CN100432850C - 成像设备 - Google Patents

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Abstract

一种成像设备包括：多个成像部分，每个成像部分具有一感光构件和一用于显影位于感光构件上的静电图像的显影装置；以及设置在成像部分下面、用于曝光多个感光构件的曝光装置。曝光装置具有容纳光学构件的框架件。该框架件包括与成像部分相对的上框架部分。该上框架部分具有多个分别对应于成像部分的凹陷部分。上框架部分具有多个设置在与凹陷部分不同的位置上的窗，用于透射用来曝光感光构件的图像光束。

Description

成像设备
技术领域
本发明涉及一种诸如复印机或打印机的采用电摄影方法的成像设备，尤其是涉及一种具有多个成像部分的全色成像设备。
背景技术
近年来，具有多个成像部分的所谓串行式成像设备已经投入实际使用，以便提高打印速度。
图5至7示出了这种串列式全色成像设备的一个例子，该例子构成了本发明的背景技术。
图5是该设备的剖视图。图5所示设备设有用于包括黄色、品红色、青色和黑色的各种颜色的感光鼓20。每个感光鼓20由涂覆有感光层的导电构件组成，其上将要由从扫描型光学装置发出的激光束形成静电潜像。参考标号21表示扫描型光学装置，它根据从图像读取设备或个人计算机等(在图中均未示出)发送出的图像信号发射激光束；参考标号22表示用于利用可摩擦带电的调色剂在感光鼓上形成调色剂图像的显影装置，参考标号23表示用于将位于感光鼓上的调色剂图像转印到转印纸上的中间转印带，参考标号24表示容纳将要在其上形成调色剂图像的纸张的供纸盒，参考标号25表示用于通过加热使已经转印到纸张上的调色剂图像粘附于该纸张上的定影装置，参考标号26表示将要堆叠图像已经定影于其上的转印纸的接纸盘。
下面，将对成像过程进行说明。
根据一定的图像信息从扫描型光学装置21发出的激光束投射到感光鼓20上，从而在已经由充电器27充电的感光鼓20上形成静电潜像。接着，在显影装置22中，将摩擦带电的调色剂施加在静电潜像上，从而在感光鼓上形成调色剂图像。将该调色剂图像从感光鼓的表面上转移到中间转印带23上。然后，将该调色剂图像从中间转印带23上进一步转印到已经从设置在设备主体下部中的供纸盒24输送出的纸张上。由此，在纸张上形成图像。在纸张上形成的图像由定影装置25定影(即，经历调色剂定影)，然后运送该纸张以堆放在接纸盘上。
图6是表示构成图5所示成像设备的一部分的成像部分的示意草图。图6中所示的扫描型光学装置借助用于以扫描方式偏转根据图像信息发出的激光束的多面镜29、用于能够用激光束定速扫描并使激光束成一个点地反射到感光鼓上的fθ透镜30a和30b以及用于使激光束朝预定方向反射的反转镜31在感光鼓上形成了静电潜像。该扫描型光学装置容易蒙受灰土，而且如果位于激光束的光路中的某些部分被弄脏或污染，则会出现诸如在图像的对应于泥土的部分产生图像缺陷或在图像的该部分调色剂不足的问题。鉴于这些问题，已经使用moltopren(商标)在容纳光学元件的光学器件壳体33和上盖34之间形成密封，作为防止灰尘进入的防范措施。另一方面，在缩小成像设备主体的尺寸的情况下，已使扫描型光学装置的位置更靠近感光鼓。另外，在这个例子的设备中，构成部件要这样布置，即，将扫描型光学装置设置在感光鼓下面，以便于维护在感光构件周围的部分。
但是，在激光束从感光鼓的下面发射出的情况下或者在激光束从靠近感光鼓的位置发射出的情况下，当使用设备时，调色剂会沿如图6中的箭头所示的方向从显影装置、感光鼓或清洁器等上散出或掉落。
鉴于这种情况，必须如图7所示的在激光束发射部分处提供防尘玻璃板32，以便防止灰尘进入光学器件壳体内部并防止污染光学元件。
但是，在其中光学器件壳体如上所述地设置在设备下面的成像设备中，尽管可以防止容纳在光学器件壳体内的光学元件被掉落的调色剂污染，但没有对防尘玻璃板32会被灰尘或调色剂污染的情况采取防范措施。因此，如图7所示，掉落的调色剂将会滑落到光学器件壳体的顶面上，随时间的流逝而最终污染防尘玻璃板32的表面。这种污染将部分地阻挡激光束，防止在感光鼓上形成静电潜像，这将导致产生有缺陷的图像。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种其中将曝光装置设置在感光构件下面的成像设备。
本发明的另一个目的在于提供这样一种成像设备，其中，即使发生调色剂的飞散，图像曝光也不受调色剂的影响。
本发明的另外一个目的在于提供一种成像设备，它包括：多个成像部分，每个成像部分具有一感光构件和一用于显影位于感光构件上的静电图像的显影装置；以及设置在成像部分下方、用于曝光多个感光构件的曝光装置，该曝光装置具有容纳光学构件的框架件，其中，该框架件包括与成像部分相对的上框架部分，该上框架部分具有多个分别对应于成像部分的凹陷部分，且上框架部分具有多个设置在与凹陷部分不同的位置上的窗，用于透射用来曝光感光构件的图像光束。
从以下的详细说明中将清楚地了解本发明的其他目的。
附图说明
图1为表示根据本发明的第一实施例的成像设备的示意图；
图2为表示第一实施例中的成像部分的示意图；
图3为表示根据本发明的第二实施例的成像设备的示意图；
图4为表示第二实施例中的成像部分的示意图；
图5为说明成像设备的视图；
图6为说明成像设备的视图；
图7为说明成像设备的视图。
具体实施方式
下面，出于说明的目的，将具体地说明本发明的优选实施例。但是应当注意到，关于这些实施例所描述的零部件的尺寸、材料、形状和相对布置并不构成本发明的限制，除非专门指明。
(第一实施例)
图1示出了根据本发明的第一实施例的扫描型光学装置和包括感光鼓等的成像部分。在图1中，参考标号1表示由涂覆有感光层的导电构件组成的感光鼓(即，作为载像构件的感光构件)，参考标号2表示用于将感光鼓1一直充电至预定电位的充电器，参考标号3表示用于用调色剂在感光鼓上形成静电潜像的显影装置，参考标号4表示以扫描方式偏转所发出的激光束的多面镜，参考标号5a和5b表示用于能够用激光束定速扫描并使激光束成一个点地反射到感光鼓上的fθ透镜，参考标号6表示用于使激光束朝预定方向反射的反转镜，参考标号7表示用于清洁残留在感光鼓上的调色剂的清洁器，而参考标号8表示容纳扫描型光学装置的光学元件的光学器件壳体(框架件)。另外，由参考标号9表示的是从诸如感光鼓或清洁器的部件扩散出或掉落的调色剂。图1中的粗箭头表示从显影装置3、感光鼓1或清洁器7等上落下的调色剂的掉落方向。激光束的通过防尘玻璃板(或防尘窗)11入射到感光鼓1上的光路被布置在如下所述的空间之外，即，该空间在位于显影装置的用于覆盖面对感光鼓的显影辊之框架的开口端处的垂直面(由字母“a”表示)和充电辊的垂直切面(由字母“b”表示)之间形成。从诸如显影装置3、感光鼓1和清洁器7的部件上落下的调色剂落到光学器件壳体上盖10上，该光学器件壳体的上盖10覆盖在设置于下面的扫描型光学装置的光学器件壳体8上。落在光学器件壳体上盖10上的调色剂在其上逐渐积聚，并最终滑落到光学器件壳体上盖10的表面上。
在这个实施例中，光学器件壳体上盖10被做成这样的形状，即，该光学器件壳体上盖10处于包括邻接防尘玻璃板11的边缘的平面“c”之下，从而提供了可以收纳一定量的已经滑落的调色剂的调色剂储槽部分(即凹陷部分)9。另外，为了防止在由于设备内的轻微气流或某些机械振动而引起积聚的调色剂扩散的情况下污染防尘玻璃板11，在位于光学器件壳体上盖10和诸如显影装置3的上部单元之间的间隙处设置moltopren12以堵塞该间隙。由于采用了上述结构，防尘玻璃板11很难被落下的调色剂污染，因此将保持有高的图像质量。另外，可以省略或简化维护操作。
(第二实施例)
下面，将主要集中在与上述第一实施例不同的特征方面来对本发明的第二实施例进行说明。在该第二实施例中，将用与第一实施例中相同的参考标号表示其结构和功能与第一实施例中相同的零部件，并为简洁起见将省略对这些零部件的说明。
图3示出了在本发明第二实施例中的扫描型光学装置和包括感光鼓等的成像部分。
在水平设置的扫描型光学装置的光学器件壳体上盖10上，以几乎覆盖每个防尘玻璃板11的方式设置防护盖13，同时留出允许激光束照射到感光鼓1上所需的区域。防尘玻璃板11设置在如下所述地形成的空间之外，即，该空间位于在覆盖面对感光鼓的显影辊的显影装置框架的开口端处的垂直面和充电辊的垂直切面之间。设置防护盖13是用来防止防尘玻璃板11被从诸如如图3所示地设置在防护盖13右侧的显影装置3的上部结构上落下的调色剂或被在设备内部扩散(或飞扬)的调色剂污染。
如图4所示，在根据该实施例的设备结构中，落下或扩散的调色剂被覆盖防尘玻璃板11的防护盖13带到位于防尘玻璃板11右侧的调色剂储槽部分14。防护盖13和光学器件壳体上盖的调色剂储槽部分14的倾斜部分形成打开的扇子的形状，并且除了包括激光束的光束的横截面的区域之外，防尘玻璃板11均得到遮护。由于具有这些特征，不仅可以主要地保护防尘玻璃板11免受掉落的调色剂的影响，而且还可以主要地保护防尘玻璃板11免受扩散或飞扬的调色剂的影响。在具有上述结构的情况下，防尘玻璃板11很难被落下的调色剂污染，因此将会保持有高的图像质量。另外，可以省略或简化维护操作。
如上面所述，根据本发明，入射到载像构件上的激光束的光路布置在其中掉落有调色剂的空间之外，并且在用于光学构件的框架的上部处设置相对于防尘玻璃板凹陷的凹陷部分。利用这些特征，可以防止防尘玻璃板的表面被将在设备的操作过程中出现的扩散或落下的调色剂污染。

Claims (4)

1.一种成像设备，包括：
多个成像部分，每个成像部分具有一感光构件和一用于利用调色剂显影位于所述感光构件上的静电图像的显影装置；以及
设置在成像部分下面、用于曝光多个感光构件的曝光装置，所述曝光装置具有容纳光学构件的框架件，
其中，所述框架件包括与成像部分相对的上框架部分，该上框架部分具有多个分别对应于成像部分的凹陷部分，
上框架部分具有多个设置在与凹陷部分不同的位置上的窗，用于透射用来曝光感光构件的图像光束。
2.如权利要求1所述的成像设备，其特征在于，成像部分沿倾斜方向布置，并且上框架部分沿成像部分布置的方向倾斜。
3.如权利要求2所述的成像设备，其特征在于，所述成像设备还包括用于防止调色剂掉到所述窗上的盖。
4.如权利要求1所述的成像设备，其特征在于，形成在所述上框架部分上的多个凹陷部分中的每一个定位在一对相邻的窗之间。
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