KR20090020292A - 고분자 재료의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조및 그 제조 방법 - Google Patents

고분자 재료의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조및 그 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 고분자 재료의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고분자 소재 표면에 전자파를 투과시키는 연질 금속 박막의 부식과 연성에 의한 손상을 방지할 수 있는 고분자 재료의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조 및 그 제조 방법을 개시한다.
본 발명은 통신기기나 가전기기의 케이스, 자동차의 외장재 등으로 사용되는 고분자 재료의 표면에 전기 전도도가 낮아 전자파의 투과율이 높은 것으로 알려진 인듐 또는 주석, 은 등과 같은 연성 금속 물질을 박막상으로 형성하되, 이러한 금속 박막의 부식을 방지하기 위하여 실리콘 산화물 유사구조로 된 투명 고분자 박막층을 형성하고, 그 위에 강도가 높은 투명 세라믹 코팅층을 형성함으로써 전자파 투과율이 높은 금속 박막의 기계, 화학적 물성을 개선하기 위한 것이다. 이를 위하여 본 발명은 고분자 재료의 표면에 증착된 금속 박막위에 실리콘 산화물 유사 구조를 가지는 투명 고분자 박막층을 플라즈마 중합법에 의하여 형성하여 외부 부식을 방지하고 고분자 박막층 위에 SiO₂나 ZrO₂과 같이 투명한 세라믹 하드코팅을 실시하여 내부식성과 내마모성이 향상되면서도 금속질감을 유지함으로써, 무선통신기기나 가전제품, 자동차의 외장재등에 효과적으로 적용 가능한 유용한 효과가 있다.
고분자 재료 질감 금속 연성 강도

Description

고분자 재료의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조 및 그 제조 방법 {Multi-layer Thin Film Structure for Providing Metallic Sense of Polymer Material and Manufacturing Method Thereof}
본 발명은 고분자 재료의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세히는 휴대폰 등 통신기기나 가전제품, 자동차 외장재 등의 케이스 및 각종 외장 부품으로 사용되는 고분자 재료의 표면에 금속 박막층을 형성하여 금속 질감을 부여하면서도 내식성 및 강도를 충분히 향상 시킬 수 있도록 하는 고분자 재료의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
주지하는 바와 같이 박막 코팅 분야는 다양한 기판에 목적에 따라 금속 막을 형성 시키는 기술로 반도체, 항공우주 분야는 물론, 광학, 자동차 부품, 장식품, 장난감 등 많은 분야에 오래전부터 응용되어져온 기술이다. 이러한 분야 중, 장식용의 금속 코팅의 경우 장식이 가지는 특성으로 인하여 광택 및 하지 기판과의 접 착성, 내부식성, 내약품성, 내마모성 등이 요구된다.
장식용 금속 코팅의 경우 귀금속류인 금, 은, 팔라듐과 같은 물질이 주로 사용되어져 왔는데, 이러한 물질들은 공기 중에서 안정할 뿐 아니라, 오랜 기간 동안 사용 되어져 왔기 때문에 제조방법이 널리 알려져 있다. 이러한 귀금속 이외에 주로 장식용 금속으로 많이 사용되어져 온 것은 크롬(Cr)이다. 크롬의 경우 위에 열거한 금속장식으로써 여러 조건을 만족하며 또한 습식 및 건식 방법을 통하여 제조가 가능하였다. 그러나 위에 열거한 귀금속류의 경우 소재 자체가 고가이기 때문에 제조비용이 많이 든다는 단점이 있다. 크롬의 경우 여러 면에서 유리한 장점을 가지고 있지만 중금속 오염이라는 심각한 문제를 가지고 있어 대체기술에 관한 연구가 진행 중이다.
기존의 전자제품의 케이스는 고분자 사출물을 이용하여 많이 제작되는데 주로 케이스 내부에 전자파를 차단하기 위하여 금속코팅을 실시하여 주로 전기 전도도가 좋은 구리 계열의 금속을 사용하여 케이스 내부에 코팅을 함으로써 전자파를 차단하는 역할을 하여 왔다. 뿐만 아니라, 제품의 디자인을 향상시키려는 노력은 제품 케이스 내부는 물론, 외부에도 금속코팅을 실시하여 새로운 디자인의 제품을 선보이고 있으며, 대부분의 금속이 경우 전자파를 차단한다. 최근 휴대폰 또는 자동차 외장제의 경우 고분자 재료 위에 금속을 코팅하여 금속질감을 부여하고자 하나 금속 박막을 휴대폰 케이스외부에 코팅하거나 자동차 외장제중 송수신이 필요한 부분에 금속박막을 코팅할 경우 전자파를 차단하여 수신감도를 낮추어 성능을 저하시키게 되어 실제 적용이 불가능하다. 그러므로, 최근에는 비교적 저항이 높은 인 듐, 주석, 은 등의 금속을 사용하여 고분자 재료 위에 금속코팅을 실시하더라도 기기의 성능에 지장을 주지 않을 정도로 전자파를 투과시킬 수 있으므로 휴대폰 외부나 자동차 외장재중 송수신이 필요한 부분에 금속코팅이 가능하게 되었고, 이에 따라 디자인을 향상시킬 수 있는 사실이 알려져 관련 연구가 진행 중이다. 이와 같이 금속을 고분자에 코팅할 경우 일반적으로 금속 박막과 고분자 케이스 표면간의 접착강도가 약하고 또한 일부 금속박막의 경우 부식성이나 내마모성을 고려하여 금속박막을 보호하기 위하여 보호 코팅이 필요하게 된다. 이와 같이 기존의 고분자 재료 위에 금속코팅을 실시하는 방법은 접착성을 갖는 도료를 이용하여 고분자 재료 표면 위에 코팅하고 그 위에 진공 증착 방법이나, 스퍼터링 방법, 화학반응법에 의하여 금속박막을 코팅하고 코팅된 금속을 보호하기 위하여 다시 경도가 높은 도료를 이용하여 상부 코팅을 실시하는 방법이 많이 사용 되어 진다. 본 발명에 이루고자 하는 전자파가 잘 투과하는 금속코팅의 경우 인듐, 주석, 은과 같이 연성이 높고 비교적 전기저항이 높은 금속을 사용하게 되는데 인듐이나 주석, 은의 경우 고분자와는 잘 결합하지 않을 뿐 아니라, 연성( 軟性 )으로 인하여 외부의 긁힘에 대하여 매우 약하여 보호 코팅이 필요하다. 따라서 상기한 바와 같이 인듐 또는 주석, 은과 같은 연성 재료를 외장 코팅으로 사용하기 위하여는 도료를 이용한 하도 코팅과 금속 증착 후 도료를 이용한 상도 코팅이 필수적이다. 그러나 상기 공정에 사용되는 도료의 경우 대부분 UV 도료로 도장 공정에 많은 분진을 발생시키는데 UV 도료의 경우 일반 도료보다 유독하여 작업자의 안전에 문제를 발생시킨다. 또한 도료를 이용하기 때문에 외부 충격이나 긁힘에 매우 취약하고 방습효과가 낮은 단점 을 가지고 있다는 문제점이 있는 것이다.
상기 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 고분자 소재 표면에 전자파를 투과하는 금속 박막층에 의한 금속질감을 유지하면서도 그 부식함과 동시에 표면 강도를 향상시킬 수 있도록 한 고분자 재료의 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조 및 그 제조 방법을 제공함에 있다.
본 발명은 이러한 목적을 달성하기 위하여 전자파 투과율이 높은 금속인 인듐, 주석, 은 등의 연성 금속 박막층위에 내부식성을 부여하기 위하여 그 위에 실리콘 산화물 유사 구조인 투명 고분자 박막층을 형성하며, 고분자 박막층 위에 기계적 성질이 우수한 세라믹인 SiO2, Al2O3나 ZrO2등 세라믹을 이용한 투명 세라믹 박막층을 형성하여서 된 고분자 재료의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조 및 그 제조 방법을 제안한다.
이와 같이 하여 본 발명은 전자파 투과율이 충분히 높은 금속 박막층에 의하여 통신기기의 케이스나 자동차의 전파 수신 부품 표면 등에 금속 질감을 제공하면 서 충분한 수신 감도를 제공할 수 있게 됨은 물론, 그 표면에 형성된 투명 고분자 박막층에 의하여 금속 박막층의 부식을 방지할 수 있으며, 그 표면에 형성된 투명 세라믹 코팅층이 강도를 향상시켜 줄 수 있게 된다. 이에 따라 본 발명은 휴대폰 등의 통신기기나 가전제품, 자동차의 외장 부품 등에서 금속 박막에 의한 금속 질감이 그대로 발현됨과 아울러 금속 박막층의 내식성, 강도를 크게 향상시켜 줌으로써 금속박막을 이용한 각종 고분자 재료의 표면 물성을 개선할 수 있게 되어, 디자인의 품격을 향상시키고 내구성을 보강할 수 있으며, 품질 개선에 기여할 수 있게 되는 유용한 효과가 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조 및 그 제조 방법은 고분자 소재(1) 표면에 이온빔 또는 플라즈마를 이용하여 표면 접착력을 향상시키기 위한 표면처리를 실시하거나 접착력을 향상시키기 위한 도료를 이용한 하도 코팅층을 형성하여 금속 박막층(3)이 고분자 소재(1)에 안정된 상태로 고착되도록 하는 단계와, 전자파 투과 및 금속질감을 갖는 금속을 진공증착법 또는 스퍼터링 방법에 의해서 금속 박막층(3)을 증착하는 단계, 그리고 금속 박막층(3)의 내식성을 부여하기 위하여 실리콘 산화물 유사 구조 고분자 박막층(4)을 형성하는 단계와 고분자 박막층(4)위에 강도를 향상시키기 위한 세라믹 코팅층(5)을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하고 있다.
상기 고분자 박막층(4) 증착공정은 플라즈마 고분자 중합법을 이용한 탄소를 포함하는 실리콘 산화물 유사 필름을 코팅하거나 진공증착법을 이용한 페릴린 코팅을 사용하는 것을 특징으로 하고 세라믹 코팅층(5)은 진공증착법 또는 스퍼터링 방법 또는 CVD(Chemical Vapor Deposition)법을 사용하는 것을 특징으로 하고 있다.
상기 진공증착법에 의해서 얻어진 금속박막-고분자-세라믹 다층박막의 전자파투과율은 60%이상인 것을 특징으로 하고 있다.
본 발명에 따라 제조된 금속박막층-고분자 박막층(4) -세라믹 코팅층(5)으로 된 다층박막은 전자파투과율이 우수한 금속 박막층(3)과, 내식성을 부여할 수 있는 투명 고분자 박막층(4)과 투명 세라믹 코팅층(5)에 의하여 금속질감을 유지하면서도 고분자 박막층(4)에 의해서 발현되는 방습 효과에 의해서 부식을 방지하고 강도면에서 우수한 세라믹 코팅층(5)에 의해서 표면강도를 증가시켜 외부로 부터의 충격이나 긁힘에 매우 강인한 물성을 제공하게 된다.
이하 첨부의 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 의하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것은 아니고, 단지 예시적으로 제시된 것이다.
본 발명의 금속 박막층(3) -고분자 박막층(4) -세라믹 코팅층(5)의 구조는 도면 1에 나타냈다. 다층 박막의 표면 개질층(2)은 접착력 향상을 위하여 이온빔 또는 프라즈마에 노출시켜 미세한 요철이 형성되도록 함으로써 접착력을 증진시키거나 -C-O, -C=O, -(C=O)-O 와 같은 친수성 작용기를 형성하여 킬 수 있도록 하는 표면 개질층(2)이거나 도료를 이용한 고분자층으로 된 접착력 향상층(2)이며, 이때의 도료는 통상 아크릴계로 구성된다.
아울러, 그 위에는 전자파투과가 가능한 금속 박막층(3)을 형성하게 되고, 이어서 그 위에 탄소를 포함하는 실리콘 산화물 유사 구조 고분자 박막층(4)이 형성되며, 그 위에 세라믹 코팅층(5)이 위치하게 된다.
이러한 본 발명에 의한 금속박막층-고분자 박막층(4)-세라믹 코팅층(5)으로 구성된 다층박막은 다음과 같은 단계를 거쳐 제조한다. 도면 2를 참조로 본 발명에 따른 코팅 방법을 상세히 설명한다.
먼저, 통신기기나 차량의 부품 등 고분자 소재(1)의 표면에 묻은 이물질을 완전히 제거하여야 한다. 이를 위하여 본 발명은 고분자 소재(1)의 표면에 초음파 세척을 실시하여 이물질을 제거하고 건조 시킨다.
이어서 표면 개질층(2)은 아래에 예시된 바와 같은 2가지 방법으로 실시된다. 첫 번째 방법은 소재(1)의 표면을 개질 시키는 것이다. 즉, 건조된 고분자 소재(1)는 이온빔 또는 플라즈마 표면처리 장치가 구비된 진공장비에 장입한 후 아르곤 가스, 산소가스, 질소 가스 또는 이들 가스의 혼합가스를 이용하여 이온빔 또는 플라즈마를 발생시켜 이온빔으로 조사하거나, 플라즈마에 노출시켜 표면을 친수성으로 개질하여 접착력 향상층을 형성한다.
두 번째 방법은 건조된 고분자 소재(1) 표면에 우레탄 아크릴레이트, 모노머, 광게시제, 희석용제 등으로 구성된 도료를 분사하여 도포하고 자외선(UV)를 조사함으로써 경화시켜 1~30㎛의 두께를 갖는 금속 접착력 향상을 위한 제1코팅층을 형성하는 것이다.
이와 같이 하여 표면 개질층(2)을 형성한 후, 연질 금속을 증착시켜서 금속 박막층(3)을 형성하여야 하며, 이는 인듐이나 주석, 은 등의 연성 금속을 이용할 경우 진공증착장치에 의해서 실시한다. 진공증착장치는 회전식 sample holder, 전기가열기, 인듐이 장입된 보트형 용기 등으로 구성되어 있고 진공 챔버의 진공도는 10-4 torr를 이하로 유지한다. 인듐 또는 주석, 은을 보트형 용기에 장입하고 전기가열기 전극에 전압을 가하여 150~1600℃의 온도로 가열하여 4~60초 동안 금속이 증발 및 비산되게 하면 고분자 소재(1) 표면에 균질하고 다양한 두께를 갖는 금속 코팅층을 증착하게 된다. 융점이 높은 금속의 경우 스퍼터링 공정에 의하여 제조할 수도 있다.
이어서, 이러한 금속 박막층(3) 위에 부식을 방지하기 위한 투명 고분자 박막층(4)을 형성하게 되는 바, 이는 두가지 방법으로 구현할 수 있다.
그 첫 번째 방법은 탄소를 포함하는 실리콘 산화물 유사 고분자 박막층(4)을 형성할 수 있으며, 고분자 물질로 HMDSO(Hexamethyldisiloxane : C6H18OSi2), HMDSN(Hexamethyl-disilazane:C6H19NSi2), TEOS(Tetraethoxysilane:C8H20O4Si), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane:C4H16O4Si4), TMDSO(Tetramethyldisiloxane : C4H14OSi2) 와 같이 탄소와 Si를 포함하는 고분자 모노머를 상온~150℃에서 증발시킴과 동시에 산소가스를 혼합하여 진공 챔버 안으로 산소 +모노머 혼합가스 상태로 주입하여 소재(1) 표면에서 플라즈마를 이용하여 고분자 중합을 통하여 소재(1) 표면에 증착시켜서 실리콘 산화물 유사층을 형성한다. 이때 코팅막의 두께는 0.2~10㎛의 범위이다.
두 번째 방법으로 부식을 방지하기 위한 고분자 박막층(4)으로 페릴린을 사용할 수도 있는데, 페릴린을 사용할 경우, 페릴린 코팅층은 페릴린 다이머를 120~150℃에서 증발시키고 600~680℃에서 열분해(pyrolysis) 과정을 통해 모노머로 분해되고 소재(1)가 있는 진공 챔버에서 다시 고분자화 과정을 거쳐서 치밀하고 균질한 페릴린 코팅층을 형성한다. 이때 얻어진 코팅막의 두께는 1~20㎛의 범위이다.
끝으로, 세라믹을 이용한 경질 세라믹 코팅층(5)으로 세라믹 코팅을 위하여 SiO를 진공증착방법에 의하여 증발시키면서 산소를 분위기로 넣어 주어 SiO2층을 형성하거나, SiO2, Al2O3나 ZrO2와 같은 세라믹 타겟을 이용하여 스퍼터링을 하면서 동시에 산소가스를 주입하는 리엑티브 스퍼터링 방법을 이용하여 SiO2, Al2O3나 ZrO2 박막과 같은 세라믹 코팅막을 형성한다.
보다 우수한 기계적 특성을 갖는 세라믹 코팅을 위하여 스퍼터링시 아르곤가스에 산소를 혼합하여 사용할 수도 있다. 이러한 스퍼터링 공정은 1~10mTorr Ar +산소 분위기에서 magnetron rf plasma의 스퍼터링(sputtering)과정을 통해서 10~120분 동안 증착한다. 또 다른 방법으로 다이몬드유사 카본(DLC : Diamond like carbon) 필름을 증착할 수 있는데 다이몬드 유사 카본 필름은 아세틸렌, 메탄 등 불포화 공액구조를 가지는 하이드로카본(hydrocarbon)가스를 기판 주위에 주입하면 서 플라즈마 중합반응을 이용하여 소재 표면에 다이몬드 유사 카본 필름을 증착한다.
도 1은 본 발명에 의하여 제조된 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막의 구조를 보인 종단면도.
도 2는 본 발명에 의한 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조 방법을 보인 흐름도.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
1: 고분자 소재 2: 표면 개질층
3: 금속 박막층 4: 고분자 박막층
5: 세라믹 코팅층

Claims (15)

  1. 각종 통신기기 및 가전제품, 자동차 부품등을 구성하는 고분자 소재(1) 의 표면 위에 인듐, 주석 또는 은으로 대표되는 연성 금속 박막층(3)을 공지의 고분자 소재(1)의 표면에 형성하여서 된 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조에 있어서,
    고분자 소재(1)의 표면 위에 미세한 요철 표면처리 또는 친수성 작용기 형성을 실시하여 표면에 접착성을 갖게 하는 접착력 향상을 위한 표면 개질층(2)과,
    표면 개질층(2) 위에 형성된 전술한 바와 같은 금속박막층과,
    상기 금속 박막층(3) 위에 부식방지를 위하여 형성된 투명 고분자 박막층(4)과, 상기 고분자 박막층(4)위에 세라믹을 코팅하는 투명 세라믹 코팅층(5)으로 구성됨을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 구조.
  2. 각종 통신기기 및 가전제품, 자동차 부품등을 구성하는 고분자 소재(1) 의 표면 위에 인듐, 주석 또는 은으로 대표되는 연성 금속에 의하여 진공증착법, 전자빔 증발법, 스퍼터링법을 이용한 금속 박막층(3)을 형성하여 금속질감을 얻음과 동시에 필요한 전자파 투과율을 얻도록 하여서 된 공지의 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 박막 제조방법에 있어서,
    상기 금속 증착된 시편위에 부식 방지를 위한 고분자 박막층(4)을 형성하는 단계와,
    표면 강도 향상을 위한 투명 세라믹 코팅층(5) 형성단계를 구비하여서 됨을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 고분자 소재(1)의 표면위에 금속 박막층(3)을 형성하기 전에 고분자 소재(1)의 표면 위에 친수성 반응기 형성 및 미세한 요철 표면처리를 실시하여 접착력을 향상시키기 위한 표면 개질 단계 표면 개질 단계는 고분자 소재(1)를 진공장비에 장입한 후 아르곤 가스, 산소가스, 질소 가스 또는 이들 가스의 혼합가스를 택일하여 이온빔을 발생시켜 이온빔으로 조사하여 표면을 친수성으로 개질함을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 고분자 소재(1)의 표면위에 금속 박막층(3)을 형성하기 전에 고분자 소재(1)의 표면 위에 친수성 반응기 형성 및 미세한 요철 표면처리를 실시하여 접착력을 향상시키기 위한 표면 개질 단계는 고분자 소재(1)를 진공장비에 장입한 후 아르곤 가스, 산소가스, 질소 가스 또는 이들 가스의 혼합가스를 택일하여 프라즈마를 발생시켜 플라즈마에 노출시켜 표면을 친수성으로 개질함을 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 고분자 소재(1)의 표면위에 금속 박막층(3)을 형성하기 전에 고분자 소재(1)의 표면 위에 미세한 요철 표면처리를 실시하여 접착력을 향상시키기 위한 표면 개질 단계는 고분자 소재(1) 표면에 우레탄 아크릴레이트, 모노머, 광게시제, 희석용제로 구성된 도료를 분사하여 도포하고 자외선(UV)를 조사, 경화시켜 1~30㎛의 두께를 갖는 금속 접착력 향상을 위한 제1코팅층이 형성되도록 함을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  6. 청구항 2에 있어서,
    상기한 부식방지를 위한 투명 고분자 박막층(4)은 탄소와 Si를 포함하는 고분자 모노머를 상온~150℃에서 증발시킴과 동시에 산소가스를 혼합하여 진공 챔버 안으로 산소 +모노머 혼합가스 상태로 주입하여 소재(1) 표면에서 플라즈마를 이용하여 고분자 중합을 통하여 소재(1) 표면에 증착시켜서 실리콘 산화물 유사층을 형성하여서 됨을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기한 고분자 모노머는 HMDSO(Hexamethyldisiloxane : C6H18OSi2), HMDSN(Hexamethyl-disilazane:C6H19NSi2), TEOS(Tetraethoxysilane:C8H20O4Si), TMCTS(Tetramethylcyclotetrasiloxane:C4H16O4Si4), TMDSO(Tetramethyldisiloxane : C4H14OSi2) 중 어느 하나임을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 투명 고분자 박막층(4)은 0.1~10㎛의 두께로 형성됨을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  9. 청구항 2에 있어서,
    상기한 부식을 방지하기 위한 고분자 박막층(4)을 형성하기 위하여 페릴린 다이머를 120~150℃에서 증발시키고 600~680℃에서 열분해(pyrolysis) 과정을 통해 모노머로 분해되고 소재(1)가 있는 진공 챔버에서 다시 고분자화 과정을 거쳐서 증착되도록 하여서 된 페릴린 코팅층을 형성함을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 투명 고분자 박막층(4)은 1~20㎛의 두께로 형성됨을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  11. 청구항 2에 있어서,
    상기 세라믹 코팅층(5)은 SiO를 진공증착방법에 의하여 증발시키면서 산소를 분위기로 넣어 주어 SiO2층을 형성함을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  12. 청구항 2에 있어서,
    상기 세라믹 코팅층(5)은 SiO2, Al2O3나 ZrO2와 같은 세라믹 타겟을 이용하여 스퍼터링을 하면서 동시에 산소가스를 주입하는 리엑티브 스퍼터링 방법을 이용하여 SiO2, Al2O3나 ZrO2 박막으로 된 세라믹 코팅막을 형성함을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기한 세라믹타켓을 이용한 스퍼터링시 산소가스와 아르곤가스를 혼합하여 사용함을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  14. 청구항 12에 있어서,
    상기한 스퍼터링 공정은 1~10mTorr의 Ar +산소 분위기에서 rf magnetron plasma의 스퍼터링(sputtering)과정을 통해서 10~120분 동안 증착시킴을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
  15. 청구항 2에 있어서,
    상기 세라믹 코팅층(5)은 다이몬드유사 카본(DLC : Diamond like carbon) 필름은 아세틸렌, 메탄 등 불포화 공액구조를 가지는 하이드로카본(hydrocarbon)가스를 기판 주위에 주입하면서 플라즈마를 이용하여 소재(1)표면에 증착함을 특징으로 하는 고분자 소재의 금속 질감을 부여하기 위한 다층 박막 제조방법.
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