WO2022222436A1 - 显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents
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Definitions
- the number of edges of the opening is greater than four.
- FIG. 9 is a schematic diagram of forming a buffer layer provided by an embodiment of the present application.
- the angle ⁇ between the sidewall of the via hole 02a and the side of the insulating layer 02 close to the substrate 01 is small, which causes the light emitting layer 04 to pass through.
- a broken line cannot be formed at the long edge of the hole 02a, so that the auxiliary electrode 03 on the sidewall of the long edge of the via hole 02a will be attached with the light-emitting layer 04, and the area where the light-emitting layer 04 is attached in the auxiliary electrode 03 cannot be connected with the cathode.
- Layer 05 is effectively lapped.
- FIG. 3 is a schematic diagram of a film layer structure of a display panel provided by an embodiment of the present application.
- the display panel 000 may include:
- the shape of the opening of the first via hole 200a on the side away from the substrate 100 is a polygon, and the light emitting layer 400 in the display panel 000 may form a broken line at each edge of the opening.
- the opening B on the side of the first via hole 200a away from the substrate 100 includes: two strip-shaped sub-openings B1 and B2 with perpendicular extension directions, and the two The center points of the sub-openings B1 and B2 are coincident.
- the anode layer 600 may include: a first sub-anode 601 and a second sub-anode 602 arranged in layers, the first sub-anode 601 is made of a metal with reflective properties, the anode Layer 600 is an anode layer with light-reflecting properties.
- the display panel 000 may further include: a thin film transistor 700 electrically connected to the anode layer 600 , and a cathode signal line 800 electrically connected to the auxiliary electrode 300 .
- the thin film transistor 700 is used to apply a driving voltage to the anode layer 600 .
- the orthographic projection of the first via hole 200 a in the insulating layer 200 on the substrate 100 is located within the orthographic projection of the cathode signal line 800 on the substrate 100 .
- the auxiliary electrode 300 in the first via hole 200 a can overlap with the cathode signal line 800 .
- the cathode signal line 800 is used to apply a cathode voltage to the cathode layer 500 through the auxiliary electrode 300 .
- Step B7 forming a pixel defining layer on the substrate on which the anode layer and the auxiliary electrode are formed.
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Abstract
本申请公开了一种显示面板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该显示面板包括：衬底、绝缘层、辅助电极、发光层和阴极层。该辅助电极和阴极层通过绝缘层内的第一过孔搭接，且该第一过孔的开口的形状为多边形，使发光层在开口的每个边沿处均形成断线，保证位于第一过孔内的辅助电极的每个侧壁上均不附着有发光层，增加辅助电极与阴极层的搭接面积，实现阴极层与辅助电极之间的有效搭接，提高显示面板的显示效果。
Description
本申请要求于2021年04月19日提交的申请号为202110419354.X、发明名称为“显示面板及其制造方法、显示装置”的中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。
本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
目前的有机电致发光(英文：Organic Light-Emitting Diode简称：OLED)显示面板通常包括阳极层、有机发光层和阴极层，根据发光面不同可分为底发射型OLED显示面板和顶发射型OLED显示面板两种。由于顶发射型OLED显示面板可以获得更大的开口率，近年来成为研究的热点。
顶发射型OLED显示面板需要薄且透明的阴极层和能够进行光反射的阳极层，以增加光的透过率。而薄且透明的阴极层普遍存在电阻值较高，电压降(IR drop)严重的问题。通常在阴极层中距离电源供给点越远的位置的电压降越明显，从而导致OLED显示面板存在发光不均匀的现象。
目前，在形成该OLED显示面板的过程中，可以依次形成辅助电极、有机发光层和阴极层。该辅助电极与阴极层电连接，电源可以为辅助电极提供电信号，通过该辅助电极可以使阴极层中各个位置的电压相同，从而克服OLED显示面板中的阴极层中电压降严重的问题。
然而，有机发光层通常通过蒸镀工艺形成。在通过蒸镀工艺形成有机发光层的过程中，该有机发光层容易附着在辅助电极上，影响辅助电极与后续形成的阴极层之间的电连接，进而导致该OLED显示面板的显示效果较差。
发明内容
本申请实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置。可以解决现有技术中的OLED显示面板的显示效果较差的问题，所述技术方案如下：
第一方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括：
衬底；
位于所述衬底上的绝缘层，以及依次叠加设置的辅助电极、发光层和阴极层，所述绝缘层具有第一过孔，所述辅助电极与所述阴极层在所述第一过孔内搭接；
其中，所述第一过孔在远离所述衬底一侧的开口的形状为多边形，所述发光层在所述开口的每个边沿处形成断线。
可选的，所述开口包括：至少两个延伸方向相交的条状的子开口。
可选的，至少两个所述子开口中的每个所述子开口的中心点重合。
可选的，所述开口的边沿的长度小于或等于5微米，且所述开口的面积大于或等于50平方微米。
可选的，所述第一过孔的侧壁与所述绝缘层中靠近所述衬底一面之间的夹角的角度范围为80度至90度。
可选的，所述开口的边沿的个数大于4个。
可选的，所述显示面板还包括：与所述辅助电极同层设置且材料相同的阳极层。
可选的，所述显示面板还包括：与所述阳极层电连接的薄膜晶体管，以及与所述辅助电极电连接的阴极信号线。
可选的，所述薄膜晶体管包括：与所述阳极层电连接的第一极，所述第一极为源极和漏极中的一个；
所述显示面板还包括：位于所述衬底上，且与所述第一极电连接的金属遮光层。
可选的，所述显示面板还包括：位于所述绝缘层远离所述衬底一侧的像素界定层，所述像素界定层用于在所述衬底上限定出多个像素区域以及位于所述像素区域外围的非像素区域，所述阳极层位于所述像素区域内，所述辅助电极位于所述非像素区域内；
所述绝缘层还具有位于所述非像素区域内的第二过孔，所述阳极层通过所述第二过孔与所述第一极电连接。
第二方面，提供了一种显示面板的制造方法，所述方法包括：
提供衬底；
在所述衬底上形成绝缘层、辅助电极、发光层和阴极层；
其中，所述绝缘层具有第一过孔，所述辅助电极与所述阴极层在所述第一过孔内搭接；所述第一过孔在远离所述衬底一侧的开口的形状为多边形，所述发光层在所述开口的每个边沿处形成断线。
第三方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括：供电组件和显示面板，所述供电组件用于为所述显示面板供电，所述显示面板包括：上述的显示面板。
本申请实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：
该显示面板包括：衬底、绝缘层、辅助电极、发光层和阴极层。该辅助电极和阴极层通过绝缘层内的第一过孔搭接，且该第一过孔的开口的形状为多边形，使发光层在开口的每个边沿处均形成断线，保证位于第一过孔内的辅助电极的每个侧壁上均不附着有发光层，增加辅助电极与阴极层的搭接面积，实现阴极层与辅助电极之间的有效搭接，提高显示面板的显示效果。
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是相关技术提供的一种显示面板的结构示意图；
图2是图1示出的显示面板的局部俯视图；
图3是本申请实施例提供的一种显示面板的膜层结构示意图；
图4是本申请实施例提供的另一种显示面板的膜层结构示意图；
图5是一种图4示出的显示面板的局部俯视图；
图6是另一种图4示出的显示面板的局部俯视图；
图7是本申请实施例提供的一种显示面板的俯视图；
图8是本申请实施例提供的一种形成金属遮光层的示意图；
图9是本申请实施例提供的一种形成缓冲层的示意图；
图10是本申请实施例提供的一种形成薄膜晶体管的示意图；
图11是本申请实施例提供的一种形成绝缘层的示意图；
图12是本申请实施例提供的一种形成阳极层和辅助电极的示意图；
图13是本申请实施例提供的一种形成像素界定层的示意图；
图14是本申请实施例提供的一种形成发光层的示意图；
图15是本申请实施例提供的一种形成阴极层的示意图。
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。
在相关技术中，请参考图1，图1是相关技术提供的一种显示面板的结构示意图。该显示面板00可以包括：
衬底01。
位于衬底01上的绝缘层02，以及依次叠加设置的辅助电极03、发光层04和阴极层05。
该绝缘层02具有过孔02a。该发光层04在过孔02a内会出现断线现象，如此，辅助电极03和阴极层05可以在过孔02a内进行搭接。
请参考图1和图2，图2是图1示出的显示面板的局部俯视图。该显示面板00还可以包括：阴极信号线06。绝缘层02中的过孔02a在衬底01上的正投影，位于阴极信号线06在衬底01上的正投影内。如此，过孔02a内的辅助电极03可以与阴极信号线06搭接。该阴极信号线06可以通过辅助电极03向阴极层05施加电压信号。
如图2所示，过孔02a在远离衬底01一侧的开口A的形状通常为矩形，也即是，该开口A具有顺次连接的四个边沿。在该四个边沿中，相对设置的两个边沿的长度相同，且任意两个相邻的边沿的长度不同。在该四个边沿中，长度较长的两个边沿又称长边沿，其长度通常为10微米，长度较短的两个边沿又称短边沿，其长度通常为5微米。
然而，如图1所示，在过孔02a的长边沿处，过孔02a的侧壁与绝缘层02中靠近衬底01一面之间的夹角α的角度较小，导致发光层04在过孔02a的长边沿处无法形成断线，进而导致位于过孔02a长边处的侧壁上辅助电极03会附着有发光层04，而在辅助电极03中附着有发光层04的区域无法与阴极层05进行有效的搭接。如此，辅助电极03与阴极层05的搭接面积减小，影响了辅助电极03与阴极层05之间的电连接，进而影响显示面板00的显示效果。
请参考图3，图3是本申请实施例提供的一种显示面板的膜层结构示意图。该显示面板000可以包括：
衬底100。
位于衬底100上的绝缘层200，以及依次叠加设置的辅助电极300、发光层400和阴极层500。
该绝缘层200具有第一过孔200a，辅助电极300与阴极层500在第一过孔200a内搭接。
该第一过孔200a在远离衬底100一侧的开口的形状为多边形，该显示面板000中的发光层400可以在开口的每个边沿处均形成断线。
综上所述，本申请实施例提供的显示面板，包括：衬底、绝缘层、辅助电极、发光层和阴极层。该辅助电极和阴极层通过绝缘层内的第一过孔搭接，且该第一过孔的开口的形状为多边形，使发光层在开口的每个边沿处均形成断线，保证位于第一过孔内的辅助电极的每个侧壁上均不附着有发光层，增加辅助电极与阴极层的搭接面积，实现阴极层与辅助电极之间的有效搭接，提高显示面板的显示效果。
在本申请实施例中，请参考图4和图5，图4是本申请实施例提供的另一种显示面板的膜层结构示意图，图5是一种图4示出的显示面板的局部俯视图。该第一过孔200a远离衬底100的开口B的边沿的长度小于或等于5微米，且该开口B的面积大于或等于50平方微米。在这种情况下，由于第一过孔200a远离衬底100一侧的开口B各个边缘的长度较小，因此，该开口B的每个边沿处，第一过孔200a的侧壁与绝缘层200中靠近衬底100一面之间的夹角β的角度较大，以使发光层400在开口B的每个边沿处均形成断线，增加辅助电极300与阴极层500的搭接面积。并且，第一过孔200a远离衬底100一侧的开口B的面积较大，进一步的增加辅助电极300与阴极层500的搭接面积，实现阴极层500与辅助电极300之间的有效搭接，提高显示面板000的显示效果。
可选的，该第一过孔200a的侧壁与绝缘层200中靠近衬底100一面之间的夹角β的角度范围可以为80度至90度。如此，可以保证发光层400在开口B的每个边沿处均形成断线。
在本申请实施例中，第一过孔200a远离衬底100一侧的开口B的边沿的个 数大于4个，也即是，该开口B的形状为不规则多边形，以保证在该开口B的面积较大的前提下，保证该开口B的每个边沿的长度均小于或等于5微米。
示例的，第一过孔200a远离衬底100一侧的开口B可以包括：至少两个延伸方向相交的条状的子开口，且该至少两个子开口中的每个子开口的中心点重合。
在本申请中，开口B的形状有多种可能的实现方式，本申请实施例以以下两种可能的实现方式为例进行示意性说明：
在第一种可能的实现方式中，如图5所示，第一过孔200a远离衬底100一侧的开口B包括：两个延伸方向垂直的条状的子开口B1和B2，且该两个子开口B1和B2的中心点重合。
在第二种可能的实现方式中，请参考图6，图6是另一种图4示出的显示面板的局部俯视图。第一过孔200a远离衬底100一侧的开口B包括：三个延伸方向相交的条状的子开口B1、B2和B3，且该三个子开口B1、B2和B3的中心点重合。在这种情况下，第一过孔200a远离衬底100一侧的开口B中的短边沿的个数更多，可以进一步增加辅助电极300与阴极层500的搭接面积。
在本申请实施例中，如图4所示，该显示面板000还可以包括：与辅助电极300同层设置且材料相同的阳极层600。如此，该阳极层600可以与辅助电极300通过一次构图工艺形成，简化该显示面板000的制造工艺，进一步降低该显示面板000的制造难度和制造成本。
需要说明的是，该一次构图工艺可以包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。
示例的，如图4所示，该阳极层600可以包括：层叠设置的第一子阳极601和第二子阳极602，该第一子阳极601是由具有反光性能的金属制成的，该阳极层600为具有反光性能的阳极层。并且，在该阳极层600中，在位于第一子阳极601上的第二子阳极602的材料为氧化铟锡(英文：Indium Tin Oxide；简称：ITO)或氧化铟锌(英文：Indium Zinc Oxide；简称：IZO)时，通过ITO或IZO能够提高具有反光性能的第一子阳极601的功函数，有利于提升该阳极层600的电学性能。在这种情况下，辅助电极300包括：层叠设置的第一子电极301和第二子电极302，该第一子电极301和第一子阳极601同层设置，且材料相同，第二子电极302和第二子阳极602同层设置，且材料相同。如此，第一子电极 301和第一子阳极601是通过一次构图工艺形成的，第二子电极302和第二子阳极602是通过另一次构图工艺形成的。
在本申请中，请参考图4，该显示面板000还可以包括：与阳极层600电连接的薄膜晶体管700，以及与辅助电极300电连接的阴极信号线800。该薄膜晶体管700用于对阳极层600施加驱动电压。绝缘层200中的第一过孔200a在衬底100上的正投影，位于阴极信号线800在衬底100上的正投影内。如此，第一过孔200a内的辅助电极300可以与阴极信号线800搭接。该阴极信号线800用于通过辅助电极300对阴极层500施加阴极电压。通常，该阴极电压为电压值为0的电压。在本申请中，当阳极层600上施加驱动电压，阴极层500上施加阴极电压时，位于阳极层600与阴极层500之间的发光层400可以发光。
在本申请实施例中，如图4所示，薄膜晶体管700可以包括：与阳极层600电连接的第一极701，该第一极701为源极和漏极中的一个。该显示面板000还可以包括：位于衬底100上，且与第一极701电连接的金属遮光层900。如此，在该显示面板000的工作过程中，金属遮光层900与第一极701和阳极层600的电压相同，可以避免金属遮光层900与显示面板000中的其他导电结构之间产生寄生电容。
在本申请中，如图4所示，该薄膜晶体管700还可以包括：第二极702、栅极703、栅极绝缘层704、中间介电层705和有源层706，该第二极702为源极和漏极中的另一个，该第二极702与数据线电连接，且该第二极702与第一极701和阴极信号线800同层设置，且材料相同。该栅极703通过栅极绝缘层704与有源层705绝缘设置，且该栅极703位于有源层705远离衬底100的一侧。该中间介电层705位于栅极703上。该有源层706与第一极701和第二极702搭接，且在有源层706与第一极701和第二极702搭接处，通过等离子体或金属层对搭接处的有源层706进行导体化处理，以降低有源层706与第一极701和第二极702搭接处的电阻，进而提高薄膜晶体管700的特性。该有源层706在衬底100上的正投影，位于金属遮光层900在衬底100上的正投影内，以使金属遮光层900对有源层706进行遮挡，避免该有源层706在光线的照射下出现电压阈值偏移的现象。
该显示面板000还可以包括：与栅极703电连接的栅线703a，该栅线703a与栅极703同层设置，且材料相同。
在本申请实施例中，该显示面板000还可以包括：位于金属遮光层900上的缓冲层1000，该缓冲层1000用于阻挡衬底100中的离子进入有源层705中，从而避免有离子进入有源层705后导致其性能受到影响。
可选的，如图4所示，该显示面板000中的绝缘层200可以包括：钝化层201和平坦层202。
在本申请实施例中，如图4所示，该显示面板000还可以包括：位于绝缘层200远离衬底100一侧的像素界定层1100，该像素界定层1100用于在衬底100上限定出多个像素区域100a以及位于像素区域100a外围的非像素区域100b，阳极层600位于像素区域100a内，辅助电极300位于非像素区域100b内。该显示面板000中的绝缘层200中的第一过孔200a位于非像素区域100b内，且该绝缘层200还具有位于非像素区域内的第二过孔200b，且该第二过孔200b在衬底100上的正投影位于像素界定层1100在衬底100上的正投影内，阳极层600通过第二过孔200b与第一极701电连接。如此，可以提高阳极层600的平坦度，以降低显示面板000因阳极层600平坦度较差出现色分离的现象。
需要说明的是，阳极层600，以及位于像素区域100a内的发光层400和阴极层500可以构成显示面板000中的OLED发光器件。
可选的，请参考图7，图7是本申请实施例提供的一种显示面板的俯视图。在图7中，该显示面板000在C-C’处的截面图可以参考图3或图5示出的显示面板的膜层结构示意图。该显示面板000中的栅线703a的延伸方向与数据线702a的延伸方向可以垂直。
在本申请实施例中，显示面板000位于像素区域100a外围的非像素区域100b内的辅助电极300的个数为多个。该显示面板000中的辅助电极300的个数和排布方式，可以根据阴极层500的电阻确定。例如，可以在每2×2个像素内设置一个辅助电极300；或者，可以在每3×3个像素内设置一个辅助电极300。
综上所述，本申请实施例提供的显示面板，包括：衬底、绝缘层、辅助电极、发光层和阴极层。该辅助电极和阴极层通过绝缘层内的第一过孔搭接，且该第一过孔的开口的形状为多边形，使发光层在开口的每个边沿处均形成断线，保证位于第一过孔内的辅助电极的每个侧壁上均不附着有发光层，增加辅助电极与阴极层的搭接面积，实现阴极层与辅助电极之间的有效搭接，提高显示面板的显示效果。
本申请实施例还提供了一种显示面板的制造方法，该制造方法用于制造图3或示出的显示面板，该方法可以包括：
步骤A1、提供衬底。
步骤A2、在衬底上形成绝缘层、辅助电极、发光层和阴极层。
其中，绝缘层具有第一过孔，辅助电极与阴极层在第一过孔内搭接；第一过孔在远离所述衬底一侧的开口的形状为多边形，发光层在开口的每个边沿处形成断线。
综上所述，本申请实施例提供的显示面板的制造方法，该辅助电极和阴极层通过绝缘层内的第一过孔搭接，且该第一过孔的开口的形状为多边形，使发光层在开口的每个边沿处均形成断线，保证位于第一过孔内的辅助电极的每个侧壁上均不附着有发光层，增加辅助电极与阴极层的搭接面积，实现阴极层与辅助电极之间的有效搭接，提高显示面板的显示效果。
在本申请实施例中，还提供了另一种显示面板的制造方法，该显示面板的制造方法用于制造图4示出的显示面板。该显示面板的制造方法还可以包括：
步骤B1、提供衬底。
该衬底的材质可以包括玻璃或者聚酰亚胺等。
步骤B2、在衬底上形成金属遮光层。
示例的，如图8所示，图8是本申请实施例提供的一种形成金属遮光层的示意图。在衬底100上形成第一导电层，并对该第一导电层执行一次构图工艺以形成金属遮光层900。可选的，该金属遮光层900的材料可以包括：金属铝、金属银、金属钼或合金等金属材料。
步骤B3、在金属遮光层上形成缓冲层。
示例的，如图9所示，图9是本申请实施例提供的一种形成缓冲层的示意图。可选的，该缓冲层1000的材料可以包括：氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等无机材料。在本申请中，该缓冲层1000的厚度范围为0.6至3微米。
步骤B4、在缓冲层上形成薄膜晶体管。
示例的，如图10所示，图10是本申请实施例提供的一种形成薄膜晶体管的示意图。
在本申请中，在缓冲层1000上形成薄膜晶体管700可以包括以下步骤：
首先，在形成有缓冲层1000的衬底100上形成有源材质薄膜，并对该有源材质薄膜执行一次构图工艺以形成有源层706。可选的，该有源层706的材料可以包括：多晶硅、非晶硅或氧化物半导体等半导体材料。
之后，在形成有有源层706的衬底100上形成栅极绝缘薄膜，并对该栅极绝缘薄膜执行一次构图工艺以形成栅极绝缘层704。
之后，在形成有栅极绝缘层704的衬底上形成第二导电层，并对该第二导电层执行一次构图工艺以形成栅极703和栅线703a。可选的，该栅极703和栅线703a的材料可以包括：金属铝、金属银、金属钼或合金等金属材料。
之后，在形成有栅极703和栅线703a的衬底上形成中间介电薄膜，并对该中间介电薄膜执行一次构图工艺以形成中间介电层705。可选的，该中间介电层705的材料可以包括：二氧化硅、氮化硅或者二氧化硅和氮化硅的混合材料。
最后，在形成有中间介电层的衬底上形成第三导电层，并对该第三导电层执行一次构图工艺以形成第一极701、第二极702、阴极信号线800和数据线(图中未示出)。可选的，该第一极701、第二极702、阴极信号线800和数据线的材料可以包括：金属铝、金属银、金属钼或合金等金属材料。
需要说明的是，通过上述过程可以形成薄膜晶体管700。还需要说明的是，上述实施例中的一次构图工艺可以包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。
步骤B5、在薄膜晶体管上形成绝缘层。
示例的，如图11所示，图11是本申请实施例提供的一种形成绝缘层的示意图。在形成有薄膜晶体管的衬底上依次形成钝化层201和平坦层202。示例的，可以通过采用等离子体通过化学气相沉积的方式形成钝化层201，并在钝化层201上形成平坦薄膜对该平坦薄膜执行一次构图工艺以形成平坦层202。该钝化层201与平坦层202构成绝缘层200，该绝缘层具有第一过孔200a和第二过孔200b。
步骤B6、在绝缘层上形成阳极层和辅助电极。
示例的，如图12所示，图12是本申请实施例提供的一种形成阳极层和辅助电极的示意图。在形成有绝缘层200的衬底100上形成第四导电薄膜，然后，对该第四导电薄膜执行一次构图工艺以形成阳极层600和辅助电极300。
步骤B7、在形成有阳极层和辅助电极的衬底上形成像素界定层。
示例的，如图13所示，图13是本申请实施例提供的一种形成像素界定层的示意图。该像素界定层1100用于在衬底100上限定出像素区域100a和非像素区域100b。可选的，该像素界定层1100的材料可以包括：选自基于聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯的聚合物、基于苯酚基团的聚合物和衍生物，基于亚克力的聚合物、基于对二甲苯的聚合物、基于芳醚的聚合物、基于酰胺的聚合物、基于氟化物的聚合物、基于对二甲苯的聚合物乙烯醇的聚合物中的至少一种。
步骤B8、在像素界定层上形成发光层。
示例的，如图14所示，图14是本申请实施例提供的一种形成发光层的示意图。该发光层400在第一过孔200a的每个边沿处均形成断线。可选的，该发光层400的材料可以包括磷光或荧光发光材料。
步骤B9、在发光层上形成阴极层。
示例的，如图15所示，图15是本申请实施例提供的一种形成阴极层的示意图。可选的，该阴极层500的材料可以包括：ITO或IZO。
在本申请实施例中，在发光层400上形成阴极层500后，即可得到图4示出的显示面板。示例的，可以在形成有发光层400的衬底100上通过溅射工艺形成阴极层500，使得形成后的阴极层500与辅助电极300在第一过孔处搭接。
需要说明的是，上述实施例中的一次构图工艺可以包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的显示面板中各个结构的工作原理以及连接关系，可以参考前述显示面板的结构的实施例中的对应内容，在此不再赘述。
综上所述，本申请实施例提供的显示面板的制造方法，该辅助电极和阴极层通过绝缘层内的第一过孔搭接，且该第一过孔的开口的形状为多边形，使发光层在开口的每个边沿处均形成断线，保证位于第一过孔内的辅助电极的每个侧壁上均不附着有发光层，增加辅助电极与阴极层的搭接面积，实现阴极层与辅助电极之间的有效搭接，提高显示面板的显示效果。
本申请实施例还提供了一种显示装置，该显示装置可以包括上述显示面板。例如，该显示面板的膜层结构可以参考图3或图4所示。
该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数 码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间惟一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
在本申请中，术语“第一”和“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。
以上所述仅为本申请的可选的实施例，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (12)
- 一种显示面板，其特征在于，包括：衬底；位于所述衬底上的绝缘层，以及依次叠加设置的辅助电极、发光层和阴极层，所述绝缘层具有第一过孔，所述辅助电极与所述阴极层在所述第一过孔内搭接；其中，所述第一过孔在远离所述衬底一侧的开口的形状为多边形，所述发光层在所述开口的每个边沿处形成断线。
- 根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述开口包括：至少两个延伸方向相交的条状的子开口。
- 根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，至少两个所述子开口中的每个所述子开口的中心点重合。
- 根据权利要求1至3任一所述的显示面板，其特征在于，所述开口的边沿的长度小于或等于5微米，且所述开口的面积大于或等于50平方微米。
- 根据权利要求1至3任一所述的显示面板，其特征在于，所述第一过孔的侧壁与所述绝缘层中靠近所述衬底一面之间的夹角的角度范围为80度至90度。
- 根据权利要求1至3任一所述的显示面板，其特征在于，所述开口的边沿的个数大于4个。
- 根据权利要求1至3任一所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：与所述辅助电极同层设置且材料相同的阳极层。
- 根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：与所述阳极层电连接的薄膜晶体管，以及与所述辅助电极电连接的阴极信号线。
- 根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括：与所述阳极层电连接的第一极，所述第一极为源极和漏极中的一个；所述显示面板还包括：位于所述衬底上，且与所述第一极电连接的金属遮光层。
- 根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：位于所述绝缘层远离所述衬底一侧的像素界定层，所述像素界定层用于在所述衬底上限定出多个像素区域以及位于所述像素区域外围的非像素区域，所述阳极层位于所述像素区域内，所述辅助电极位于所述非像素区域内；所述绝缘层还具有位于所述非像素区域内的第二过孔，所述阳极层通过所述第二过孔与所述第一极电连接。
- 一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：提供衬底；在所述衬底上形成绝缘层、辅助电极、发光层和阴极层；其中，所述绝缘层具有第一过孔，所述辅助电极与所述阴极层在所述第一过孔内搭接；所述第一过孔在远离所述衬底一侧的开口的形状为多边形，所述发光层在所述开口的每个边沿处形成断线。
- 一种显示装置，其特征在于，包括：供电组件和显示面板，所述供电组件用于为所述显示面板供电，所述显示面板包括：权利要求1至10任一所述的显示面板。
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| NENP | Non-entry into the national phase |
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