CN101307496B - 钆钇钪镓石榴石晶体gysgg及其熔体法晶体生长方法 - Google Patents

钆钇钪镓石榴石晶体gysgg及其熔体法晶体生长方法 Download PDF

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本发明为钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG及其熔体法晶体生长方法,它的分子式可表为Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12(x=0~1,δ=-0.2~0.2),可用Gd2O3、Y2O3、Sc2O3、Ga2O3,或相应的钆、钇、钪、镓的其他化合物进行配料,只要能最终化合为Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12即可;配制好的原料经充分混合、压制成形、高温烧结后,成为晶体生长的起始原料;生长起始原料放入坩埚经加热充分熔化后,成为熔体法生长的初始熔体,然后可用熔体法如提拉法、坩埚下降法、温梯法及其他熔体法来进行生长;对于需用籽晶定向生长的熔体法,籽晶为GYSGG单晶、或钇钪镓石榴石YSGG单晶、或钆钪镓石榴石单晶GSGG。GYSGG单晶可用作Bi3+掺杂的钇铁石榴石外延薄膜的衬底材料。

Description

钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG及其熔体法晶体生长方法
技术领域
本发明涉及外延薄膜衬底材料、晶体生长领域,具体是钆钇钪镓石榴石及其熔体法法晶体生长方法。
技术背景
掺铋钇铁石榴石Bi:YIG是比纯钇铁石榴石YIG性能更为优良的磁光薄膜材料。因纯GGG晶体的晶格参数和YIG的晶格参数非常匹配,为1.2376nm,所以GGG晶体是YIG外延薄膜的理想衬底材料。Bi3+掺入YIG后,YIG的晶格参数变大,如果使用钆镓石榴石GGG作为它的衬底材料,则Bi:YIG薄膜和衬底GGG间有较大的晶格失配,这对薄膜的制备、质量和性能等都将产生不良影响。此时需要根据薄膜的晶格参数,选择合适的、晶格参数较GGG晶体更大的衬底材料。人们通过长时间的探索,已经报道了在GGG中掺入Ca、Mg、Zr等杂质来增大GGG的晶格参数,并已制备出了质量良好的(Ca,Mg,Zr):GGG晶体。但Ca,Mg,Zr这些离子的掺入会造成晶体的应力很大,给生长、加工、使用都带来了一定的问题。因此,有必要寻找比GGG晶格参数大、制备相对容易的Bi:YIG外延衬底材料。
发明内容
本发明的目的是提供一种钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG及其熔体法晶体生长方法,通过Gd3+部分或全部取代钇钪镓石榴石Y3Sc2Ga3O12(YSGG)中的Y3+,形成钆钪镓石榴石和钇钪镓石榴石的混晶——钆钇钪镓石榴石晶体(简写为GYSGG)。
本发明的技术方案如下:
钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG,其特征在于:化合物的分子式可表示为Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12,其中,x的取值范围为大于0且小于1,δ值可取正值和负值,范围-0.2-0.2。
所述的钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG,其特征在于:所述的原料配方为:
采用Gd2O3、Sc2O3、Y2O3作为原料,按如下化合式进行配料:
1.5xGd2O3+1.5(1-x)Y2O3+Sc2O3+(1.5+δ)Ga2O3→Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12
所述的钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG,其特征在于:所述原料Gd2O3、Y2O3、Sc2O3、Ga2O3采用相应的钆、钇、钪、镓的其他化合物来进行代替进行原料配制,只要通过化合反应能最终形成Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12化合物即可。
所述的钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG的熔体法晶体生长方法,其特征在于:
(1)、将配好的原料进行充分混合后,用模具压制成块状,在1000~1400℃下烧结10~24小时,成为GYSGG晶体生长的初始原料,或者压制成块状的原料不经烧结而直接成为晶体生长的初始原料;
(2)、将制备好的初始原料放入生长坩埚内,通过加热并充分熔化,获得晶体生长初始熔体,然后采用熔体法晶体生长工艺——包括提拉法、坩埚下降法、温梯法以及其他从熔体进行单晶生长的方法来进行生长。
所述的钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG的熔体法晶体生长方法,其特征在于:对于需使用籽晶定向生长的熔体法生长工艺,如提拉法,籽晶为GYSGG单晶、或钇钪镓石榴石YSGG单晶、或钆钪镓石榴石GSGG单晶,籽晶方向一般为[111]方向,以及其他任意方向。
本发明采用Gd来部分或全部取代钇抗镓石榴石Y3Sc2Ga3O12(YSGG),形成钆钪镓石榴石和钇钪镓石榴石的混晶——钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG,可获得晶格参数为1.245nm~1.257nm的大晶格参数晶体。适当调节混晶比例,可获得与Bi:YIG晶格参数相匹配的外延衬底材料。由于Gd3+在YSGG中的分凝系数为1,生长获得优质的GYSGG相对容易,同时GYSGG有良好的机械性能、热性能,并可获得大口径的单晶,因此,GYSGG是性能优良的Bi:YIG外延生长衬底材料。
具体实施方式
具体说明如下:
1、本发明为钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG,发明化合物的分子式可表示为Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12,其中,x的取值范围为大于0且小于1,δ值可取正值和负值,范围-0.2-0.2。
2、本发明包括GYSGG晶体的熔体法晶体生长方法,包括以下步骤:
(1)、GYSGG晶体生长原料的配料方法:
A、采用Gd2O3、Sc2O3、Y2O3、Ga2O3作为原料,按如下化合式进行配料:1.5xGd2O3+1.5(1-x)Y2O3+Sc2O3+(1.5+δ)Ga2O3→Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12
B、所用原料Gd2O3、Y2O3、Sc2O3、Ga2O3可用相应的钆、钇、钪、镓的其他化合物来进行代替其氧化物进行原料配制,只要通过化合反应能最终形成Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12化合物即可。
(2)、GYSGG晶体生长原料的压制和烧结成型方法:
把(1)中配好的原料进行充分混合后,用模具压制成形(通常为圆盘形状),在1000~1400℃下烧结10~24小时,成为GYSGG晶体生长的初始原料,或者压制成形的原料不经烧结而直接成为晶体生长的初始原料。
(3)、熔体法生长工艺:
把(1)、(2)制备好的原料放入生长坩埚内,通过加热并充分熔化,获得晶体生长初始熔体。然后采用熔体法晶体生长工艺——包括提拉法、坩埚下降法、温梯法以及其他从熔体进行单晶生长的方法来进行生长。对于需使用籽晶定向生长的熔体法生长工艺如提拉法,籽晶为GYSGG单晶、或钇钪镓石榴石YSGG单晶、或钆钪镓石榴石GSGG单晶,籽晶方向一般为[111]方向,以及其他任意方向。已用提拉法生长出了无散射、气泡、云层、无开裂的优质GYSGG晶体,口径达到了
Figure GSB00000312287000031

Claims (3)

1.钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG,其特征在于:化合物的分子式可表示为
Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12,其中,x的取值范围为大于0且小于1,δ值可取正值和负值,范围-0.2-0.2。
2.根据权利要求1所述的钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG,其特征在于:所述晶体的原料配方为:
采用Gd2O3、Sc2O3、Y2O3、Ga2O3作为原料,按如下化合式进行配料:
1.5xGd2O3+1.5(1-x)Y2O3+Sc2O3+(1.5+δ)Ga2O3→Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12
3.根据权利要求2所述的钆钇钪镓石榴石晶体GYSGG,其特征在于:所述原料Gd2O3、Y2O3、Sc2O3、Ga2O3采用相应的钆、钇、钪、镓的其他化合物来进行代替进行原料配制,只要通过化合反应能最终形成Gd3xY3(1-x)Sc2Ga3(1+δ)O12化合物即可。
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