AT251901B - Einrichtung für die Herstellung von Elektrolytkupfer in Platten - Google Patents

Description

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  Einrichtung für die Herstellung von Elektrolytkupfer in Platten 
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 Band und den Anoden in der Wanne ein Rührwerk angeordnet ist. 



   Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung gehen aus der nachfolgenden Beschreibung eines bevorzugten, jedoch nicht ausschliesslichen Ausführungsbeispieles einer Einrichtung für die Herstellung von Elektrolytkupfer in Platten an Hand der Zeichnungen hervor. Es zeigen : Fig. 1 einen Querschnitt durch die Einrichtung, Fig. 2 einen Längsschnitt durch dieselbe Einrichtung, Fig. 3 das   Schutzsystem   des Förderbandes, im Schnitt, Fig. 4 eine Einzelheit des Rührwerkes im Grundriss, Fig. 5 einen Querschnitt durch die Einrichtung mit einem Rührwerk nach einer andern Ausführungsform und Fig. 6 einen lotrechten Schnitt durch die Einrichtung, die gemäss einer weiteren Ausführungsform vertikal angeordnet ist. 



   Unter Bezugnahme auf die Fig. 1-4 besitzt die erfindungsgemässe Einrichtung ein endloses Förderband 1 aus rostfreiem Stahl, das um zwei Rollen 2 und 3 läuft, wovon zumindest eine mit einem Antriebsaggregat verbunden ist, welches das Förderband in Umlauf setzt. Das untere Trum dieses Förderbandes läuft durch die mit Elektrolyt gefüllte Wanne   4 ;   mit dem Elektrolyt kommt die untere äussere Oberfläche des unteren Trums in Berührung, während, um ein Absetzen von Kupfer auch an der Innenfläche zu vermeiden, zwei Borde 5 aus vulkanisiertem Gummi bzw. Plastik   od. dgl.   vorgesehen sind, die an den Seiten des Förderbandes 1 angebracht werden, da man sonst gezwungen wäre, die Innenfläche vollständig mit Isolationsmaterial zu verkleiden. 



   Die zuletzt genannte Massnahme kann vorteilhaft bei Einrichtungen für Produktionen angewendet werden, die keine zu hohe Stromstärke bedingen, wie man aus einer weiter unten beschriebenen Variante 
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 grossen Vorteil, auf eine ausgedehnte Fläche grosse Strommengen verteilen zu können, wobei die Stromdichte in normalen Grenzen gehalten wird. Dadurch ist es möglich, die Leistung jeder Anlage erheblich zu steigern und damit auch die Produktion, bei gleichzeitiger Verminderung der Einrichtungskosten und der Arbeitskräfte. 



   Die Kathodenspeisung erfolgt über Schleifkontakte 6, die aus einer auf einer rohrartigen Stütze aus biegsamem Stahl aufgewickelten Kupferblechrolle bestehen und an metallischen Querleitungsschienen 7 befestigt sind, welche mit dem negativen Pol der Stromquelle verbunden sind. Diese Schleifkontakte 6 werden auf Grund der Elastizität der tragenden Stahlrohrstützen ständig an die Innenfläche   des Förderbandes 1 angedrückt   und sind in Übereinstimmung mit dem unteren Trum des Förderbandes 1 angeordnet. Wie bereits erwähnt, wird auf Grund der vorgesehenen Gummiborde 5 die Innenfläche des Förderbandes vor einer Berührung mit dem Elektrolyt geschützt. Die Anzahl der Kontakte 6 und der Schienen 7 ist naturgemäss verschieden und wird im Verhältnis zur Länge des Förderbandes 1 und des durchgeleiteten Stromes festgelegt.

   In diesem Zusammenhang sei darauf hingewiesen, dass auf Grund der erfindungsgemässen Anordnung der Schleifkontakte längs der Innenfläche des Förderbandes eine grosse Fläche für denKontakt der Schleifleiter zur Verfügung steht, so dass diese in grosser Stückzahl angeordnet werden können und damit die Möglichkeit geboten ist, die Stromdichte durch das Förderband und an den einzelnen Kontaktstellen leicht unter bestimmten Werten zu halten. 



   Die Wanne 4 ist innen mit Blei verkleidet, so dass sie als unlösliche Anode und auch als Leiter für die Stromzufuhr an die Kupferschienen 8, die am Boden der Wanne angeordnet sind (s. Fig. 2), dienen kann. Im ersten Fall (wenn der Wannenboden als unlösliche Anode arbeitet) ist nach einer Variante eine Hilfseinrichtung für die Erzeugung von in die Wanne 4 abzufüllendes Kupfersulfat angeordnet. 



   Längs der Wannenseitenwände stehen nach innen gerichtete Längsführungen 9 aus Plastik bzw. aus anderem Isolationsmaterial für die Führung der Ränder des Förderbandes 1 und für eine entsprechende Begrenzung des unteren Teiles der Wanne 4 vor, so dass sich die eventuell über diese Längsführungen hinaus durchsickernde Flüssigkeit ruhig verhält. Eine weitere Aufgabe der Längsführungen 9 besteht darin, die Stärke der Kupferplatte an den Rändern zu regeln, da sich normalerweise an den Rändern der Kathode mehr Kupfer absetzt. Da diese nach innen vorstehenden Längsführungen 9 derart breit ausgelegt sind, dass sie etwas über den Rand der Platte reichen, wird damit erreicht, dass dieser Rand nicht direkt der Anode gegenübersteht, so dass man eine Platte mit nahezu gleichmässiger Dicke erzielt. 



   Oberhalb der Längsführungen 9 sind an den Wänden der Wanne 4 weitere Längsführungen 9a angeordnet, die mit ihrem äusseren Ende an den am Tragband 1 befestigten Schutzvorrichtungen 5 anliegen, Die Aufgabe dieser weiteren Längsführungen 9a besteht darin, die Förderbandränder zu führen und um zu verhindern, dass das Förderband infolge des vom Elektrolyt auf dasselbe nach oben 

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 der Teil des Bandes, welcher den Zylinder 24 abdeckt, mit dem Bad nicht in Berührung, so dass die Kupferplatine 28 losgelöst und an die Sammelstelle geleitet werden kann. 



   Die freie Aussenfläche des gekrümmten Teiles 29, der den oberen Zylinder 24 umgitt, ermöglicht den Kontakt mit einem Satz ähnlicher, wie in Fig. 1 und 2 gezeigter   Sclileifleiter.   



   Bei der Einrichtung nach Fig. 6 verwendet man vorzugsweise eine unlösliche Anode, bestehend aus der Bleiverkleidung der Wanne 27, wobei man in diese einen Elektrolyt auf der Grundlage von Kupfersalzen füllt. 



   Das Rührwerk besteht aus zwei geraden, im wesentlichen steifen Teilen 30, die aus   Längs- und   Querstreben gebildet sind, die über ein biegsames Zwischenstück 31 im unteren Teil der Wanne 27 verbunden werden. Die Vorrichtung läuft auf entsprechenden seitlichen Führungen und ist mit einem Mechanismus (nicht dargestellt) verbunden, der den Teilen 30 und 31 eine Hin- und Herbewegung verleiht. 



   Die Erfindung kann zahlreiche Abänderungen und Varianten erfahren, die alle unter den Erfindungsgedanken fallen. 



   So können   z. B.   die geraden Trume des Bandes mit einer beliebigen Zwischenneigung zwischen der in den Fig. 2 und 6 gezeigten Neigung angeordnet werden. 



   Ausserdem ist es   z. B.   möglich, das Stahlband um einen einzigen Zylinder herum, der mit einem Motor verbunden ist, anzuordnen. 



   Es versteht sich ausserdem von selbst, dass auch beliebig ein üblicher Elektrolyt mit löslichen Anoden bzw. ein Elektrolyt mit Kupfersalz und unlöslichen Anoden für jede der oben beschriebenen Enrichtungen verwendet werden kann. 



   In der Praxis kann das verwendete Material und die Grösse der Einrichtung beliebig nach den Erfordernissen gewählt werden und ausserdem können sämtliche Bestandteile durch technisch gleichwertige ersetzt werden. 



    PATENTANSPRÜCHE :    
1. Einrichtung für die Herstellung von Elektrolytkupfer in Platten, dadurch   gekennzeichnet,   
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 den in der Wanne (4,27) ein Rührwerk (10,11, 21,30, 31) angeordnet ist.

Claims (1)

1. 2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die rotierenden Mittel aus zwei Laufrollen (2,3, 24,25) bestehen, wovon zumindest eine mit einem Antrieb verbunden ist.

   3. Einrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Kontaktgeräte zumindest aus einem Teil aus stromleitendem Material (6) bestehen, der mit der Innenfläche des EMI4.2 aufrecht zu erhalten.

   4. Einrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass eine Vielzahl von Kontakt- geräten (6,7) aus stromführendem Material entsprechend der Länge des Förderbandes (l) und der durchzuleitenden Strommenge angeordnet ist. EMI4.3 sitzt, damit die Innenfläche des Förderbandes mit dem Elektrolyt nicht in Berührung kommt, wobei der äussere Teil dieser Borde (5) die äussere Oberfläche des Förderbandes am Rand überlappt, um ein Loslö- EMI4.4 dass das Rührwerk aus einem im wesentlichen leiterförmigen Teil (10, 11) besteht, der in der Wanne (4) zwischen der Anoden- und Kathodenfläche angeordnet ist und in seitlichen, an den Seitenwänden der Wanne befestigten Führungen (9, 12) hin-und herbewegt wird.

   EMI4.5 <Desc/Clms Page number 5> bewegung, im Innern der Wanne (4) angeordnet, besteht, um den Elektrolyt im Bereiche der Wanne zwischen der Kathoden- und Anodenfläche umzurühren.

   8. Einrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Querschlitten (13, 14) mit einer Bürste zum Reinigen der Kupferplatte vorgesehen ist, wobei dieser Schlitten sich im Oberteil der Einrichtung an der Aussenfläche der erzeugten Kupferplatte hin-und herbewegt und wobei Mittel für die Einstellung der Geschwindigkeit und des Druckes dieses Schlittens angeordnet sind.

   9. Einrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine, im wesentlichen zylinderförmige Bürste zum Reinigen der Kupferplatte mit spiralförmig angeordneten Borsten angeordnet ist, die sich im Oberteil der Einrichtung an der Aussenfläche der erzeugten Kupferplatte dreht.

   10. Einrichtung nach einem oder mehreren derAnsprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass ein Aggregat (15) zum Erhärten der erzeugten Kupferplatte am Ende der Einrichtung vorgesehen ist, bestehend aus in Längsrichtung kammförmig angeordneten und nebeneinander stehenden Prismenkörpern (16), die durch unabhängige Federmittel (18) gegen die Aussenfläche der erzeugten Kupferplatte gepresst werden, wobei Mittel für das Hin- und Herbewegen dieses Aggregates in der Vorschubrichtung des Förderbandes angeordnet sind.

   11. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die genannten rotierenden Mittel aus zwei übereinander angeordneten, mit den waagrechten Achsen in einer im wesentlichen lotrechten Ebene liegenden Rollen (24, 25) bestehen, wobei zwischen dem Förderband (26) und der dasselbe teilweise umschliessenden Wanne Rührmittel angeordnet sind und die Innenfläche des Förderbandes mit dielektrischem Material überzogen ist.