙烯酸甲酯。用常规方法例如乳液聚合法、无皂乳液聚合法、晶种乳液聚合法、分散聚合和悬浮聚合来制备这些有机颗粒。
关于另一种形成突起方法,可采用使用在上层热敏层使用的高分子化合物与两种或多种相分离高分子化合物的混合物的方法。相分离高分子化合物均匀溶解在溶液中,但在涂布和干燥过程中产生分离,从而低添加量那一边的高分子化合物也可呈球状地引起相分离,以产生与加入颗粒相同的效果。关于引起彼此相分离的高分子化合物的具体结合,优选含酚羟基的高分子化合物与含氨磺酰基的高分子化合物的结合。
含酚羟基的高分子化合物的实例包括酚醛清漆树脂类例如酚-甲醛树脂类,间-甲酚-甲醛树脂类,对-甲酚-甲醛树脂类,间-/对-混合的甲酚-甲醛树脂类,和酚/甲酚(任何间-,对-或间-/对-混合物)混合的甲醛树脂类,和焦倍酚丙酮树脂。此外,也优选在其侧链具有酚羟基的高分子化合物作为含酚羟基的高分子化合物。在其侧链具有酚羟基的高分子化合物的实例包括通过均聚可聚合的单体或将这种可聚合单体与其它可聚合单体共聚而获得的高分子化合物,所述可聚合单体包含一种低分子化合物,所述低分子化合物至少包含酚羟基和可聚合的不饱和键之一。
碱溶性的含氨磺酰基的高分子化合物的实例包括通过均聚含氨磺酰基的可聚合单体或将这种可聚合单体与其它可聚合单体共聚合而获得的高分子化合物。含氨磺酰基的可聚合单体的实例包括包含低分子化合物的可聚合单体,所述低分子化合物包含至少一个氨磺酰基和可聚合的不饱和键之一,所述氨磺酰基-NH-SO2-在一个分子中具有至少一个结合到氮原子上的氢原子。其中,优选包含丙烯酰基,烯丙基或乙烯基氧基,和未取代的或单取代的氨磺酰基或取代的磺酰基亚氨基的低分子化合物。
含氨磺酰基的高分子化合物对含酚羟基的高分子化合物的混合比例优选为1/99-40/60,更优选5/95-30/70。优选含氨磺酰基的高分子化合物是较小侧链的一个组分。
关于另一个形成突起的方法,可使用这种方法,其中通过在涂布上层热敏层过程中,用涂布溶剂部分洗脱下层中的碱溶性树脂,当上层热敏层变成干膜时,从下层洗脱的碱溶性树脂导致上层热敏层中的碱溶性树脂相分离,并且变成球形,从而产生与加入颗粒相同的效果。这样,类似于导致两种或多种碱溶性树脂相分离的上述方法,优选将含酚羟基的高分子化合物与含氨磺酰基的高分子化合物结合。分别选择含酚羟基的高分子化合物作为上层热敏层的碱溶性树脂和含磺酰基的高分子化合物作为下层的碱溶性树脂是理想的。
如同此处所提及的突起的定义,在上层热敏层中形成不均匀部分作为表面突起是重要的。支架的不均匀部分和下层的不均匀部分不包括在本发明所定义的突起中。通常,通过截面的显微照相可区分突起。此外,优选突起具有至少0.05μm的高度,但本发明并不一直局限于此。
需要的突起的数目为每平方微米0.1个或更多但不超过7个,优选每平方微米0.2个或更多但不超过3个。
[碱溶性树脂]
在本发明中,在上层热敏层和下层中使用的不溶于水但溶于碱的高分子化合物(在下文中有时也表示为“碱溶性高分子化合物”)包括它们的在聚合分子的主链和/或侧链中包含酸性基团的均聚物,和它们的共聚物或它们的混合物。因此,依照本发明的上层热敏层和下层具有这样的特征,即当使它们与碱性显影液接触时,它们溶解在其中。
本发明的特征在于上层热敏层具有至少两种碱溶性树脂,其在碱性含水溶液中彼此具有不同的溶解速度,并且所述碱溶性树脂彼此产生相分离。
测量碱溶性树脂的溶解速度,作为在具有10或更大pH值的碱性含水溶液优选要使用的显影液中的溶解速度。在处于涂膜状态下测量溶解速度是重要的。关于测量方法,可通过在具有镜面并且反射激光的基质上涂布碱溶性树脂以检测干涉波的周期来测量溶解速度。
只要溶解速度是不同的,可使用在碱性含水溶液中用于上层热敏层的两种碱溶性高分子化合物之间任何比率的溶解速度。优选比率为1.05-50,特别优选1.1-10。
关于此处使用的碱溶性高分子化合物,可使用常规已知的碱溶性高分子化合物而无特别限制。优选的实例包括在其分子中包含下述官能基团的高分子化合物:(1)酚羟基,(2)氨磺酰基和(3)活性亚氨基。
然而,从基于用例如,红外激光器曝光,具有优异的成像性能的观点出发,在上层热敏层的一边使用的高分子化合物理想地具有酚羟基。此外,为了由于相分离在表面上形成不均匀部分,要在上层热敏层的另一侧使用的高分子化合物应理想地具有氨磺酰基和活性亚氨基。
下面将给出具体实例,但不应解释为本发明局限于此。
(1)含酚羟基的高分子化合物的实例包括酚醛清漆树脂类例如酚-甲醛树脂类,间-甲酚-甲醛树脂类,对-甲酚-甲醛树脂类,间-/对-混合的甲酚-甲醛树脂类,和酚/甲酚(任何间-,对-或间-/对-混合物)混合的甲醛树脂类,和焦倍酚丙酮树脂。此外,在其侧链具有酚羟基的高分子化合物也优选作为含酚羟基的高分子化合物。在其侧链具有酚羟基的高分子化合物的实例包括通过均聚可聚合的单体或将这种可聚合单体与其它可聚合单体共聚而获得的高分子化合物,所述可聚合单体包含一种含至少一个酚羟基和可聚合的不饱和键之一的低分子化合物。
含酚羟基的可聚合单体的实例包括丙烯酰胺,甲基丙烯酰胺,丙烯酸酯,甲基丙烯酸酯和羟基苯乙烯,每个均包含酚羟基。具体地,可适当使用N-(2-羟基苯基)丙烯酰胺,N-(3-羟基苯基)丙烯酰胺,N-(4-羟基苯基)丙烯酰胺,N-(2-羟基苯基)甲基丙烯酰胺,N-(3-羟基苯基)甲基丙烯酰胺,N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺,邻-羟基苯基丙烯酸酯,间-羟基苯基丙烯酸酯,对-羟基苯基丙烯酸酯,邻-羟基苯基甲基丙烯酸酯,间-羟基苯基甲基丙烯酸酯,对-羟基苯基甲基丙烯酸酯,邻-羟基苯乙烯,间-羟基苯乙烯,对-羟基苯乙烯,2-(2-羟基苯基)乙基丙烯酸酯,2-(3-羟基苯基)乙基丙烯酸酯,2-(4-羟基苯基)乙基丙烯酸酯,2-(2-羟基苯基)乙基甲基丙烯酸酯,2-(3-羟基苯基)乙基甲基丙烯酸酯,和2-(4-羟基苯基)乙基甲基丙烯酸酯。这类含酚羟基的树脂可以它们的两种或多种结合的方式使用。
此外,可联合使用如美国专利号4,123,279中公开的酚和甲醛的缩聚物类,例如叔丁基酚-甲醛树脂类和辛基酚-甲醛树脂类,所述酚包含作为取代基的具有3-8个碳原子的烷基。
(2)碱溶性含氨磺酰基的高分子化合物的实例包括通过均聚含氨磺酰基的可聚合单体或将这种可聚合单体与其它可聚合单体共聚而获得的高分子化合物。含氨磺酰基可聚合单体的实例包括包含低分子化合物的可聚合单体,所述低分子化合物包含至少一个氨磺酰基和可聚合的不饱和键之一,所述氨磺酰基-NH-SO2-在一个分子中具有至少一个结合到氮原子上的氢原子。其中,优选包含丙烯酰基,烯丙基或乙烯基氧基,和未取代的或单取代的氨磺酰基或取代的磺酰基亚氨基。
(3)关于含活性亚氨基的碱溶性高分子化合物,优选那些在其分子中包含活性亚氨基的化合物。这类高分子化合物的实例包括通过均聚包含低分子化合物的可聚合单体或将这种可聚合单体与其它可聚合单体共聚而获得的高分子化合物,所述低分子化合物在其一个分子中包含至少一个活性亚氨基和可聚合不饱和键之一。
可适当使用的这类化合物的具体实例包括N-(对-甲苯磺酰)甲基丙烯酰胺和N-(对-甲苯磺酰)丙烯酰胺。
关于与含酚羟基的可聚合单体、含氨磺酰的可聚合单体或含活性亚氨基的可聚合单体共聚合的单体组分,可列举下述化合物(m1)-(m12),但不应解释为本发明限制于此。
包含脂族羟基的(m1)丙烯酸酯类和甲基丙烯酸酯类,例如2-羟乙基丙烯酸酯和2-羟乙基甲基丙烯酸酯。
(m2)丙烯酸烷基酯类例如丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯,丙烯酸丙酯,丙烯酸丁酯,丙烯酸戊酯,丙烯酸己酯,丙烯酸辛酯,丙烯酸苄酯,丙烯酸2-氯乙酯,和丙烯酸缩水甘油酯。
(m3)丙烯酸烷基酯类例如甲基丙烯酸甲酯,甲基丙烯酸乙酯,甲基丙烯酸丙酯,甲基丙烯酸丁酯,甲基丙烯酸戊酯,甲基丙烯酸己酯,甲基丙烯酸环己酯,甲基丙烯酸苄酯,甲基丙烯酸2-氯乙酯,和甲基丙烯酸缩水甘油酯。
(m4)丙烯酰胺类和甲基丙烯酰胺类例如丙烯酰胺,甲基丙烯酰胺,N-羟甲基丙烯酰胺,N-乙基丙烯酰胺,N-己基甲基丙烯酰胺,N-环己基丙烯酰胺,N-羟乙基丙烯酰胺,N-苯基丙烯酰胺,N-硝基苯基丙烯酰胺,和N-乙基-N-苯基丙烯酰胺。
(m5)乙烯基醚类例如乙基乙烯基醚,2-氯乙基乙烯基醚,羟乙基乙烯基醚,丙基乙烯基醚,丁基乙烯基醚,辛基乙烯基醚和苯基乙烯基醚。
(m6)乙烯基酯类例如乙烯基乙酸酯,氯代醋酸乙烯酯,丁酸丁酯,和苯甲酸乙烯酯。
(m7)苯乙烯类例如苯乙烯,α-甲基苯乙烯,甲基苯乙烯,和氯甲基苯乙烯。
(m8)乙烯基甲酮类例如甲基·乙烯基甲酮,乙基乙烯基甲酮,丙基乙烯基甲酮,和苯基乙烯基甲酮。
(m9)烯烃类例如乙烯,丙烯,异丁烯,丁二烯和异戊二烯。
(m10)N-乙烯基吡咯烷酮,丙烯腈,甲基丙烯腈等。
(m11)不饱和的酰亚胺类例如马来酰亚胺,N-丙烯酰丙烯酰胺,N-乙酰基甲基丙烯酰胺,N-丙酰基甲基丙烯酰胺,和N-(对-氯苯甲酰基)甲基丙烯酰胺。
(m12)不饱和羧酸类例如丙烯酸,甲基丙烯酸,马来酸酐和衣康酸。
优选的含酚羟基的碱溶性高分子化合物的实例包括酚醛清漆树脂类例如酚-甲醛树脂类,间-甲酚-甲醛树脂类,对-甲酚-甲醛树脂类,间-/对-混合的甲酚-甲醛树脂类,和酚/甲酚(任何间-,对-或间-/对-混合物)混合的甲醛树脂类,和焦倍酚丙酮树脂。
此外,可联合使用如美国专利号4,123,279中公开的酚和甲醛的缩聚物类,例如叔丁基酚-甲醛树脂类和辛基酚-甲醛树脂类,所述酚包含作为取代基的具有3-8个碳原子的烷基。
在本发明中,当所述碱溶性高分子化合物是前述含酚羟基的可聚合单体、含氨磺酰基的可聚合单体、或含活性亚氨基的可聚合单体的均聚物或共聚物时,优选那些具有2,000或更大重均分子量(Mw)和500或更大数均分子量(Mn)的化合物。
而且,更优选那些具有5,000-300,000重均分子量,800-250,000数均分子量,和1.1-10分散度(Mw/Mn)的化合物。
而且,在本发明中,当碱溶性高分子化合物是例如酚-甲醛树脂类和甲酚-甲醛树脂类的树脂时,优选那些具有500-20,000重均分子量和200-10,000数均分子量的化合物。
在所述上层热敏层中使用的至少两种碱溶性树脂中,这种情况是理想的,即至少一种碱溶性树脂是含酚羟基的树脂。这是因为这种含酚羟基的树脂从下述立场出发是优异的:在上层热敏层中,在未曝光区域产生强烈的氢键合性能,并且在曝光区域,一部分氢键易于释放。更优选地,可列举酚醛清漆树脂类。此外,在所述上层热敏层中使用的至少两种碱溶性树脂中,这种情况是理想的,即至少一种碱溶性树脂是丙烯酸树脂。这是因为这种丙烯酸树脂与含酚羟基的树脂类在相容性方面较差。更优选地,可列举含氨磺酰基的丙烯酸树脂类。
以全部的50-90%重量的量在上层热敏层中加入至少两种碱溶性高分子化合物。
当碱溶性高分子化合物的加入量少于50%重量时,降低了热敏层的耐久性,而当加入量超过90%重量时,感光度和耐久性均不令人满意。
此外,在碱性含水溶液中具有不同溶解速度的两种碱溶性高分子化合物的混合比率不受限制。然而,以重量为基准,优选具有较低溶解速度的碱溶性树脂对具有较高溶解速度的碱溶性树脂的混合比率为50/50-99/1,更优选70/30-97/3。顺便提及,低混合比率那一边是具有较高溶解速度的碱溶性树脂。
优选地,在碱溶性高分子化合物中,以60%重量-99.8%重量的量使用含酚羟基的碱溶性高分子化合物,其中在未曝光区域产生强烈的氢键合特性,并且在曝光区域一部分氢键易于释放。
当含酚羟基的碱溶性高分子化合物的量少于60%重量时,降低了成像性能,而当用量超过99.8%重量时,不能期待本发明的效果。
顺便提及,优选在本发明中使用的碱溶性高分子化合物在上层热敏层和下层之间彼此一致。
[吸收红外线的染料]
在本发明中,关于在热敏层中使用的吸收红外线染料,可使用任何能吸收红外线产生热的染料而无特别限制,并且可使用已知作为吸收红外线染料的各种染料。
作为依照本发明的吸收红外线的染料,可利用商业上可获得的染料和如在文献(例如Senryo Binran(Handbook of Dyes),合成有机化学协会(The Society of Synthetic Organic Chemistry)编辑,日本,1970年出版)中所描述的已知染料。具体的实例包括偶氮染料,金属配盐偶氮染料,吡唑啉酮偶氮染料,蒽醌染料,酞菁染料,碳鎓染料,醌亚胺,次甲基染料,和花青染料。在本发明中,这些染料中,特别优选能吸收红外线或近红外线的染料,因为它们适于在发射红外线或近红外线的激光器中使用。
这类能吸收红外线或近红外线的染料的实例包括如JP-A-58-125246,JP-A-59-84356,JP-A-59-202829和JP-A-60-78787中所描述的花青染料;如JP-A-58-173696,JP-A-58-181690,和JP-A-58-194595中所描述的次甲基染料;如JP-A-58-112793,JP-A-58-224793,JP-A-59-48187,JP-A-59-73996,JP-A-60-52940,和JP-A-60-63744中所描述的萘醌染料;如JP-A-58-112792所描述的squarilium着色剂;和如英国专利号434,875中所描述的花青染料。
此外,如美国专利号5,156,938中所描述的吸收近红外线的敏化剂也可适当用作染料。而且,特别优选使用如美国专利号3,881,924中所描述的被取代的芳基苯并(硫代)吡喃鎓(pyrylium)盐,如在JP-A-57-142645(相对于美国专利号4,327,169)中所描述的三次甲基硫代吡喃鎓盐;如JP-A-58-181051,JP-A-58-220143,JP-A-59-41363,JP-A-59-84248,JP-A-59-84249,JP-A-59-146063,和JP-A-59-146061中所描述的吡喃鎓基化合物;如JP-A-59-216146中所描述的花青着色物质;如美国专利号4,283,475中所描述的五次甲基硫代吡喃鎓盐;如JP-B-5-13514和JP-B-5-19702中所描述的吡喃鎓化合物类;和商业上可获得的Epolin Inc.的产品,包括Epolight III-178,Epolight III-130和Epolight III-125。
此外,作为其它特别优选的染料的实例,可列举的如美国专利号4,756,993中所描述的,由式(I)和(II)表示的近红外线吸收染料。
这些红外线吸收染料可仅加入到上层热敏层,也可加入到下层中。通过向下层加入红外线吸收染料,可能也使下层起到热敏层的作用。在向下层加入红外线吸收染料的情况下,可使用那些与在上层热敏层使用的相同或不同的红外线吸收染料。
可将这些红外线吸收染料加入到含其它组分的同一层中,或可加入到分开提供的层中。在提供分离层的情况下,将红外线吸收染料加入到临近热敏层的层中是理想的。而且,尽管优选在同一层中包含染料和碱溶性树脂,但可将染料和碱溶性树脂加入到彼此不同的层中。
就上层热敏层而言,基于印刷版材料的总固体含量,以0.01-50%重量,优选0.1-30%重量,特别优选1.0-30%重量的量向印刷版材料中加入染料。当染料的加入量少于0.01%重量时,感光度较低,而当它超过50%重量时,上层热敏层丧失均匀性,从而降低了上层热敏层的耐久性。
就下层而言,基于下层的总固体含量,可以0-20%重量,优选0-10%重量,特别优选0-5%重量的量向印刷版材料中加入染料。当向下层加入红外线吸收染料时,尽管降低了下层的溶解,但加入红外线吸收染料能够使人期待由于曝光过程中的热量导致下层溶解的增加。然而,在支架附近0.2-0.3μm区域中,不发生由于曝光过程中的热量导致的溶解增加,并且通过加入红外线吸收染料导致的下层溶解的减少是降低感光度的因素。因此,即使在前述加入量的特定范围内,不优选使下层的溶解速率少于30nm的加入量。
[其它添加剂]
在形成阳图型热敏层下层的过程中,如果需要,只要不削弱本发明的效果,除了前述基本组分以外,可加入各种添加剂。同样,在上层热敏层中,如果需要,只要不削弱本发明的效果,除了前述基本组分以外,可加入各种添加剂。添加剂可仅包含于下层,可仅包含于上层热敏层,或可包含于两个层中。添加剂的实例将在下文描述。
[溶解抑制剂]
在本发明的热敏平版印刷版中,为了增强抑制溶解,可在图像记录层中包含各种抑制剂。
不特别限制抑制剂,实例包括季铵盐和聚乙二醇基化合物。
不特别限制季铵盐,实例包括四烷基铵盐,三烷基芳基铵盐,二烷基二芳基铵盐,烷基三芳基铵盐,四芳基铵盐,环铵盐,和二环铵盐。
具体实例包括溴化四丁基铵,溴化四戊基铵,溴化四己基铵,溴化四辛基铵,溴化四月桂基铵,溴化四苯基铵,溴化四萘基铵,氯化四丁基铵,碘化四丁基铵,溴化四硬脂铵,溴化月桂基三甲基铵,溴化硬脂基三甲基铵,溴化山嵛基三甲基铵,溴化月桂基三乙基铵,溴化苯基三甲基铵,溴化3-三氟甲基苯基三甲基铵,溴化苄基三甲基铵,溴化二苄基二甲基铵,溴化二硬脂基二甲基铵,溴化三硬脂基甲基铵,溴化苄基三乙基铵,溴化羟基苯基三甲基铵,和溴化N-甲基苯基偶氮二氨基吡啶。特别地,优选如日本专利申请号2001-226297,2001-370059和2001-398047中所描述的季铵盐。
基于图像记录层的总固体含量,依照固体含量,季铵盐的加入量优选0.1-50%重量,更优选1-30%重量。当季铵盐的加入量少于0.1%重量时,溶解抑制作用较低,因此,这是不优选的。另一方面,当它超过50%重量时,可能不利地影响粘合剂的成膜性能。
不特别限制聚乙二醇化合物,实例包括那些具有下述结构的化合物。
                    R1-{-O-(R3-O-)m-R2}n
在上式中,R1表示多元醇残基或多元酚残基;R2表示氢原子或任选被取代的烷基,烯基,炔基,烷酰基,芳基或芳酰基,每个具有1-25个碳原子;R3表示任选被取代的亚烷基残基;m平均是10或更大;n是1或更大的整数,并且不超过4。
具有上述结构的聚乙二醇化合物的实例包括聚乙二醇,聚丙二醇,聚乙二醇烷基醚,聚丙二醇烷基醚,聚乙二醇芳基醚,聚丙二醇芳基醚,聚乙二醇烷基芳基醚,丙二醇烷基芳基醚,聚乙二醇甘油酯,聚丙二醇甘油酯,聚乙二醇山梨糖醇酯,聚丙二醇山梨糖醇酯,聚乙二醇脂肪酸酯,聚丙二醇脂肪酸酯,聚乙烯乙醇酸酯化的乙二胺,聚丙烯乙醇酸酯化的乙二胺,聚乙烯乙醇酸酯化的二亚乙基三胺,和聚丙烯乙醇酸酯化的二亚乙基三胺。
这些聚乙二醇化合物的具体实例包括聚乙二醇1000,聚乙二醇2000,聚乙二醇4000,聚乙二醇10000,聚乙二醇20000,聚乙二醇50000,聚乙二醇100000,聚乙二醇200000,聚乙二醇500000,聚丙二醇1500,聚丙二醇3000,聚丙二醇4000,聚乙二醇甲醚,聚乙二醇乙醚,聚乙二醇苯醚,聚乙二醇二甲醚,聚乙二醇二乙醚,聚乙二醇二苯醚,聚乙二醇月桂醚,聚乙二醇二月桂醚,聚乙二醇壬醚,聚乙二醇鲸蜡醚,聚乙二醇硬脂醚,聚乙二醇二硬脂醚,聚乙二醇山嵛醚,聚乙二醇二山嵛醚,聚丙二醇甲醚,聚丙二醇乙醚,聚丙二醇苯醚,聚丙二醇二甲醚,聚丙二醇二乙醚,聚丙二醇二苯醚,聚丙二醇月桂醚,聚丙二醇二月桂醚,聚丙二醇壬醚,聚乙二醇乙酰基酯,聚乙二醇二乙酰基酯,聚乙二醇苯甲酸酯,聚乙二醇月桂酯,聚乙二醇二月桂酯,聚乙二醇壬酸酯,聚乙二醇棕榈酸酯,聚乙二醇硬脂酰酯,聚乙二醇二硬脂酰酯,聚乙二醇山嵛酸酯,聚乙二醇二山嵛酸酯,聚丙二醇乙酰基酯,聚丙二醇二乙酰基酯,聚丙二醇苯甲酸酯,聚丙二醇二苯甲酸酯,聚丙二醇月桂酸酯,聚丙二醇二月桂酸酯,聚丙二醇壬酸酯,聚乙二醇甘油醚,聚丙二醇甘油醚,聚乙二醇山梨糖醇醚,聚丙二醇山梨糖醇醚,聚乙烯乙醇酸酯化的乙二胺,聚丙烯乙醇酸酯化的乙二胺,聚乙烯乙醇酸酯化的二亚乙基三胺,聚丙烯乙醇酸酯化的二亚乙基三胺,和聚乙烯乙醇酸酯化的五亚甲基六胺。
基于热敏层(图像记录层)的总固体含量,依照固体含量,聚乙二醇化合物的加入量优选为0.1-50%重量,更优选1-30%重量。当聚乙二醇化合物的加入量少于0.1%重量时,溶解抑制作用较低,因此,这是不优选的。另一方面,当它超过50%重量时,不能与粘合剂共同作用的聚乙二醇化合物促进显影液的渗透,从而可能不利地影响成像性能。
此外,在采取提高溶解抑制的方法的情况下,降低了感光度。然而,假使这样,加入内酯化合物是有效的。这可能是考虑到当显影液渗透到曝光区域时,内酯化合物与显影液反应,重新形成羧酸化合物,其有助于曝光区域的溶解,从而提高感光度。
不特别限制内酯化合物,实例包括用下式(L-I)和(L-II)表示的化合物。
式(L-I)
Figure C0314854000181
式(L-II)
Figure C0314854000191
在式(L-I)和(L-II)中,X1,X2,X3和X4每个表示成环原子或原子团,可以相同或不同,并且可以独立的具有取代基;和式(L-I)中X1,X2和X3的至少一个和式(L-II)中X1,X2,X3,和X4的至少一个,每个具有吸电子取代基或用吸电子基团取代的取代基。
用X1,X2,X3和X4表示的成环原子或原子团是具有两个单键以成环的非金属原子或包含这种非金属原子的原子团。
优选的非金属原子或非金属原子团是选自下述的原子或原子团:亚甲基,亚硫酰基,羰基,硫代羰基,磺酰基,硫原子,氧原子,和硒基团,更优选选自亚甲基、羰基和磺酰基的原子团。
式(L-I)中X1,X2和X3的至少一个和式(L-II)中X1,X2,X3和X4的至少一个,每个具有一个吸电子取代基。在本说明书中,吸电子取代基表示哈梅特取代常数σp为正值的基团。关于哈梅特取代常数,例如可查阅Journal of Medicinal Chemistry,1973,16卷,11期,1207-1216。哈梅特取代常数σp为正值的吸电子基团的实例包括卤素原子(例如氟原子(σp值:0.06),氯原子(σp值:0.23),溴原子(σp值:0.23),和碘原子(σp值:0.18)),三卤代烷基(例如三溴甲基(σp值:0.29),三氯甲基(σp值:0.33)和三氟甲基(σp值:0.54)),氰基(σp值:0.66),硝基(σp值:0.78),脂族、芳基或杂环磺酰基(例如甲磺酰基(σp值:0.72)),脂族、芳基或杂环酰基(例如乙酰基(σp值:0.50))和苯甲酰基(σp值:0.43)),炔基(例如C≡CH(σp值:0.23)),脂族、芳基和杂环氧基羰基(例如甲氧基羰基(σp值:0.45))和苯氧基羰基(σp值:0.44)),氨基甲酰基(σp值:0.36),氨磺酰基(σp值:0.57),亚砜基团,杂环基团,桥氧基,和磷酰基。
优选的吸电子基团是选自下述的基团:酰胺基,偶氮基,硝基,具有1-5个碳原子的氟烷基,腈基,具有1-5个碳原子的烷氧基羰基,具有1-5个碳原子的酰基,具有1-9个碳原子的烷基磺酰基,具有6-9个碳原子的芳基磺酰基,具有1-9个碳原子的烷基亚硫酰基,具有6-9个碳原子的芳基亚硫酰基,具有6-9个碳原子的芳基羰基,硫代羰基,具有1-9个碳原子的含氟烷基,具有6-9个碳原子的含氟芳基,具有3-9个碳原子的含氟烯丙基,桥氧基,和卤素。
更优选的吸电子基团是选自下述的基团:硝基,具有1-5个碳原子的氟烷基,腈基,具有1-5个碳原子的烷氧基羰基,具有1-5个碳原子的酰基,具有6-9个碳原子的芳基磺酰基,具有6-9个碳原子的芳基羰基,桥氧基,和卤素。
由式(L-I)和(L-II)表示的化合物的具体实例将在下文给出,但不应解释为本发明局限于此。
Figure C0314854000211
基于热敏层的总固体含量,依照固体含量,由式(L-I)或(L-II)表示的化合物的加入量优选0.1-50%重量,更优选1-30%重量。当由式(L-I)或(L-II)表示的化合物的加入量少于0.1%重量时,作用较低,而当它超过50%重量时,破坏了成像性能。顺便提及,由于这种化合物与显影液反应,它与显影液选择性接触是理想的。
这些内酯化合物可单独使用或联合使用。此外,依照总的加入量,两种或多种化合物由式(L-I)表示的化合物,或两种或多种由式(L-II)表示的化合物,可在上述特定范围内,以任意比率结合使用。
此外,从增强图像区域进入到显影液的溶解抑制的观点出发,优选联合使用可热分解并且处于非分解状态、基本上减少碱溶性高分子化合物的溶解的物质,例如鎓盐,邻-醌二叠氮化物化合物,芳香砜化合物,和芳香磺酸酯化合物。鎓盐的实例包括二氮鎓盐,铵盐,鏻盐,碘鎓盐,锍盐,硒鎓盐(selenonium salt),和鉮盐。
在本发明中使用的鎓盐的合适的实例包括如在S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974),T.S.Bal,等.,Polymer,21,423(1980),和JP-A-5-158230中所描述的重氮鎓盐;如在美国专利号4,069,055和4,069,056和JP-A-3-140140中所描述的铵盐;如在D.C.Necker,等.,Macromolecules,17,2468(1984),C.S.Wen,等.,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing,ASIA,478页,Tokyo,10月(1988),和美国专利号4,069,055和4,069,056中所描述的膦盐;如在J.V.Crivello,等.,Macromolecules,10(6),1307(1977),Chem.& Eng.News,11月.,28,31页(1988),欧洲专利号104,143,JP-A-2-150848和JP-A-2-296514中所描述的碘鎓盐;如在J.V.Crivello,等.,Polymer J.,17,73(1985),J.V.Crivello,等.,J.Org.Chem.,43,3055(1978),W.R.Watt,等.,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984),J.V.Crivello,等.,Polymer Bull.,14,279(1985),J.V.Crivello,等.,Macromolecules,14(5),1141(1981),J.V.Crivello,等.,Polymer Sci.,PolymerChem.Ed.,17,2877(1979),欧洲专利号370,693,233,567,297,443和297,442,美国专利号4,933,377,3,902,114,4,760,013,4,734,444和2,833,827和德国专利号2,904,626,3,604,580和3,604,581中所描述的锍盐;如在J.V.Crivello,等.,Macromolecules,10(6),1307(1977)和J.V.Crivello,等.,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)中所描述的硒鎓盐;和如在C.S.Wen,et al.,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing,ASIA,p.478,Tokyo,Oct(1988)中所描述的鉮盐。
这些鎓盐中,特别优选重氮鎓盐。而且,重氮鎓盐的特别合适的实例是那些如JP-A-5-158230所描述的重氮鎓盐。
鎓盐的抗衡离子的实例包括四氟硼酸,六氟磷酸,三异丙基萘磺酸,5-硝基-邻-甲苯磺酸,5-硫代水杨酸,2,5-二甲基苯磺酸,2,4,6-三甲基苯磺酸,2-硝基苯磺酸,3-氯苯磺酸,3-溴苯磺酸,2-氟辛基(capryl)萘磺酸,十二烷基苯磺酸,1-萘酚-5-磺酸,2-甲氧基-4-羟基-5-苄基-苯磺酸,和对-甲苯磺酸。这些中特别合适的是六氟磷酸,三异丙基萘磺酸,和烷基芳香磺酸例如2,5-二甲基苯磺酸。
醌二叠氮化物的合适的实例包括邻-醌-二叠氮化物化合物。本发明中使用的邻-醌二叠氮化物化合物是包含至少一个邻-醌二叠氮化物基团的化合物,通过热分解其碱溶性提高,并且可使用具有各种结构的化合物。即,邻-醌二叠氮化物有助于光敏材料的溶解,这是由于两种作用,一种作用是通过热分解它失去了粘合剂的溶解抑制作用,另一种作用是邻-醌二叠氮化合物本身转变成碱溶性物质。本发明中使用的邻-醌二叠氮化物化合物的实例包括如J.Kosar,Light-Sensitive Systems,339-352页,John Wiley & Sons.Inc描述的化合物。特别地,与各种芳香多羟基化合物或芳香氨基化合物反应的邻-醌二叠氮化物的磺酸酯类或磺酸酸类是合适的。此外,也可适当使用如JP-B-43-28403中所描述的苯醌-(1,2)-二叠氮磺酰氯或萘醌-(1,2)-二叠氮-5-磺酰氯与焦倍酚-丙酮树脂的酯和如美国专利号3,046,120和3,188,210中所描述的苯醌-(1,2)-二叠氮磺酰氯或萘醌-(1,2)-二叠氮-5-磺酰氯与酚-甲醛树脂的酯。
另外,萘醌-(1,2)-二叠氮-4-磺酰氯和酚-甲醛树脂或甲酚-甲醛树脂的酯和萘醌-(1,2)-二叠氮-4-磺酰氯和焦倍酚-丙酮树脂的酯也是适于使用的。此外,各种专利例如JP-A-47-5303,JP-A-48-63802,JP-A-48-63803,JP-A-48-96575,JP-A-49-38701,JP-A-48-13354,JP-B-41-11222,JP-B-45-9610,JP-B-49-17481,美国专利号2,797,213,3,454,400,3,544,323,3,573,917,3,674,495和3,785,825,英国专利号1,227,602,1,251,345,1,267,005,1,329,888和1,330,932和德国专利号854,890报道并且了解了有用的邻-醌二叠氮化物化合物。
基于印刷版材料的总固体含量,邻-醌二叠氮化物化合物的加入量优选为1-50%重量,更优选5-30%重量,特别优选10-30%重量。这类邻-醌二叠氮化物化合物可单独或以混合物形式使用。
如JP-A-2000-187318中所描述,为了增强热敏层表面的溶解抑制和增强对表面上磨损抗性,优选联合使用包含(甲基)丙烯酸酯单体作为聚合组分的聚合物,所述单体在其分子中具有两个或三个全氟烃基,所述烃基具有3-20个碳原子。
依照在层材料中所占的比例,这种聚合物的加入量优选0.1-10%重量,更优选0.5-5%重量。
[显影促进剂]
为了进一步提高感光度,可联合使用酸酐类,酚类和有机酸类。
关于酸酐类,优选环状酸酐。环状酸酐的具体实例包括邻苯二甲酸酐,四氢化邻苯二甲酸酐,六氢化邻苯二甲酸酐,3,6-桥氧-四氢化邻苯二甲酸酐,四氯邻苯二甲酸酐,马来酸酐,氯代马来酸酐,α-苯基马来酸酐,琥珀酸酐,和1,2,4,5-苯四酸酐,如美国专利号4,115,128中所描述。无环酸酐类的实例包括乙酐。
酚类的实例包括双酚A,2,2’-二羟基砜,对-硝基苯酚,对-乙氧基苯酚,2,4,4’-三羟基二苯甲酮,2,3,4-三羟基二苯甲酮,4-羟基二苯甲酮,4,4’,4”-三羟基三苯基甲烷,和4,4’,3”,4”-四羟基-3,5,3’,5’-四甲基三苯基甲烷。
另外,有机酸类的实例包括磺酸类,亚磺酸类,烷基硫酸类,膦酸类,膦酸酯类,和羧酸类,如JP-A-60-88942和JP-A-2-96755中所描述。具体实例包括对-甲苯磺酸,十二烷基苯磺酸,对-甲苯亚磺酸,乙基硫酸,苯膦酸,苯次膦酸,磷酸苯酯,磷酸二苯酯,苯甲酸,间苯二酸,己二酸,甲苯甲酸,3,4-二甲氧基苯甲酸,邻苯二甲酸,对苯二甲酸,4-环己烯-1,2-二羧酸,芥酸,月桂酸,正-十一酸,和抗坏血酸。
酸酐类,酚类或有机酸类在印刷版材料中所占的比例优选0.05-20%重量,更优选0.1-15%重量,特别优选0.1-10%重量。
[表面活性剂]
在本发明中,为了针对显影条件提高加工的涂布性能和扩展稳定性,如JP-A-62-251740和JP-A-3-208514中所描述的非离子表面活性剂,如JP-A-59-121044和JP-A-4-13149中所描述的两性表面活性剂,如欧洲专利号950,517中所描述的环己烷基化合物,和如JP-A-62-170950,JP-A-11-288093和日本专利申请号2001-247351中所描述的含氟单体共聚物可加入到上层热敏层和下层中。
非离子表面活性剂的具体实例包括脱水山梨醇三硬脂酸酯,脱水山梨醇单棕榈酸酯,脱水山梨醇三油酸酯,硬脂酸单甘油酯,和聚氧化乙烯壬基苯基醚。两性表面活性剂的具体实例包括烷基二(氨乙基)甘氨酸类,烷基聚氨乙基甘氨酸氢氯化物,2-烷基-N-羧基-乙基-N-羟乙基咪唑鎓盐甜菜碱类和N-十四烷基-N,N-甜菜碱类(例如商品名:Amogen K,由Daiichi Kogyo Seiyaku Co.,Ltd.制造)。
关于环己烷基化合物,优选二甲基环噁烷和聚环氧烷的嵌段共聚物。具体的实例包括聚环氧烷改性的硅氧烷,例如DBE-224,DBE-621,DBE-712,DBE-732和DBP-534(由Chisso Corporation制造)和Tego Glide100(由Tego Chemie Service GmbH制造,德国)。
非离子表面活性剂或两性表面活性剂在印刷版材料中所占的比例优选为0.01-15%重量,更优选为0.01-5%重量,更优选0.05-0.5%重量。
[显像剂(printing-out agent)/着色剂]
在本发明的热敏平版印刷版中,可在上层热敏层和下层中加入为了通过曝光加热后立即获得可视图像的显像剂和作为图像着色剂的染料或颜料。
显像剂的代表实例包括通过曝光加热能释放酸的化合物(光酸释放剂)与能形成盐的有机染料的结合物。具体实例包括如JP-A-50-36209和JP-A-53-8128中所描述的邻-萘醌-二叠氮化物-4-磺酸卤化物与成盐的有机染料的结合物,如JP-A-53-36223、JP-A-54-74728、JP-A-60-3626、JP-A-61-143748、JP-A-61-151644和JP-A-63-58440所描述的三卤代甲基化合物与成盐有机染料的结合物。这类三卤代甲基化合物的实例包括恶唑基化合物和三嗪基化合物,这些化合物随着时间在稳定性方面是优异的,并且提供清楚的显像图像。
关于图像着色剂,可使用除了前述成盐有机染料的其它染料。包含成盐有机染料的合适的染料的实例包括油溶染料和碱性染料。具体实例包括油黄#101,油黄#103,Oil Pink #312,Oil Green BG,Oil Blue BOS,Oil Blue#603,Oil Black BY,Oil Black BS和Oil Black T-505(所有均由Orient Chemical Industries,Ltd.制造),维多利亚纯蓝(Victoria Pure Blue),结晶紫内酯,结晶紫(CI42555),甲基紫(CI42535),乙基紫,若丹明B(CI145170B),孔雀绿(CI42000),和亚甲蓝(CI52015)。而且,特别优选如JP-A-62-293247中所描述的染料。基于印刷版材料的总固体含量,以0.01-10%重量,优选0.1-3%重量的比例使用这些染料。
[增塑剂]
此外,为了赋予涂布膜以挠性等,如果需要,可在本发明的热敏平版印刷版的上层热敏层和下层中加入增塑剂。实例包括丁基邻苯二酰基,聚乙二醇,柠檬酸三丁酯,邻苯二甲酸二乙酯,邻苯二甲酸二丁酯,邻苯二甲酸二己酯,邻苯二甲酸二辛酯,磷酸三甲苯酯,磷酸三丁酯,磷酸三辛酯,油酸四氢糠酯,和丙烯酸或甲基丙烯酸的低聚物和共聚物。
[蜡]
为了赋予对磨损的抗性,可在本发明的热敏平版印刷版的上层热敏层和下层中加入能减少表面静摩擦的系数的化合物。具体地,可列举的包括如美国专利号6,117,913和日本专利号2001-261627,2002-032904和2002-165584中所描述的含长链烷基羧酸的酯的化合物。
在组成层的材料中,这种化合物所占的比例优选为0.1-10%重量,更优选0.5-5%重量。
在本发明的热敏平版印刷版中,通常通过在溶剂中溶解各自组分,并在适当的支架上涂布溶液来形成上层热敏层和下层。
此处使用的溶剂的实例包括二氯乙烯,环己酮,甲基·乙基酮,甲醇,乙醇,丙醇,乙二醇一甲基醚,1-甲氧基-2-丙醇,2-甲氧基乙基乙酸酯,1-甲氧基-2-丙基乙酸酯,二甲氧基乙烷,乳酸甲酯,乳酸乙酯,N,N-二甲基乙酰胺,N,N-二甲基甲酰胺,四甲基脲,N-甲基吡咯烷酮,二甲亚砜,环丁砜,γ-丁内酯,和甲苯。然而,不应解释为本发明局限于此。这些溶剂可单独或以混合物的形式使用。
基本上,关于用于涂布的溶剂,优选选择对在上层热敏层中使用的碱溶性高分子化合物和对在下层中使用的碱溶性高分子化合物具有不同的溶解作用的溶剂。为了赋予新的功能,也可能实际进行部分相容。
分别形成两个层的方法的实例包括利用在下层中包含的共聚物和在热敏层中包含的碱溶性树脂之间溶剂溶解作用的差异的方法,和涂布上层热敏层,然后快速干燥并去除溶剂的方法。这些方法将在下文详细描述,但不应解释为分别涂布两层的方法局限于此。
利用在下层中包含的共聚物和在热敏层中包含的碱溶性树脂之间溶剂溶解作用的差异的方法是利用了一种溶剂的方法,其中在涂布碱性含水溶液可溶的树脂过程中,任何具体的包含于下层的共聚物和联合使用的共聚物是不溶的。因此,即使在进行两层涂布时,也可能清楚地分离各个层以形成涂布膜。例如,可如下进行两层涂布:选择包含作为共聚组分的、组成下层组分的特定单体的共聚物,所述下层组分不溶于能溶解碱性含水溶液可溶的树脂的溶剂,所述溶剂例如甲基·乙基酮,和1-甲氧基-2-丙醇;利用能在其中溶解共聚物的溶剂涂布下层,所述下层主要由组成下层组分的共聚物组成,然后干燥下层;然后用在其中不溶解下层组分的溶剂涂布上层热敏层,所述上层热敏层主要由可溶于碱性含水溶液的树脂组成,所述溶剂例如甲基·乙基酮和1-甲氧基-2-丙醇。
另一方面,在涂布第二层后,非常快速地干燥溶剂的方法可如下获得:从狭缝喷嘴吹出高压空气,所述喷嘴基本垂直于卷筒纸的运转方向;从来自辊子(热辊)的卷筒纸的下表面提供热能作为传导热,所述辊子中进料以加热介质例如蒸汽;或它们的结合。
关于在一个标准下,于两层间进行部分相容的方法,所述标准为层彻底显示本发明的效果,通过调整它的相容程度,可使用任何利用溶剂溶解作用的差异的方法和涂布第二层后非常快速地干燥溶剂的方法。
关于在支架上涂布的涂布溶液,可使用那些通过在合适的溶解中溶解这些组分来制备的溶液。在溶剂中,前述组分(总的固体内容物,包括添加剂)的浓度优选为1-50%重量。关于涂布方法,可使用各种方法。实例包括绕线棒刮涂器涂布,旋转涂布,喷雾涂布,幕涂,浸涂,气刀刮涂,刮涂和辊涂。
为了在涂布上层热敏层过程中防止对下层的损伤,涂布上层热敏层的方法是非接触方式是理想的。此外,关于是接触方式,但常用于涂布溶剂体系的方法,可使用绕线棒刮涂器涂布。但是,为了防止对下层的损伤,通过前述操作进行涂布是理想的。
组成下层的全部材料的涂布量优选为0.5-4.0g/m2,更优选0.6-2.5g/m2,所述下层将涂布到热敏平版印刷版的支架上。当涂布量少于0.5g/m2时,可能导致耐印刷性降低。另一方面,当它超过4.0g/m2时,可能破坏图像可再现性,或可能降低感光度。因此,两者都不是优选的。
组成上层热敏层的全部材料的涂布量优选为0.05-1.0g/m2,更优选为0.08-0.7g/m2。当涂布量少于0.05g/m2时,可能导致显影宽容度和耐磨损性降低。另一方面,当它超过1.0g/m2时,可能降低感光度。因此,两者都不是优选的。
上层和下层的总的涂布量优选为0.6-4.0g/m2,更优选0.7-2.5g/m2。当总涂布量少于0.6g/m2时,可能导致耐印刷性降低。另一方面,当它超过4.0g/m2时,可能破坏图像可再现性,或可能降低感光度。因此,两者都不是优选的。
[支架]
关于在本发明的热敏平版印刷版中使用的亲水支架,可列举的是具有必需强度和耐久性的在尺寸上稳定的片状材料。实例包括纸类,与塑料(例如聚乙烯,聚丙烯,和聚苯乙烯)层积的纸类,金属薄片(例如铝,锌,和铜),塑料膜(例如二醋酸纤维素,三醋酸纤维素,丙酸纤维素,丁酸纤维素,乙酸丁酸纤维素,硝酸纤维素,聚对苯二甲酸乙二醇酯,聚乙烯,聚苯乙烯,聚丙烯,聚碳酸酯,和聚乙烯醇缩醛类),和与前述金属层积或蒸汽沉积的纸类或塑料膜类。
关于本发明的支架,优选聚酯膜或铝片。其中,特别优选相对便宜的铝片。合适的铝片是纯铝片和包含铝作为主要组分和微量外来元素的合金片,此外,可使用与铝层积或用铝蒸汽沉积的塑料膜。包含在铝合金中的外来元素的实例包括硅,铁,锰,铜,镁,铬,锌,铋,镍,和钛。合金中外来元素的含量最多10%重量。
在本发明中,纯铝是特别合适的。然而,由于从精练技术的立场出发难以生产完全纯的铝,可使用那些包含些许外来元素的支架。
在本发明中应用的铝片的组成不进行列举,可适当地利用迄今已知并且使用的铝片。在本发明中使用的铝片具有约0.1mm-0.6mm的厚度,优选0.15mm-0.4mm,特别优选0.2mm-0.3mm。
在粗糙化铝片前,如果需要,为了去除表面上的碾油,用例如表面活性剂,有机溶剂或碱性含水溶液脱脂处理铝片。可用各种方法进行铝片表面的粗糙化处理,所述方法例如机械粗糙化表面的方法,通过电化学溶解并粗糙化表面的方法,和化学选择性溶解表面的方法。关于机械方法,可使用已知的方法例如球磨光,刷磨光,鼓风磨光,和磨轮磨光。关于电化学粗糙化加工方法,可使用在盐酸或硝酸电解液中使用的交流电或直流电的方法。此外,可使用如在JP-A-54-63902中公开的两种方法的结合。如果需要,将如此粗糙化加工的铝片进行碱蚀刻处理和中和处理。其后,如果需要,为了增强表面的保水率和抗磨性,可将铝片进一步进行阳极氧化处理。关于用于铝片阳极氧化处理的电解液,可使用能形成多孔氧化膜的各种电解液。通常,可使用硫酸,磷酸,草酸,铬酸或它们的混合的酸。依据电解液的种类,适当地确定这种电解液的浓度。
阳极氧化的处理条件依据电解液而改变,因此,不能明确地规定。通常,这样是适当的:电解液的浓度为1-80%重量,液体温度为5-70℃,电流强度为5-60A/dm2,电压为1-100V,电解时间为10秒-5分钟。当阳极氧化膜的量少于1.0g/m2时,耐印刷性容易不足,或在平版印刷版的非图像区域可能形成磨损,从而可能产生所谓的“磨损污点”,其中在印刷过程中油墨容易粘附到磨损处。阳极氧化加工后,如果需要,对铝表面进行亲水处理。关于在本发明中使用的亲水处理,可使用如美国专利号2,714,066,3,181,461,3,280,734和3,902,734中所公开的碱性硅酸盐(例如硅酸钠含水溶液)。依照该方法,用硅酸钠含水溶液对支架进行浸渍处理或电解处理。此外,还有如JP-B-36-22063中所公开的用氟锆酸钾处理的方法,和如美国专利号3,276,868,4,153,461和4,689,272中所公开的用聚乙烯基膦酸处理的方法。
在本发明中应用的热敏平版印刷版中,在支架上层积并提供阳图型上层热敏层和下层的至少两层。如果需要,在支架和下层之间可提供底涂层。
关于底涂层的组分,使用各种有机化合物。实例包括羧甲基纤维素;糊精;阿拉伯树胶,含氨基的膦酸例如2-氨乙基膦酸;任选被取代的有机膦酸例如苯膦酸,萘基膦酸,烷基膦酸,甘油膦酸,亚甲基二膦酸,和亚乙基二膦酸;任选被取代的有机磷酸例如苯基磷酸,萘基磷酸,烷基磷酸,和甘油磷酸;任选被取代的有机膦酸例如苯基膦酸,萘基膦酸,烷基膦酸,和甘油膦酸;氨基酸例如甘氨酸和β-丙氨酸;和含羟基的氨基氢氯化物例如三乙醇胺氢氯化物。可以混合物的形式使用这些化合物。
可用下述方法提供这种有机底涂层。即,一种方法是在铝片上涂布溶解在水中或有机溶剂例如甲醇,乙醇,和甲基·乙基酮的有机化合物溶液,并干燥以提供有机底涂层;和一种方法是将铝片浸渍到溶解在水中或有机溶剂例如甲醇,乙醇和甲基·乙基酮的有机化合物的溶液中,以使化合物吸附到铝片上,所述铝片随后用水漂洗,等等,并干燥以提供有机底涂层。在前一种方法中,可以各种方法涂布具有0.005-10%重量浓度的有机化合物的溶液。在后一种方法中,溶液的浓度为0.01-20%重量,优选0.05-5%重量;浸渍温度为20-90℃,优选25-50℃;浸渍时间为0.1秒-20分钟,优选2秒-1分钟。可用碱性物质例如氨,三乙胺和氢氧化钾或酸性物质例如盐酸和磷酸调整如此处使用的溶液,使得具有1-12的pH值。为了提高图像记录材料的色调可再现性,可加入黄色染料。
有机底涂层的遮盖力适当地为2-200mg/m2,优选5-100mg/m2。当遮盖力少于2mg/m2时,不能获得足够的耐印刷性。当它超过200mg/m2时,也不能获得足够的耐印刷性。
如果需要,在支架的背表面上提供背面涂层。关于这种背面涂层,优选使用由如在JP-A-5-45885中所描述的有机高分子化合物制成,或如在JP-A-6-35174中所描述的通过水解或缩聚有机或无机金属化合物而获得的金属氧化物制成的涂层。关于这些涂层,硅的烷氧基化合物例如Si(OCH3)4,Si(OC2H5)4,Si(OC3H7)4和Si(OC4H9)4是便宜并且易于商购的,由获自这种硅的烷氧基化合物的金属氧化物制成的涂层在耐显影液方面是优异的,并且是特别优选的。
将如此制得的热敏平版印刷版成影像曝光,然后显影。
用于成影像曝光的光化射线的光源实例包括水银灯,金属卤化物灯,氙气灯,化学灯,和碳弧灯。放射线的实例包括电子束,X-射线,离子射线,和远红外线。此外,也可使用g-线,i-线,深-UV线,和高密度能量束(激光束)。激光束的实例包括氦-氖激光,氩激光,氪激光,氦-镉激光,和KrF准分子激光器。在本发明中,优选在近红外区至红外区具有发射波长的光源,特别优选固态激光器和半导体激光器。
[碱性显影处理步骤]
在本发明的制版方法中,适用于显影步骤的碱性显影处理溶液将在下文描述。碱性显影处理溶液包含非离子表面活性剂和碱和任选其它组分。
(非离子表面活性剂)
在本发明中,通过在碱性显影处理溶液中包含非离子表面活性剂,即使当使用通过增加碱浓度而具有增强显影能力的溶液进行显影时,即在上述条件下,也能产生如下优点,即保持了图像区域对碱性显影处理溶液的耐溶解性,而且增强了对外部磨损的显影稳定性。可以推测这是由碱溶性高分子化合物和非离子表面活性剂的共同作用产生的。当非离子表面活性剂包含环氧乙烷链或环氧丙烷链时,这种共同作用非常强烈,并且当非离子表面活性剂包含环氧乙烷链时特别强烈。可以推测,碱溶性基团,特别是酚羟基与环氧乙烷链互相强烈地作用。
在本发明中,不特别限制非离子表面活性剂,可使用任何常规已知非离子表面活性剂。实例包括聚氧乙烯烷基醚类,聚氧乙烯烷基苯基醚类,聚氧乙烯聚苯乙烯苯基醚类,聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚类,甘油脂肪酸偏酯类,脱水山梨糖醇脂肪酸偏酯类,季戊四醇脂肪酸偏酯类,丙二醇单脂肪酸酯类,糖类脂肪酸偏酯类,聚氧乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸偏酯类,聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸偏酯类,聚乙二醇脂肪酸酯类,聚甘油脂肪酸偏酯类,聚氧乙烯蓖麻油类,聚氧乙烯甘油脂肪酸偏酯类,脂肪酸二乙醇酰胺类,N,N-二-2-羟基烷基胺类,聚氧乙烯烷基胺类,三乙醇胺脂肪酸酯类,和三烷基胺氧化物类。
这些非离子表面活性剂的具体实例包括聚乙二醇,聚氧乙烯月桂基醚,聚氧乙烯壬基醚,聚氧乙烯鲸蜡基醚,聚氧乙烯硬脂酰醚,聚氧乙烯油基醚,聚氧乙烯山嵛醚,聚氧乙烯聚氧丙烯鲸蜡基醚,聚氧乙烯聚氧丙烯山嵛醚,聚氧乙烯苯基醚,聚氧乙烯辛基苯基醚,聚氧乙烯硬脂胺,聚氧乙烯油胺,聚氧乙烯硬脂酸酰胺,聚氧乙烯油酸酰胺,聚氧乙烯蓖麻油,聚氧乙烯松香基醚,聚氧乙烯壬炔醚,聚氧乙烯单月桂酸酯,聚氧乙烯单硬脂酸酯,聚氧乙酰甘油单油酸酯,聚氧乙烯甘油硬脂酸酯,聚氧乙烯丙二醇单硬脂酸酯,氧乙烯-氧丙烯嵌段聚合物,联苯乙烯化的酚聚环氧乙烷加合物,三苄基酚聚环氧乙烷加合物,辛基酚聚氧乙烯聚氧丙烯加合物,甘油单硬脂酰酯,脱水山梨糖醇单月桂酸酯和聚氧乙烯脱水山梨糖醇单月桂酸酯。关于前述表面活性剂,“聚氧乙烯”可被聚氧化烯例如聚甲醛、聚氧丙烯和聚氧丁烯所取代,这类取代基也包含于表面活性剂中。
向碱性显影处理溶液中加入的非离子表面活性剂的量优选为0.001-5%重量,更优选0.01-3%重量,特别优选0.1-3%重量。当非离子表面活性剂的加入量少于0.001%重量时,非离子表面活性剂不能有效地发挥作用。另一方面,当它超过5%重量时,相互作用太强,使得不能进行显影。非离子表面活性剂优选具有300-50,000的重均分子量,特别优选500-5,000。这些非离子表面活性剂可单独使用,或以它们的两种或多种混合物的形式使用。
在本发明中,优选非离子表面活性剂是由下式(I)所表示的化合物。
式(I)
    R1-O(CH2CHR2O)1-(CH2CHR3O)m-(CH2CHR4O)n-R5
在式(I)中,R1-R5每个表示氢原子,每个具有1-18个碳原子的烷基,烯基,炔基或芳基,羰基,羧酸基团,磺酰基,或磺酸基;和l,m和n每个表示0或更大的整数,条件是全部l,m和n不同时表示0。
烷基的具体实例包括甲基,乙基和己基;烯基的具体实例包括乙烯基,丙烯基;炔基的具体实例乙炔基和丙炔基;芳基的具体实例包括苯基和4-羟基苯基。
由式(I)表示的化合物的具体实例包括均聚物例如聚乙二醇和聚丙二醇,和乙二醇和丙二醇的共聚物。从在显影液中溶解作用与在涂布溶剂中溶解作用之间的一致性的观点出发,优选共聚物的比率为10/90-90/10。此外,在共聚物中,从在碱性显影液中非图像区域的溶解作用与图像区域对碱性显影液的耐溶解性之间的一致性的观点出发,优选接枝聚合物和嵌段聚合物。
在由式(I)表示的化合物中,从图像区域对碱性显影液的耐溶解性的观点出发,特别优选由下式(II)表示的聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物。
式(II)
    HO-(C2H4O)a-(C3H6O)b-(C2H4O)c-H
在式(II)中,a,b和c每个表示1-10,000的整数。在本发明中,合适的聚合物是这样的,即其中氧乙烯在总分子中的比例为40-80%重量,优选40-80%重量。那些具有分子量在1,000-4,000,优选2,000-3,500的聚氧丙烯的聚合物是特别优异的。
(碱)
依照本发明,碱性显影处理溶液包含碱作为主要成分。关于碱,可列举常规已知的碱性试剂例如无机碱性试剂和有机碱性试剂。无机碱性试剂的实例包括氢氧化钠,氢氧化钾,氢氧化锂,磷酸三钠,磷酸三钾,磷酸三铵,磷酸二钠,磷酸二钾,磷酸二铵,碳酸钠,碳酸钾,碳酸铵,碳酸氢钠,碳酸氢钾,碳酸氢铵,硼酸钠,硼酸钾,和硼酸铵。
有机碱性试剂的实例包括一甲胺,二甲胺,三甲胺,一乙胺,二乙胺,三乙胺,一异丙胺,二异丙胺,三异丙胺,正-丁胺,一乙醇胺,二乙醇胺,三乙醇胺,单异丙醇胺,二异丙醇胺,乙撑亚胺,乙二胺,和吡啶。
碱可单独使用或以它们两种或多种结合的形式使用。这些碱中,优选氢氧化钠和氢氧化钾。这是因为通过调整碱量,可能将pH调整在宽的pH范围之上。此外,优选磷酸三钠,磷酸三钾,碳酸钠,和碳酸钾,因为它们本身具有缓冲作用。
在本发明中,为了提高显影能力,优选通过增加碱性显影处理溶液的碱浓度,在所谓的上述条件下进行处理。通过调整碱的加入量可能达到这个目的。即,可将碱加入到碱性显影处理溶液中,使得碱性显影处理溶液变成强碱性,例如pH为12.5-13.5,优选12.8-13.3。
(其它组分)
依照本发明的碱性显影处理溶液可以是所谓的“硅酸盐显影液”,其包含作为碱的碱性硅酸盐或包含通过在体系中将硅化合物与碱混合以形成碱性硅酸盐而制备的物质。此外,碱性显影处理溶液可以是所谓的“非-硅酸盐显影液”,其不含碱性硅酸盐,但包含非还原糖和碱。
—碱性硅酸盐—
碱性硅酸盐的实例包括硅酸钠,硅酸钾,硅酸锂和硅酸铵。这些碱性硅酸盐可以单独使用,或结合使用。碱性硅酸盐的SiO2/M2O摩尔比(其中M表示碱金属)优选为0.5-3.0,特别优选1.0-2.0。当SiO2/M2O摩尔比超过3.0时,容易降低显影能力。另一方面,当它少于0.5时,由于碱度增加,容易不利地影响金属例如铝片的蚀刻,所述铝片广泛用作光敏平版印刷版前体的支架。在硅酸盐显影液中,碱性硅酸盐的浓度优选为1-10%重量,特别优选1.5-7%重量。当在硅酸盐显影液中,碱性硅酸盐的浓度超过10%重量时,可能发生晶体的沉淀或形成。另外,由于在消耗液体过程中胶凝作用可能发生中和,则废液处理变得复杂。另一方面,当它少于1%重量时,降低了显影力或处理能力。
—非还原糖—
当用所谓的“非硅酸盐显影液”显影红外线—感光的平版印刷版前体时,所述“非硅酸盐显影液”不含碱性硅酸盐,但包含非还原糖和碱,可能以良好的状态保持光敏层的上墨性能而不破坏红外线—感光的平版印刷版前体中光敏层的表面。红外线—感光的平版印刷版前体具有狭窄的显影宽容度,并且由显影液的pH造成的图像线宽度的变化较大。然而,非硅酸盐显影液包含非还原糖,其具有抑制pH波动的缓冲性能。因此,非硅酸盐显影液与包含硅酸盐的显影处理溶液相比是有利的。另外,与硅酸盐相比,由于非还原糖一般不会玷污控制液体活性的电导传感器或pH传感器,在这点上非硅酸盐显影液是有利的。
作为此处所涉及的非还原糖,是不含游离醛基或酮基,并且不显示还原性的糖,并且归类于包含彼此结合的还原基团的海藻糖型寡糖,包含彼此结合的糖和非糖的还原基团的糖苷,和经水解成糖的被还原的糖-醇。所有这些糖可在本发明中适当地使用。顺便提及,在本发明中,可适当使用如JP-A-8-305039中所描述的非还原糖。
海藻糖型寡糖的实例包括蔗糖和海藻糖。糖苷类的实例包括烷基糖苷类,酚糖苷类和芥子油糖苷类。糖-醇的实例包括D,L-阿糖醇,核糖醇,木糖醇,D,L-山梨糖醇,D,L-甘露糖醇,D,L-艾杜糖醇,D,L-塔罗糖醇,半乳糖醇,和别半乳糖醇(allodulcitol)。另外,可适当地列举水解成作为二糖的麦芽糖的麦芽糖醇和通过水解寡糖(被还原的淀粉糖浆)而获得的还原剂。在这些非还原糖中,优选海藻糖型寡糖和糖-醇。特别是,优选D-山梨糖醇,蔗糖,和被还原的淀粉糖浆,因为它们在适当的pH范围中具有缓冲作用,并且便宜。
在本发明中,这些非还原糖可单独使用或以它们的两种或多种结合的形式使用。在非硅酸盐显影液中非还原糖的含量优选0.1-30%重量,更优选1-20%重量。当在非硅酸盐显影液中非还原糖的含量少于0.1%重量时,不能获得足够的缓冲作用。另一方面,当它超过30%重量时,难以达到高浓度,并且出现增加成本的问题。关于与非还原糖联合使用的碱,可适当使用先前所列举的那些碱。在非硅酸盐显影液中使用的碱的含量依照需要的pH和非还原糖的种类和用量来适当地确定。顺便提及,当还原糖与碱联合使用时,还原糖变成褐色,其pH逐步降低,显影能力降低。因此,在本发明中不优选还原糖。
另外,在本发明中,非还原糖的碱金属盐可用作非硅酸盐显影液中的主要组分,代替非还原糖和碱的结合物。非还原糖的碱金属盐通过混合非还原糖和碱金属氢氧化物,并且通过在非还原糖的熔点或更高的熔点下加热使混合物脱水,或通过干燥非还原糖和碱金属氢氧化物的混合含水溶液来获得。
在本发明中,包含不同于非还原糖的弱酸和强碱的碱性缓冲溶液可在非硅酸盐显影液中联合使用。关于弱酸,优选那些具有10.0-13.2的离解常数(pKa)的酸。例如,可选择Pergamon出版社出版的IONISATIONCONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION中所描述的那些酸。
具体实例包括醇类例如四氟丙醇(pKa:12.74)、三氟乙醇(pKa:12.37)和三氯乙醇(pKa:12.24);醛类例如吡啶-2-醛(pKa:12.68)和吡啶-4-醛(pKa:12.05);含酚羟基的化合物例如水杨酸(pKa:13.0),3-羟基-2-萘甲酸(pKa:12.84),儿茶酚(pKa:12.6),倍酸(pKa:12.4),磺基水杨酸(pKa:11.7),3,4-二羟基磺酸(pKa:12.2),3,4-二羟基苯甲酸(pKa:11.94),1,2,4-三羟基苯(pKa:11.82),氢醌(pKa:11.56),焦倍酚(pKa:11.34),邻-甲酚(pKa:10.33),间苯二酚(pKa:11.27),对-甲酚(pKa:10.27),和间-甲酚(pKa:10.09):
肟类例如2-丁肟(pKa:12.45),丙酮肟(pKa:12.42),1,2-环己二酮二肟(pKa;12,3),2-羟基苯甲醛肟(pKa:12.10),丁二酮肟(pKa:11.9),乙二酰胺二肟(pKa:11.37),和苯乙酮肟(pKa:11.35);与核酸相关的物质例如腺苷(pKa:12.56),次黄苷(pKa:12.5),鸟嘌呤(pKa:12.3),胞核嘧啶(pKa:12.2),次黄嘌呤(pKa:12.1)和黄嘌呤(pKa:11.9);和
其它的例如二乙基氨基甲基膦酸(pKa:12.32),1-氨基-3,3,3-三氟苯甲酸(pKa:12.29),异亚丙基二膦酸(pKa:12.10),1,1-亚乙基二膦酸(pKa:11.54),1,1-亚乙基二膦酸1-羟基(pKa:11.52),苯并咪唑(pKa:12.86),硫代苯甲酰胺(pKa:12.8),甲基吡啶硫代酰胺(pKa:12.55),和巴比土酸(pKa:12.5)。这些弱酸中,优选磺基水杨酸和水杨酸。
与这类弱酸结合的强碱的合适的实例包括氢氧化钠,氢氧化铵,氢氧化钾,和氢氧化锂。这些强碱可单独使用或以它们的两种或多种结合的形式使用。依照适当选择的浓度和结合形式,在优选的pH范围内调整这种强碱。
在本发明中,为了促进显影能力,分散显影浮渣和增强热敏平版印刷版前体的图像区域的油墨相容性,如果需要,可向碱性显影处理溶液中加入作为其它组分的显影稳定剂,有机溶剂,还原剂,有机羧酸,硬水软化剂,和不同于非离子表面活性剂的表面活性剂,和另外的已知的防腐剂,着色剂,增稠剂,和消泡剂。
—显影稳定剂—
显影稳定剂的优选实例包括糖-醇类的聚乙二醇加合物,四烷基铵盐例如氢氧化四丁基铵,鏻盐例如溴化四丁基鏻,和碘鎓盐例如氯化二苯基碘鎓,如JP-A-6-282079中所描述。此外,可列举的是如JP-A-50-51324中所描述的阴离子表面活性剂和两性表面活性剂,如JP-A-55-95946中所描述的水溶性阳离子聚合物,和如JP-A-56-142528中所描述的水溶性的两性表面活性剂。
另外,可列举的是如JP-A-59-84241中所描述的具有被加入其中的烷撑二醇的有机硼化合物;如JP-A-60-111246中所描述的聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物型的水溶性表面活性剂;如JP-A-60-129750中所描述的具有其上被取代的聚氧乙烯-聚氧丙烯的烷撑二胺;如JP-A-61-215554中所描述的重均分子量为300或更大的聚乙二醇类;如JP-A-63-175858中所描述的含阳离子含氟的表面活性剂;如JP-A-2-39157中所描述的通过向酸或醇中加入4摩尔或更多的环氧乙烷而获得的水溶性环氧乙烷加合化合物。
—有机溶剂—
优选在水中的溶解度不超过约10%重量的有机溶剂,更优选在水中的溶解度不超过5%重量的有机溶剂。有机溶剂的具体实例包括1-苯基乙醇,2-苯基乙醇,3-苯基-1-丙醇,4-苯基-1-丁醇,4-苯基-2-丁醇,2-苯基-1-丁醇,2-苯氧基乙醇,2-苄氧基乙醇,邻-甲氧基苄基醇,间-甲氧基苄基醇,对-甲氧基苄基醇,苄醇,环己醇,2-甲基环己醇,3-甲基环己醇,4-甲基环己醇,N-苯基-乙醇胺,和N-苯基二乙醇胺。
基于碱性显影处理溶液的总重量,有机溶剂在碱性显影处理溶液中的含量为约0.1-5%重量。在碱性显影处理溶液中,有机溶剂的含量与表面活性剂的含量紧密相关。优选表面活性剂的量随着有机溶剂的量增加而增加。这是因为当增加有机溶剂的量而减少表面活性剂的量时,有机溶剂不能完全溶解,使得不能期待保证良好的显影能力。
—还原剂—
还原剂的实例包括有机还原剂和无机还原剂。这些还原剂发挥防止印刷版被玷污的作用。有机还原剂的优选实例包括硫代水杨酸,氢醌,甲醇,甲氧基醌,酚化合物类例如间苯二酚和2-甲基间苯二酚,和胺类例如苯二胺和苯肼。无机还原剂的实例包括无机酸例如亚硫酸,氢亚硫酸,磷酸,氢亚磷酸,二氢亚磷酸,硫代硫酸和连二亚硫酸的钠盐,钾盐和铵盐。其中优选亚硫酸盐,因为它们在防止玷污方面特别优异。基于碱性显影处理溶液的总重量,还原剂在碱性显影处理溶液中的含量为约0.05-5%重量。
—有机羧酸—
有机羧酸的实例包括脂族羧酸和芳族羧酸,每个具有6-20个碳原子。具有6-20个碳原子的脂族羧酸的具体实例包括己酸,庚酸,辛酸,月桂酸,肉豆蔻酸,棕榈酸,和硬脂酸。其中特别优选具有8-12个碳原子的链烷酸。这些脂族羧酸可以是其碳链中具有双键的不饱和脂肪酸或具有支化的碳链。
具有6-20个碳原子的芳族羧酸的实例包括这样的化合物,其中在苯环、萘环或蒽环上羧基被取代。具体实例包括邻-氯苯甲酸,对-氯苯甲酸,邻-羟基苯甲酸,对-羟基苯甲酸,邻-氨基苯甲酸,对-氨基苯甲酸,2,4-二羟基苯甲酸,2,5-二羟基苯甲酸,2,6-二羟基苯甲酸,2,3-二羟基苯甲酸,3,5-二羟基苯甲酸,倍酸,1-羟基-2-萘甲酸,3-羟基-2-萘甲酸,2-羟基-1-萘甲酸,1-萘甲酸和2-萘甲酸。其中特别优选羟基萘甲酸。
从增强水溶性的观点出发,优选以钠盐,钾盐或铵盐的形式使用脂族羧酸和芳族羧酸。不特别限制有机羧酸在碱性显影处理溶液中的含量,但通常为约0.1-10%重量,优选0.5-4%重量。当有机羧酸在碱性显影处理溶液中的含量少于0.1%重量时,它的加成作用不够。另-方面,当它超过10%重量时,不仅看不到相应的作用,而且可能扰乱联合使用的其它添加剂溶解到碱性显影处理溶液中。
—硬水软化剂—
硬水软化剂的实例包括多磷酸和它的钠盐,钾盐和铵盐;氨基多酸酸类(例如乙二胺四乙酸,二亚乙基三胺五乙酸,三亚乙基四胺六乙酸,羟基乙基亚乙基二胺三乙酸,次氮基三乙酸,1,2-二氨基-环己烷四乙酸,和1,3-二氨基-2-丙醇-四乙酸)和它们的钠盐,钾盐和铵盐;和氨基三(亚甲基膦酸),亚乙基二胺四(亚甲基膦酸),二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸),三亚乙基四胺六(亚甲基膦酸),羟乙基亚乙基二胺三(亚甲基膦酸)和1-羟乙烷-1,1-二膦酸和它们的钠盐,钾盐和铵盐。
硬水软化剂在碱性显影处理溶液中的理想含量依据它的螯合能力,使用的硬水的硬度和用量而改变。但是,硬水软化剂的含量通常为约0.01-5%重量,优选0.01-0.5%重量。当硬水软化剂的含量少于0.1%重量时,它的加成作用可能是不够的。另-方面,当它超过5%重量时,可能产生对图像区域的不利影响例如脱色。
—其它表面活性剂—
在本发明中,除了非离子表面活性剂,可向碱性显影处理溶液中另外加入阴离子表面活性剂,阳离子表面活性剂,两性表面活性剂,和基于氟的表面活性剂。
阴离子表面活性剂的合适的实例包括脂肪酸盐,松香酸盐,羟基链烷磺酸盐,烷基磺酸盐,二烷基磺基琥珀酸酯盐,α-烯烃磺酸盐,线性烷基苯磺酸盐,支链烷基苯磺酸盐,烷基萘磺酸盐,烷基苯氧基聚氧乙烯基丙基磺酸盐,聚氧乙烯烷基磺基苯基醚盐,N-甲基-N-油基牛磺酸钠盐,N-烷基磺基琥珀酸单酰胺二钠盐,石油磺酸盐,硫酸化牛脂油,脂肪酸烷基酯类的硫酸酯盐,烷基硫酸酯盐,聚氧乙烯烷基醚硫酸酯盐,脂肪酸单甘油酯硫酸酯盐,聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸酯盐,聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚磺酸酯盐,烷基磷酸酯盐,聚氧乙烯烷基醚磷酸酯盐,聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸酯盐,苯乙烯/马来酸酐共聚物的部分皂化产物,烯烃/马来酸酐共聚物的部分皂化产物,和萘磺酸盐-甲醛液缩聚物。
阳离子表面活性剂的实例包括烷基胺盐,季铵盐例如溴化四丁铵,聚氧乙烯烷基胺盐,和聚乙烯多胺衍生物。两性表面活性剂的实例包括羧基甜菜碱类,烷基氨基羧酸类,磺基甜菜碱类,氨基硫酸酯类,和咪唑啉类。
基于氟的表面活性剂在其分子中包含全氟烷基。这类基于氟的表面活性剂的实例包括阴离子型例如全氟烷基羧酸盐,全氟烷基磺酸盐,和全氟烷基磷酸酯类;两性型例如全氟烷基甜菜碱类;阳离子型例如全氟烷基三甲基铵盐;和非离子型例如全氟烷基胺氧化物,全氟烷基环氧乙烷加成物类,包含全氟烷基和亲水基团的低聚物,包含全氟烷基和亲油基团的低聚物,包含全氟烷基、亲水基团和亲油基团的低聚物,和包含全氟烷基和亲油基团的尿烷类。
关于上述表面活性剂,“聚氧乙烯”可以被聚氧化烯例如聚甲醛、聚氧丙烯和聚氧丁烯所取代,这类取代基也包括于表面活性剂中。这些表面活性剂可单独使用,或以它们的两种或多种结合的形式使用。表面活性剂在碱性显影处理溶液中的含量通常为0.001-10%重量,优选0.01-5%重量。
碱性显影处理溶液除了前述各自组分以外,还包含水。在本发明中,从运输的观点出发,这样是有利的,即当不用(贮存)时,以具有低含量水的浓缩液的形式形成碱性显影处理溶液,当使用时,用水来稀释它。这样,适当选择碱性显影处理溶液的浓缩程度,使得各组分不产生分离或沉淀。
用例如,洗涤用水、含表面活性剂的漂洗液和含阿拉伯树胶和淀粉衍生物的减感液对用显影液和补充液如此显影的印刷版进行后处理。关于在本发明平版印刷版的制版方法中的后处理,可通过各种结合使用这些处理。
近年来,在制版和印刷业中,为了合理化和标准化,广泛使用印刷版的自动显影机。这种自动显影机通常包括显影区和后处理区,还包括运输印刷版和各处理液罐的单元和喷雾单元,其中当喷雾每种处理液时,曝光的印刷版被水平运输并显影,所述处理液被泵从喷嘴处向上抽吸。此外,近来,已知一种方法,其中在充满了处理液的处理液罐中处理印刷版,同时被导辊浸渍和运输。在这种自动处理过程中,依照处理量和操作时间,在进行处理的同时向每种处理液中补充以补充液。而且,也可应用所谓的用基本上原始的处理液处理的非回收处理体系。
在本发明中,在通过成影像曝光、显影和水洗涤和/或漂洗和/或涂胶获得的平版印刷版包括非必需的图象区域(例如原始图像胶片的胶片切口标记)的情况下非必需图像区域被消除。为了实现消除,优选使用这种方法,其中将如JP-B-2-13293中所描述的清除液涂布到非必需图像区域,并将涂布的非必需图像区域保持原样静置一会儿,然后用水洗涤。另外,也可利用这种方法,其中用通过光线引入的光化射线照射非必需图像区域,然后如JP-A-59-174842所描述显影。
如果需要,在涂布了减感树胶后,如此获得的平版印刷版可用于印刷步骤。在平版印刷版需要具有较高耐印刷性的情况下,将平版印刷版进行燃烧处理。在将平版印刷版进行燃烧处理的情况下,优选在燃烧处理前,用JP-B-61-2518,JP-B-55-28062,JP-A-62-31859和JP-A-61-159655中所描述的表面整理液处理平版印刷版。实施这种处理的方法的实例包括一种方法,其中利用海绵或脱脂棉将表面整理液涂布到平版印刷版上,所述海绵或脱脂棉被表面整理液浸透;一种方法,其中将平版印刷版在充满了表面整理液的缸中浸渍,并被表面整理液涂布;一种方法,其中利用自动涂布机涂布表面整理液。此外,用涂刷器或涂刷辊涂布后,涂布量均匀可提供更优选的结果。
表面整理液的合适的涂布量通常为0.03-0.8g/m2(基于干重)。如果需要,干燥后,用燃烧处理机(例如Fuji Photo Film Co.,Ltd.出售的燃烧处理机“BP-1300”)在高温下加热表面整理液涂布的平版印刷版,等等。在这种情况下,加热温度和时间依据形成图像的组分种类而改变,并且优选在180-300℃加热1-20分钟。
如果需要,可对燃烧处理的平版印刷版适当进行常规使用处理,例如水洗涤和涂胶。在使用含水溶性高分子化合物的表面整理液的情况下,可省略所谓的减感处理例如涂胶。将通过这些处理而获得的平版印刷版固定在胶版印刷机上,用来生产许多的印刷品。
实施例
参考下述实施例将在下文描述本发明,但不应解释为本发明的范围局限于此。
[热敏平版印刷版前体的制备]
(实施例1)
[基质的制备1]
将0.24mm厚的铝片(包含下述物质的铝合金:0.06%重量的Si,0.30%重量的Fe,0.014%重量的Cu,0.001%重量的Mn,0.001%重量的Mg,0.001%重量的Zn和0.03%重量的Ti,残余物为Al和不可避免的杂质)连续进行下述处理。
使用60Hz的交流电对铝片进行连续的电化学粗糙化加工处理。这时,电解液为80℃的10g/L硝酸的含水溶液(含5g/L的铝离子和0.007%重量的铵离子)。水洗涤后,通过喷雾一种溶液以溶解0.20g/m2的铝片,然后用水通过喷雾洗涤对铝片进行蚀刻处理,所述溶液具有26%重量的氢氧化钠浓度和6.5%重量的铝离子浓度。然后,通过在60℃下喷雾一种含水溶液,对铝片进行去泥处理,然后用水通过喷雾洗涤,所述含水溶液具有25%重量的硫酸浓度(含0.5%重量的铝离子)。
通过两步进料电解处理,使用阳极氧化体系对铝片进行阳极氧化处理。硫酸用作电解区段的电解液。然后,用水通过喷雾洗涤铝片。氧化膜的最终量为2.7g/m2
通过在处理浴中浸渍,于30℃下用碱金属硅酸盐处理通过阳极氧化处理而获得的铝支架(硅酸盐处理)10秒钟,所述处理浴包含1%重量No.3硅酸钠的含水溶液。然后,用水通过喷雾洗涤铝支架。
用碱金属硅酸盐处理后,将具有下述组成的底涂溶液涂布到如此获得的铝支架上,并在80℃下干燥15秒钟以形成涂布膜。干燥后,涂布膜具有15mg/m2的遮盖力。
<底涂溶液的组成>
·如下描述的化合物:                0.3g
·甲醇                              100g
·水                                1g
在获得的卷筒形基质上,用棒状涂布机涂布用于下层的下述涂布溶液1,使得涂布量为0.85g/m2,在178℃下干燥35秒钟,然后立即用17-20℃的冷空气冷却,直至支架的温度变为35℃。然后,用棒状涂布机将用于上层热敏层的下述涂布溶液1涂布到支架上,使得涂布量为0.22g/m2,然后在149℃下干燥支架20秒钟,并用20-26℃的空气逐步冷却,以制备热敏平版印刷版1。
[用于下层的涂布溶液1]
N-(4-氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲酯    2.133g
(36/34/30,重均分子量:50,000,酸值:2.65):
花青染料A(具有如下描述的结构):                           0.134g
4,4’-二羟基苯基砜:                                     0.126g
四氢邻苯二甲酸酐:                                        0.190g
对-甲苯磺酸:                                             0.008g
3-甲氧基-4-重氮二苯胺六氟磷酸酯:                         0.032g
乙基紫,其抗衡离子变为6-羟基萘砜:                        0.781g
聚合物1(具有如下描述的结构):                             0.035g
甲基·乙基酮:                                            25.41g
1-甲氧基-2-丙醇:                                         12.97g
γ-丁内酯:                                               13.18g
花青染料A
Figure C0314854000451
聚合物1
Figure C0314854000452
[用于上层热敏层的涂布溶液1]
间,对-甲酚线型酚醛清漆(间/对比率:6/4,重均分子量:4,500,    0.3479g
含0.8%重量的未反应甲酚):
花青染料A(具有如上描述的结构):                                0.0192g
甲基丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸异丁酯/丙烯酸共聚物(37/37/26          0.1403g
%重量)的30%MEK溶液:
聚合物1(具有如上描述的结构):                                  0.015g
聚合物2(具有如下描述的结构):                                  0.00328g
甲基·乙基酮:                                                 10.39g
1-甲氧基-2-丙醇:                                              20.78g
聚合物2
Figure C0314854000461
在热敏平版印刷版1中,在涂布上层热敏层的过程中,通过使下层部分相容,在上层热敏层的表面上产生细小突起。分析上层热敏层部分的组分。结果,检测到已被加入到下层的N-(4-氨基磺酰基苯基)-甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲酯共聚物。记数在照片上每100μm2的突起数,所述照片用5,000倍放大倍数的电子显微镜拍摄。结果,以0.4/μm2的比例观察到40个突起。
(实施例2)
除了将实施例1中用于上层热敏层的涂布溶液1改为如下描述的用于上层热敏层的涂布溶液2以外,以与实施例1相同的方式制备热敏平版印刷版2。
[用于上层热敏层的涂布溶液2]
间,对-甲酚线型酚醛清漆(间/对比率:6/4,重均分子量:4,500,    0.3478g
含0.8%重量的未反应甲酚):
花青染料A(具有如上描述的结构):                                0.0192g
日本专利申请号2001-398047的实施例2中使用的铵化合物:           0.0115g
Megaface F-176(20%)(改良表面的表面活性剂,由Dainippon Ink     0.022g
and Chemicals,Incorporated制造):
甲基·乙基酮:                                                 13.07g
1-甲氧基-2-丙醇:                                              6.79g
在热敏平版印刷版2中,在涂布上层热敏层的过程中,通过部分相容化下层,在上层热敏层的表面上产生细小突起。分析上层热敏层部分的组分。结果,检测到已被加入到下层的N-(4-氨基磺酰基苯基)-甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲酯共聚物。记数在照片上每100μm2的突起数,所述照片用5,000倍放大倍数的电子显微镜拍摄。结果,以1.2/μm2的比例观察到120个突起。
(实施例3)
除了将实施例1中用于上层热敏层的涂布溶液1改为如下描述的用于上层热敏层的涂布溶液3以外,以与实施例1相同的方式制备热敏平版印刷版3。
[用于上层热敏层的涂布溶液3]
间,对-甲酚线型酚醛清漆(间/对比率:6/4,重均分子量:4,500,    0.3479g
含0.8%重量的未反应甲酚):
花青染料A(具有如上描述的结构):                                0.0192g
Nipol SX1302(由Zeon Corporation制造,苯乙烯颗粒,平均颗        0.015g
粒大小:0.12μm):
甲基丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸异丁酯/丙烯酸共聚物(37/37/26%        0.1403g
重量)的30%MEK溶液:
Megaface F-176(20%)(改良表面的表面活性剂,由Dainippon Ink     0.022g
and Chemicals,Incorporated制造):
Megaface MCF-312(20%)(由Dainippon Ink and Chemicals,         0.011g
Incorporated制造):
1-甲氧基-2-丙醇:                                              19.86g
在热敏平版印刷版3中,通过在涂布上层热敏层的过程中加入细小颗粒,在上层热敏层表面上产生细小突起。记数在照片上每100μm2的突起数,所述照片用5,000倍放大倍数的电子显微镜拍摄。结果,以0.3/μm2的比例观察到30个突起。
(比较例1)
除了将实施例1中用于上层热敏层的涂布溶液1改为如下描述的用于上层热敏层的涂布溶液4以外,以与实施例1相同的方式制备热敏平版印刷版4。
[用于上层热敏层的涂布溶液4]
间,对-甲酚线型酚醛清漆(间/对比率:6/4,重均分子量:4,500,    0.3478g
含0.8%重量的未反应甲酚):
花青染料A(具有如上描述的结构):                                0.0192g
日本专利申请号2001-398047的实施例2中使用的铵化合物:           0.0115g
Megaface F-176(20%)(改良表面的表面活性剂,由Dainippon Ink     0.022g
and Chemicals,Incorporated制造):
1-甲氧基-2-丙醇:                                              19.86g
在热敏平版印刷版4中,在涂布上层热敏层的过程中,下层不相容。在上层热敏层的表面上观察不到细小突起。
(比较例2)
除了将实施例1中用于上层热敏层的涂布溶液1改为如下描述的用于上层热敏层的涂布溶液5以外,以与实施例1相同的方式制备热敏平版印刷版5。
[用于上层热敏层的涂布溶液5]
间,对-甲酚线型酚醛清漆(间/对比率:6/4,重均分子量:4,500,    0.3479g
含0.8%重量的未反应甲酚):
花青染料A(具有如上描述的结构):                                0.0192g
Nipol LX407BF6(由Zeon Corporation制造,有机颜料颗粒,平        0.005g
均颗粒大小:0.2μm)
甲基丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸异丁酯/丙烯酸共聚物(37/37/26%        0.1403g
重量)的30%MEK溶液:
Megaface F-176(20%)(改良表面的表面活性剂,由Dainippon Ink     0.022g
and Chemicals,Incorporated制造):
Megaface MCF-312(20%)(由Dainippon Ink and Chemicals,         0.011g
Incorporated制造):
1-甲氧基-2-丙醇:                                              19.86g
在热敏平版印刷版5中,通过在涂布上层热敏层过程中加入细小颗粒,在上层热敏层表面上产生细小颗粒。记数在照片上每100μm2的突起数,所述照片用5,000倍放大倍数的电子显微镜拍摄。结果,以0.03/μm2的比例观察到3个突起。
(实施例4)
除了将实施例1中基质的制备方法1改为下述基质的制备2以外,以与实施例1相同的方式制备热敏平版印刷版6。
[基质的制备2]
将0.3mm厚的铝片(材料质量:JIS A1050)用液体温度为60℃的溶液进行蚀刻处理10秒钟,用流水洗涤,用10g/L硝酸中和并漂洗,然后用水洗涤,所述溶液具有30g/L的氢氧化钠浓度和10g/L的铝离子浓度。在500c/dm2电量、20V外加电压Va的条件下,使用正旋波交替波形电流,将铝片在液体温度为30℃的含水溶液中进行电化学粗糙化加工,并用水洗涤,所述溶液具有15g/L的氯化氢浓度和10g/L的铝离子浓度。随后,将铝片用液体温度为40℃的溶液进行蚀刻处理10秒钟,并用流水洗涤,所述溶液具有30g/L的氢氧化钠浓度和10g/L的铝离子浓度。然后,将铝片在液体温度为30℃的硫酸含水溶液中进行去泥处理,并用水洗涤,所述硫酸含水溶液具有15%重量的硫酸浓度。此外,在6A/dm2电流密度的条件下,通过直流电,在液体温度为20℃的10%重量硫酸含水溶液中将铝片进行阳极氧化处理,使得阳极氧化膜的量相当于2.5g/m2,然后用水洗涤以制备支架(I)。用具有2μm直径的描形针,测量支架(I)的中心线平均糙度(Ra),结果为0.55μm。
在热敏平版印刷版6中,通过在涂布上层热敏层的过程中部分相容下层,在上层热敏层的表面上产生细小突起。分析上层热敏层部分的组分。结果,检测到已被加入到下层的N-(4-氨基磺酰基苯基)-甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲酯共聚物。记数在照片上每100μm2的突起数,所述照片用5,000倍放大倍数的电子显微镜拍摄。结果,以0.52/μm2的比例观察到52个突起。
(实施例5)
除了将实施例1中基质的制备方法改为下述基质的制备3以外,以与实施例1相同的方式制备热敏平版印刷版7。
[基质的制备3]
利用3个具有0.3mm填充直径的刷子(转数:第一个刷子250rpm,第二个刷子200rpm,第三个刷子200rpm),用具有25μm中值粒径的浮石泥浆状溶液(比重:1.1g/cm3)对0.3mm厚的铝片(Fe:0.3%,Si:0.08%,Cu:0.001%,Ti:0.015%)进行粗糙化加工,然后用具有26%氢氧化钠浓度和5%铝离子浓度的氢氧化钠含水溶液进行蚀刻处理,使得Al的溶解量为10g/m2。用流水洗涤铝片,用1%硝酸含水溶液中和并漂洗,并用水洗涤。在175c/dm2的电量下,用具有1%硝酸浓度和0.5%Al离子浓度的硝酸含水溶液对铝片进行电粗糙化加工。然后,用具有26%氢氧化钠浓度和5%铝离子浓度的氢氧化钠含水溶液对铝片进行蚀刻处理,使得Al的溶解量为0.5g/m2,用流水洗涤,用25%硫酸含水溶液中和并漂洗,然后用水洗涤。
随后,在50c/dm2的电量下,用具有0.5%盐酸浓度和0.5%Al离子浓度的盐酸含水溶液对铝片进行电粗糙化加工。其后,用具有5%氢氧化钠浓度和0.5%铝离子浓度的氢氧化钠含水溶液对铝片进行蚀刻处理,使得Al的溶解量为0.1g/m2,用流水洗涤,用25%硫酸含水溶液中和并漂洗,然后用水洗涤。
此外,通过直流电电解,用具有15%硫酸浓度和0.5%Al离子浓度的硫酸含水溶液对铝片进行连续的直流电电解,使得阳极氧化膜的量为2.5g/m2,以制备用于平版印刷版的粗糙的基质。
在热敏平版印刷版7中,在涂布上层热敏层的过程中,通过部分相容下层,在上层热敏层的表面上产生细小突起。分析上层热敏层部分的组分。结果,检测到已被加入到下层的N-(4-氨基磺酰基苯基)-甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲酯共聚物。记数在照片上每100μm2的突起数,所述照片用5,000倍放大倍数的电子显微镜拍摄。结果,以0.6/μm2的比例观察到60个突起。
[灵敏度评估]
以下述方式测量如此获得的热敏平版印刷版1-7的灵敏度。
在2-10W的光束强度和150rpm转筒旋转速度下,使用Trendsetter(Creo Inc.制造)在每个热敏平版印刷版上绘制固体图像,然后,在将液体温度保持在30℃的同时,用装有显影液的PS处理机,LP940H(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造),DT-2(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)(稀释为1/8)和整理机,FG-1(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)显影12秒钟。这时,显影液具有43mS/cm的传导率。
显影后,用25倍放大倍数的放大镜观察印刷版,在基本上不存在印刷玷污的标准下,评估残留膜的存在或缺失。然后,从观察不到残留膜的曝光光束强度来计算实际曝光能量,并定义为灵敏度。估计曝光能量越小,灵敏度越高。
[耐磨损性的评估]
在获得的热敏平版印刷版1-7的每一个中,利用HEIDON’s划痕检验器刮擦印刷版,同时对蓝宝石扫描针(尖端直径:1.0mm)施加负荷,然后立即用装有显影液的PS处理机,LP940H(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造),DT-2(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)(稀释为1/8)和整理机,FG-1(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)显影,同时将液体温度保持在30℃12秒钟。这时,显影液具有43mS/cm的传导率。将视觉上观察不到划痕的负荷定义为耐划痕的数值。据评价,数值越大,耐磨损性越优异。
[显影宽容度的评估]
在9W的光束强度和150rpm的转筒旋转速度下,用Trendsetter(CreoInc.制造)将获得的热敏平版印刷版1-7的每一个成影像绘制测试图案,然后用装有通过稀释显影液而获得的溶液的PS处理机,LP940H(由FujiPhoto Film Co.,Ltd.制造),DT-2R(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)(1/5稀释)并向其中吹入二氧化碳气体直至传导率达到37mS/cm和整理机,FG-1(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)显影,同时将液体温度保持在30℃ 12秒钟。然后,向显影液中加入适量的DR-2R(1/5稀释)以将传导率调整为39mS/cm,开发了测试图案已被同样成影像绘制的热敏平版印刷版。此外,每个传导率增加了约2mS/cm,并且继续这个操作直至由于明显观察到图像的显影而导致膜变小。
这时,关于在每个传导率下显影的印刷版,确定了由于显影失败,由热敏层的残留膜引起的玷污或着色的存在或缺失,并且确定了可进行良好显影的显影液的传导率。接着,确定了将显影膜的变小保持在使得耐印刷性基本不受影响的水平的临界传导率。
将可进行良好显影的显影液的传导率和将显影膜的变小保持在使得耐印刷性基本不受影响的水平的临界传导率之间的宽度定义为显影宽容度。
热敏平版印刷版1-7的评估结果示于表1。
表1
  热敏平版印刷版   灵敏度(mJ/cm2)   耐磨损性   显影宽容度(mS/cm)   突起数(数目/μm2)
 实施例1   1   65   9g   37-47   0.4
 实施例2   2   65   10g   37-49   1.2
实施例3 3 70 7g 39-51 0.3
 比较例1   4   85   4g   39-47   0
 比较例2   5   83   3g   39-47   0.03
 实施例4   6   65   9g   37-49   0.5
 实施例5   7   70   9g   37-49   0.6
由于在上层热敏层表面上以0.1或更大但不超过7/μm2的比例包含由上层热敏层的不均匀性引起的细小突起,本发明的热敏平版印刷版在图像形成过程中具有优异的显影宽容度,并且具有高的灵敏度和优异的耐磨损性。
[热敏平版印刷版前体的制备]
(实施例2-1至2-6和比较例2-1)
(基质的制备)
将0.24mm厚的铝片(包含下述物质的铝合金:0.06%重量的Si,0.30%重量的Fe,0.014%重量的Cu,0.001%重量的Mn,0.001%重量的Mg,0.001%重量的Zn,和0.03%重量的Ti,残余物为Al和不可避免的杂质)连续进行下述处理。
使用60Hz的交流电对铝片进行连续的电化学粗糙化加工。这时,电解液为80℃的10g/L硝酸含水溶液(含5g/L的铝离子和0.007%重量的铵离子)。水洗涤后,通过喷雾一种溶液以溶解0.20g/m2的铝片,然后用水喷雾洗涤对铝片进行蚀刻处理,所述溶液具有26%重量的氢氧化钠浓度和6.5%重量的铝离子浓度。然后,通过在60℃下喷雾一种含水溶液,对铝片进行去泥处理,然后用水喷雾洗涤,所述含水溶液具有25%重量的硫酸浓度(含0.5%重量的铝离子)。
通过两步进料电解处理,使用阳极氧化体系对铝片进行阳极氧化处理。硫酸用作电解区段中供应的电解液。然后,用水通过喷雾洗涤铝片。氧化膜的最终量为2.7g/m2
通过在处理浴中浸渍,于30℃下用碱金属硅酸盐处理通过阳极氧化处理而获得的铝支架(硅酸盐处理)10秒钟,所述处理浴包含1%重量No.3硅酸钠的含水溶液。然后,用水通过喷雾洗涤铝支架。
用碱金属硅酸盐处理后,将具有下述组成的底涂溶液涂布到如此获得的铝支架上,并在80℃下干燥15秒钟以形成涂布膜。干燥后,涂布膜具有15mg/m2的遮盖程度。
<底涂溶液的组成>
·如下描述的化合物:    0.3g
·甲醇                  100g
·水                    1g
Figure C0314854000541
在获得的卷筒纸形基质上,用棒状涂布机涂布用于下层的下述涂布溶液2-1,使得涂布量为0.85g/m2,在178℃下干燥35秒钟,然后立即用17-20℃的冷空气冷却,直至支架的温度变为35℃。然后,用棒状涂布机将用于上层热敏层的下述涂布溶液2-1涂布到支架上,使得涂布量为0.22g/m2,然后在149℃下干燥支架20秒钟,并用20-26℃的空气逐步冷却。产生了如此制备的热敏平版印刷版2-1至2-7。
[用于下层的涂布溶液2-1]
N-(4-氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲酯    2.133g
(36/34/30,重均分子量:50,000,酸值:2.65):
花青染料A(具有如上描述的结构):                           0.134g
4,4’-二羟基苯基砜:                                     0.126g
四氢邻苯二甲酸酐:                                        0.190g
对-甲苯磺酸:                                             0.008g
3-甲氧基-4-重氮二苯胺六氟磷酸酯:                         0.032g
乙基紫,其抗衡离子变为6-羟基萘砜:                        0.781g
聚合物1(具有如上描述的结构):                             0.035g
甲基·乙基酮:                                            25.41g
1-甲氧基-2-丙醇:                                         12.97g
 γ-丁内酯:                                              13.18g
[用于上层热敏层的涂布溶液2-1]
间,对-甲酚线型酚醛清漆(间/对比率:6/4,重均分子量:4,500,    0.3479g
含0.8%重量的未反应甲酚):
如表2-1所示的碱溶性高分子化合物:                              0.0462g
花青染料A(具有如上描述的结构):                                0.0192g
甲基丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸异丁酯/丙烯酸共聚物(37/37/26          0.1403g
%重量)的30%MEK溶液:
聚合物1(具有如上描述的结构):                                  0.015g
聚合物2(具有如下描述的结构):                                  0.00328g
甲基·乙基酮:                                                 10.39g
1-甲氧基-2-丙醇:                                              20.78g
[碱溶性树脂的溶解速度]
以下述方式测量碱溶性树脂的溶解速度。即,以1.6μm的厚度将每种碱溶性树脂涂布到硅片上,使用Litho Tech Japan Corp.制造的DRM(型号:RDA-790EB)测量其在DT-1(1/8稀释)中的溶解速度。结果,在实施例2-1中使用的间,对-甲酚线型酚醛清漆(间/对比率:6/4)具有100nm/s的溶解速度。在其它实施例中使用的碱溶性树脂的溶解速度示于表2-1。
表2-1
(实施例2-7至2-9)
除了用下述电化学粗糙化加工代替在实施例2-1至2-6中使用的基质的机械粗糙化加工以外,以与实施例2-1至2-6中相同的方式制备实施例2-7至2-9的热敏平版印刷版2-8至2-10。
[电化学粗糙化加工]
用一种液体温度为60℃的溶液对0.3mm厚的铝片(材料质量:JISA1050)进行蚀刻处理10秒钟,所述溶液具有30g/L的氢氧化钠浓度和10g/L的铝离子浓度,用流水洗涤,用10g/L硝酸中和并漂洗,然后用水洗涤。在500c/dm2电量、20V外加电压Va的条件下,使用正旋波交替波形电流,将铝片在液体温度为30℃的含水溶液中进行电化学粗糙化加工,并用水洗涤,所述溶液具有15g/L的氯化氢浓度和10g/L的铝离子浓度。随后,将铝片用液体温度为40℃的溶液进行蚀刻处理10秒钟,并用流水洗涤,所述溶液具有30g/L的氢氧化钠浓度和10g/L的铝离子浓度。然后,将铝片在液体温度为30℃的硫酸含水溶液中进行去泥处理,并用水洗涤,所述硫酸含水溶液具有15%重量的硫酸浓度。此外,在6A/dm2电流密度的条件下,通过直流电,在液体温度为20℃的10%重量硫酸含水溶液中将铝片进行阳极氧化处理,使得阳极氧化膜的量相当于2.5g/m2,然后用水洗涤以制备支架(2-I)。用具有2μm直径的描形针,测量支架(2-I)的中心线平均糙度(Ra),结果为0.55μm。
(实施例2-10至2-12和比较例2-2)
除了用下述机械粗糙化加工代替在实施例2-4到2-6和比较例2-1中使用的基质的机械粗糙化加工以外,以与实施例2-4到2-6中相同的方式制备实施例2-10到2-12的热敏平版印刷版2-11到2-14。
[机械粗糙化加工]
利用3个具有0.3mm填充直径的刷子(转数:第一个刷子250rpm,第二个刷子200rpm,第三个刷子200rpm),用具有25μm中值粒径的浮石泥浆状溶液(比重:1.1g/cm3)对0.3mm厚的铝片(Fe:0.3%,Si:0.08%,Cu:0.001%,Ti:0.015%)进行粗糙化加工,然后用具有26%氢氧化钠浓度和5%铝离子浓度的氢氧化钠含水溶液进行蚀刻处理,使得铝的溶解量为10g/m2。用流水洗涤铝片,用1%硝酸含水溶液中和并漂洗,并用水洗涤。在175c/dm2的电量下,用具有1%硝酸浓度和0.5%铝离子浓度的硝酸含水溶液对铝片进行电粗糙化加工。然后,用具有26%氢氧化钠浓度和5%铝离子浓度的氢氧化钠含水溶液对铝片进行蚀刻处理,使得Al的溶解量为0.5g/m2,用流水洗涤,用25%硫酸含水溶液中和并漂洗,然后用水洗涤。
随后,在50c/dm2的电量下,用具有0.5%盐酸浓度和0.5%铝离子浓度的盐酸含水溶液对铝片进行电粗糙化加工。其后,用具有5%氢氧化钠浓度和0.5%铝离子浓度的氢氧化钠含水溶液对铝片进行蚀刻处理,使得铝的溶解量为0.1g/m2,用流水洗涤,用25%硫酸含水溶液中和并漂洗,然后用水洗涤。
此外,通过直流电电解,用具有15%硫酸浓度和0.5%铝离子浓度的硫酸含水溶液对铝片进行连续的直流电电解,使得阳极氧化膜的量为2.5g/m2,以制备用于平版印刷版的粗糙的基质。
[灵敏度评估]
以下述方式测量如此获得的热敏平版印刷版2-1到2-14的灵敏度。
在2-10W的光束强度和150rpm转筒旋转速度下,使用Trendsetter(Creo Inc.制造)在热敏平版印刷版2-1到2-14的每一个上绘制固体图像,然后,用装有显影液的PS处理机,LP940H(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造),DT-2(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)(1/8稀释)和整理机,FG-1(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)显影,同时将液体温度保持在30℃12秒钟。这时,显影液具有45mS/cm的传导率。
显影后,用50倍放大倍数的放大镜观察印刷版。然后,从观察不到斑点样残留膜的曝光光束强度来计算实际曝光能量(mJ/cm2),并定义为灵敏度。估计曝光能量越小,灵敏度越高。
[显影宽容度的评估]
在9W的光束强度和150rpm的转筒旋转速度下,用Trendsetter(CreoInc.制造)将获得的热敏平版印刷版2-1到2-14的每一个成影像绘制测试图案,然后用装有通过稀释显影液而获得的溶液的PS处理机,LP940H(由Fuii Photo Film Co.,Ltd.制造),DT-2R(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)(1/5稀释)并向其中吹入二氧化碳气体直至传导率达到37mS/cm和整理机,FG-1(由Fuji Photo Film Co.,Ltd.制造)显影,同时将液体温度保持在30℃ 12秒钟。然后,向显影液中加入适量的DR-2R(1/5稀释)以将传导率调整为39mS/cm,开发了测试图案已被同样成影像绘制的热敏平版印刷版。此外,每个传导率增加了约2mS/cm,并且继续这个操作直至由于明显观察到图像的显影而导致膜变小。
这时,关于在每个传导率下显影的印刷版,确定了由于显影失败,由热敏层的残留膜引起的玷污或着色的存在或缺失,并且确定了可进行良好显影的显影液的传导率。接着,确定了将显影膜变小程度保持在一个使得耐印刷性基本不受影响的水平的临界传导率。
将可进行良好显影的显影液的传导率和将显影膜变小程度保持在一个使得耐印刷性基本不受影响的水平的临界传导率之间的宽度定义为显影宽容度。
评估结果示于表2-2。
表2-2
  平版印刷版   灵敏度(mJ/cm2)   显影宽容度(形成图像的范围)
  实施例2-1   1   70   39-47mS/cm
  实施例2-2   2   65   39-47mS/cm
  实施例2-3   3   65   39-45mS/cm
  实施例2-4   4   70   39-51mS/cm
  实施例2-5   5   70   39-49mS/cm
  实施例2-6   6   65   39-47mS/cm
  比较例2-1   7   110   41-45mS/cm
  实施例2-7   8   65   39-47mS/cm
  实施例2-8   9   70   39-49mS/cm
  实施例2-9   10   70   39-47mS/cm
  实施例2-10   11   60   39-45mS/cm
  实施例2-11   12   70   39-47mS/cm
  实施例2-12   13   75   39-47mS/cm
  比较例2-2   14   115   41-45mS/cm
从表2-2的结果可以看出,在使用本发明的热敏平版印刷版的情况下,灵敏度是优异的。
依照本发明,可能获得适于直接制版的热敏平版印刷版,其在图像形成过程中具有优异的显影宽容度,并且对红外线激光具有高的灵敏度。
该申请基于2003年2月17日提交的日本专利申请JP 2003-038525和2003年2月17日提交的日本专利申请JP 2003-038526,它们的全文通过参考结合于此,如同详细阐明一样。

Claims (9)

1.一种热敏平版印刷版,其包含:
亲水支架;
下层,其包含不溶于水但溶于碱的树脂;和
上层热敏层,其包含不溶于水但溶于碱的树脂和吸收红外线的染料,其在碱性含水溶液中的溶解经曝光而增加,
其中所述上层热敏层的表面以0.1个/μm2或更大,并且不超过7个/μm2的比例具有突起,所述突起是由上层热敏层的厚度不均匀引起的,
其中下层热敏层的涂布量为0.5-4.0g/m2,上层热敏层的涂布量为0.05-1.0g/m2,并且上层和下层的总涂布量为0.6-4.0g/m2,并且
上层热敏层的染料含量为0.01-50%重量。
2.依照权利要求1的热敏平版印刷版,其中所述上层热敏层包含颗粒状物质,作为在上层热敏层的表面上形成由上层热敏层的厚度不均匀引起的突起的手段。
3.依照权利要求1的热敏平版印刷版,其中所述上层热敏层包含一种碱溶性树脂,其与在所述下层中所包含的碱溶性树脂相同。
4.依照权利要求1的热敏平版印刷版,其中所述下层和所述上层热敏层中的树脂均包含选自酚羟基,氨磺酰基和活性亚氨基的官能团。
5.依照权利要求1的热敏平版印刷版,其中所述比例为0.2个/μm2或更大,并且不超过3个/μm2
6.依照权利要求1的热敏平版印刷版,其中所述上层热敏层包含至少两种碱溶性树脂,所述树脂在碱性含水溶液中彼此具有不同的溶解速度,并且至少两种碱溶性树脂彼此产生相分离,并且其中上层热敏层的碱溶性树脂含量为50-90%重量。
7.依照权利要求6的热敏平版印刷版,其中所述上层热敏层包含一种碱溶性树脂,其与在所述下层中包含的碱溶性树脂相同。
8.依照权利要求6的热敏平版印刷版,其中在所述下层和所述上层热敏层中的树脂均包含选自酚羟基,氨磺酰基和活性亚氨基的官能团。
9.依照权利要求6的热敏平板印刷版,其中所述至少两种碱溶性树脂包含具有酚羟基的树脂和具有氨磺酰基或活性亚氨基的树脂。
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Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7081330B2 (en) * 2002-09-20 2006-07-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of making lithographic printing plate
JP4199687B2 (ja) * 2004-03-17 2008-12-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2007114221A (ja) * 2004-10-08 2007-05-10 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd 赤外線感光性平版印刷版用マット剤及びその用途
EP3086176A1 (en) * 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation A lithographic printing method
JP4474309B2 (ja) * 2005-03-22 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその作製方法
JP2006293162A (ja) * 2005-04-13 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
DE602006012764D1 (de) * 2005-07-28 2010-04-22 Fujifilm Corp Infrarot-empfindlicher Flachdruckplattenvorläufer
US8283101B2 (en) * 2007-08-30 2012-10-09 Eastman Kodak Company Imageable elements with improved abrasion resistance
EP3008517A1 (en) 2013-06-14 2016-04-20 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
EP2883699B1 (en) 2013-12-11 2017-05-03 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor and monomer
EP2916171B1 (en) 2014-03-03 2017-05-31 Agfa Graphics Nv A method for making a lithographic printing plate precursor
CN104827795B (zh) * 2015-04-21 2018-03-06 青岛蓝帆新材料有限公司 一种阳图热敏平版印刷版版材
WO2017157578A1 (en) * 2016-03-16 2017-09-21 Agfa Graphics Nv Method for processing a lithographic printing plate
EP3392709A1 (en) 2017-04-21 2018-10-24 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3431290B1 (en) 2017-07-20 2021-09-08 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3677434B1 (en) * 2017-08-31 2022-10-19 FUJIFILM Corporation Lithographic printing original plate and method for producing lithographic printing plate
EP3474073B1 (en) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv A method for making a printing plate
ES2881270T3 (es) 2017-12-08 2021-11-29 Agfa Nv Procedimiento de fabricación de una plancha de impresión litográfica
US20190204727A1 (en) * 2017-12-28 2019-07-04 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Photoresist and preparation method thereof
CN111867839A (zh) 2018-03-22 2020-10-30 爱克发有限公司 平版印刷版前体
WO2019219577A1 (en) 2018-05-14 2019-11-21 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
CN108547079B (zh) * 2018-06-08 2023-10-10 北京鹏盛天纤科技有限公司 一种脱脂棉绿色连续式生产集成装置和工艺
EP3587112B1 (en) 2018-06-21 2024-04-03 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
EP3587113B1 (en) 2018-06-21 2023-01-04 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP3637188A1 (en) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
EP3650938A1 (en) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3894957A1 (en) 2018-12-10 2021-10-20 Agfa Nv On-press processing of a uv or violet-sensitized lithographic printing plate
EP3686011A1 (en) 2019-01-23 2020-07-29 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3815900A1 (en) 2019-10-31 2021-05-05 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor and method for making hydrophobic resin particles
EP3875271A1 (en) 2020-03-04 2021-09-08 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3892469B1 (en) 2020-04-10 2023-11-08 Eco3 Bv Lithographic printing plate precursor
EP3922462B1 (en) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability
EP4171957A1 (en) 2020-06-24 2023-05-03 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP3928983B1 (en) 2020-06-24 2023-09-27 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
US20230311474A1 (en) 2020-06-24 2023-10-05 Agfa Offset Bv A Lithographic Printing Plate Precursor
EP3960455A1 (en) 2020-08-31 2022-03-02 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4225582A1 (en) 2020-10-09 2023-08-16 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
US20240100820A1 (en) 2020-12-16 2024-03-28 Agfa Offset Bv Lithographic Printing Press Make-Ready Method
EP4035897A1 (en) 2021-01-28 2022-08-03 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4129682A1 (en) 2021-08-05 2023-02-08 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4223534A1 (en) 2022-02-07 2023-08-09 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4239411A1 (en) 2022-03-04 2023-09-06 Eco3 Bv Method and apparatus for processing a lithographic printing plate precursor

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0864420B2 (en) 1997-03-11 2005-11-16 Agfa-Gevaert Heat-sensitive imaging element for making positive working printing plates
EP0909657B1 (en) * 1997-10-17 2003-06-18 Fuji Photo Film Co., Ltd A positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser
JP3949832B2 (ja) 1997-11-14 2007-07-25 富士フイルム株式会社 赤外線レーザ用感光性画像形成材料
US6340815B1 (en) * 1998-04-15 2002-01-22 Agfa-Gevaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
EP0950516B1 (en) * 1998-04-15 2004-05-06 Agfa-Gevaert A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
EP0997272B1 (en) 1998-10-26 2003-07-23 Agfa-Gevaert A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6242156B1 (en) 2000-06-28 2001-06-05 Gary Ganghui Teng Lithographic plate having a conformal radiation-sensitive layer on a rough substrate
EP1211065B1 (en) 2000-11-30 2009-01-14 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor
JP2003005354A (ja) * 2001-06-20 2003-01-08 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版および平版印刷版の製版方法

Also Published As

Publication number Publication date
US7108956B2 (en) 2006-09-19
CN1470939A (zh) 2004-01-28
EP1378348A2 (en) 2004-01-07
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US20040131966A1 (en) 2004-07-08
ATE534514T1 (de) 2011-12-15

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