CH524827A - Verfahren zum Prüfen einer Vielzahl von auf einer einzigen Halbleiterscheibe gleichzeitig erzeugten gleichen Halbleiterbauelementen mit pn-Übergang - Google Patents

Verfahren zum Prüfen einer Vielzahl von auf einer einzigen Halbleiterscheibe gleichzeitig erzeugten gleichen Halbleiterbauelementen mit pn-Übergang

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CH524827A
CH524827A CH1033271A CH1033271A CH524827A CH 524827 A CH524827 A CH 524827A CH 1033271 A CH1033271 A CH 1033271A CH 1033271 A CH1033271 A CH 1033271A CH 524827 A CH524827 A CH 524827A
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CH1033271A
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Spaeth Werner
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Siemens Ag
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    • G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2607—Circuits therefor
    • G01R31/2637—Circuits therefor for testing other individual devices
    • H10P14/47—
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2207012C2 (de) * 1972-02-15 1985-10-31 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur Kontaktierung von Halbleiterbauelementen
US3987538A (en) * 1973-12-26 1976-10-26 Texas Instruments Incorporated Method of making devices having closely spaced electrodes
US4080721A (en) * 1975-06-30 1978-03-28 International Business Machines Corporation Fabrication of semiconductor device
US4125440A (en) * 1977-07-25 1978-11-14 International Business Machines Corporation Method for non-destructive testing of semiconductor articles
US4306951A (en) * 1980-05-30 1981-12-22 International Business Machines Corporation Electrochemical etching process for semiconductors
FR3120569B1 (fr) 2021-03-10 2024-04-26 Psa Automobiles Sa Procédé de gestion du fonctionnement d’une interface homme-machine d’un appareillage de gestion du fonctionnement d’un vitrage adaptatif d’un véhicule automobile, système et véhicule automobile associés

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1432035A (fr) * 1964-03-30 1966-03-18 Gen Electric Perfectionnements aux méthodes de contrôle de semiconducteurs

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