CN100511729C - 一种制备Cu2ZnSnS4半导体薄膜太阳能电池吸收层的工艺 - Google Patents

一种制备Cu2ZnSnS4半导体薄膜太阳能电池吸收层的工艺 Download PDF

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Abstract

一种制备Cu2ZnSnS4半导体薄膜太阳能电池的工艺,属于光伏电池技术领域。按照化学计量比Cu∶Zn∶Sn=1.6-1.7∶1∶1混合化学纯度的Cu粒、Zn粒、Sn粒,压制成直径10mm,高15mm的圆柱压坯压坯,封存在真空度10-4~10-3Pa的石英管中,通过感应熔炼使之形成合金锭。采用甩带工艺制成厚度15~30μm,宽度5~8mm的脆性合金薄带。再将薄带混合硫粉球磨48~96小时形成黑色的浆料,将浆料涂敷在钼基体或玻璃基体上,干燥后在氢气或者氮气气氛中热处理。优点在于:采用熔炼合金的方法,避免了元素的损失,确保了严格的化学计量比。相比于其他硫化方法,更易于形成均匀的吸收层,并且无需硫气氛,操作简单。

Description

一种制备Cu2ZnSnS4半导体薄膜太阳能电池吸收层的工艺
技术领域
本发明属于光伏电池技术领域,特别是提供了一种制备Cu2ZnSnS4半导体薄膜太阳能电池吸收层的工艺。
发明背景
Cu2ZnSnS4是一种用作薄膜太阳能电池吸收层的半导体材料。它具有1.51eV的禁带宽度,104cm-1的吸收系数,十分符合太阳能电池所要求的条件。化合物中含有的元素都是在地壳中储量丰富的,不含其他太阳能电池材料如CdTe中含有的有毒金属Cd,也不含有CuInSe2所用的贵金属In,是一种对环境十分友好的材料,适宜作为太阳能电池的吸收层,因此具有十分广阔的应用前景。
很多国家的研究机构都开展了对此化合物的研究,取得了很大的进展。目前常用的制备工艺包括硫化气相沉积前驱体法、磁控溅射法、混合溅射法等。其共通点在于都是通过某种方法预先制备一层Cu、Zn、Sn元素比一定的合金层,而后再进行硫化,最终得到所需要的Cu2ZnSnS4吸收层。上述方法可以简要的分为两步:(1)合金膜的制备;(2)硫化。
对于与Cu2ZnSnS4同属于黄铜类太阳能材料的CuInSe2而言,有人采用如下方法制备出光电转化效率为7.8%的电池:先混合纳米级的Cu,In粉,湿磨一定时间后制成含有CuIn合金、Cu、In单质的混合粉末,而后涂覆在一定的基体上进行硒化。因此对于Cu2ZnSnS4而言,同样可以采用类似的方法进行制备。而且相对于其他方法,此法制备成本比较低,适于大规模批量化生产。但是这种方法,同样没有脱离前述制备方法的两步,即合金膜的制备以及硫化。流程相对较为复杂一些,
发明内容
本发明的目的在于提供一种制备Cu2ZnSnS4半导体薄膜太阳能电池吸收层的工艺。在成功的制备出纯净Cu2ZnSnS4吸收层的基础上,简化了工艺步骤,使之更适合于实际生产。
本发明的构成:
按照化学计量比Cu:Zn:Sn=1.6—1.7:1:1混合化学纯的Cu粒、Zn粒、Sn粒,压制成直径10mm,高15mm的圆柱压坯,封存在真空度10-4~10-2pa的石英管中,通过感应熔炼使之形成合金锭。采用甩带工艺制成厚度15~30μm,宽度5~8mm的脆性合金薄带。再将薄带混合硫粉球磨48~96小时形成黑色的浆料,将浆料涂敷在钼基体或基体上,干燥后在氢气或者氮气气氛中退火2~3小时。
本发明的优点在于:采用熔炼合金的方法,先形成一定的合金相,并且相比于其他单元素逐一添加到体系中的方法,尽可能的避免了元素的损失,确保了严格的化学计量比。甩带后形成非常薄的脆性合金带,利于后续阶段球磨出成分粒度比较小的浆料。合金带混合硫粉,在球磨过程中充分混合,形成均匀的混合物,由于涂敷后的膜中含有符合化学计量比的硫,相比于其他硫化方法,更易于形成均匀的吸收层,并且无需硫气氛,操作上简单使用。
附图说明
图1是本发明制得的混合浆料涂敷在导电玻璃基体上在N2气氛下350℃热处理后得到的X射线衍射图。横坐标为衍射角度,单位为度,纵坐标为相对强度。
图2是本发明制得的混合浆料涂敷在导电玻璃基体上在N2气氛下400℃热处理后得到的X射线衍射图。横坐标为衍射角度,单位为度,纵坐标为相对强度。
图3是本发明制得的混合浆料涂敷在导电玻璃基体上在H2气氛下350℃热处理后得到的X射线衍射图。横坐标为衍射角度,单位为度,纵坐标为相对强度。
图4是本发明制得的混合浆料涂敷在导电玻璃基体上在H2气氛下400℃热处理后得到的X射线衍射图。横坐标为衍射角度,单位为度,纵坐标为相对强度。
具体实施方式
CuZnSn前驱体合金的熔炼
(1)首先取原子比为Cu:Zn:Sn=1.6-1.7:1:1的金属颗粒,混合后压制成ψ10mm的圆柱压坯,由于锡比较软,因此易于压制,压力不需要很大。
(2)将压坯密封在石英管中,由于在密封过程中需要抽气,而且真空度需要控制在1×10-3pa以下,因此可添加适当的吸气剂。
(3)利用感应熔炼的方法,电压控制在220V,当熔体沸腾后片刻,停止加热,自然冷却到室温,得到银白色的合金。
CuZnSn合金的甩带球磨
(1)将熔炼好的合金锭置于甩带设备的石英管(石英管下端开有小口,目的是使熔融液态合金流出)中,感应加热使其融化从小口流出,滴落在高速转动的铜辊上,由于激冷以及高速转动,合金以带状形式甩出,由于甩出的金属带比较脆并且厚度较薄,会发生断裂,易于后续的球磨。
(2)将甩带后的合金带以合金:硫粉=10:3的配比混合硫粉,并以10克料23克无水乙醇的比例混合后,置于行星式球磨机中球磨48—96小时,制成混合浆料。
(3)将混合浆料涂敷在钼基体(或者导电玻璃)上,干燥后待热处理。
例1:Cu2ZnSnS4吸收层的N2气氛(350℃)制备
(1)将涂有浆料的钼片(或导电玻璃),置于电阻炉中,通N2排除空气十五分钟,后50℃预热十分钟。
(2)按照10℃/min的速度升温至200℃,保温一小时。
(3)按照2℃/min的速度由200℃升温至350℃,保温两小时后随炉冷至室温取出,得到蓝黑色的吸收层。
例2:Cu2ZnSnS4吸收层的N2气氛(400℃)制备
(1)将涂有浆料的钼片(或导电玻璃),置于电阻炉中,通N2排除空气十五分钟,然后50℃预热十分钟。
(2)按照10℃/min的速度升温至200℃,保温一小时。
(3)按照2℃/min的速度由200℃升温至400℃,保温两小时后随炉冷至室温取出,得到蓝黑色的吸收层。
例3:Cu2ZnSnS4吸收层的H2气氛(350℃)制备
(1)将涂有浆料的钼片(或导电玻璃),置于电阻炉中,通H2排除空气,验纯三次,然后50℃预热十分钟。
(2)按照10℃/min的速度升温至200℃,保温一小时。
(3)按照2℃/min的速度由200℃升温至350℃,保温两小时后随炉冷至室温取出,得到蓝黑色的吸收层。
例4:Cu2ZnSnS4吸收层的H2气氛(400℃)制备
(1)将涂有浆料的钼片(或导电玻璃),置于电阻炉中,通H2排除空气,验纯三次,然后50℃预热十分钟。
(2)按照10℃/min的速度升温至200℃,保温一小时。
(3)按照2℃/min的速度由200℃升温至400℃,保温两小时后随炉冷至室温取出,得到蓝黑色的吸收层。
例5:热处理后样品的XRD
涂敷于导电玻璃基体上的浆料在N2气氛和H2气氛下经350℃和400℃退火后,Cu2ZnSnS4的(112),(200),(220),(312)晶面衍射峰十分明显。在H2气氛350℃热处理后得到了十分纯净的Cu2ZnSnS4相。

Claims (1)

1、一种制备Cu2ZnSnS4半导体薄膜太阳能电池吸收层的工艺,其特征在于:按照化学计量比Cu:Zn:Sn=1.6—1.7:1:1混合化学纯度的Cu粒、Zn粒、Sn粒,压制成直径10mm、高15mm的圆柱压坯,封存在真空度10-4~10-2pa的石英管中,通过感应熔炼使之形成合金锭;采用甩带工艺制成厚度15~30μm、宽度5~8mm的脆性合金薄带;再将甩带后的合金带以合金:硫粉=10:3的配比混合硫粉,球磨48~96小时形成黑色的浆料,将浆料涂敷在钼基体或基体上,干燥后在氢气或者氮气气氛中退火2~3小时。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN100466305C (zh) * 2007-11-22 2009-03-04 北京科技大学 一种制备铜铟硒薄膜太阳能电池富铟光吸收层的方法
DE102009009550A1 (de) 2009-02-19 2010-09-02 Carl Von Ossietzky Universität Oldenburg Verfahren zum nasschemischen Synthetisieren von Dikupfer-Zink-Zinn-Tetrasulfid und/oder - Tetraselenid (CZTS), ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterschicht aus CZTS sowie eine kolloidale Suspension
CN101645473B (zh) * 2009-09-09 2011-01-05 北京有色金属研究总院 薄膜太阳能电池吸收层用硒化物材料的制备方法
CN101659394B (zh) * 2009-09-17 2012-05-30 上海交通大学 铜锌锡硫纳米粒子的制备方法
US8470287B2 (en) 2009-11-25 2013-06-25 E I Du Pont De Nemours And Company Preparation of copper zinc tin sulfide
CN101771106B (zh) * 2010-03-05 2011-10-05 中国科学院上海硅酸盐研究所 铜锌镉锡硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法
US8480944B2 (en) 2010-12-09 2013-07-09 E I Du Pont De Nemours And Company Quaternary chalcogenide wafers
US8709657B2 (en) 2010-12-09 2014-04-29 E I Du Pont De Nemours And Company Quaternary chalcogenide wafers
CN102344166B (zh) * 2011-07-04 2013-06-05 东华大学 一种Cu2ZnSnS4太阳能吸收层材料的制备方法
CN102315333B (zh) * 2011-10-13 2014-07-30 南京大学 ZnSnS薄膜与ZnSnS/SnS 异质结的制备与太阳能电池应用
CN102492972A (zh) * 2011-12-12 2012-06-13 云南师范大学 一种Cu2ZnSnS4薄膜的电化学制备工艺
TWI460869B (zh) 2011-12-30 2014-11-11 Ind Tech Res Inst 太陽能電池光吸收層之製法
WO2013129045A1 (ja) * 2012-02-27 2013-09-06 株式会社日本マイクロニクス Czts系太陽電池用合金の作製方法
CN104556207B (zh) * 2015-01-12 2016-08-24 东华大学 一种p型Cu2ZnSnS4纳米棒的制备方法
CN109956504A (zh) * 2019-03-29 2019-07-02 昆明理工大学 一种铜镍锡硫纳米晶的制备方法

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