CN101153380A - 有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法 - Google Patents

有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101153380A
CN101153380A CNA200610116551XA CN200610116551A CN101153380A CN 101153380 A CN101153380 A CN 101153380A CN A200610116551X A CNA200610116551X A CN A200610116551XA CN 200610116551 A CN200610116551 A CN 200610116551A CN 101153380 A CN101153380 A CN 101153380A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
metal sheet
production method
organic
siox
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA200610116551XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN100519822C (zh
Inventor
杨立红
傅建钦
张健
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Baoshan Iron and Steel Co Ltd
Original Assignee
Baoshan Iron and Steel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Baoshan Iron and Steel Co Ltd filed Critical Baoshan Iron and Steel Co Ltd
Priority to CNB200610116551XA priority Critical patent/CN100519822C/zh
Publication of CN101153380A publication Critical patent/CN101153380A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100519822C publication Critical patent/CN100519822C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及一种有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，包括以下步骤：第一步：进入等离子环境中进行表面清洗和表面活化；第二步：通过真空密封装置，进入真空镀膜单元，在有机涂层上进行SiOx镀膜。在上述两步骤的基础上还可以包括以下步骤：第三步：进入后处理单元，使用等离子发生器，使氧气等离子化，前面步骤形成的薄膜最表层向SiO2转化，并趋于稳态；第四步：通过氮气或惰性气体环境，形成稳定的SiOx表面产品。本发明提供的制备方法提高了有机涂层的耐磨、耐划痕(耐擦伤)性能，工艺环保无污染，同时薄膜的相关参数可根据需要灵活、准确调节。

Description

有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法
技术领域
本发明涉及一种在金属板上镀层的制备方法，尤其涉及一种在有机预涂金属板上镀层的真空制备方法。
背景技术
有机涂层金属板(包括有机预涂层钢板，有机预涂铝板、彩涂板等)通常具有较好的美学性能、良好的耐蚀性等，普遍应用于家电、汽车、建筑等领域。在使用过程中，有机涂层的表面力学性能，尤其是耐磨、耐划痕性能，对其使用性能、寿命等具有较大的影响，发生刻划后进行的修补费用也很高。因此，提高有机涂层的表面耐磨、抗划痕性能，具有很重要的意义。
为了提高有机涂层的耐磨、抗划痕性能通常采用以下四种方式：1)对基板表面进行处理；2)改变有机涂层的类型，比如不同类型的树脂等；3)改变颜料中的成分，比如加入各种类型溶胶SiO颗粒或者硅酸盐等；4)在有机涂层表面涂镀附加薄膜，来提高它的耐磨、抗划痕性能。前两种方法可以提高的程度有限；第三种方法作为普遍采用的方法已经申请了很多专利，大多数都采用了SiOx相关材料作为添加剂或颜料。前三种方法都是基于现有工艺进行改进，在生产过程中产生的废水处理等环保问题不能彻底解决。第四种方法能够采用不同的镀膜材料和工艺得到最适合的耐磨、抗划痕性能；比如溶胶-凝胶法，真空镀膜法等，但是溶胶-凝胶法与辊涂、刷涂等传统有机涂层制备方法一样，还是属于湿法镀膜系统，不能彻底解决环保问题，同时镀膜的质量也不能发生革命性的改进。真空镀膜技术是一种很有潜力的技术，普遍应用于电子、玻璃等行业中。但是在带钢领域还没有得到大规模应用。
真空镀膜有如下特点：1)环保；被镀物质通过蒸发、溅射等手段形成气态，也可再通过其他方式形成等离子体，沉积到基板表面；在此过程中不涉及水等物质，不需要进行废水处理，没有废弃物。2)真空状态下沉积出来的薄膜质量高；3)可以很容易地在基板(卷)两面沉积相同或不同的物质，不同的厚度等。4)根据沉积薄膜的厚度和工艺的选择，通常可以在最高200米/分的速度下进行镀膜。
Bosch公司曾经提出在钢铁、陶瓷、玻璃、塑料上沉积SiO等类型的薄膜来提高其耐磨性能和抗紫外线性能，其采用的方法是PECVD沉积耐磨涂层，然后用PVD方法把具有特定光学性能的离子嵌入到PECVD耐磨涂层，主要采用溅射和微波照射的方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种在有机预涂金属板表面沉积SiO的一种真空镀膜制备方法，以提高有机涂层的耐磨、耐划痕(耐擦伤)性能。解决传统上在有机涂层中添加SiO方法不能大幅度提高耐磨、耐划痕性能和环保方面的问题，同时薄膜的相关参数可根据需要灵活、准确调节。
本发明的目的是这样实现的：
本发明有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，包括以下步骤：第一步：进入等离子环境中进行表面清洗和表面活化；第二步：通过真空密封装置，进入真空镀膜单元，在有机涂层上进行SiOx镀膜。
真空镀膜单元可以分为三到四个子镀膜单元，其中每个单元保持不同的气体组成，每个子系统生成的薄膜的性质可以逐渐发生变化，在基板通过时形成梯度薄膜。
本发明有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，在上述两步骤的基础上还可以包括以下步骤：第三步：进入后处理单元，使用等离子发生器，使氧气等离子化，前面步骤形成的薄膜最表层向SiO2转化，并趋于稳态；第四步：通过氮气或惰性气体环境，形成稳定的SiOx表面产品。
其中，所述步骤一中产生等离子的气体是氧气、氮气、氢气、氩气中的一种或者是这几种气体的组合，其表面活化时间为0.5秒～200秒。通过活化可以使表面粗糙度增加，提高物理结合的强度。表面活化形成的活性键使有机涂层中的C-C形成C-O，或C-O形成C＝O等，在沉积时与活性Si离子发生反应形成较强的SiO键，使所镀涂层的结合为化学结合。化学结合具有比物理结合更强的结合力，活化时间越长，表面的粗糙度越大，结合力越好，同时对基体有机涂层的破坏也越大；所采用的镀膜工艺是物理气相沉积PVD或者等离子增强化学气相沉积PECVD，所述PECVD的等离子体发生方式是微波、射频、声频、空心阴极，其可以采用的材料包括六甲基二硅氧烷(Hexamethyldisoloxane，HMDSO)、六甲基二硅胺烷(Hexamethyldisilane，HMDS)、三甲基氯化硅烷(Trimethylsilyl chloride，TMS)等有机溶剂、在通过加热管道后以气体形态进入真空环境，同时通入氧气、氩气或二者，在等离子发生器的作用下形成等离子体，并发生反应。根据氧气与前驱体比的上升，薄膜的组成从SiOx(CH3)y向SiO2变化。HMDSO/氧气，HMDS/氧气、TMS/氧气的比例达到1∶10-1∶20时，可以生成完全的SiO2镀层；基板的运行速率为10～200米/分；所述PVD为蒸发、溅射、离子镀，其采用的Si的来源是Si或者玻璃、石英。所述PVD中的蒸发采用电子束加热、电阻加热、感应加热等方法实现，在蒸发的过程中同时通过反向磁控溅射、空心阴极、射频、声频等来产生等离子体。所述PVD通过改变通入氧气与Si的比例来沉积不同性能的SiOx涂层，Si/Oxygen为1/0.1～1/2；所述步骤三中的等离子发生器包括微波、射频、声频、空心阴极方式，使用等离子发生器后使氧气等离子化，前面步骤形成的薄膜最表层向SiO2转化，并趋于稳态。
上述活化、镀膜、后处理中的真空度范围为1×10-4～1×10-2Pa，通过调节PVD或PECVD的功率、电流、电压等参数来控制镀膜的厚度、组织结构。SiOx中x的变化范围0.1-2之间，通常情况下，有机涂层与SiOx的力学性能差异较大，这种大的差异使其在使用过程中，会发生剥离。所以首先要保证力学性能的过渡，本发明中镀膜单元中的子镀膜单元具有不同的参数，保证基板在通过过程中，可以形成梯度薄膜。所镀薄膜的组成从基板到最上层可以不断变化，形成梯度薄膜。最佳的是分为三层，最下层SiOx中x的值较小，厚度为涂层厚度的10％左右，最上层x接近于2，厚度为镀层厚度的10％左右。镀层的性能逐渐从有机向无机过渡，力学性能不断提高，同时保证了结合力和高的薄膜性能，最佳的总镀层厚度在20nm到600nm之间。通过调整功率、电压、电流等，可以使薄膜为透明状态，从而不改变原来有机涂层的美学性能，也可以使镀层有不同的光学性能，从而提供更好的美学性能。
本发明由于采用了上述的技术方案，使之与现有技术相比，具有以下的优点和积极效果：
1、因为本发明实现的SiOx为具有陶瓷特征的镀层，比向有机涂层中添加SiO2相关颗粒，所以能够提供更均匀、耐磨和耐划痕(抗擦伤)的表面性能；
2、本发明有机预涂金属板(卷)从空气中进入真空环境或者在真空环境中进行，在此过程中不涉及水等物质，不需要进行废水处理，没有废弃物产生，制备过程环保；
3、透明的SiO2涂层能够保持原来有机涂层的美学性能，通过调整参数，SiOx镀层的光学性能也可以发生变化，提供更好的美学性能；
4、本发明所产生的梯度薄膜能够保证力学性能的平稳过渡，保证其在使用过程中不会发生剥离等现象，提高其使用寿命。
具体实施方式
实施例1：用MW-PECVD在汽车用聚亚安酯预涂钢板表面镀SiOx镀层。
在本实施例中，使用MW-PECVD方法在汽车用聚亚安酯预涂钢板表面镀SiOx镀层，具体方法与步骤如下：
在活化段，通入80sccm氧气，通过微波等离子发生器，在2.46GHz，400W条件下，使氧气等离子化，压力为20Pa左右；聚亚安酯预涂板进入活化段中，以10米/分通过，对表面进行清洁和活化。表面的C＝O键增加，NHCONH向NHCOO转化，同时表面的粗糙度从增大。
在镀膜段，三个子镀膜单元中HMDSO和氧气的比例分别为5/3、5/2、5/1。通过等离子发生器，在2.46GHz，300W条件下，使氧气等离子化，压力为20Pa左右；聚亚安酯预涂板进入真空环境中，以10米/分通过，进行镀膜，逐渐变为100/5，最后在底层形成SiOCH3结构，表面形成SiO1.2结构。镀膜厚度为150nm。
在后处理段，通入80sccm氧气，通过微波等离子发生器，在2.46GHz，400W条件下，使氧气等离子化，压力为20Pa左右；聚亚安酯预涂板进入真空环境中，以20米/分通过，对表面进行后处理，使表面转化为SiO2涂层。
通过纳米压痕技术分析表明，聚亚安酯预涂钢板的的表面硬度从0.3提高到0.4Gpa，表面的弹性模量没有发生变化。对耐划痕性能，在不发生破裂、剥离的条件下，在同样压入深度的条件下，需要的正向压力压力增加了100％；在同样的深度下，所需的侧向力增加了200％。
实施例2：用EB-PVD在汽车用聚亚安酯预涂钢板表面镀SiOx镀层。
本实施例采用反向磁控溅射刻蚀作为活化前处理、EB-PVD作为镀膜工艺在汽车用聚亚安酯预涂层钢板表面沉积SiOx镀层，具体方法与步骤如下：
在活化段，通入80sccm氧气和100sccm的氩气，通过反向磁控溅射产生等离子体，压力为20Pa左右；聚亚安酯预涂板进入活化段中，以10米/分通过，对表面进行清洁和活化。表面的C＝O键增加，NHCONH向NHCOO转化，同时表面的粗糙度从增大。
在镀膜段，采用50kW电子束枪，加热石英，产生SiO2蒸汽，同时通入氧气，三个子镀膜单元中氧气的通入量分别为0、4m3/h、、8m3/h，压力为20Pa左右；聚亚安酯预涂板进入镀膜单元，以10米/分通过，进行镀膜，最后在底层形成SiO1.2结构，表面形成SiO2结构。镀膜厚度为75nm。
不用进行后处理。
通过纳米压痕技术分析表明，聚亚安酯预涂钢板的的表面硬度从0.3提高到0.4Gpa，表面的弹性模量从4Gpa增加到4.2GPa。对耐划痕性能，在不发生破裂、剥离的条件下，在同样压入深度的条件下，需要的正向压力压力增加了75％；在同样的深度下，所需的侧向力增加了200％。
实施例3：用等离子增强EB-PVD在环氧树脂预涂铝板镀SiOx镀层。
本实施例采用反向磁控溅射刻蚀作为活化前处理、等离子增强EB-PVD作为镀膜工艺在汽车用环氧树脂预涂铝板表面沉积SiOx镀层，具体方法与步骤如下：
在活化段，通入80sccm氧气和100sccm的氩气，通过反向磁控溅射产生等离子体，压力为20Pa左右；环氧树脂预涂板进入活化段中，以20米/分通过，对表面进行清洁和活化。表面的C＝O键增加，同时表面的粗糙度从增大。
在镀膜段，采用50kW电子束枪，空心阴极等离子发生器，加热石英，产生SiO2蒸汽，同时通入氧气，使气体等离子化，三个子镀膜单元中氧气的通入量分别为0、4m3/h、、8m3/h，压力为20Pa左右；聚亚安酯预涂板进入镀膜单元，以10米/分通过，进行镀膜，最后在底层形成SiO1.2结构，表面形成SiO2结构。镀膜厚度为100nm。
不用进行后处理。
通过纳米压痕技术分析表明，聚亚安酯预涂钢板的的表面硬度从0.3提高到0.6Gpa，表面的弹性模量从4Gpa增加到4.5GPa。对耐划痕性能，在不发生破裂、剥离的条件下，在同样压入深度的条件下，需要的正向压力压力增加了150％；在同样的深度下，所需的侧向力增加了300％。

Claims (17)

1.一种有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于包括以下步骤：
第一步：进入等离子环境中进行表面清洗和表面活化；
第二步：通过真空密封装置，进入真空镀膜单元，在有机涂层上进行SiOx镀膜。
2.如权利要求1所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于还包括：
第三步：进入后处理单元，使用等离子发生器，使氧气等离子化，
前面步骤形成的薄膜最表层向SiO2转化，并趋于稳态；
第四步：通过氮气或惰性气体环境，形成稳定的SiOx表面产品。
3.如权利要求1所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于还包括：
在第二步中，镀膜单元分为三到四个子镀膜单元，其中每个单元保持不同的气体组成，每个子系统生成的薄膜的性质可以逐渐发生变化，在基板通过时形成梯度薄膜。
4.如权利要求2所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所述步骤一中产生等离子的气体是氧气、氮气、氢气、氩气中的一种或者是这几种气体的组合。
5.如权利要求2所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：表面活化时间为0.5秒～200秒。
6.如权利要求2所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所采用的镀膜工艺是物理气相沉积PVD或者等离子增强化学气相沉积PECVD。
7.如权利要求6所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所述PVD为蒸发、溅射、离子镀。
8.如权利要求7所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所述PVD中的蒸发采用电子束加热、电阻加热、感应加热等方法实现，在蒸发的过程中同时通过反向磁控溅射、空心阴极、射频、声频等来产生等离子体。
9.如权利要求6述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所述PVD采用的Si的来源是Si或者玻璃、石英。
10.如权利要求6所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所述PVD通过改变通入氧气与Si的比例来沉积不同性能的SiOx涂层，Si/Oxygen为1/0.1～1/2。
11.如权利要求6所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所述PECVD的等离子体发生方式是微波、射频、声频、空心阴极。
12.如权利要求6所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所述PECVD采用的材料为六甲基二硅氧烷、六甲基二硅胺烷或三甲基氯化硅烷等有机溶剂，在通过加热管道后以气体形态进入真空环境，同时通入氧气、氩气或二者，在等离子发生器的作用下形成等离子体，并发生反应。
13.如权利要求12所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：HMDSO/氧气，HMDS/氧气、TMS/氧气的比例达到1∶10-1∶20时，生成完全的SiO2镀层。
14.如权利要求2所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：基板的运行速率为10～200米/分。
15.如权利要求2所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所述活化、镀膜、后处理中的真空度范围为1×10-4～1×10-2Pa。
16.如权利要求2所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：所述步骤三中的等离子发生器包括微波、射频、声频、空心阴极方式。
17.如权利要求2所述的有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法，其特征在于：通过调节PVD或PECVD的功率、电流、电压等参数来控制镀膜的厚度、组织结构。
CNB200610116551XA 2006-09-27 2006-09-27 有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法 Expired - Fee Related CN100519822C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB200610116551XA CN100519822C (zh) 2006-09-27 2006-09-27 有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB200610116551XA CN100519822C (zh) 2006-09-27 2006-09-27 有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101153380A true CN101153380A (zh) 2008-04-02
CN100519822C CN100519822C (zh) 2009-07-29

Family

ID=39255263

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB200610116551XA Expired - Fee Related CN100519822C (zh) 2006-09-27 2006-09-27 有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN100519822C (zh)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102226262A (zh) * 2011-06-10 2011-10-26 谢德培 真空镀膜工艺、及涂料组合物
CN102352489A (zh) * 2011-10-14 2012-02-15 南昌欧菲光科技有限公司 一种触摸屏用防指纹膜的制备方法
CN102351143A (zh) * 2010-06-02 2012-02-15 通用汽车环球科技运作有限责任公司 封装的反应性材料及其制造方法
CN103290362A (zh) * 2013-04-23 2013-09-11 中山天誉真空科技有限公司 一种免底涂工艺
CN104233235A (zh) * 2013-06-06 2014-12-24 惠州欧博莱光电技术有限公司 在工件上形成光学膜的方法及其设备
CN104752633A (zh) * 2013-12-31 2015-07-01 中国科学院微电子研究所 一种薄膜封装方法
CN104975265A (zh) * 2015-06-25 2015-10-14 苏州爱迪尔镀膜科技有限公司 高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺
CN105420671A (zh) * 2015-11-11 2016-03-23 浙江兆奕科技有限公司 一种电子产品基材表面超硬镀膜方法
CN107151780A (zh) * 2016-03-04 2017-09-12 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种聚合物表面的处理方法
CN107460448A (zh) * 2017-08-04 2017-12-12 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种基体表面的修饰涂层及其制备方法
CN108160005A (zh) * 2018-01-23 2018-06-15 温州职业技术学院 气体发生装置
WO2022007536A1 (zh) * 2020-07-06 2022-01-13 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 透明耐磨膜层、塑料表面改性方法以及产品
CN113957391A (zh) * 2020-07-21 2022-01-21 宝山钢铁股份有限公司 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN115198245A (zh) * 2022-07-18 2022-10-18 浙江弘康半导体技术股份有限公司 一种氧化物高阻隔膜、制备的方法以及真空卷绕镀膜设备

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2241678C (en) * 1997-06-26 2007-08-28 General Electric Company Silicon dioxide deposition by plasma activated evaporation process
CN2516565Y (zh) * 2001-12-03 2002-10-16 深圳豪威真空光电子股份有限公司 中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备
US7256425B2 (en) * 2002-02-18 2007-08-14 Ciba Specialty Chemicals Corporation Methods of producing plane-parallel structures of silicon suboxide, silicon dioxide and/or silicon carbide, plane-parallel structures obtainable by such methods, and the use thereof

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102351143A (zh) * 2010-06-02 2012-02-15 通用汽车环球科技运作有限责任公司 封装的反应性材料及其制造方法
CN102351143B (zh) * 2010-06-02 2013-12-04 通用汽车环球科技运作有限责任公司 封装的反应性材料及其制造方法
CN102226262A (zh) * 2011-06-10 2011-10-26 谢德培 真空镀膜工艺、及涂料组合物
CN102352489A (zh) * 2011-10-14 2012-02-15 南昌欧菲光科技有限公司 一种触摸屏用防指纹膜的制备方法
CN103290362A (zh) * 2013-04-23 2013-09-11 中山天誉真空科技有限公司 一种免底涂工艺
CN104233235A (zh) * 2013-06-06 2014-12-24 惠州欧博莱光电技术有限公司 在工件上形成光学膜的方法及其设备
CN104233235B (zh) * 2013-06-06 2018-08-07 惠州欧博莱光电技术有限公司 在工件上形成光学膜的方法及其设备
CN104752633A (zh) * 2013-12-31 2015-07-01 中国科学院微电子研究所 一种薄膜封装方法
CN104975265A (zh) * 2015-06-25 2015-10-14 苏州爱迪尔镀膜科技有限公司 高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺
CN104975265B (zh) * 2015-06-25 2018-11-30 苏州爱迪尔镀膜科技有限公司 高分子合成材料抗腐蚀涂层处理工艺
CN105420671A (zh) * 2015-11-11 2016-03-23 浙江兆奕科技有限公司 一种电子产品基材表面超硬镀膜方法
CN107151780A (zh) * 2016-03-04 2017-09-12 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种聚合物表面的处理方法
CN107151780B (zh) * 2016-03-04 2019-05-10 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种聚合物表面的处理方法
CN107460448A (zh) * 2017-08-04 2017-12-12 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种基体表面的修饰涂层及其制备方法
CN108160005A (zh) * 2018-01-23 2018-06-15 温州职业技术学院 气体发生装置
WO2022007536A1 (zh) * 2020-07-06 2022-01-13 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 透明耐磨膜层、塑料表面改性方法以及产品
TWI778653B (zh) * 2020-07-06 2022-09-21 大陸商江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司 透明耐磨膜層、塑料表面改性方法以及產品
CN113957391A (zh) * 2020-07-21 2022-01-21 宝山钢铁股份有限公司 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN113957391B (zh) * 2020-07-21 2023-09-12 宝山钢铁股份有限公司 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置
CN115198245A (zh) * 2022-07-18 2022-10-18 浙江弘康半导体技术股份有限公司 一种氧化物高阻隔膜、制备的方法以及真空卷绕镀膜设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN100519822C (zh) 2009-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100519822C (zh) 有机预涂金属板上SiOx镀层的真空制备方法
US6372303B1 (en) Method and device for vacuum-coating a substrate
CN100467664C (zh) 一种类金刚石碳膜制造方法和用其制造的带包覆膜的部件
CN102653855B (zh) 耐磨损和抗氧化的TiAlSiN纳米复合超硬涂层制备方法
CN1237200C (zh) 等离子体活化蒸发法沉积二氧化硅
CN100412228C (zh) 铝或铝合金基体表面离子注入与沉积复合强化处理方法
CN101518935B (zh) Pvd纳米复合陶瓷涂层螺杆及其制造方法
WO2000075394A1 (en) A doped diamond-like carbon coating
CN105296949B (zh) 一种具有超高硬度的纳米结构涂层及其制备方法
CN103469205A (zh) 一种荷叶类金刚石膜的镀膜工艺
CN106835037A (zh) 一种高硬度、高弹性模量的多组元氮化物涂层及其制备方法
KR20110115291A (ko) Ｄｌｃ 코팅장치
CN107937873A (zh) 碳掺杂的过渡金属硼化物涂层、碳‑过渡金属硼化物复合涂层、制备方法及应用和切削工具
CN101942636A (zh) 多层复合镀膜、其制造方法以及具有该多层复合镀膜的基材
Wu et al. Characterization of diamond-like carbon coatings prepared by pulsed bias cathodic vacuum arc deposition
CN100395371C (zh) 微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺
CN106756833B (zh) 一种高硬度TiCrN/TiSiN纳米多层结构涂层及其制备方法
CN108396306A (zh) 一种低温沉积硬度可控的类金刚石复合薄膜的方法
CN105441945B (zh) 一种高硬度低摩擦系数的纳米涂层及其制备方法
CN101333642A (zh) 带钢镀膜方法及其系统
KR20090020292A (ko) 고분자 재료의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조및 그 제조 방법
CN101333652B (zh) 有机预涂金属板上硅氧氟涂层的制备方法
Kim et al. Characteristics and high water-repellency of aC: H films deposited by rf PECVD
JP3203437B2 (ja) 耐摩耗性プラスチック成形物及びその製造方法
CN106011763A (zh) 镁合金上制备铪/氮化硅导电且耐蚀纳米复合涂层的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20090729

Termination date: 20130927