CH639499A5 - Verfahren zur herstellung eines fluessigkristallanzeigeelementes. - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkristallanzeigeelementes.
Im allgemeinen werden Flüssigkristallanzeigeelemente durch Bilden einer durchsichtigen leitenden Schicht hergestellt, die das Elektrodenmuster auf einem Substrat aus Glas, wie beispielsweise Kronglas aufweist. Gegebenenfalls wird eine Orientierungssteuerschicht zur Ausrichtung der Flüssigkristallmoleküle auf der Elektrode aufgebracht, woraufhin zwei Glassubstrate mit den einander gegenüberliegenden Schichten parallel zueinander angeordnet werden und der Flüssigkristall eingeschlossen wird.
Es ist bekannt, als durchsichtige Schichten Schichten aus Zinnoxyd oder Indiumoxyd zu verwenden. Zinnoxydschichten werden aus der Dampfphase gezogen und können verhältnismässig leicht hergestellt werden. Da es aber sehr schwer ist, die Zinnoxydschichten zu ätzen oder durchsichtige Elektroden mit sehr kleinen Mustern herzustellen, sind sie unbrauchbar, um sie für Flüssigkristallanzeigevorrichtungen mit verhältnismässig komplizierten Mustern zu verwenden. Andererseits können Indiumoxydschichten leicht geätzt werden, da sie jedoch schub- oder losweise durch Vakuumverdampfung mit elektrischer Widerstandsheizung oder Elektronenstrahlver-dampfung von Indiumoxyd im Vakuum hergestellt werden, besteht das Problem der Leistungsfähigkeit einer solchen Herstellungsweise. Das ergibt sich daraus, dass die Arbeitszeit eines Loses 60-120 Minuten beträgt, wodurch die Leistungsfähigkeit stark herabgesetzt ist. Dieses Problem könnte durch die Einrichtung von zusätzlichen Vakuumpumpen gelöst werden, doch die höheren Investitionskosten wirken sich dabei negativ 5 aus. Ausserdem ist es schwierig, eine gleichmässige Schicht auf einem Substrat mit einer grösseren Ausdehnung als 100 x 100 mm zu bilden, so dass der Gebrauch von Indiumoxidschichten durch die Abmessungen des Substrates begrenzt ist.
io Um dieses Problem zu lösen, wurde bereits ein Verfahren vorgeschlagen, bei welchem eine Indiumoxydschicht dadurch gebildet wurde, dass auf einem Substrat eine Lösung von Verbindungen, die als Hauptkomponente Indium enthalten, aufgebracht und anschliessend kalziniert wird. Die derart aufge-15 brachten Schichten weisen jedoch eine geringe Haftfähigkeit auf und auch die Festigkeit dieser Schicht ist nicht besonders hoch. Dadurch wird diese Indiumoxydschicht beim nachfolgenden Ätzen oder während dem Entfernen der Harzschicht abgeschält oder die Elektroden werden während der Behand-20 Iung beschädigt und unterbrochen. Ausserdem haben diese Indiumoxydschichten einen hohen Flächenwiderstand, wodurch die Oberfläche der Schicht weiss wird, anstatt durchsichtig, so dass diese Schicht nicht mehr für Flüssigkristallelektroden verwendet werden kann. Ein solches Verfahren wird 25 in den japanischen Offenlegungsschriften Nr. 1497/77 und Nr. 37763/77 beschrieben, wobei jedoch die oben beschriebenen Nachteile bestehen.
Andererseits wurde versucht, die Haftung der Indiumoxydschicht auf dem Glassubstrat zu verstärken, wobei ver-30 sucht wurde, das beschichtete Glas bei einer Temperatur von 600°C oder höher zu behandeln. Obwohl das Abschälen der durchsichtigen Schicht und ein Unterbruch der Elektroden wesentlich verringert werden konnte, wurde das Glassubstrat deformiert, da Kronglas einer Wärmebehandlung von über 35 500 °C nicht gewachsen ist. Infolgedessen wies die Flüssigkristallschicht zwischen den Elektroden nicht eine gleichförmige Dicke auf, wodurch sich die Anzeigeeigenschaften dieses Elementes verschlechterten. Ausserdem waren die Alkalimetallionen im Kronglas in der Indiumoxydschicht diffundiert, 40 wodurch der Flächenwiderstand spürbar erhöht wurde und dadurch die Elektroden untauglich machte.
Aus der obigen Beschreibung folgt, dass mit bekannten Verfahren keine durchsichtigen leitenden Schichten hergestellt werden können, die als Elektroden in Flüssigkristallanzeige--15 elementen verwendet werden können und die den an sie gestellten Anforderungen genügen können. Es ist daher ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung von Flüssigkristallanzeigeelementen mit durchsichtigen leitenden Schichten anzugeben, die einen niedrigen Flächen-50 widerstand, eine starke Haftung am Glassubstrat und eine grosse mechanische Festigkeit aufweisen und die leicht hergestellt werden können.
Dieses Ziel wird durch ein Verfahren erreicht, das sich auszeichnet durch Bilden einer elektrisch isolierenden Sili-55 cium- oder Metalloxydschicht auf einem durchsichtigen Glassubstrat, durch Bilden einer durchsichtigen elektrisch leitenden Schicht darauf, wobei eine Beschichtungslösung aufgebracht wird, die durch Verdünnung eines gelösten Stoffgemisches aus Indium, Zinn, einem ß-Diketon und Salpetersäure 60 mit einem organischen Lösungsmittel hergestellt wurde, und wobei dieser Überzug anschliessend kalziniert wird, durch Ätzen der durchsichtigen leitenden Schicht um Elektroden mit vorgegebenem Muster zu erhalten, dadurch parallel Anordnen von zwei so behandelten Glassubstraten, derart, dass die Elek-b5 troden auf der Innenseite einander gegenüber zu liegen kommen und durch Einschliessen von Flüsssigkristall in den Zwischenraum zwischen beiden Glassubstraten.
Kronglas enthält im allgemeinen grosse Anteile von Alkali
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metallionen wie Natriumionen, Kaliumionen usw. Falls Kronglas als Glassubstrat verwendet und einer Hitzebehandlung unterworfen wird oder bei Raumtemperatur gelagert wird, ist es bekannt, dass diese Alkalimetallionen sich an der Oberfläche des Substrates mit einer hohen Konzentration ansammeln. 5 Wenn nun eine Indiumverbindung auf einem solchen Substrat niedergeschlagen wird, diffundieren die Alkalimetallionen in die Indiumoxydschicht während oder nach dem Kalzinieren, wodurch der chemische Widerstand verringert wird und die Schicht sich leicht vom Glassubstrat abschält. Ausserdem 10 erhöhen die Alkalimetallionen häufig den Flächenwiderstand der Indiumoxydschicht merklich bis auf 300 kD Quadrat. Falls eine stabile Metalloxydschicht auf dem Glassubstrat gebildet wird und eine Lösung mit einer Indiumverbindung darauf aufgebracht und kalziniert wird, kann die Haftung der Indium- 15 oxydschicht wesentlich erhöht werden, während gleichzeitig der Flächenwiderstand erniedrigt wird. Als Silicium- oder Metalloxydschicht können Schichten aus Silicium-, Titan-, Aluminium-, Zirkonium-, Magnesium-, Nickeloxyd usw. verwendet werden. Diese Oxyde können einzeln oder in einem 2<> Gemisch von 2 oder mehreren dieser Komponenten verwendet werden. Um die Schicht zu bilden, können herkömmliche Verfahren wie Vakuumverdampfung, Dampfphase-Züchterverfahren, Zerstäubungsverfahren, Beschichtungsverfahren und dergleichen verwendet werden.
Die Beschichtungslösung, um die durchsichtige leitende Schicht auf dem Silicium- oder Metalloxyd zu bilden, wird durch Verdünnen eines gelösten Stoffgemisches aus Indium, Zinn, einem ß-Diketon und Salpetersäure mit einem organischen Lösungsmittel hergestellt. Falls Salzsäure anstatt Salzpetersäure verwendet wird, werden, da Chlorid schwer löslich ist, Chlorionen leicht in der durchsichtigen leitenden Schicht zurückgehalten, wodurch der alkalische Widerstand und damit die Festigkeit der Schicht herabgesetzt wird. Im Gegensatz dazu ergeben sich aus der Verwendung von Salzpetersäure verschiedene Vorteile, da einerseits das Nitrat durch Hitze leicht zersetzbar ist und einen stärkeren oxydierenden Effekt hervorruft, dadurch, dass die Oxyde von Indium und Zinn leicht gebildet werden und ein oxydierender Abbau der organischen Moleküle vonstatten geht. Falls Acetylaceton als ß-Diketon verwendet wird, scheint der gelöste Stoff aus Verbindungen zu bestehen, die die folgenden Strukturformeln aufweisen und die die Schicht bilden:
CH.
CH
C - 0.
HC.
CH-
^ \
NO.
In
"C = 0
NO.
HC.
CIL
3\
c -
:c =
V / /\
0 NO °
- C,
CH0 / 3
= C
%
I
/
\
CH
CH.
(I)
(II)
CH
3\
CH
.C - 0 ^ \
HC .Sn - NO^
N = o/
CH-
HC
CH-
3\
C -
:c = o
° NO, °
Sn
'I Xo
N03
= c
- c
CH,
/ 3
X
✓
CH
CH.
(III)
(IV)
Nach dem Kalzinieren ist das Zinnoxyd fest mit dem Indi- 55 umoxyd vermischt, wodurch die Eigenschaften wie Flächenwiderstand und Adhäsionsfestigkeit stark verbessert werden. Bei der Bildung des gelösten Stoffgemisches, wobei Zinn mit Salpetersäure in der Gegenwart eines ß-Diketons zur Reaktion gebracht wird, kann die Auflösung von Zinn wirksam durch- e>o geführt werden. Wird Zinn direkt in Salpetersäure aufgelöst,
wird das erzeugte Zinn-Nitrat (Sn(NOî)2) und (Sn(N03)4) unmittelbar mit Wasser zur Reaktion gebracht um Ausfällungen wie Stannohydroxyd (Sn(OH)2) und Stannihydroxyd (Sn(OH)i) zu ergeben, die durch ungenügende Auflösung von Zinn hervorgerufen werden. Andererseits ist Acetylaceton,
falls es bei der Auflösung als ß-Diketon verwendet wird, vorhanden wie aus der nachfolgenden Strukturformel hervorgeht:
CH.
HC
CH.
C - 0,
C = 0'
H
(V)
65 In einem solchen Zustand ist das Wasserstoffatom unstabil und leicht abspaltbar und kann daher durch ein anderes Ion ersetzt werden. Wenn Zinn in der Gegenwart von Acytylace-ton in Salpetersäure aufgelöst wird, befreit das erzeugte Zinn-
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4
Nitrat Zinnionen und Nitrationen, so dass die Zinnionen den Platz des Wasserstoffatoms in der Strukturformel V des Ace-tylacetons einnehmen können, um eine Verbindungzu ergeben, wie sie in den Strukturformeln III und IV dargestellt sind. Auf diese Weise scheint das Zinn praktisch vollständig in der Lösung aufgelöst zu sein.
Bei der Verwendung von Indium, Zinn, Acetylaceton und Salpetersäure kann Indium jederzeit der Lösung zugegeben werden, doch hat jede Komponente einen bevorzugten Bereich seines Anteils. So ist es vorteilhaft, ein Gewichtsteil Indium, 1,3-9,0 Gew.-Teile Acetylaceton und 1,0-6,0 Gew.-Teile Salpetersäure zu verwenden. Falls der Anteil Acetylaceton weniger als 1,3 Gew.-Teile oder der Anteil von Salpetersäure weniger als 1,0 Gew.-Teile, bezogen auf Indium ist, wird Indium oder Zinn nicht genügend aufgelöst, so dass die Beschichtung nicht zufriedenstellend ausfallen kann. Ist andererseits der Betrag von Acetylaceton mehr als 9,0 Gew.-Teile oder der Anteil von Salpetersäure mehr als 6,0 Gew.-Teile bezogen auf Indium, kann keine gleichmässige Schicht nach dem Kalzinieren erhalten werden, da eine grosse Anzahl von Nadellöchern erzeugt wird. Das Gewichtsverhältnis von Zinn zu Indium ist vorzugsweise im Bereich von 0,01:1 bis 0,30:1 um einen Flächenwiderstand von weniger als 10 kO Quadrat zu ergeben.
Als organisches Lösungsmittel kann Methantol, Äthanol, Aceton usw. einzeln oder als Gemisch von zwei oder mehr von diesen Komponenten verwendet werden. Das Gemischverhältnis des gelösten Stoffgemisches zum organischen Lösungsmittel ist vorzugsweise im Bereich von 1:1 bis 1:20. Die derart vorbereitete Beschichtungslösung wird auf ein Glassubstrat aufgebracht, dessen Oberfläche mit einer Oxydschicht, wie beispielsweise eine Siliciumoxydschicht, bedeckt ist, wobei ein herkömmliches Verfahren wie das Tauschverfahren oder dergleichen verwendet wird. Die durchsichtige leitende Schicht kann durch Kalzinieren des beschichteten Substrates gebildet werden. Das Kalzinierverfahren ist nicht begrenzt und irgendein herkömmliches Verfahren kann angewendet werden, doch ist es vorteilhaft, das nachstehend beschriebene Verfahren anzuwenden. Das beschichtete Glassubstrat wird über eine Reihe von Schritten kalziniert wie: ein provisorischer Trocknungsschritt, in welchem das beschichtete Substrat bei einer Temperatur von 35 bis 100°C getrocknet wird, einen Tempera-turhöhungsschritt, in welchem das beschichtete Substrat mit einer Temperaturerhöhungsrate von 20°C/min oder mehr auf 400 "C oder höher erhitzt wird und einen Kalzinierungsschritt, in welchem das beschichtete Substrat bei einer Temperatur von 400'C oder höher kalziniert wird. Wird das beschichtete Substrat einem provisorischen Trocknungsschritt unterworfen, kann es für etliche zehn Stunden belassen werden, ohne dass sich die Eigenschaften wesentlich ändern, so dass dieser provisorische Trocknungsschritt wesentlich zur Verbesserung des Verfahrens beiträgt. Die Temperatur des provisorischen Trocknungsschritts ist zwischen 35 und 100°C gelegen, vorzugsweise zwischen 45 und 70°C, um das organische Lösungsmittel zu verdampfen.
Je grösser die Temperaturerhöhungsrate beim Temperaturerhöhungsschritt wird, um so härter wird die leitende durchsichtige Schicht. Gleichzeitig nimmt deren Flächenwiderstand ab. Die Oberflächenhärte der Schicht nimmt merklich zu, falls die Temperaturerhöhungsrate höher als 20°C/ min oder mehr wird, wobei ein Wert von 100°C/min oder mehr vorgezogen wird.
Die Temperatur beim Kalzinierungsschritt ist 400 °C oder höher, vorzugsweise um 500 CC. Eine zu hohe Kalzinierungs-temperatur ist nicht erwünscht, da das Glassubstrat bei diesen hohen Temperaturen sich zu verformen beginnt. Beim Kronglas beispielsweise ist die obere Grenze der Kalzinierungstem-peratur ungefähr 530°C wegen der Deformationsgefahr. Organische Verbindungen werden in der Regel bei einer Temperatur von über 400 °C zersetzt, so dass überflüssige organische Verbindungen während der Kalzinierung verschwinden.
Das Ätzen der durchsichtigen leitenden Schicht kann mittels bekannter Verfahren durchgeführt werden. Beispielsweise wird eine Lackschicht mit den gewünschen Mustern auf der durchsichtigen leitenden Schicht aufgedruckt und hernach wird die Oberfläche mit einer Ätzlösung mit beispielsweise 1 Gew.-Anteil Salzsäure, 0,1 Gew.-Anteil Salpetersäure und 1 Gew.-Anteil Wasser behandelt. Die nicht mit einer Lackschicht überzogenen Flächen werden durch das Ätzen entfernt. Anschliessend wird die Lackschicht durch eine 5%ige wässrige NaOH-Lösung entfernt, um so die gewünschten Elektroden zu ergeben.
Falls notwendig kann eine Orientierungssteuerschicht auf den Elektroden gebildet werden. Eine solche Steuerschicht, beispielsweise eine Siliciumoxydschicht, kann durch das sogenannte schräge Vakuumverdampfungsverfahren gebildet werden. Anschliessend wird der Substratrand mit einem organischen Klebstoff beschichtet und so mittels einem herkömmlichen Druckverfahren versiegelt. Dann werden zwei derart behandelte Glassubstrate parallel zueinander angeordnet, so dass die Elektroden sich im Innern mit einem Abstand von beispielsweise 5 bis 15 |a.m gegenüberstehen. Der Umfang der Gläser wird anschliessend versiegelt, mit Ausnahme einer Öffnung, bei welcher der Flüssigkristall in das Innere der beiden Substrate eingeführt werden kann. Anschliessend wird mittels bekannter Verfahren der Flüssigkristall eingeführt und die Zelle verschlossen. Werden nun in beiden Aussenseiten des Glassubstrates Polarisierungsplatten und eine Reflektorplatte an der Aussenseite einer Polarisierungsplatte angebracht, entsteht ein Flüssigkristallanzeigeelement des Reflektionstyps. Das erfindungsgemässe Verfahren kann aber auch für ein Flüssigkristallanzeigeelement des Transmission- und des ver-drillt-nematischen Typs verwendet werden sowie für Anzeigeelemente des Phasenübergangtyps.
Die Erfindung wird nun im folgenden anhand von Beispielen erläutert werden, in welchem alle Anteile und Prozente als Gewichtsanteile oder -prozente gelten, wenn nichts anderes ausdrücklich erwähnt wird.
Beispiel 1
Ein Glassubstrat aus Kronglas mit den Abmessungen von 100 x 100 x 1 mm wird in eine alkoholische Lösung von Silici-umhydroxyd (OCD Si-59000, hergestellt durch Tokyo Ohka Kogyo Ltd.) getaucht, wodurch eine Siliciumoxydschicht erhalten wird und bei 500°C während einer Stunde kalziniert. Eine elektrisch isolierende Siliciumoxyd-(Si02)-Schicht mit einer Dicke von ungefähr 100 nm wird auf dem Glassubstrat gebildet. Andererseits wird eine Lösung A hergestellt, indem ein Anteil Indiumnitrat in ein Anteil Acetylaceton aufgelöst wird. Anschliessend wird eine Lösung B hergestellt, in einer Menge von 0,3 Anteilen, indem Zinn in einem Lösungsgemisch von Acetylaceton und Salpetersäure beigegeben wird und die Reaktion von Zinn mit Salpetersäure in Anwesenheit von Acetylaceton durchgeführt wird, um das Zinn in der Lösung aufzulösen. Anschliessend wird Lösung A mit der Lösung B gemischt, um ein gelöstes Stoffgemisch zu erhalten. Eine Beschichtungslösung, um eine durchsichtige leitende Schicht zu erhalten, wird vorbereitet, indem der gelöste Stoff mit einem Aceton enthaltenden organischen Lösungsmittel verdünnt wird, wobei auf einen Anteil gelösten Stoffgemisches ungefähr 7 Anteile Lösungsmittel kommen. Die so erhaltene Lösung wird auf die Siliciumoxydschicht mittels des Drehbe-schichtungsverfahrens aufgebracht und bei 500 °C während einer Stunde kalziniert, um eine durchsichtige leitende Schicht mit einer Dicke von ungefähr 50 nm zu bilden. Darauf wird eine Lackschicht mit den gewünschten Mustern gedruckt, die
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mit einer Ätzlösung, enthaltend einen Anteil Salzsäure, 0,1 Anteil Salpetersäure und einen Anteil Wasser behandelt, um diejenigen Stellen der durchsichtigen leitenden Schicht zu entfernen, die nicht mit der Lackschicht bedruckt sind. Anschliessend wird die Lackschicht durch eine 5%ige wässrige NaOH-Lösung entfernt, wonach die gewünschten durchsichtigen Elektroden zurückbleiben. Gegebenenfalls wird darauf die Orientierungssteuerschicht mittels dem schrägen Vakuumverfahren aufgebracht. Dann wird der Umfang des Glassubstrates mit einem organischen Klebstoff bedruckt. Das derart entstandene beschichtete Glassubstrat wird parallel einem weiteren auf diese Weise erhaltenen Glassubstrat angeordnet, wobei die Elektroden auf der Innenseite mit einem Abstand von 5 bis 15 (im zu liegen kommen und mit einem Klebstoff versiegelt, wobei eine Öffnung für den Flüssigkristall gelassen wird. Daraufhin wird ein Flüssigkristall eingefüllt und die verbleibende Öffnung verschlossen. Auf beiden Seiten des Glassubstrates wird eine Polarisierungsplatte angebracht und auf der Aussen-seite einer Polarisierungsplatte eine Reflektorplatte, um schliesslich ein Flüssigkristallanzeigeelement zu ergeben.
Die Schichtelektroden dieses Elementes haben einen niedrigen Flächenwiderstand von 1 kfl/Quadrat. Ausserdem ist die Härte der Elektroden derart gut, dass keine Beschädigung nach dem Reibetest entdeckt werden konnte, der gemäss MIL STD (Military Standard, C-6-75A, Punkte 4, 6 und 11) durchgeführt wurde. Ausserdem ist die Haftung der Elektroden auf dem Glassubstrat ausreichend, so dass kein Unterbruch der Elektroden festgestellt werden konnte.
Bei der Herstellung der Lösung B kann Salpetersäure zu einem Gemisch von Acetylaceton und Zinn beigegeben werden, anstelle der weiter oben angegebenen Reihenfolge der Komponenten.
Beispiel 2
Auf einem Glassubstrat aus Kronglas mit den Abmessungen von lOOx lOOx 1 mm wird eine Siliciumoxydschicht mit einer Dicke von ungefähr 100 nm mittels dem Vakuumver-dampfungsverfahren aufgebracht. Andererseits wird ein gelöstes Stoffgemisch hergestellt durch Hinzufügen von Zinn zu einem Lösungsgemisch von Acetylaceton und Salpetersäure und Durchführen der Reaktion von Zinn mit Salpetersäure in der Anwesenheit von Acetylaceton, um das Zinn aufzulösen, und durch Hinzufügen von Indium zu dieser Lösung. Das gelöste Stoffgemisch enthält 1 Anteil Indium, 0,1 Anteil Zinn, 5 2,5 Anteile Acetylaceton und 5 Anteile Salpetersäure. Eine Beschichtungslösung für die Bildung der durchsichtigen leitenden Schicht wird durch Verdünnen des gelösten Stoffes mit einem organischen Lösungsmittel mit mehr als 80% eines Lösungsgemisches von Methanol und Aceton (1:1 gewichts-io mässig) hergestellt, wobei 7mal mehr Lösungsmittel als gelöster Stoff verwendet wird. Die so erhaltene Lösung wird mittels dem Tauchverfahren auf dem von der Siliciumoxydschicht bedeckten Glassubstrat aufgebracht. Das beschichtete Substrat wird anschliessend einer provisorischen Trocknung bei 15 55 °C für ungefähr 10 Minuten unterzogen und rasch in einen Kalzinierungsofen gebracht, der vorgehend auf 500 °C eingeregelt worden war und mit Stickstoff gefüllt ist. Im Ofen wird das Substrat mit einer Temperaturerhöhungsrate von 100°C/ min erhitzt und bei 500°C für eine Stunde kalziniert, um die 20 durchsichtige leitende Schicht zu bilden. Anschliessend werden die gleichen Verfahrensschritte wie in Beispiel 1 durchgeführt, um ein Flüssigkristallanzeigeelement zu erhalten. Die Schichtelektroden wiesen einen geringen Flächenwiderstand und eine grosse Haftfähigkeit auf dem Substrat auf. 25 Da nach dem erfindungsgemässen Verfahren eine elektrisch isolierende Metalloxydschicht auf dem Glassubstrat gebildet wird, kann eine Verunreinigung durch Alkalimetallionen vom Glassubstrat verhindert werden. Da ausserdem der zweckmässige Anteil Zinnoxyd dem Indiumoxyd beigegeben 30 wird, weisen die Elektroden einen genügend niedrigen Flächenwiderstand, eine erhöhte mechanische Festigkeit und eine grosse Haftfähigkeit am Glassubstrat auf. Ausserdem sind die physikalischen und chemischen Eigenschaften der durchsichtigen Elektroden wesentlich verbessert, so dass keine Unter-35 brechungen in den Elektroden stattfinden, selbst wenn die Elektroden sehr kleine Muster aufweisen. Ausserdem ist das erfindungsgemässe Verfahren geeignet für die Massenproduktion von Flüssigkristallanzeigeelementen bei niedrigen Kosten, da die durchsichtigen Elektroden durch das Beschichtungsver-40 fahren auf Glassubstrate hergestellt werden.
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung eines Flüssigkristallanzeigeelementes, gekennzeichnet durch Bilden einer elektrisch isolierenden Silicium- oder Metalloxydschicht auf einem durchsichtigen Glassubstrat, durch Bilden einer durchsichtigen elektrisch leitenden Schicht darauf, wobei eine Beschichtungslö-sung aufgebracht wird, die durch Verdünnung eines gelösten Stoffgemisches aus Indium. Zinn, einem ß-Diketon und Salpetersäure mit einem organischen Lösungmittel hergestellt wurde, wobei dieser Überzug anschliessend kalziniert wird, durch Ätzen der durchsichtigen leitenden Schicht um Elektroden mit vorgegebenem Muster zu erhalten, durch parallel Anordnen von zwei so behandelten Glassubstraten, derart, dass die Elektroden auf der Innenseite einander gegenüber zu liegen kommen und durch Einschliessen von Flüssigkristall in den Zwischenraum zwischen beiden Glassubstraten.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Oxydschicht durch Aufbringen eines organischen Lösungsmittels mit Siliciumhydroxyd auf einem Glassubstrat und anschliessendem Kalzinieren erhalten wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das gelöste Stoffgemisch 1 Gew.-Anteil Indium,
0,01-0,30 Gew.-Anteile Zinn, 1,3-9,0 Gew.-Anteile Acetylace-ton und 1,0-6,0 Gew.-Anteile Salpetersäure enthält.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das organische Lösungsmittel, das zum Verdünnen benutzt wird, Methanol, Äthanol oder Aceton oder ein Gemisch von zwei oder mehr dieser Komponenten ist.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die durchsichtige elektrisch leitende Schicht durch Aufbringen einer Beschichtungslösung auf ein mit Oxyd bedecktes Glassubstrat gebildet wird, mit einem anschliessenden provisorischen Trocknungsschritt, wobei das beschichtete Substrat bei einer Temperatur von 35 bis 100°C getrocknet wird, einem Temperaturerhöhungsschritt, wobei das beschichtete Substrat bei einer Temperaturerhöhungsrate von mindestens 20 cC/min auf mindestens 400°C erhitzt wird und einem Kal-zinierungsschritt, wobei das beschichtete Substrat bei einer Temperatur von mindestens 400 °C kalziniert wird.
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