AT249465B - Saures galvanisches Kupferbad - Google Patents

Description

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  Saures galvanisches Kupferbad 
Die Erfindung betrifft ein saures galvanisches Kupferbad, zur Abscheidung gut einebnender, hochglänzender und porenfreier Metallüberzüge. 



   Zur Erzeugung von hochglänzenden, gut einebnenden galvanischen Niederschlägen aus sauren Bädern sind viele organische und anorganische Zusatzmittel für diese Bäder bekannt. So ist bereits vorgeschlagen worden, Derivate von 6gliedrigen Heterozyklen mit 2 oder 3 Stickstoff-Atomen, die aliphatische oder aromatische, eventuell mit Schwefel substituierte Seitenketten haben, als Zusatzstoffe bei der galvanischen Abscheidung von Nickel und andern Metallen zu verwenden. Bei Untersuchungen wurde festgestellt, dass durch Verwendung eines sauerstoffhaltigen Heterozyklus an Stelle der 6gliedrigen, 2 oder 3 StickstoffAtome enthaltenden Heterozyklen wesentlich wirksamere Substanzen erhalten werden können. Als Heterozyklus dieser Art kommt das Tetrahydropyran in Betracht, bei dem die Seitenketten in o-, m-, oder   p-Stellung   substituiert sind.

   Als Seitenketten kommen vornehmlich Säureamide in Betracht, die ihrerseits wieder substituiert sind. 



   Die Erfindung besteht demgemäss darin, dass das saure galvanische Kupferbad zur Glanzbildung und Einebnung einen Gehalt an säureamid-substituierten Tetrahydropyran gemäss der allgemeinen Formel 
 EMI1.1 
 
 EMI1.2 
 Carbonyl-, Aldehyd-, Keton-, Nitril-,   Sulfo- oder   Nitrogruppe bedeutet. Als Radikal   R   können daher verwendet werden : 
 EMI1.3 
 

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 EMI2.1 
 
 EMI2.2 
 Darin bedeuten :
R : Wasserstoff oder einen kurzkettigen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest, z. B. Methyl-, Äthyl- usw. 



     R : Wasserstoff, Sulfonsäure- (-SO H)   oder Alkylsulfonsäureradikale, vorzugsweise mit 3 oder 4 Koh- 
 EMI2.3 
    H Propylsulfonsäure-R :   ist gleich R oder ein carbocyclisches bzw. heterocyclisches   ein-bzw. mehrkerniges unsubsti-   tuiertes bzw. vornehmlich durch hydrophile Gruppen substituiertes Radikal, vorzugsweise aroma- tischen Charakters, z. B. 
 EMI2.4 
 



  Phenylp-Oxyphenyl 

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 EMI3.1 
 p- Phenylsulfonsäure 
 EMI3.2 
   0- Phenylcarbonsäure    
 EMI3.3 
 p- Diphenyl 
 EMI3.4 
 2-Naphthyl-5, 8-disulfonsäure 
 EMI3.5 
 2- Pyridyl 
 EMI3.6 
 einen 5- oder 6gliedrigen unkondensierten, unsubstituierten oder substituierten, ein oder mehrere Heteroatome enthaltenden organocyclischen Rest, in dem X Sauerstoff oder Schwefel ist, z. B. 
 EMI3.7 
 



  Tetrahydropyranyl- 
 EMI3.8 
 Furanyl- 
 EMI3.9 
 Thiazolyl- das Anion einer organischen oder anorganischen Säure. 



   Die Anwendung der bezeichneten Verbindungen zeigt in sauren Glanzkupferbädem im Zusammenwirken mit den weiter oben charakterisierten säureamid-substituierten Tetrahydropyranen grösste Wirksamkeit. 



   Unter den oben angegebenen Bedingungen werden Einebnung und Glanztiefenstreuung - letztere vornehmlich in Temperaturbereichen von 25 bis 500 C der abgeschiedenen Kupferüberzüge sehr deutlich verbessert. 



   Zur Erzielung maximaler Wirksamkeit wird die säureamid-substituierteTetrahydropyran-Komponente 
 EMI3.10 
 einem Elektrolyten der Grundzusammensetzung von beispielsweise 200   g/l   Kupfersulfat und 60   g/l   Schwefelsäure zugesetzt. 



   Aus einem solchen Bade können auf geeignet vorbehandeltem Grundmaterial bei den oben angegebenen Temperaturen unter Anwendung von Stromdichten von 0, 5 bis 10   A/dm2   hochglänzende, sehr gut eingeebnete Niederschläge abgeschieden werden.

Claims (1)

1. PATENTANSPRÜCHE : 1. Saures galvanisches Kupferbad, zur Abscheidung gut einebnender hochglänzender und porenfreier Metallüberzüge, gekennzeichnet durch einen Gehalt an säureamid-substituiertemTetrahydro- pyran gemäss der allgemeinen Formel EMI4.1 EMI4.2 gruppe bedeutet.

   2. Bad, nach Anspruch l, gekennzeichnet dadurch, dass es neben einem Gehalt an säureamid-substituiertem Tetrahydropyran, einen die Einebnung und Glanztiefenstreuung verbessernden Zusatz EMI4.3 EMI4.4 enthält, wobei R : Wasserstoff oder ein kurzkettiger Kohlenwasserstoffrest, EMI4.5 hydrophile Gruppen substituiertes Radikal, vorzugsweise aromatischen Charakters, EMI4.6 : ein 5-oder 6gliedriger, unkondensierter bzw. kondensierter, unsubstituierter oder substituierter, ein oder auch mehrere Heteroatome enthaltender organocyclischer Rest, in dem X Sauerstoff oder Schwefel ist, und A : das Anion einer organischen oder anorganischen Säure ist.

   3. Bad nach Anspruch 2. dadurch gekennzeichnet. dass die AminderivateinKonzentratio- nen von vorzugsweise 0, 05 bis 2, 0 g/l und die säureamid-substituierten Tetrahydropyranderivate in Konzentrationen von 0, 01 bis 2, 0 g/l im Bad enthalten sind.