AT521544A2 - Detektor für nahes Infrarot - Google Patents

Detektor für nahes Infrarot Download PDF

Info

Publication number
AT521544A2
AT521544A2 ATA9001/2018A AT90012018A AT521544A2 AT 521544 A2 AT521544 A2 AT 521544A2 AT 90012018 A AT90012018 A AT 90012018A AT 521544 A2 AT521544 A2 AT 521544A2
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
layer
heterojunction
organic
indigoids
inorganic
Prior art date
Application number
ATA9001/2018A
Other languages
English (en)
Other versions
AT521544A3 (de
Original Assignee
Fibrain Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fibrain Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia filed Critical Fibrain Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia
Publication of AT521544A2 publication Critical patent/AT521544A2/de
Publication of AT521544A3 publication Critical patent/AT521544A3/de

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/649Aromatic compounds comprising a hetero atom
    • H10K85/657Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
    • H10K85/6572Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only nitrogen in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. phenanthroline or carbazole
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B7/00Indigoid dyes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • H01L27/14649Infrared imagers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/102Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
    • H01L31/109Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier being of the PN heterojunction type
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/10Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising heterojunctions between organic semiconductors and inorganic semiconductors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic radiation-sensitive element covered by group H10K30/00
    • H10K39/30Devices controlled by radiation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

Detektor für nahes Infrarot, der Infrarotstrahlung in ein elektrisches Signal umwandelt, bei Raumtemperatur arbeitet und eine Photodiode verwendet, die aus einer anorganischen Halbleiter-Siliziumschicht und einer organischen Schicht sowie metallischen Aluminiumelektroden, die elektrische Kontakte zwischen dem Heteroübergang und dem externen elektrischen Schaltkreis bilden, besteht, ist dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Schichtstruktur aufweist, bei der die anorganischen und organischen Schichten einen hybriden Heteroübergang bilden, der ein organisches Halbleitermaterial aus der Gruppe der funktionalisierten lndigoide enthält, mit dem LUMO-Energieniveau unter -4 eV. Der Heteroübergang besteht aus einer Schicht aus 6,6-Dinitroindigo, die auf einem Siliziumsubstrat abgeschieden ist. Es ist auch vorteilhaft, lndigoide mit Substituentengruppen aus den Nitro- oder Cyanidgruppen in den aromatischen Ringen zu verwenden.

Description

Detektor für nahes Infrarot
Die vorliegende Erfindung stellt einen Detektor für nahes Infrarot bereit, um Infrarotstrahlung aus dem nahen Infrarotbereich in ein elektrisches Signal umzuwandeln, der bei Raumtemperatur arbeitet, und auf einer Photodiode basiert, die aus einer anorganischen Halbleiter-Siliziumschicht und einer organischen Schicht sowie aus Elektroden aus metallischem Aluminium gebildet ist, die elektrische Kontakte zwischen dem Heteroübergang und dem externen elektrischen Schaltkreis bilden.
Aus der W02009023881A1 / US2010140661A1 ist eine Vorrichtung bekannt, um Infrarotstrahlung mittels einer Photodiode in elektrischen Strom umzuwandeln, welche zwei Halbleiterschichten mit einem Heteroübergang enthält, die jeweils mit einer Elektrode verbunden sind, und eine von ihnen ist aus einem dotierten anorganischen Halbleiter gefertigt. Um eine vorteilhafte Detektion zu ermöglichen, wird vorgeschlagen, dass der anorganische Halbleiter später einen Heteroübergang mit einer organischen Halbleiterschicht bildet, und dass den beiden Halbleiterschichten eine Kühlvorrichtung zugeordnet ist. Dieser Ansatz verwendet jedoch unterschiedliche organische Materialien.
Ein optoelektronischer Infrarotdetektor ist auch aus der W02016015077A1 / AT516109A1 bekannt, welcher aus zwei Halbleiterschichten besteht, nämlich einer dotierten Siliziumschicht und einer organischen Halbleiterschicht, wobei jede Schicht mit einer Elektrode verbunden ist und wobei die beiden Schichten einen Heteroübergang bilden. Um die Leistung zu erbringen, wird die organische Halbleiterschicht auf eine nanostrukturierte und/oder mikrostrukturierte Oberfläche der Siliziumschicht aufgebracht und bedeckt die gesamte vorgenannte Oberfläche.
Außerdem ist aus der EP2816625A1 eine Vorrichtung bekannt, um Infrarotstrahlung in elektrischen Strom oder elektrische Spannung umzuwandeln, insbesondere betrieben bei Raumtemperatur, die eine hybride Halbleiter-Photodiode bildet, welche eine Verbindung von anorganischem Halbleitermaterial (zum Beispiel Silizium) und einem organischen Halbleitermaterial enthält, sowie geeignete Metallelektroden, die elektrische Kontakte zwischen jedem der Bestandteile des Heteroübergangs und einem externen elektrischen Schaltkreis bereitstellen, wobei das organische Material 1
2/6
Chinacridon (5,12-Dihydro-chino[2,3-b]acridin-7,14-clion) ist und wobei die obere Metallelektrode, die die vorgenannte organische Schicht mit einer externen elektrischen Schicht verbindet, eine Fläche von 1 mm2 oder weniger aufweist. Der Herstellungsprozess der vorgenannten Vorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidung der organischen Schicht durch Verdampfung in einer Vakuumkammer mit Hilfe der Heißwand-/Festphasen-Epitaxie erfolgt, und dass der Verdampfung das Glühen des vorgenannten Siliziumsubstrats in einer Kammer im Hochvakuum bei 610° C über einen Zeitraum von 10 Minuten vorausgeht.
Der Detektor für nahes Infrarot, der Infrarotstrahlung in ein elektrisches Signal umwandelt, bei Raumtemperatur arbeitet und auf einer Photodiode basiert, die aus einer anorganischen Halbleiter-Siliziumschicht und einer organischen Schicht sowie metallischen Aluminiumelektroden, die elektrische Kontakte zwischen dem Heteroübergang und dem externen elektrischen Schaltkreis bilden, gebildet ist, ist dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Schichtstruktur aufweist, bei der die anorganischen und organischen Schichten einen hybriden Heteroübergang bilden, der ein organisches Halbleitermaterial aus der Gruppe der funktionalisierten Indigoide enthält, wobei das LUMO-Energieniveau unter -4 eV liegt. Der Heteroübergang ist aus einer Schicht aus 6,6-Dinitroindigo gebildet, die auf einem Siliziumsubstrat abgeschieden ist. Es ist auch vorteilhaft, Indigoide mit Substituentengruppen aus den Nitro- oder Cyanidgruppen in den aromatischen Ringen zu verwenden.
Der Vorteil der vorliegenden Erfindung liegt in der Verwendung neuer organischer Verbindungen - funktionalisierte Farbstoffe aus den Gruppen der Indigoide (insbesondere beispielsweise 6,6'-Dicyanoindigo oder 6,6'-Dinitroindigo) bei der Herstellung des hybriden Nahinfrarot-Photodetektors auf Basis des Heteroübergangs zwischen Silizium und organischem Material. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass sie als organisches Halbleitermaterial funktionalisierte Farbstoffe aus der Gruppe der Indigoide mit dem LUMO-Energieniveau unter -4eV verwendet.
Durch die Verwendung der funktionalisierten Farbstoffe aus der Gruppe der Indigoide mit dem LUMO-Energieniveau unter -4eV ist es möglich, bei Bestrahlung mit Infrarotstrahlung eine vorteilhafte Photodetektor-Empfindlichkeit zu erzielen (höhere Photostromwerte, bessere Empfindlichkeit).
3/6
Der Gegenstand der Erfindung ist in einer exemplarischen Ausführungsform in der Zeichnung dargestellt, die die Struktur von Indigo darstellt, das durch Einführung von Substituentengruppen in die aromatischen Ringe in der Farbstoffstruktur funktionalisiert ist. R1 bezeichnet die Substituentengruppen, die es ermöglichen, eine Verbindung mit dem LUMO-Energieniveau unter -4eV zu erhalten. Insbesondere können die R1-Gruppen beispielsweise eine Cyano -CN Gruppe oder eine Nitro NO2 Gruppe sein.
Eine exemplarische Ausführungsform der vorliegenden Erfindung:
Der Nahinfrarotdetektor wird hergestellt, indem eine Schicht der neuen organischen Verbindung auf einem Siliziumsubstrat im Rahmen der Heißwand-Epitaxie in einer Vakuumkammer abgeschieden wird, gefolgt von einem Glühen des Substrats unter reduziertem Druck bei 610°C Temperatur für eine Dauer von 10 Minuten. Elektrische Kontakte aus Aluminium werden im Vakuumbedampfer für Metalle hergestellt - die unteren Kontakte direkt auf das Siliziumsubstrat, dagegen die oberen Kontakte auf die abgeschiedene organische Schicht. Als Ergebnis der Herstellung weist die Vorrichtung eine Schichtstruktur auf, bei der die anorganischen und organischen Schichten einen hybriden Heteroübergang bilden, der die Grundlage für den Betrieb des Photodetektors bildet, und die Aluminiumkontakte ermöglichen die Verbindung der Schichten mit einem elektrischen Schaltkreis.
Die beschriebene Vorrichtung ermöglicht die Detektion des Infrarotlichts bei Raumtemperatur dank des Absorptionsphänomens im beschriebenen Heteroübergang. Die Vorrichtung kann als Infrarotdetektor in der Glasfaserkommunikation, in Sensoren oder in der Qualitätskontrolle verschiedener chemischer Verbindungen eingesetzt werden. Da die Vorrichtung auf einem Siliziumsubstrat basiert, kann sie mit elektronischen integrierten Schaltungen kombiniert werden.

Claims (4)

  1. Patentansprüche
    1. Detektor für nahes Infrarot, der Infrarotstrahlung in ein elektrisches Signal umwandelt, bei Raumtemperatur arbeitet und eine Photodiode verwendet, die aus einer anorganischen Halbleiter-Siliziumschicht und einer organischen Schicht, sowie aus metallischen Aluminiumelektroden, die elektrische Kontakte zwischen dem Heteroübergang und dem externen elektrischen Schaltkreis bilden, besteht, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung eine Schichtstruktur aufweist, bei der die anorganischen und organischen Schichten einen hybriden Heteroübergang bilden, der ein organisches Halbleitermaterial aus der Gruppe der funktionalisierten Farbstoffe aus der Gruppe der Indigoide enthält, mit dem LUMO-Energieniveau unter -4 eV.
  2. 2. Detektor gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Heteroübergang aus einer Schicht aus 6,6-Dicyanoindigo gebildet ist, die auf einem Siliziumsubstrat abgeschieden ist.
  3. 3. Detektor gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Heteroübergang aus einer Schicht aus 6,6-Dinitroindigo gebildet ist, die auf einem Siliziumsubstrat abgeschieden ist.
  4. 4. Detektor gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es vorteilhaft ist, wenn die Indigoide Substituentengruppen aus den Nitro- oder Cyanidgruppen in den aromatischen Ringen aufweisen.
ATA9001/2018A 2018-07-31 2018-11-08 Detektor für nahes Infrarot AT521544A3 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL426520A PL426520A1 (pl) 2018-07-31 2018-07-31 Detektor bliskiej podczerwieni
PCT/PL2018/000107 WO2020027670A1 (en) 2018-07-31 2018-11-08 Near infrared detector

Publications (2)

Publication Number Publication Date
AT521544A2 true AT521544A2 (de) 2020-02-15
AT521544A3 AT521544A3 (de) 2020-09-15

Family

ID=64664362

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ATA9001/2018A AT521544A3 (de) 2018-07-31 2018-11-08 Detektor für nahes Infrarot

Country Status (7)

Country Link
AT (1) AT521544A3 (de)
FI (1) FI20185973A1 (de)
GB (1) GB2587595A (de)
LU (1) LU101004B1 (de)
PL (1) PL426520A1 (de)
SE (1) SE1851428A1 (de)
WO (1) WO2020027670A1 (de)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009023881A1 (de) 2007-08-23 2009-02-26 Universität Linz Vorrichtung zum umwandeln infraroter strahlung in elektrischen strom
EP2816625A1 (de) 2013-06-21 2014-12-24 Inphotech Sp. z o.o. (Ltd) Vorrichtung zur Transformation von Infrarotstrahlung in elektrischen Strom oder elektrische Spannung bei Raumtemperatur und deren Herstellungsmethode
AT516109A1 (de) 2014-07-29 2016-02-15 Universität Linz Optoelektronischer Infrarotsensor
KR20170136393A (ko) * 2016-06-01 2017-12-11 김일구 인디고를 기반으로 하는 유기 벌크 이종접합 수광소자

Also Published As

Publication number Publication date
LU101004B1 (en) 2020-06-24
GB2587595A (en) 2021-04-07
SE1851428A1 (en) 2020-02-01
AT521544A3 (de) 2020-09-15
LU101004A1 (en) 2020-02-27
PL426520A1 (pl) 2020-02-10
WO2020027670A1 (en) 2020-02-06
FI20185973A1 (en) 2020-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Jain et al. Frustrated Lewis pair-mediated recrystallization of CH 3 NH 3 PbI 3 for improved optoelectronic quality and high voltage planar perovskite solar cells
Chavhan et al. Organo-metal halide perovskite-based solar cells with CuSCN as the inorganic hole selective contact
Mastroianni et al. Analysing the effect of crystal size and structure in highly efficient CH 3 NH 3 PbI 3 perovskite solar cells by spatially resolved photo-and electroluminescence imaging
DE102018115379B3 (de) Verbindung und Verfahren zur Bildung von selbstorganisierten Monolagen auf TCO-Substraten zur Verwendung in Perowskit-Solarzellen in invertierter Architektur
DE102004062914A1 (de) Fotovoltaisches Umwandlungsbauteil und Verfahren zum Herstellen des Bauteils
DE102011055767A1 (de) Halbleitervorrichtung mit Bonding-Fläche und Verfahren zur Herstellung derselben
DE102011004408A1 (de) Halbleitervorrichtungsherstellungsverfahren
Ciammaruchi et al. Structure dependent photostability of ITIC and ITIC-4F
EP1951842A1 (de) Verwendung von rylenderivaten als photosensibilisatoren in solarzellen
Li et al. Infrared absorption of femtosecond laser textured silicon under vacuum
Li et al. High detectivity photodetectors based on perovskite nanowires with suppressed surface defects
Mundt et al. Nondestructive probing of perovskite silicon tandem solar cells using multiwavelength photoluminescence mapping
DE102012101456A1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Solarzelle
Wang et al. Trap-limited charge recombination in intrinsic perovskite film and meso-superstructured perovskite solar cells and the passivation effect of the hole-transport material on trap states
AT521544A2 (de) Detektor für nahes Infrarot
WO2005109540A2 (de) Organische elektronische vorrichtungen
DE102006013076A1 (de) Leistungshalbleiterbauelement mit Passivierungsschicht und zugehöriges Herstellungsverfahren
WO2022042804A1 (de) Chemische verbindung, verwendung mindestens einer solchen chemischen verbindung in einem optoelektronischen bauelement, und optoelektronisches bauelement mit mindestens einer solchen chemischen verbindung
DE102010030353A1 (de) Vorrichtung zur Steuerung und Überwachung von Gleichspannungsquellen
AT519193A1 (de) Optoelektronischer Infrarotsensor
DE112014002270T5 (de) Verfahren zur Bewertung eines Halbleiter-Wafers
DE102017216575B4 (de) Bestimmung des Kohlenstoffgehalts in Silizium
DE2422970B2 (de) Verfahren zum chemischen Niederschlagen von Silicium-Dioxyd-Filmen aus der Dampfphase
AT516109A1 (de) Optoelektronischer Infrarotsensor
Caliandro et al. Investigating temperature-induced structural changes of lead halide perovskites by in situ X-ray powder diffraction

Legal Events

Date Code Title Description
REJ Rejection

Effective date: 20210515