CN101239984A - 一种青霉素g亚砜复合晶体及其制备方法 - Google Patents

一种青霉素g亚砜复合晶体及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101239984A
CN101239984A CNA2008100545154A CN200810054515A CN101239984A CN 101239984 A CN101239984 A CN 101239984A CN A2008100545154 A CNA2008100545154 A CN A2008100545154A CN 200810054515 A CN200810054515 A CN 200810054515A CN 101239984 A CN101239984 A CN 101239984A
Authority
CN
China
Prior art keywords
penicillin
sulfoxide
composite crystal
methyl alcohol
methanol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2008100545154A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101239984B (zh
Inventor
平志存
王京
温同礼
米振瑞
孙孟生
刘云坡
闫峰
梁雪智
张致一
杨梦德
马金玉
郑宝丽
高俊艳
于辉
刘倩
刘�东
甘平娟
段志刚
袁五锁
张锁庆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Huabei Pharmaceutical Co., Ltd.
Original Assignee
HUABEI PHARMACEUTICAL GROUP CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by HUABEI PHARMACEUTICAL GROUP CO Ltd filed Critical HUABEI PHARMACEUTICAL GROUP CO Ltd
Priority to CN2008100545154A priority Critical patent/CN101239984B/zh
Publication of CN101239984A publication Critical patent/CN101239984A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101239984B publication Critical patent/CN101239984B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Abstract

本发明公开了一种新的青霉素G亚砜复合晶体及其制备方法,该复合晶体的熔点106.9℃,元素含量为C:53.35%、N:7.23%、O:24.9%、H:5.78%、S:8.70%。其方法包括以下步骤:(a)将青霉素G亚砜溶解在甲醇溶液中或含有甲醇的水溶液或含有甲醇的有机溶液中;(b)将上述含有青霉素G亚砜、甲醇的溶液降温,使青霉素G亚砜及甲醇逐步达到饱和或过饱和状态,析出晶体。本发明复合晶体的稳定性好,且在扩环重排反应中可有效提高头孢烷酸的收率和含量。

Description

一种青霉素G亚砜复合晶体及其制备方法
技术领域
本发明涉及青霉素G亚砜的一种复合晶体及其制备方法。
背景技术
青霉素G亚砜通常是以青霉素G为起始原料经氧化而得。它经扩环重排反应可合成各种头孢烷酸,如7-ADCA(7-氨基去乙酰氧基头孢烯酸)、GCLE(7-苯基乙酰氨基-3-氯甲基头孢烯酸对甲氧基苄酯)、GCLH(7-苯基乙酰氨基-3-氯甲基头孢烯酸二苯基甲酯)。青霉素G亚砜具有β内酰胺的独特分子结构,遇热不稳定,且其在水溶液中与溶剂形成氢键,故产品在水溶液中析出时容易形成含有2个水分子结晶体。由于扩环重排反应为无水反应,工艺要求青霉素G亚砜中的水分的含量不能超过0.2%,且杂质含量不能高于1%,否则,头孢烷酸的收率和含量会明显降低。因而含有结晶水的青霉素G亚砜不利于其使用和储存。目前,人们正在积极探索获得一种不含水份的青霉素G亚砜的方法,以提高青霉素G亚砜的稳定性,同时有利于提高扩环重排反应中头孢烷酸的收率和含量。
发明内容
本发明的目的就是要提供一种新的青霉素G亚砜复合晶体,该晶体的稳定性好,且在扩环重排反应中还可有效提高头孢烷酸的收率和含量。本发明同时提供一种该复合晶体的制备方法。
本发明的发明人为实现上述目的作了深入研究,并且发现青霉素G亚砜可在甲醇或含有甲醇的混合溶媒中得到含有甲醇的青霉素G亚砜复合晶体。本发明所提供的新的青霉素G亚砜复合晶体,就是青霉素G亚砜的甲醇复合晶体。其化学结构如下:
本发明所提供的青霉素G亚砜复合晶体,根据差示扫描量热计测得热流曲线,测得它有在106℃以上的熔点。故为了更清楚地表征本发明,本发明人对其进行如下进一步表述:
本发明青霉素G亚砜复合晶体其晶体熔点106.9℃,元素含量C:53.35%、N:7.23%、O:24.9%、H:5.78%、S:8.70%。
该复合该晶体具有下列X-射线粉末衍射图谱(详见表1),该图谱由λ=1.54059埃的铜射线穿过单色仪丝滤器而获得。
表1:
    D     I/I0
    10.93488.44987.28476.62056.32975.46065.29925.01914.57194.41764.34154.21824.06653.83843.65733.58163.52853.41823.35283.29423.2498     22.0100.028.813.826.636.011.51.26.538.633.65.531.11.614.16.612.22.53.312.613.1
    3.16613.12723.02512.81332.75432.59712.56912.44572.41632.38392.34332.27002.12522.09802.06722.02641.92351.85861.78591.6174     1.34.648.220.22.42.83.62.02.65.39.81.31.41.41.24.04.02.01.35.6
其中d为晶面间距,I/I0为相对强度。
本发明所提供一种青霉素G亚砜复合晶体的制备方法,包括在青霉素G亚砜的甲醇溶液或青霉素G亚砜在含有甲醇的混合溶液中至结晶、分离、干燥,得青霉素G亚砜的甲醇复合晶体。
其制备工艺包括以下步骤:
(a)将青霉素G亚砜溶解在甲醇溶媒中或含有甲醇的水或含有甲醇的有机溶媒中;
(b)降低上述含有青霉素G亚砜、甲醇的溶液温度,使青霉素G亚砜及甲醇逐步达到饱和或过饱和状态,析出晶体;
(c)分离、干燥晶体。
在本发明所采用的含甲醇的水溶液,以及含有甲醇的有机溶液中甲醇的含量最好不低于20%重量份,优选重量份为50%以上。
上述方法中有机溶媒可选用乙醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、苯、甲酸、乙酸等或它们的混合物。溶媒中优选水、甲苯、乙酸乙酯或它们的混合物。
在制备复合晶体时青霉素G亚砜与甲醇用量重量份比优选1∶1~10;溶解温度优选20~80℃;
青霉素G亚砜与甲醇用量重量份比更为优选的是1∶2~10;溶解温度更为优选的是30~60℃。
在将含有青霉素G亚砜、甲醇的溶液降温时,其温度优选-30~80℃。更为优选的是-5~60℃。
本发明所选定的优选工艺参数可以保证所制备的复合晶体其稳定性更好,使用效果亦更佳。
本发明所提供的青霉素G亚砜复合晶体其稳定性高,用于合成头孢烷酸的效果也较青霉素G亚砜水结晶体好。
本发明的有益效果通过以下试验得到了验证。
(一)稳定性对比
试验药品:第一组:含有2个结晶水的青霉素G亚砜结晶体、第2组:青霉素G亚砜结晶体;第3组:青霉素G亚砜的甲醇复合晶体
试验条件:温度25±2℃;相对湿度45~65%。
试验结果:详见表2。
表2
    时间(天)     0     15     30     45     60     75     90     120
    折干含量(%)   第1组   99.8   99.7   99.5   99.2   99.1   98.7   98.2   98.0
  第2组   99.8   99.7   99.5   99.1   99.1   98.8   98.5   98.2
  第3组   99.9   99.9   99.9   99.8   99.9   99.9   99.8   99.8
经统计学处理表明,含有2个结晶水的青霉素G亚砜结晶体与青霉素G亚砜结晶体在不同时间的折干含量基本相同,而青霉素G亚砜的甲醇复合晶体折干含量明显高于前两者。
由此可见,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体的稳定性高于含有2个结晶水的青霉素G亚砜结晶体以及青霉素G亚砜结晶体。
(二)不同晶体的青霉素G亚砜在扩环重排反应中的应用效果。试验药品:含有2个结晶水的青霉素G亚砜结晶体、青霉素G亚砜的甲醇复合晶体
试验方法和结果:
第一组:准确称量含2个结晶水的青霉素G亚砜50g(水份含量9.3%,折干含量91.5%),投入三口反应瓶中,加入乙酸丁酯900毫升,在40~45℃下,真空蒸馏,采出300毫升乙酸丁酯及水的混合液。加入双三甲基硅脲35克,于40~50℃进行酯化反应60分钟。然后加入14克吡啶溴化氢,升温至回流,反应2.5小时。降温至75~80℃,加入300毫升水。再用5%氨水调PH=7.8~8.0,分相。水相加入10%硫酸调至PH=3.5~3.8,过滤,水洗,干燥。得头孢烷酸38.2克。液相色谱分析头孢烷酸含量97.2%,收率为:85.6%(摩尔)。
第二组:准确称量含有一个甲醇分子的青霉素G亚砜复合晶体50克(水份0.3%,折干含量91.2%),投入三口反应瓶中,加入乙酸丁酯700毫升,在40~45℃下,真空蒸馏,采出乙酸丁酯及甲醇混合液100毫升。加入双三甲基硅脲35克,于40~50℃酯化反应60分钟。然后加入14克吡啶溴化氢,升温至回流,反应2.5小时。降温至75~80℃,加入300毫升水。再用5%氨水调PH=7.8~8.0,分相。水相加入10%硫酸调至PH=3.5~3.8,过滤,洗涤,干燥。得头孢烷酸38.0克。液相色谱分析头孢烷酸含量98.5%,收率为:86.5%(摩尔)。
上述试验经8组重复试验,经统计学处理表明证明,相同组之间的数据不存在显著差异,而第一组与第二组之间存在显著的不同。
由此可见青霉素G亚砜的甲醇复合晶体在在扩环重排反应中的应用效果明显好于含有2个结晶水的青霉素G亚砜结晶体。
具体实施方式
以下通过具体实施例对本发明做进一步的说明,但其并不可以任何形式限制本发明。
实施例1
室温下,向三口瓶中投入10克青霉素G亚砜(水份0.2%),加入150毫升甲醇,在每分钟120转的搅拌下,用60℃水浴将物料升温至50℃溶解,形成青霉素G亚砜的甲醇溶液。移去水浴,用冰水将该溶液逐渐降温至10℃,期间,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体逐渐析出,然后移去冰水,用冰盐水继续将该物料降温至-5℃,过滤。用10毫升甲醇洗涤,干燥,得青霉素G亚砜的甲醇复合晶体10.5克(96.6%)。
下文所列是所获得的晶体的X-射线粉末衍射图谱,所述X-射线粉末衍射图谱是由λ=1.54059埃的铜射线穿过单色仪丝滤器而获得。
X-射线粉末衍射图谱
    d     I/I0
    10.93488.44987.28476.62056.32975.46065.29925.01914.57194.41764.34154.21824.06653.83843.65733.5816     22.0100.028.813.826.636.011.51.26.538.633.65.531.11.614.16.6
3.52853.41823.35283.29423.24983.16613.12723.02512.81332.75432.59712.56912.44572.41632.38392.34332.27002.12522.09802.06722.02641.92351.85861.78591.6174 12.22.53.312.613.11.34.648.220.22.42.83.62.02.65.39.81.31.41.41.24.04.02.01.35.6
其中d为晶面间距,I/I0为相对强度
实施例2
室温下,向三口瓶中投入水份含量为20%的青霉素G亚砜10克,加入100毫升甲醇及50毫升水,在每分钟150转的搅拌下,外用50℃热水水浴,将物料升温至45℃,搅拌溶解,形成青霉素G亚砜的甲醇水溶液。移去水浴,用冰水将该溶液逐渐降温至15℃,期间,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体逐渐析出,然后移去冰水,用冰盐水继续将该物料降温至-10℃,过滤。用10毫升甲醇洗涤,干燥,得青霉素G亚砜的甲醇复合晶体8.4克(97%)。
实施例3
室温下,向三口瓶中投入水份含量为20.0%的青霉素G亚砜10克,加入140毫升甲醇及30毫升甲苯及28毫升水,在每分钟200转的搅拌下,外用70℃热水水浴,将物料升温至60℃,搅拌溶解,形成青霉素G亚砜的混合溶媒的溶液。移去热水浴,用冰水将该溶液逐渐降温至10℃,期间,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体逐渐析出。移去冰水,用冰盐水继续将该物料降温至-5℃,过滤。用10毫升甲醇洗涤,干燥,得本发明青霉素G亚砜的甲醇复合晶体8.5克(97.8%)。
实施例4
室温下,向三口瓶中投入水份含量为20.0%的青霉素G亚砜10克,加入150毫升甲醇及50毫升甲酸及50毫升水,在每分钟200转的搅拌下,外用60℃热水水浴,将物料加热至55℃,搅拌溶解,形成青霉素G亚砜的混合溶媒溶液。移去热水浴,用冰水浴将该溶液逐渐降温至10℃,期间,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体逐渐析出,移去冰水浴,用冰盐水继续将该物料降温至-10℃,过滤,用10毫升甲醇洗涤,干燥,得青霉素G亚砜的甲醇复合晶体8.3克。
实施例5
室温下,向三口瓶中投入水份含量为20.0%的青霉素G亚砜10克,加入150毫升甲醇及50毫升乙酸及20毫升水,在每分钟120转的搅拌下,外用60℃热水水浴,将物料逐渐加热至55℃,搅拌溶解,形成青霉素G亚砜的混合溶媒溶液。移去热水浴,用冰水浴将该溶液逐渐降温至10℃,期间,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体逐渐析出,移去冰水浴,用冰盐水继续将该物料降温至-10℃,过滤,用10毫升甲醇洗涤,干燥,得青霉素G亚砜的甲醇复合晶体8.4克。
实施例6
室温下,向三口瓶中投入水份含量为20%的青霉素G亚砜10克,加入甲醇60毫升、乙酸乙酯40毫升及水20毫升,在每分钟120转的搅拌下,外用60℃热水水浴,将物料加热至50℃,搅拌溶解,形成青霉素G亚砜的混合溶媒溶液。移去热水浴,用冰水浴将该溶液逐渐降温至0℃,期间,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体逐渐析出,移去冰水浴,用冰盐水继续将该物料降温至-5℃,过滤,用10毫升甲醇洗涤,干燥,得青霉素G亚砜的甲醇复合晶体8.5克。
实施例7
室温下,向三口瓶中投入水份含量为20.0%的青霉素G亚砜10克,加入甲醇80毫升、甲苯50毫升及乙酸乙酯30毫升水,在每分钟120转的搅拌下,外用60℃热水水浴,将物料逐渐加热至55℃,搅拌溶解,形成青霉素G亚砜的混合溶媒溶液。移去热水浴,用冰水浴将该溶液逐渐降温至20℃,期间,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体逐渐析出,移去冰水浴,用冰盐水继续将该物料降温至-10℃,过滤,用10毫升甲醇洗涤,干燥,得青霉素G亚砜的甲醇复合晶体8.3克。
实施例8
室温下,向三口瓶中投入水份含量为20%的青霉素G亚砜10克,加入甲醇70毫升、乙酸丁酯40毫升及甲苯20毫升,在每分钟120转的搅拌下,外用50℃热水水浴,将物料逐渐加热至50℃,搅拌溶解,形成青霉素G亚砜的混合溶媒溶液。移去热水浴,用冰水浴将该溶液逐渐降温至15℃,期间,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体逐渐析出,移去冰水浴,用冰盐水继续将该物料降温至-20℃,过滤,用10毫升甲醇洗涤,干燥,得青霉素G亚砜的甲醇复合晶体8.4克。
实施例9
室温下,向三口瓶中投入水份为0.2%的青霉素G亚砜10克,加入甲醇80毫升、乙酸乙酯50毫升,在每分钟120转的搅拌下,外用60℃热水水浴,将物料加热至50℃,搅拌溶解,形成青霉素G亚砜的混合溶媒溶液。移去热水浴,用冰水浴将该溶液逐渐降温至25℃,期间,青霉素G亚砜的甲醇复合晶体逐渐析出,移去冰水浴,用冰盐水继续将该物料降温至-10℃,过滤,用10毫升甲醇洗涤,干燥,得青霉素G亚砜的甲醇复合晶体10.4克。

Claims (10)

1、一种青霉素G亚砜复合晶体,其化学结构式如下:
2、根据权利要求1所述的青霉素G亚砜复合晶体,其特征在于所说的青霉素G亚砜复合晶体其晶体熔点106.9℃,元素含量
C:53.35%、N:7.23%、O:24.9%、H:5.78%、S:8.70%。
3、一种青霉素G亚砜复合晶体的制备方法,其特征在它包括以下步骤:
(a)将青霉素G亚砜溶解在甲醇溶液中或含有甲醇的水溶液或含有甲醇的有机溶液中;
(b)将上述含有青霉素G亚砜、甲醇的溶液降温,使青霉素G亚砜及甲醇逐步达到饱和或过饱和状态,析出晶体。
4、根据权利要求3所述的青霉素G亚砜复合晶体的制备方法,其特征在所述的含甲醇的溶液,以及含有甲醇的有机溶液中的甲醇含量≥20%重量份。
5、根据权利要求3所述的青霉素G亚砜复合晶体的制备方法,其特征在所述的含甲醇的溶液,以及含有甲醇的有机溶液中的甲醇含量≥50%重量份。
6、根据权利要求3所述的青霉素G亚砜复合晶体的制备方法,其特征在所述的有机溶液为甲苯、乙酸乙酯或它们的混合物。
7、根据权利要求3所述的青霉素G亚砜复合晶体的制备方法,其特征在所述的青霉素G亚砜与甲醇用量重量份比为1∶1~10;溶解温度为20~80℃;
8、根据权利要求3所述的青霉素G亚砜复合晶体的制备方法,其特征在所述的青霉素G亚砜与甲醇用量重量份比为1∶2~10;溶解温度为30~60℃。
9、根据权利要求3所述的青霉素G亚砜复合晶体的制备方法,其特征在所述的降温,其温度为-30~80℃。
10、根据权利要求3所述的青霉素G亚砜复合晶体的制备方法,其特征在所述的降温,其温度为-5~60℃。
CN2008100545154A 2008-02-01 2008-02-01 一种青霉素g亚砜复合晶体及其制备方法 Active CN101239984B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2008100545154A CN101239984B (zh) 2008-02-01 2008-02-01 一种青霉素g亚砜复合晶体及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2008100545154A CN101239984B (zh) 2008-02-01 2008-02-01 一种青霉素g亚砜复合晶体及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101239984A true CN101239984A (zh) 2008-08-13
CN101239984B CN101239984B (zh) 2010-06-02

Family

ID=39931853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008100545154A Active CN101239984B (zh) 2008-02-01 2008-02-01 一种青霉素g亚砜复合晶体及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101239984B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103030648A (zh) * 2012-12-20 2013-04-10 华北制药河北华民药业有限责任公司 一种青霉素g亚砜dma复合晶体及其制备方法
CN103059044A (zh) * 2012-12-20 2013-04-24 华北制药河北华民药业有限责任公司 一种青霉素g亚砜dmf复合晶体及其制备方法
CN112358489A (zh) * 2020-11-09 2021-02-12 华北制药股份有限公司 一种青霉素亚砜工业化产品的生产方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1111163C (zh) * 2000-07-10 2003-06-11 中国科学院化工冶金研究所 脱除青霉素g亚砜粗产品中水分及杂质的方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103030648A (zh) * 2012-12-20 2013-04-10 华北制药河北华民药业有限责任公司 一种青霉素g亚砜dma复合晶体及其制备方法
CN103059044A (zh) * 2012-12-20 2013-04-24 华北制药河北华民药业有限责任公司 一种青霉素g亚砜dmf复合晶体及其制备方法
CN103030648B (zh) * 2012-12-20 2015-04-08 华北制药河北华民药业有限责任公司 一种青霉素g亚砜dma复合晶体及其制备方法
CN103059044B (zh) * 2012-12-20 2015-05-20 华北制药河北华民药业有限责任公司 一种青霉素g亚砜dmf复合晶体及其制备方法
CN112358489A (zh) * 2020-11-09 2021-02-12 华北制药股份有限公司 一种青霉素亚砜工业化产品的生产方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101239984B (zh) 2010-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101967145B (zh) 一种抗血栓药物阿匹沙班的制备方法
CN103467495A (zh) 一种头孢克肟化合物的制备方法
CN106256824A (zh) 一种高纯度德拉沙星葡甲胺盐的制备方法
CN101239984B (zh) 一种青霉素g亚砜复合晶体及其制备方法
CN110372727B (zh) 头孢妥仑酸δ3异构体及头孢妥仑匹酯δ3异构体的制备方法
CN105085542A (zh) 噁唑烷酮类化合物的晶型和无定形
CN102391128B (zh) 一种抗生素医药中间体丙二酸单对硝基苄酯的生产方法
CN112441952A (zh) 一种大麻二酚-3-磺酸及其制备方法和应用、大麻二酚衍生物
CN104277053B (zh) 一种头孢地嗪及其中间体头孢地嗪酸的制备方法
CN109851619B (zh) 一种核黄素提纯工艺
CN106008436A (zh) 一种艾拉莫德α晶型的制备方法
CN111732547B (zh) 一种奥拉帕利的精制方法及用途
CN103833772A (zh) 一种头孢菌素的合成方法
CN105753732A (zh) Ahu377的晶型及其制备方法与用途
CN114685448A (zh) 一种佐匹克隆杂质吡嗪-2-羧酸(5-氯-吡啶-2-基)-酰胺的合成方法
CN103030648B (zh) 一种青霉素g亚砜dma复合晶体及其制备方法
CN103059044B (zh) 一种青霉素g亚砜dmf复合晶体及其制备方法
CN103980293B (zh) 3-乙烯基-7-(噻唑甲氧亚氨基)头孢烷酸的制备方法
CN103804366A (zh) 一种拉呋替丁晶型化合物
CN102219793B (zh) D(-)-磺苄西林钠的提纯方法
CN103664889B (zh) 一种兰索拉唑化合物
CN107266389A (zh) 一种治疗胃肠道疾病的药物倍半水合物及其制备方法
CN101787035A (zh) 7-氨基头孢甲巯四氮唑的制备方法
CN101143834B (zh) N-(4-三氟甲基苯)-2-氰基-3-羟基丁烯酰胺钠盐的多晶型及其制备方法
CN106478670B (zh) 一种头孢替坦酸的新结晶及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Assignee: NCPC Hebei Huamin Pharma Co., Ltd.

Assignor: Huabei Pharmaceutical Group Co., Ltd.

Contract record no.: 2010130000111

Denomination of invention: Penicillin G sulfoxide composite crystal and preparation method thereof

Granted publication date: 20100602

License type: Exclusive License

Open date: 20080813

Record date: 20101118

ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: NCPC HEBEI HUAMIN PHARMACEUTICAL CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: HUABEI PHARMACEUTICAL GROUP CO., LTD.

Effective date: 20140916

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 050015 SHIJIAZHUANG, HEBEI PROVINCE TO: 052165 SHIJIAZHUANG, HEBEI PROVINCE

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20140916

Address after: 052165, No. 98, Hainan Road, Hebei economic and Technological Development Zone, Shijiazhuang

Patentee after: NCPC Hebei Huamin Pharma Co., Ltd.

Address before: 050015 North China Pharmaceutical Refco Group Ltd, No. 388 Heping East Road, Hebei, Shijiazhuang

Patentee before: Huabei Pharmaceutical Group Co., Ltd.

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20190211

Address after: 050000 No. 388 Heping East Road, Shijiazhuang City, Hebei Province

Patentee after: Huabei Pharmaceutical Co., Ltd.

Address before: 052165 No. 98 Hainan Road, Liangcun Economic and Technological Development Zone, Shijiazhuang City, Hebei Province

Patentee before: NCPC Hebei Huamin Pharma Co., Ltd.

TR01 Transfer of patent right