CH138710A - Elektrischer Vakuumapparat. - Google Patents

Elektrischer Vakuumapparat.

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CH138710A
CH138710A CH138710DA CH138710A CH 138710 A CH138710 A CH 138710A CH 138710D A CH138710D A CH 138710DA CH 138710 A CH138710 A CH 138710A
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CH
Switzerland
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vacuum apparatus
porcelain
glass
porcelain body
vessel wall
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Inventor
Aktieng Siemens-Schuckertwerke
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Siemens Ag
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J19/00Details of vacuum tubes of the types covered by group H01J21/00
    • H01J19/58Seals between parts of vessels
    • HELECTRICITY
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J19/00Details of vacuum tubes of the types covered by group H01J21/00
    • H01J19/62Leading-in conductors

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Description


  Elektrischer Vakuumapparat.    Fei     Hochvakuumapparaten,    zum     Beispiel     bei     Quecksilberdampfgleichrichtern    oder       Glühkatbodenröhren,    kann die Isolierung der       Elektrodendurchführungen    aus Porzellan be  stehen.

   Porzellan ist.     einerseits    mechanisch so       unempfindlich,        da.ss    es auch schweren Be  anspruchungen     standhalten    kann;     a.nder@eits          hält    es. wenn der Scherben gut gesintert ist  und. wenn eine einwandfreie Glasur vorhan  den ist. sehr     gut        valz-uumdicbt,    sogar gegen  das     fiochvakuum    von     Elektronenröhren.          Schwierigkeiten    bereitete bisher die vakuum  dichte Verbindung der Porzellanteile mit dem  übrigen Teil der Gefässwandung.

   Die bisher       verwendeten    mechanischen Verbindungen wie  Schliffe und dergleichen sind auf die Dauer       kaum    dicht zu halten.     Cremäss    der     Erfindun!,,     ist bei elektrischen Vakuumapparaten, bei  denen zur     Isolierun-    der     Elekt.rodendurch-          führungen    ein     Porzellankörper        verwendet     wird, dieser Porzellankörper einerseits mit  der     Elelarodendurchführung    oder einem An-    sitz an     dieser,

      anderseits mit.der     Gefäl3wa-n-          clung    des Vakuumapparates durch Ver  schmelzung     mittelst    Glas verbunden.  



  Insbesondere kann man auf     dieseWeise    me  tallische Teile der     Gefässwandung    mit dem  Porzellankörper vakuumdicht verbinden, in  dem man einen Zwischenteil aus Glas (zum  Beispiel in     Schichtform)    vorsieht, der eines  teils mit dem Porzellan     bezw.    mit dessen       (xlasur.    andernteils mit dem metallischen  Teil der Gefässwandung verschmolzen ist.  Man wird dabei zweckmässig solches Metall  oder Metallegierung verwenden, das nahezu  den gleichen     Wärmeausdehnungskoeffizien-          ten    besitzt wie das verwendete Porzellan.

    Ausserdem wird man vorteilhaft ein Glas ver  wenden, dessen Ausdehnungskoeffizient zwi  schen dem des Porzellans     bezw.    seiner Glasur  und dem des     Metalles    liegt. Da die Verbindun  gen vom Porzellan zum Metall nunmehr mit       Erlas    ausführbar sind, so kann man die     guten          Festigkeitseigenschaften    des Porzellans in      Verschmelzungen verwenden. Gleichzeitig iso  liert das Porzellan sehr gut, so dass zum Bei  spiel eine derartig durchgeführte Elektroden  durchführung auch für Hochspannung ver  wendet werden kann.

   Es ist zweckmässig, die       Einschmelzstelle        zwischen    Porzellan und Me  tall. die aus Glas besteht und daher immer  noch relativ empfindlich gegen Stoss und  Schlag bleibt, mechanisch nach Möglichkeit  zu entlasten, was durch geeignete     Konstruk-          tion,    zum Beispiel, gemäss' dem Ausführungs  beispiel, erfolgen kann.  



  Die Zeichnung zeigt als Ausführungsbei  spiel der Erfindung eine     Elektrodendurch-          führung    eines     Quecksilberdampfgleichrich-          ters    mit Eisengefäss. 1 ist die metallische Ge  fässwand, 2 die     stabförmige        Elektrodendurch-          führung,    3 ein aus Porzellan bestehender  Isolationszylinder. Die     Elektrodendurchfüh-          rung    besitzt eine scheibenförmige Erweite  rung 4, die an der Aussenseite über eine ko  nische     Schliffläche    5 an den Porzellanzylin  der 3 angrenzt.

   Ebenso sind der Porzellan  zylinder 3 und die Gefässwandung 1 über  eine konische     Schliffläche    6 miteinander ver  bunden. Die     Schlifflächen    sind an den Au  ssenseiten von elastischen     Metallmänteln    7  und 8 umgeben. Die Mäntel 7     und    8 sind  einerseits mit der Gefässwandung 1     bezw.    der       Elektrodendurchführung    2 verschweisst. an  derseits mit dem Porzellanzylinder 3 ver  schmolzen.

   Diese Verschmelzung ist derart       durchgeführt,    dass zwischen dem Metallman  tel und dem Porzellanzylinder eine Zwi  schenschicht 9 aus Glas vorgesehen ist, wo  bei der     Ausdehnungskoeffizient        des    Glases  zwischen dem der     Glasur    des Porzellans und  dem des     Metalles    liegt. Die Mäntel 7 und 8  bestehen zur Erhöhung ihrer Elastizität aus  gewelltem Blech. Die     Glasverhindung    von    Porzellan und Metall hat noch den beson  deren     Vorteil,    dass sie von Quecksilberdampf,  der bei vielen     elektrischen    Vakuumappara  ten vorhanden ist, nicht .angreifbar ist, ge  genüber fast allem sonstigen Dichtungsmate  rial.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH: Elektrischer Vakuumapparat, dadurch ge kennzeichnet, da.ss zur Isolierung der Elek tronendurchführungen ein, Porzellankörper verwendet wird, der einerseits mit d'er Elek- trodendurchführung oder einem Ansatz an dieser, anderseits mit der Gefässwandung des Vakuumapparates durch Verschmelzung mittelst Glas verbunden ist. UNTERANSPRÜCHE: 1.
    Vakuumapparat nach Patentanspruch, da .durch gekennzeichnet, dass der Porzellan körper mit einer metallischen Gefässwan dung des Vakuumapparates durch Ver schmelzung mittelst Glas verbunden ist. 2. Vakuiunapparat nach Patentanspruch, ekennzeichnet durch ein schichtförmi g<B>ö</B> en gen Zwischenteil aus Glas zwischen dem Porzellankörper und den mit dem Porzel lankörper zu verbindenden Teilen des Va- vakuumapparates. 3.
    Vakuumapparat nach Patentanspruch. dadurch gekennzeichnet, dass der Ausdeh nungskoeffizient des Glases zwischen dem des Porzellans und dem des mit dem Por zellankörper zu verbindenden Teils des Vakuumapparates liegt.
CH138710D 1928-02-25 1929-02-20 Elektrischer Vakuumapparat. CH138710A (de)

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CH138710D CH138710A (de) 1928-02-25 1929-02-20 Elektrischer Vakuumapparat.

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE762276C (de) * 1936-10-16 1953-03-16 Aeg Verfahren zum Herstellen von Stromeinfuehrungen fuer Vakuumgefaesse
DE767896C (de) * 1933-10-31 1954-11-15 Walter Daellenbach Dr Hitzebestaendige Elektrodeneinfuehrung fuer Vakuumentladungsapparate, z. B. Quecksilberdampfgleichrichter, mit metallenem, von der Vakuum-pumpe abgetrenntem Vakuumgefaess

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE767896C (de) * 1933-10-31 1954-11-15 Walter Daellenbach Dr Hitzebestaendige Elektrodeneinfuehrung fuer Vakuumentladungsapparate, z. B. Quecksilberdampfgleichrichter, mit metallenem, von der Vakuum-pumpe abgetrenntem Vakuumgefaess
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