AT247094B - Verfahren zur Auftragung von Verchromungen - Google Patents

Verfahren zur Auftragung von Verchromungen

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AT247094B
AT247094B AT1000463A AT1000463A AT247094B AT 247094 B AT247094 B AT 247094B AT 1000463 A AT1000463 A AT 1000463A AT 1000463 A AT1000463 A AT 1000463A AT 247094 B AT247094 B AT 247094B
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Wilhelm Ing Roggendorf
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   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Verfahren zur Auftragung von Verchromungen 
 EMI1.1 
 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 
 EMI2.1 
 
Basis des Natriumtetrachromats unter Zusatz von Titan- und/oder Zirkoniumverbindungen und Fluoriden bei Badtemperaturen von 21 bis   310C   vermieden. 



  Es hat sich gezeigt, dass Abscheidungen, welche mit Hilfe der   erfindungsgemässen   Verfahrensmerk- male erfolgen, eine dauerhaftere,   riss- und   porenfreie oder mikrorissige Struktur ergeben, welche weit- gehend frei von inneren Spannungen ist. Hierin und in der   Möglichkeit,   bei geringeren Badtemperaturen als bei den bisher bekannten Verfahren zur Abscheidung rissfreieroder mikrorissiger Chromschichtenar- beiten zu können, liegt der besondere Vorteil des   erfindungsgemässen   Verfahrens. 



  Es sind zwar einzelne Merkmale des erfindungsgemässen Verfahrens und sogar Teilkombinationen dieser Merkmale bekanntgeworden, doch gehört die Kombination aller Merkmale nicht dem Stand der
Technik an. Gerade diese Kombination ist es aber, durch welche die Lösung der der Erfindung zugrun- de liegenden Aufgabe, nämlich die Abscheidung   korrosionsbeständiger,     riss- und   porenfreier und/oder mikrorissiger Verchromungen, erzielt werden kann. 



   So ist die Abscheidung von Chromschichten aus Tetrachromatbädern an sich nicht neu, doch sind für diese bekannten   Tetrachromatbäder   niedrige Arbeitstemperaturen charakteristisch, welche nach allge- mein herrschender Auffassung 24 C nicht überschreiten sollen und im allgemeinen zwischen 16 - 230C liegen. Die Abscheidungen aus solchen bekannten Tetrachromatbädern sind jedoch nicht   riss- und   poren- frei oder mikrorissig. Sie sind im allgemeinen auch matt. Es ist zwar durch Zusätze möglich geworden, auch hochglänzende Überzüge aus kaltarbeitenden (18-200C) Tetrachromatbädern abzuscheiden, wel- che zudem relativ porenarm sind und daher als "dicht" bezeichnet werden, trotzdem aber keine rissfreien oder mikrorissigen Strukturen liefern.

   Es sind ferner Tetrachromatbäder bekanntgeworden, deren Badtem- peraturen unter anderem auch in den Bereich der erfindungsgemässen Badtemperaturen von 21 bis   310C     fallen (österr. Patentschrift Nr. 141851,   deutsche PatentschriftNr. 933906,   USA-PatentschriftNr. 2, 095, 995),   doch können aus diesen bekannten Chrombädern bloss matte und vor allem keine   riss- und porenfreien   bzw. mikrorissigen Verchromungen abgeschieden werden. Es bedarf dazu unbedingt noch der übrigen er- findungsgemässen Merkmale, nämlich der Titan- und/oder Zirkoniumverbindungen und der Fluoride (dabei können natürlich die Titan- und Zirkoniumverbindungen selbst Fluoride sein). 



   Zur Auftragung eines   riss- und   porenfreien Chromüberzuges auf vorzugsweise vernickelte Gegenstän- de, ist es besonders günstig, wenn die Abscheidung aus einem Glanztetrachromatbad, welches Titan- fluorid oder Zirkonfluorid, Schwefelsäure und gegebenenfalls Silicofluorid enthält, bei Badtemperaturen von 21 bis   250C   erfolgt. Dabei ist es vorteilhaft, wenn dem Glanztetrachromatbad bis zu 3 g Titanfluorid oder bis zu 8 g Zirkonfluorid und Schwefelsäure bis zu   0, 8 g/l Elektrolyt   zugesetzt wird. 



   Für die Auftragung eines mikrorissigen Chromüberzuges auf vorzugsweise vernickelte Gegenstände ist es zweckmässig, wenn die Abscheidung aus einem Glanztetrachromatbad, welches Titanfluorid oder 
 EMI2.2 
 dung von Deckstrom oder Innenanoden auch in den Vertiefungen von stark profilierten Werkstücken aufgetragen. 



   Das erfindungsgemässe Verfahren wird nachstehend an Hand einiger Ausführungsbeispiele näher   erläu-   tert, ohne darauf beschränkt zu sein. 



   Beispiel l : Zusammensetzung eines Glanztetrachromatbades pro Liter Elektrolyt : 
 EMI2.3 
 
<tb> 
<tb> 200... <SEP> 270 <SEP> g <SEP> Gesamt-Chromsäure <SEP> (GrOs)
<tb> 70... <SEP> 90 <SEP> g <SEP> freie <SEP> Chromsäure
<tb> 0, <SEP> 6... <SEP> 0,8 <SEP> g <SEP> Schwefelsäure
<tb> 1, <SEP> 5... <SEP> 3 <SEP> g <SEP> Titanfluorid <SEP> (TiF.) <SEP> oder
<tb> 4... <SEP> 8 <SEP> g <SEP> Zirkonfluorid <SEP> (ZrPg)
<tb> 0, <SEP> 003... <SEP> 0, <SEP> 005 <SEP> g <SEP> Selenige <SEP> Säure <SEP> (SeO)
<tb> 
 
Ein   glanzvernickeltes Werkstilck,   welches in einem Glanztetrachromatbad obiger Zusammensetzung bei einer Badtemperatur von   250C   mit einer Stromdichte von 14 A/dm2 14 min lang glanzverchromt wird, erhält einen   riss-und porenfreien Chromüberzug.   

 <Desc/Clms Page number 3> 

 B e i s p i e l 2:

   Zusammensetzung eines Glanztetrachromatbades pro Liter Elektrolyt : 
 EMI3.1 
 
<tb> 
<tb> 280... <SEP> 320 <SEP> g <SEP> Gesamt-Chromsäure <SEP> (CrO3)
<tb> 90... <SEP> 120 <SEP> g <SEP> freie <SEP> Chromsäure
<tb> 1, <SEP> 7... <SEP> 1,9 <SEP> g <SEP> Schwefelsäure
<tb> 0, <SEP> 1... <SEP> 0, <SEP> 5 <SEP> g <SEP> Titanfluorid <SEP> (TiF6) <SEP> oder
<tb> 0, <SEP> 3... <SEP> 1, <SEP> 2 <SEP> g <SEP> Zirkonfluorid <SEP> (ZrF6)
<tb> 0, <SEP> 01...

   <SEP> 0, <SEP> 02 <SEP> g <SEP> Selenige <SEP> Säure <SEP> (SeO
<tb> 
 
Ein Gegenstand, welcher mit einer Doppelnickelschicht vernickelt und anschliessend in einem Glanztetrachromatbad obiger Zusammensetzung bei einer Badtemperatur von   300C   und einer Stromdichte von 16 A/dm2 10 min lang verchromt wird, erhält einen   mikrorissigen Glanzchromüberzug   mit mehr als 1000 Mikrorissen pro Längeneinheit von 1 Zoll (= 2, 54 cm). 



   Die im Beispiel 1 und 2 beschriebenen Glanztetrachromatbäder eignen sich zur Doppelverchromung von glanzvernickelten Werkstucken oder Gegenständen mit Doppelnickelschichten, indem   man diese z. B.   zuerstineinem Glanztetrachromatbad gemäss Beispiel 1 mit einer Schichtstärke von   0, 25 lui   zuerst rissfrei glanzverchromt, anschliessend in an sich bekannter Weise zur Vermeidung einer anodischen Polung mittels einer geeigneten Vorrichtung, bei einer Spannung unterhalb des Abscheidungspotentials des Chroms, beispielsweise   1 - 2   V, aus dem Glanztetrachromatbad nach Beispiel 1 austrägt und ohne Zwischenspü- 
 EMI3.2 
 



   B. 0, 5 J. !Eine solche Doppelverchromung ergibt den Vorteil, dass bei der ersten rissfreien Verchromung bei der Badtemperatur von   250C   ein Maximum an Tiefenströmung erzielt wird, und dabei für die nachfolgende mikrorissige Chromschicht eine vorzügliche Deckfähigkeit gegeben ist. 



     Beispiel 3 :   Zusammensetzung eines Glanz-Mischtetrachromatbades pro Liter Elektrolyt : 
 EMI3.3 
 
<tb> 
<tb> 200 <SEP> - <SEP> 270 <SEP> g/l <SEP> Gesamt-Chromsäure <SEP> (CrO)
<tb> 70 <SEP> - <SEP> 90 <SEP> g/l <SEP> freie <SEP> Chromsäure
<tb> 0, <SEP> 6-0, <SEP> 8 <SEP> g/l <SEP> Schwefelsäure
<tb> 0,1 <SEP> - <SEP> 3 <SEP> g/l <SEP> silicofluorid <SEP> (SiF6)
<tb> 0,1 <SEP> - <SEP> 0,5 <SEP> g/l <SEP> titanfluorid <SEP> (TiF6) <SEP> oder
<tb> 0, <SEP> 3-1, <SEP> 2 <SEP> g/l <SEP> Zirkonfluorid <SEP> (ZrF) <SEP> 
<tb> 0, <SEP> 003-0, <SEP> 005 <SEP> g/1 <SEP> Selenige <SEP> Säure <SEP> (sue02)
<tb> 
 
Ein Werkstück, welches in einem Mischtetrachromatbad obiger Zusammensetzung unter den gleichen Arbeitsbedingungen wie bei Beispiel 1 verchromt wird, erhält einen   riss- und   porenfreien Chrom- überzug mit ausgezeichnetem Hochglanz.

   



     Beispiel 4 :   Zusammensetzung eines Glanz-Mischtetrachromatbades pro Liter Elektrolyt : 
 EMI3.4 
 
<tb> 
<tb> 280 <SEP> - <SEP> 320 <SEP> g/l <SEP> Gesamt-Chromsäure <SEP> (CrO2)
<tb> 80-120 <SEP> g/l <SEP> freie <SEP> Chromsäure
<tb> 1, <SEP> 7 <SEP> - <SEP> 1, <SEP> 9 <SEP> g/l <SEP> Schwefelsäure
<tb> 0, <SEP> l-3 <SEP> g/l <SEP> Silicofluorid <SEP> (SiF6)
<tb> 0, <SEP> 1- <SEP> 0, <SEP> 5 <SEP> g/l <SEP> Titanfluorid <SEP> (TiF) <SEP> oder
<tb> 0,3 <SEP> - <SEP> 1,2 <SEP> g/l <SEP> Zirkonfluorid <SEP> (ZrF6)
<tb> 0, <SEP> 01-0, <SEP> 02 <SEP> g/1 <SEP> Selenige <SEP> Säure <SEP> (SeOJ
<tb> 
 
Ein   Gegenstand reicher   in einem Mischtetrachromatbad vorstehender Zusammensetzung unter den glei-   chen Arbeitsbedingungen   wie bei Beispiel 2 verchromt wird,

   erhält einen   mikrorissigen   Glanzchromüberzug mit mehr als 1000 Mikrorissen pro Längeneinheit von 1 Zoll (= 2, 54 cm). 



   Die vorstehend genannten Misch-Tetrachromatelektrolyten gemäss Beispiel 3 und 4 eignen sich ganz hervorragend zur Doppelverchromung, weil diese noch unempfindlicner gegen Stromunterbrechungen sind als die Glanztetrachromatbäder gemäss den Beispielen 1 und 2.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE : 1. Verfahren zur Auftragung von korrosionsbeständigen, riss- und porenfreien und/oder mikrorissigen Verchromungen bzw. Doppel- oder Mehrfachverchromungen auf Metalloberflächen, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidung aus einem Glanzchrombad auf der Basis des Natriumtetrachromats unter Zusatz von Titan-und/oder Zirkoniumverbindungen und Fluoriden bei Badtemperaturen von 21 bis 310C vorgenommen wird.
    2. Verfahren nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, dass zur Auftragung eines rissund porenfreien Chromüberzuges auf vorzugsweise vernickelten Gegenständen die Abscheidung aus einem Glanztetrachromatbad, welches Titanfluorid oder Zirkonfluorid, Schwefelsäure und gegebenenfalls Silicofluorid enthält, bei Badtemperaturen von 21 bis 250C erfolgt.
    3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass dem Glanztetrachromatbad bis zu 3 g Titanfluorid oder bis zu 8 g Zirkonfluorid und Schwefelsäure bis zu 0, 8 g/l. Elektrolyt zugesetzt wird.
    4. Verfahren nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t, dass zur Auftragung eines mikrorissigen Chromüberzuges auf vorzugsweise vernickelten Gegenständen die Abscheidung aus einem Glanztetrachromatbad, welches Titanfluorid oder Zirkonfluorid, Schwefelsäure, Selenverbindungen und gegebenenfalls Silicofluorid enthält, bei Badtemperaturen von 29 bis 31 C erfolgt.
    5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass dem Glanztetrachromatbad EMI4.1
AT1000463A 1963-08-26 1963-12-12 Verfahren zur Auftragung von Verchromungen AT247094B (de)

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