WO2022107600A1

WO2022107600A1 - 発光性粒子及びその製造方法、発光性粒子分散体、光変換フィルム、積層体、光変換層、カラーフィルタ並びに発光素子

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Publication number: WO2022107600A1
Application number: PCT/JP2021/040512
Authority: WO
Inventors: 祐貴野中; 卓央林; 雅弘堀口
Original assignee: Dic株式会社
Priority date: 2020-11-18
Filing date: 2021-11-04
Publication date: 2022-05-27
Also published as: KR20230106597A; TW202233806A; JP2023156345A; JPWO2022107600A1; US20240026219A1; JP7381724B2; EP4249569A1; CN116348570A

Abstract

分散性及び安定性に優れた、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子を用いた発光性粒子の製造方法を提供する。メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子の表面にＳｉを含有する表面層を備えた発光性粒子の製造方法であって、半導体ナノ結晶粒子の原料と、結合性基及び加水分解性シリル基を有するシラン化合物Ａと溶媒とを含む溶液から、半導体ナノ結晶粒子及びポリシロキサン結合を形成させることにより前駆体粒子を得る工程と、前駆体粒子と、塩基性基を有する構造単位及び親溶媒性の構造単位を備えたポリマーＢと、溶媒とを混合して混合物を得る工程と、加水分解性シリル基を有するシラン化合物Ｃを混合物に添加し、前駆体粒子の表面にポリマーＢ及びシラン化合物Ｃの重合体を含む層を備えた発光性粒子を得る工程と、を備える製造方法である

Description

発光性粒子及びその製造方法、発光性粒子分散体、光変換フィルム、積層体、光変換層、カラーフィルタ並びに発光素子

　本発明は、発光性粒子及びその製造方法、発光性粒子分散体、光変換フィルム、積層体、光変換層、カラーフィルタ並びに発光素子に関する。

　近年、メタルハライドからなり、ペロブスカイト型の結晶構造を有する半導体ナノ結晶が見出され、注目を集めている（例えば、特許文献１参照）。ペロブスカイト型の半導体ナノ結晶は、例えば、ＣｓＰｂＸ_３（ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩを示す。）で表される化合物からなる。ペロブスカイト型の半導体ナノ結晶は、その粒子サイズの他、ハロゲン原子の存在割合の調整により発光波長を制御することができる。この調整操作は簡便に行えるので、ペロブスカイト型の半導体ナノ結晶は、コアシェル型等の半導体ナノ結晶と比較して、発光波長の制御がより容易であり、よって生産性が高いという特徴を有している。

特開２０１７－２２２８５１号公報

　ところで、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子は、分散媒に分散された状態で（例えばインク組成物として）用いられる場合がある。したがって、当該半導体ナノ結晶粒子は、分散媒中で好適に分散することが望ましい。加えて、当該半導体ナノ結晶粒子は、熱や、水等の極性溶媒等により不安定化しやすく、半導体ナノ結晶粒子の量子収率の低下を招くおそれがある。そのため、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子を用いた発光性粒子の安定性を高めることが求められる。

　そこで、本発明は、分散性及び安定性に優れた、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子を用いた発光性粒子及びその製造方法、当該発光性粒子を含む発光性粒子分散体、光変換フィルム、積層構造体、光変換層、カラーフィルタ並びに発光素子を提供することを目的とする。

　本発明の発光性粒子の製造方法は、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子の表面に、Ｓｉを含有する表面層を備えた発光性粒子の製造方法であって、半導体ナノ結晶粒子の原料化合物と、半導体ナノ結晶粒子の表面に結合可能な結合性基及び加水分解性シリル基を有するシラン化合物Ａと、溶媒とを含む溶液から、半導体ナノ結晶粒子及びその表面にポリシロキサン結合を形成させることにより、半導体ナノ結晶粒子の表面にシラン化合物Ａの重合体を含む層を備えた前駆体粒子を得る工程と、前駆体粒子と、塩基性基を有する第一の構造単位及び塩基性基を有さず親溶媒性の第二の構造単位を備えたポリマーＢと、溶媒とを混合して混合物を得る工程と、加水分解性シリル基を有するシラン化合物Ｃを混合物に添加し、ポリシロキサン結合を形成させることにより、前駆体粒子の表面にポリマーＢ及びシラン化合物Ｃの重合体を含む層を備えた発光性粒子を得る工程と、を備える、ことを特徴とする。

　シラン化合物Ａは、下記式（Ａ１）で表される化合物であることが好ましい。

　式中、Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ２及びＲ^Ａ３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数が１～６のアルキル基を表し、Ｒ^Ａ４は、結合性基を有する１価の基を表す。

　結合性基は、カルボキシル基、メルカプト基及びアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

　シラン化合物Ｃは、下記式（Ｃ１）で表される化合物であることが好ましい。

　式中、Ｒ^Ｃ１及びＲ^Ｃ２は、それぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ^Ｃ３及びＲ^Ｃ４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、ｎは０又は１を表し、ｍは１以上の整数を表す。

　本発明の発光性粒子は、上述の製造方法によって得られた粒子であることを特徴とする。

　本発明の発光性粒子分散体は、上述の発光性粒子と分散体とを含有することを特徴とする。発光性粒子分散体において、前記分散媒は溶媒又は光重合性化合物であることが好ましい。発光性粒子分散体において、前記分散体として少なくとも光重合性化合物を含有し、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。

　本発明の光変換フィルムは、上述の発光性粒子分散体の重合体を含むことを特徴とする。

　本発明の積層構造体は、上述の光変換フィルムを備えることを特徴とする。

　本発明の発光素子は、上述の積層構造体を備えることを特徴とする。

　本発明の光変換層は、複数の画素部と、当該複数の画素部間に設けられた遮光部と、を備え、複数の画素部は、上述の発光性粒子分散体の硬化物を含む発光性画素部を有することを特徴とする。

　本発明のカラーフィルタは、上述の光変換層を備えることを特徴とする。

　本発明の発光素子は、上述のカラーフィルタを備えることを特徴とする。

　本発明の一側面によれば、分散性及び安定性に優れた、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子を用いた発光性粒子及びその製造方法、当該発光性粒子を含む発光性粒子分散体、光変換フィルム、積層構造体、光変換層、カラーフィルタ並びに発光素子を提供することができる。

図１は、本実施形態の積層構造体の構成を模式的に示す断面図である。図２は、本発明の一実施形態のカラーフィルタの模式断面図である。図３は、発光性粒子のＳＴＥＭ－ＥＤＳによる元素分布を示す画像である。

　以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に限定されない。

＜発光性粒子の製造方法＞
　本発明の一実施形態は、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子の表面に、Ｓｉを含有する表面層を備えた発光性粒子の製造方法である。一実施形態に係る製造方法は、半導体ナノ結晶粒子の原料化合物と、半導体ナノ結晶粒子の表面に結合可能な結合性基及び加水分解性シリル基を有するシラン化合物Ａと、溶媒とを含む溶液から、半導体ナノ結晶粒子及びその表面にポリシロキサン結合を形成させることにより、半導体ナノ結晶粒子の表面にシラン化合物Ａの重合体を含む層を備えた前駆体粒子を得る工程Ｓ１と、前駆体粒子と、塩基性基を有する第一の構造単位及び塩基性基を有さず親溶媒性の第二の構造単位を備えたポリマーＢと、溶媒とを混合して混合物を得る工程Ｓ２と、加水分解性シリル基を有するシラン化合物Ｃを混合物に添加し、ポリシロキサン結合を形成させることにより、前駆体粒子の表面にポリマーＢ及びシラン化合物Ｃの重合体を含む層を備えた発光性粒子を得る工程Ｓ３と、を備える。

＜＜工程Ｓ１＞＞
　工程Ｓ１では、例えば、半導体ナノ結晶粒子の原料化合物を含む第１の溶液と、シラン化合物Ａを含む第２の溶液とを混合することにより、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子を生成すると共に当該半導体ナノ結晶粒子の表面に前記シラン化合物Ａを配位させる。その後、配位した前記シラン化合物Ａ中の加水分解性シリル基を縮合させてシロキサン結合を形成する。以上によって、前記半導体ナノ結晶の表面にシラン化合物Ａの重合体を含む層を備えた前駆体粒子を得る。

　工程Ｓ１において、第１の溶液と第２の溶液とを混合する際、加熱してもよく、加熱しなくてもよい。第１の溶液と第２の溶液との混合時に加熱する場合、例えば、第１の溶液が半導体ナノ結晶粒子の原料化合物の一部を含み、第２の溶液が、シラン化合物Ａに加えて、半導体ナノ結晶粒子の原料化合物の残部を含むものであってもよい。次いで、これらの溶液を不活性ガス雰囲気下で混合し、例えば１３０～２６０℃の温度条件下に反応させる。次いで、－２０～３０℃に冷却し、攪拌することにより、半導体ナノ結晶粒子を生成させると共に、該半導体ナノ結晶粒子の表面にシラン化合物Ａを結合させた後、シラン化合物Ａ中の加水分解性シリル基を縮合させることによりシロキサン結合を形成させることができる。

　具体的には、例えば、原料化合物の一部である炭酸セシウムと、半導体ナノ結晶粒子の配位子として作用する化合物と、有機溶媒とを含む溶液を調製する。半導体ナノ結晶粒子の配位子として作用する化合物として、オレイン酸、オレイルアミン等を用いることができる。有機溶媒として、１－オクタデセン、ジオクチルエーテル、ジフェニルエーテル等を用いることができる。このとき、有機溶媒４０ｍＬに対して、炭酸セシウム等の原料化合物が０．２～２ｇ、オレイン酸等の配位子として作用する化合物が０．１～１０ｍＬとなるように、それぞれの添加量を調整することが好ましい。得られた溶液を９０～１５０℃で１０～１８０分間減圧乾燥した後、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下で１００～２００℃に加熱することにより、セシウム－オレイン酸溶液を得る。

　一方、原料化合物の残部である臭化鉛（ＩＩ）と、半導体ナノ結晶粒子の配位子として作用する化合物と、有機溶媒とを含む溶液を調製する。半導体ナノ結晶粒子の配位子として作用する化合物及び有機溶媒は、炭酸セシウムを含む溶液の調製に用いた有機溶媒と同一のものである。有機溶媒５ｍＬに対して、臭化鉛（ＩＩ）等の原料化合物を２０～１００ｍｇ添加し、オレイン酸等の配位子として作用する化合物を０．１～１０ｍＬとなるように添加する。得られた溶液を９０～１５０℃で１０～１８０分間減圧乾燥した後、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下で０．１～２ｍＬのシラン化合物Ａである３－アミノプロピルトリエトキシシランを添加する。

　そして、臭化鉛（ＩＩ）及び３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む溶液を１３０～２６０℃に加熱した状態で上述のセシウム－オレイン酸溶液を添加し、１～１０秒間加熱撹拌させることにより反応させた後に、得られた反応液を氷浴で冷却する。このとき、臭化鉛（ＩＩ）、オレイン酸及び３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む溶液５ｍＬに対して、セシウム－オレイン酸溶液を０．１～１ｍＬ添加することが好ましい。－２０～３０℃で撹拌中に、半導体ナノ結晶粒子が生成すると共に、半導体ナノ結晶粒子の表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン及びオレイン酸が配位する。

　その後、得られた反応液に対し、０．１～６０ｍＬの酢酸メチルを添加することにより懸濁液を得る。得られた懸濁液を遠心分離した後に上澄み液を除去することにより、前駆体粒子を含む固形物を得る。

　第１の溶液と第２の溶液との混合時に加熱しない場合、まず、半導体ナノ結晶粒子の原料化合物を含む第１の溶液と、シラン化合物Ａを含む第２の溶液とを大気下で混合する。次いで、得られた混合物を、半導体ナノ結晶粒子に対して貧溶媒である有機溶媒を多量に加えることにより、半導体ナノ結晶粒子を生成させる。有機溶媒の使用量は、半導体ナノ結晶粒子に対して、質量基準で１０～１０００倍量であることが好ましい。また、生成した半導体ナノ結晶粒子の表面には、シラン化合物Ａの加水分解性シリル基同士によるシロキサン結合が形成される。

　具体的には、半導体ナノ結晶粒子の原料化合物を含む第１の溶液として、例えば、原料化合物の一部である臭化鉛（ＩＩ）及びメチルアミン臭化水素酸塩とを有機溶媒とを含む溶液を調製する。有機溶媒は、ナノ結晶の良溶媒であればよいが、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、及びこれらの混合溶媒であることが相溶性の点から好ましい。このとき、有機溶媒１０ｍＬに対して、臭化鉛（ＩＩ）が５０～２００ｍｇ、メチルアミン臭化水素酸塩が１０～１００ｍｇとなるように、それぞれの添加量を調整することが好ましい。

　一方、シラン化合物Ａを含む第２の溶液として、例えば、３－アミノプロピルトリエトキシシランと、半導体ナノ結晶粒子として作用する配位子と、貧溶媒とを含む溶液を調製する。半導体ナノ結晶粒子として作用する配位子として、例えば、オレイン酸、オレイルアミン等を用いることができる。貧溶媒としては、イソプロピルアルコール、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、アセトニトリル等を用いることができる。このとき、貧溶媒５ｍＬに対して、３－アミノプロピルトリエトキシシラン等のシラン化合物Ａが０．０１～０．５ｍＬ、オレイン酸等の配位子が０．０１～０．５ｍＬとなるように、それぞれの添加量を調整することが好ましい。

　そして、上述の臭化鉛（ＩＩ）及びメチルアミン臭化水素酸塩を含む溶液０．１～５ｍＬに対して、上述の３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む溶液５ｍＬを、大気下、０～６０℃で添加して混合物を得る。その直後に、得られた混合物を大量の貧溶媒に添加し、遠心分離した後に、上澄み液を除去することにより前駆体粒子を含む固形物を得る。混合物を大量の貧溶媒に添加したときに、半導体ナノ結晶粒子が析出すると共に、半導体ナノ結晶粒子の表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン及びオレイン酸が配位する。そして、３－アミノプロピルトリエトキシシランのアルコキシシリル基が縮合し、半導体ナノ結晶粒子の表面にシラン化合物Ａの加水分解性シリル基同士によるシロキサン結合が形成される。

　工程Ｓ１で生成されるメタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子は、励起光を吸収して蛍光または燐光を発光するナノサイズの結晶体（ナノ結晶粒子）である。半導体ナノ結晶粒子は、例えば、透過型電子顕微鏡または走査型電子顕微鏡によって測定される最大粒子径が１００ｎｍ以下である粒子である。半導体ナノ結晶粒子は、例えば、所定の波長の光エネルギーや電気エネルギーにより励起され、蛍光または燐光を発することができる。

　メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子は、一般式：Ａ_ａＭ_ｂＸ_ｃで表される化合物で構成されている。
　式中、Ａは、有機カチオンおよび金属カチオンのうちの少なくとも１種である。有機カチオンとしては、アンモニウム、ホルムアミジニウム、グアニジニウム、イミダゾリウム、ピリジニウム、ピロリジニウム、プロトン化チオウレア等が挙げられ、金属カチオンとしては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ等のカチオンが挙げられる。
　Ｍは、少なくとも１種の金属カチオンである。金属カチオンとしては、１族、２族、３族、４族、５族、６族、７族、８族、９族、１０族、１１族、１３族、１４族、１５族から選ばれる金属カチオンが挙げられる。より好ましくは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｏｓ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ等のカチオンが挙げられる。
　Ｘは、少なくとも１種のアニオンである。アニオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、シアン化物イオン等が挙げられ、少なくとも１種のハロゲンを含む。
　ａは、１～７の整数であり、ｂは、１～４の整数であり、ｃは、３～１６の整数である。
　半導体ナノ結晶粒子においては、その粒子サイズ、Ｘで表されるアニオンの種類および存在割合を調整することにより、発光波長（発光色）を制御することができる。

　上記一般式Ａ_ａＭ_ｂＸ_ｃで表されるメタルハライドからなる化合物は、発光特性をよくするために、上記Ｍサイトに用いた金属カチオンとは異なる、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。

　上記一般式Ａ_ａＭ_ｂＸ_ｃで表されるメタルハライドの中でも、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物は、その粒子サイズ、Ｍサイトを構成する金属カチオンの種類および存在割合を調整し、さらにＸサイトを構成するアニオンの種類および存在割合を調整することにより、発光波長（発光色）を制御することができる点で、発光性粒子として利用する上で特に好ましい。この調整操作は簡便に行えるので、ペロブスカイト型の半導体ナノ結晶は、従来のコアシェル型の半導体ナノ結晶と比較して、発光波長の制御がより容易であり、よって生産性が高いという特徴を有している。

　具体的には、ＡＭＸ_３、Ａ_３ＭＸ_５、Ａ_３ＭＸ_６、Ａ_４ＭＸ_６、Ａ_２ＭＸ_６で表される化合物が好ましい。式中のＡ、Ｍ及びＸは上記のとおりである。また、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物は、上述のように、上記Ｍサイトに用いた金属カチオンとは異なる、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。

　ペロブスカイト型結晶構造を示す化合物の中でも、さらに良好な発光特性を示すために、ＡはＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉであり、Ｍは１種の金属カチオン（Ｍ^１）、または２種の金属カチオン（Ｍ^１ _αＭ^２ _β）であり、Ｘは塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンであることが好ましい。但し、αとβはそれぞれ０～１の実数を表し、α＋β＝１を表す。具体的には、Ｍは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｋ、Ｉｎ、Ｎａ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｓｂ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｙｂ、Ｚｎ、Ｚｒから選ばれることが好ましい。

　ペロブスカイト型結晶構造を示すメタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子の具体的な組成として、ＣｓＰｂＢｒ_３、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＢｒ_３、ＣＨＮ_２Ｈ_４ＰｂＢｒ_３等のＭとしてＰｂを用いた半導体ナノ結晶粒子は、光強度に優れると共に量子効率に優れることから、好ましい。また、ＣｓＳｎＢｒ_３、ＣｓＥｕＢｒ_３ＣｓＹｂＩ_３等のＭとしてＰｂ以外の金属カチオンを用いた半導体ナノ結晶粒子は、低毒性であって環境への影響が少ないことから、好ましい。

　半導体ナノ結晶粒子は、６０５～６６５ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（赤色光）を発する赤色発光性の結晶であってよく、５００～５６０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（緑色光）を発する緑色発光性の結晶であってよく、４２０～４８０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（青色光）を発する青色発光性の結晶であってもよい。また、一実施形態において、これらのナノ結晶の組み合わせでもよい。
　なお、半導体ナノ結晶粒子の発光ピークの波長は、例えば、絶対ＰＬ量子収率測定装置を用いて測定される蛍光スペクトルまたは燐光スペクトルにおいて確認することできる。

　赤色発光性の半導体ナノ結晶粒子は、６６５ｎｍ以下、６６３ｎｍ以下、６６０ｎｍ以下、６５８ｎｍ以下、６５５ｎｍ以下、６５３ｎｍ以下、６５１ｎｍ以下、６５０ｎｍ以下、６４７ｎｍ以下、６４５ｎｍ以下、６４３ｎｍ以下、６４０ｎｍ以下、６３７ｎｍ以下、６３５ｎｍ以下、６３２ｎｍ以下または６３０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、６２８ｎｍ以上、６２５ｎｍ以上、６２３ｎｍ以上、６２０ｎｍ以上、６１５ｎｍ以上、６１０ｎｍ以上、６０７ｎｍ以上または６０５ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。
　これらの上限値および下限値は、任意に組み合わせることができる。なお、以下の同様の記載においても、個別に記載した上限値および下限値は任意に組み合わせ可能である。

　緑色発光性の半導体ナノ結晶粒子は、５６０ｎｍ以下、５５７ｎｍ以下、５５５ｎｍ以下、５５０ｎｍ以下、５４７ｎｍ以下、５４５ｎｍ以下、５４３ｎｍ以下、５４０ｎｍ以下、５３７ｎｍ以下、５３５ｎｍ以下、５３２ｎｍ以下または５３０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、５２８ｎｍ以上、５２５ｎｍ以上、５２３ｎｍ以上、５２０ｎｍ以上、５１５ｎｍ以上、５１０ｎｍ以上、５０７ｎｍ以上、５０５ｎｍ以上、５０３ｎｍ以上または５００ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。

　青色発光性の半導体ナノ結晶粒子は、４８０ｎｍ以下、４７７ｎｍ以下、４７５ｎｍ以下、４７０ｎｍ以下、４６７ｎｍ以下、４６５ｎｍ以下、４６３ｎｍ以下、４６０ｎｍ以下、４５７ｎｍ以下、４５５ｎｍ以下、４５２ｎｍ以下または４５０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、４５０ｎｍ以上、４４５ｎｍ以上、４４０ｎｍ以上、４３５ｎｍ以上、４３０ｎｍ以上、４２８ｎｍ以上、４２５ｎｍ以上、４２２ｎｍ以上または４２０ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。

　半導体ナノ結晶粒子の形状は、特に限定されず、任意の幾何学的形状であってもよく、任意の不規則な形状であってもよい。半導体ナノ結晶粒子の形状としては、例えば、直方体状、立方体状、球状、正四面体状、楕円体状、角錐形状、ディスク状、枝状、網状、ロッド状等が挙げられる。なお、半導体ナノ結晶粒子の形状としては、方向性の少ない形状（例えば、球状、正四面体状等）が好ましい。かかる形状の半導体ナノ結晶粒子を用いることにより、その形状を反映した発光性粒子が得られ、かかる発光性粒子を含むインク組成物を調製した際の均一分散性および流動性をより高めることができる。

　半導体ナノ結晶粒子の平均粒子径（体積平均径）は、４０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、半導体ナノ結晶粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上であることが好ましく、１．５ｎｍ以上であることがより好ましく、２ｎｍ以上であることがさらに好ましい。かかる平均粒子径を有する半導体ナノ結晶粒子は、所望の波長の光を発し易いことから好ましい。
　なお、半導体ナノ結晶粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡または走査型電子顕微鏡により粒子径を測定し、体積平均径を算出することにより得られる。

　半導体ナノ粒子は、安定性をより高めるために、その表面に配位子が配位していることが好ましい。半導体ナノ結晶粒子の原料化合物を含む第１の溶液及び／又は第２の溶液に配位子を添加しておくことにより、表面に配位子が配位した半導体ナノ粒子を生成することができる。

　配位子は、半導体ナノ結晶に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物が好ましい。結合性基としては、例えば、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基およびボロン酸基のうちの少なくとも１種であることが好ましく、カルボキシル基およびアミノ基のうちの少なくとも１種であることがより好ましい。

　かかる配位子としては、カルボキシル基またはアミノ基含有化合物等が挙げられ、これらの１種を単独で使用し、または２種以上を併用することができる。
　カルボキシル基含有化合物としては、例えば、炭素原子数１～３０の直鎖状または分岐状の脂肪族カルボン酸が挙げられる。
　かかるカルボキシル基含有化合物の具体例としては、例えば、アラキドン酸、クロトン酸、ｔｒａｎｓ－２－デセン酸、エルカ酸、３－デセン酸、ｃｉｓ－４，７，１０，１３，１６，１９－ドコサヘキサエン酸、４－デセン酸、ａｌｌ　ｃｉｓ－５，８，１１，１４，１７－エイコサペンタエン酸、ａｌｌ　ｃｉｓ－８，１１，１４－エイコサトリエン酸、ｃｉｓ－９－ヘキサデセン酸、ｔｒａｎｓ－３－ヘキセン酸、ｔｒａｎｓ－２－ヘキセン酸、２－ヘプテン酸、３－ヘプテン酸、２－ヘキサデセン酸、リノレン酸、リノール酸、γ－リノレン酸、３－ノネン酸、２－ノネン酸、ｔｒａｎｓ－２－オクテン酸、ペトロセリン酸、エライジン酸、オレイン酸、３－オクテン酸、ｔｒａｎｓ－２－ペンテン酸、ｔｒａｎｓ－３－ペンテン酸、リシノール酸、ソルビン酸、２－トリデセン酸、ｃｉｓ－１５－テトラコセン酸、１０－ウンデセン酸、２－ウンデセン酸、酢酸、酪酸、ベヘン酸、セロチン酸、デカン酸、アラキジン酸、ヘンエイコサン酸、ヘプタデカン酸、ヘプタン酸、ヘキサン酸、ヘプタコサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、メリシン酸、オクタコサン酸、ノナデカン酸、ノナコサン酸、ｎ－オクタン酸、パルミチン酸、ペンタデカン酸、プロピオン酸、ペンタコサン酸、ノナン酸、ステアリン酸、リグノセリン酸、トリコサン酸、トリデカン酸、ウンデカン酸、吉草酸等が挙げられる。

　アミノ基含有化合物としては、例えば、炭素原子数１～３０の直鎖状または分岐状の脂肪族アミンが挙げられる。
　かかるアミノ基含有化合物の具体例としては、例えば、１－アミノヘプタデカン、１－アミノノナデカン、ヘプタデカン－９－アミン、ステアリルアミン、オレイルアミン、２－ｎ－オクチル－１－ドデシルアミン、アリルアミン、アミルアミン、２－エトキシエチルアミン、３－エトキシプロピルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、３－メトキシプロピルアミン、２－メトキシエチルアミン、２－メチルブチルアミン、ネオペンチルアミン、プロピルアミン、メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、１－アミノデカン、ノニルアミン、１－アミノウンデカン、ドデシルアミン、１－アミノペンタデカン、１－アミノトリデカン、ヘキサデシルアミン、テトラデシルアミン等が挙げられる。

　シラン化合物Ａは、半導体ナノ結晶粒子の表面に結合可能な結合性基及び加水分解性シリル基を有する化合物であり、工程Ｓ１において１種又は２種以上を用いることができる。

　結合性基としては、例えば、カルボキシル基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基、ボロン酸基等が挙げられる。結合性基は、カルボキシル基、メルカプト基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む。これらの結合性基は、半導体ナノ結晶粒子に含まれるカチオンに対する親和性が高い。

　加水分解性シリル基は、シロキサン結合を容易に形成することができる。加水分解性シリル基としては、シラノール基、炭素原子数が１～６のアルコキシシリル基等が挙げられる。

　シラン化合物Ａは、例えば、下記式（Ａ１）で表される化合物である。

　式中、Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ２及びＲ^Ａ３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数が１～６のアルキル基を表し、Ｒ^Ａ４は、上記結合性基を有する１価の基を表す。

　ここでＲ^Ａ１、Ｒ^Ａ２及びＲ^Ａ３は、加水分解速度の観点から、それぞれ独立に、炭素原子数が１～３のアルキル基が好ましく、さらに炭素原子数が１～２のアルキル基がより好ましい。Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ２及びＲ^Ａ３は、均一な表面層形成のため同等の加水分解速度が好ましいという観点から、同一の炭素数であることが好ましい。Ｒ^Ａ４における前記結合性基としては、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基等が挙げられる。

　結合性基としてカルボキシル基を含むシラン化合物Ａの具体例としては、例えば、３－（トリメトキシシリル）プロピオン酸、３－（トリエトキシシリル）プロピオン酸、、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］－Ｎ’－カルボキシメチルエチレンジアミン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］フタルアミド、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－三酢酸、２－（２－オキソ－２－（（３－（トリエトキシシリル）プロピル）アミノ）エチル）－５－（エトキシシリル）吉草酸等が挙げられる。

　結合性基としてアミノ基を含むシラン化合物Ａの具体例としては、例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－１１－アミノウンデシルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルシラントリオール、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ビニルベンジルアミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ジメチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－（Ｎ－フェニル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－［２－［３－（トリメトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリエトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリイソプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン等が挙げられる。

　結合性基としてメルカプト基を含むシラン化合物Ａの具体例としては、例えば、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、２－メルカプトエチルトリメトキシシラン、２－メルカプトエチルトリエトキシシラン、等が挙げられる。

＜＜工程Ｓ２＞＞
　工程Ｓ２では、例えば、前記前駆体粒子を含む固形物に、塩基性基を有する第一の構造単位及び塩基性基を有さず親溶媒性の第二の構造単位を備えたポリマーＢがトルエン等の溶媒に溶解したポリマー溶液を添加する。これにより、前駆体粒子の表面にポリマーＢ中の塩基性基を有する第一の構造単位が当該前駆体粒子の側に向けて集まった状態が形成される。

　具体的には、例えば、まず、ポリマーＢを濃度０．１～１００ｍｇ／ｍＬとなるように溶媒に添加し、２０～８０℃の温度で溶解させる。続いて、上記前駆体粒子を含む固形物１質量部に対して、ポリマー溶液を例えば１０～１０００質量部添加し、１～６０分間撹拌する。得られた溶液を、例えば３０００～１００００回転／分、１～３０分間の条件で遠心分離した後、その上澄み液（例えば、溶液全量に対して７０～１００体積％分の上澄み液）を回収することにより、前駆体粒子及びポリマーを含む分散液を得ることができる。

　工程Ｓ２で用いられるポリマーＢは、両親媒性の化合物であり、塩基性基を有する第一の構造単位と、分散媒への親和性に優れた親溶媒性であって、塩基性基を有さない第二の構造単位とを備えたポリマーである。ここでいう分散媒とは、発光性粒子分散体に含まれる分散媒である。分散媒は、工程Ｓ２で用いる溶媒であってもよく、他の溶媒や、光重合性化合物等の樹脂であってもよい。

　前記ポリマーＢは、塩基性基を有する第一の構造単位と、親溶媒性の第二の構造単位とを有する。

　前記塩基性基を有する第一の構造単位としては、半導体ナノ結晶粒子への吸着性の観点から下記式（Ｂ１－１）、（Ｂ１－２）で表される構造単位を有することがより好ましい。

　式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^Ｂ１は、塩基性を有する１価の基、例えば、一級アミノ基、二級アミノ基、三級アミノ基、四級アンモニウム基、イミノ基、ピリジル基、ピリミジン基、ピペラジニル基、ピペリジル基、イミダゾリル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基を含む塩基性基を表し、
Ｘ^１及びＸ^２は、各々独立して、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、窒素原子によって置換されてもよい炭素原子数が１～８のアルキル鎖、単結合を表す。

　前記式（Ｂ１－１）で表される第一の構造単位を与える化合物としては、具体的には、２－ビニルピリジン、４－ビニルピリジン、４－アミノスチレン、４－ジメチルアミノスチレン、１－ビニルイミダゾール、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノブチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ジエチルアミノプロピルアクリルアミド、アリルアミン等が挙げられる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、メタクリレート及びアクリレートの一方又は両方を意味する。

　前記式（Ｂ１－２）で表される第一の構造単位を与える化合物としては、エチレンイミン、プロピレンイミン等が挙げられる。

　前記親溶媒性の第二の構造単位としては、半導体ナノ結晶粒子への分散性の観点から下記式（Ｂ２－１）、（Ｂ２－２）で表される構造単位を有することがより好ましい。

　式中、Ｒ^４及びＲ^５は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^Ｂ３は、直鎖状或いは分岐状の炭素数２～１５のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数４～２０のシクロアルキル基、末端がヒドロキシ基又はアルコキシ基である炭素数１０～５０のポリアルキレンオキサイド基、置換基を有してもよい芳香族基、または一般式（Ｂ３）で表される基を表し、
Ｘ^３及びＸ^４は、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、炭素原子数が１～８のアルキル鎖、単結合を表し、
Ｒ^Ｂ４は、一般式（Ｂ３）で表される基を表し、

Ｒ^６は、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐状の飽和又は不飽和の２価の炭化水素基を表し、aは０または１を表し、ｂは１～１００を表す。

　一般式（Ｂ３）におけるポリエステル骨格は、ヒドロキシカルボン酸、ラクトンの自己縮合、もしくはヒドロキシカルボン酸とラクトンの混合縮合により得られる。ヒドロキシカルボン酸としては、１２－ヒドロキシステアリン酸などが挙げられ、ラクトンとしては、ε－カプロラクトン、β－プロピオラクトン、γ－ブチロラクトン、δ－バレロラクトンなどが挙げられるが、１２－ヒドロキシステアリン酸、バレロラクトンあるいはカプロラクトンから誘導される構造単位を少なくとも一つ有することが好ましい。

　前記式（Ｂ２－１）で表される第二の構造単位を与える化合物としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコサニル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルエチル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の脂環式構造を有する（メタ）アクリレート；メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール、ステアロキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、アリロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、アリロキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のアルキル基末端ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合物；スチレン、α－メチルスチレン、４－ｔｅｒｔ－ブチルスチレン、２，５－ジメチルスチレン、ｐ－イソブチルスチレン等のスチレン誘導体モノマー、アリルアミンとポリエステルの縮合物等が挙げられる。

　前記式（Ｂ２－２）で表される第二の構造単位を与える化合物としては、エチレンイミンとポリエステルの縮合物、プロピレンイミンとポリエステルの縮合物等が挙げられる。

　前記ポリマーＢにおいては、式（Ｂ１）及び式（Ｂ２）で表される構造単位を各々１種で用いることもでき、各々２種以上併用することもできる。さらに、前記ポリマーＢは、式（Ｂ１）で表される第一の構造単位を第一のポリマーブロックとして有し、式（Ｂ２）で表される第二の構造単位を第二のポリマーブロックとして有するブロックコポリマーであってもよく、式（Ｂ１）で表される第一の構造単位と式（Ｂ２）で表される第二の構造単位をランダムに有するランダムポリマーであってもよく、式（Ｂ１）で表される第一の構造単位と式（Ｂ２）で表される第二の構造単位を有するグラフトポリマーであってもよい。工程Ｓ１で得られた前記前駆体粒子を含む固形物の表面への吸着性の観点から、前記ポリマーＢは、ブロックコポリマー、グラフトポリマーであることが好ましい。

　ポリマーＢにおける第一の構造単位の含有量は、ポリマーＢを構成する全構造単位を基準として、例えば、３モル％以上、４モル％以上、又は５モル％以上であることが好ましく、５０モル％以下、３０モル％以下、又は２０モル％以下であることが好ましい。

　ポリマーＢにおける第二の構造単位の含有量は、ポリマーＢを構成する全構造単位を基準として、例えば、７０モル％以上、７５モル％以上、又は８０モル％以上であることが好ましく、９７モル％以下、９６モル％以下、又は９５モル％以下であることが好ましい。

　ポリマーＢは、第一の構造単位及び第二の構造単位に加えて、他の構造単位を含むものであってもよい。その場合、ポリマーＢにおける第一の構造単位及び第二の構造単位の合計の含有量は、ポリマーＢを構成する全構造単位を基準として、例えば、７０モル％以上、８０モル％以上、又は９０モル％以上であることが好ましい。

　例えば、ポリマーＢは、第一の構造単位及び第二の構造単位に加えて、酸性基を有する構造単位を備えたものであってもよい。

　酸性基としては、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）、スルホ基（－ＳＯ_３Ｈ）、硫酸基（－ＯＳＯ_３Ｈ）、ホスホン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）_３）、リン酸基（－ＯＰＯ（ＯＨ）_３）、ホスフィン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）－）、メルカプト基（－ＳＨ）、が挙げられる。
　非イオン性官能基としては、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、スルフィニル基（－ＳＯ－）、スルホニル基（－ＳＯ_２－）、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、炭酸エステル基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、チオアミド基、チオウレイド基、スルファモイル基、シアノ基、アルケニル基、アルキニル基、ホスフィンオキシド基、ホスフィンスルフィド基が挙げられる。

　酸性基を有する構造単位を与える化合物としては、カルボキシ基を有する（メタ）アクリレート、リン酸基を有する（メタ）アクリレート、スルホン基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。前記カルボキシ基を有する（メタ）アクリレートとしては、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルマレアート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルフタレート等のヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレートに無水マレイン酸、無水コハク酸、無水フタル酸等の酸無水物を反応させたモノマー、（メタ）アクリル酸等が挙げられる。前記スルホン酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、スルホン酸エチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記リン酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸２－（ホスホノオキシ）エチル等が挙げられる。

　ポリマーＢにおける重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定された値であり、標準ポリスチレン換算値で表す。発光性粒子の分散性の観点から、３,０００以上２００,０００以下の範囲であることが好ましく、４,０００以上１００，０００以下の範囲であることがより好ましく、５，０００以上８０，０００以下の範囲であることがさらにより好ましい。測定条件は、本明細書の実施例と同一の条件とする。

＜＜工程Ｓ３＞＞
　工程Ｓ３では、例えば、工程Ｓ２で得られた、前記前駆体粒子、前記ポリマーＢ及び前記溶媒を含むポリマー溶液と、シラン化合物Ｃを含む溶液とを混合する。シラン化合物Ｃの加水分解性シリル基が縮合してシロキサン結合を形成することにより、前駆体粒子の表面にポリマーＢ及びシラン化合物Ｃの重合体を含む層が形成される。この結果、前記半導体ナノ結晶粒子の表面に、Ｓｉを含有する表面層を備えた発光性粒子が形成される。前記表面層は、シラン化合物Ａ由来のポリシロキサン、ポリマーＢ及びシラン化合物Ｃ由来のポリシロキサンを含む。その後、得られた反応液を遠心分離し、上澄みを回収することにより、前記発光性粒子が前記溶媒に分散した発光性粒子分散体を得ることができる。

　具体的には、例えば、工程Ｓ２で得られたポリマー溶液中の前駆体粒子１質量部に対して、シラン化合物Ｃが例えば０．１～５０質量部となるように、ポリマー溶液にシラン化合物Ｃを含む溶液を添加し、例えば５～３００分間撹拌する。

　ポリマー溶液とシラン化合物Ｃを含む溶液との混合後に、加水分解制御の観点から、水（例えばイオン交換水）を更に添加してもよい。水の添加量は、例えば、シラン化合物Ｃ　１００質量部に対して１～１００質量部であってよい。水を添加後、例えば５～３００分間撹拌する。

　続いて、得られた反応液を、例えば３０００～１５０００回転／分、１～３０分間の条件で遠心分離した後、その上澄み液（例えば、反応液全量に対して７０～１００体積％分の上澄み液）を回収することにより、発光性粒子が溶媒に分散した発光性粒子分散体を得ることができる。

　工程Ｓ３で用いられるシラン化合物Ｃは、例えば、下記式（Ｃ１）で表される化合物であることが好ましい。

　式中、Ｒ^Ｃ１及びＲ^Ｃ２は、それぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ^Ｃ３及びＲ^Ｃ４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、ｎは０又は１を表し、ｍは１以上の整数を表す。ｍは、１０以下の整数であることが好ましい。

　式（Ｃ１）で表される化合物は、具体的には、例えば、テトラブトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ｎ－ブチルトリエトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ－オクチルトリメトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルルトリメトキシシラン、ｎ－ドデシルトリメトキシシラン、ｎ－ドデシルトリエトキシシラン、ｎ－ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ－オクタデシルトリメトキシシラン、トリメトキシ(３、３、３－トリフルオロプロピル)シラン、トリメトキシ(ペンタフルオロフェニル)シラン、トリメトキシ(１１－ペンタフルオロフェノキシウンデシル)シラン、トリメトキシ(１Ｈ、１Ｈ、２Ｈ、２Ｈ-ノナフルオロヘキシル)シラン、テトラメトキシシランの部分加水分解オリゴマー（製品名：メチルシリケート５１、メチルシリケート５３Ａ（以上、コルコート株式会社製））、テトラエトキシシランの部分加水分解オリゴマー（製品名：エチルシリケート４０、エチルシリケート４８（以上、コルコート株式会社製）、テトラメトキシシランとテトラエトキシシラン混合物の部分加水分解オリゴマー（製品名：ＥＭＳ－４８５（コルコート株式会社製））等が挙げられる。

　シラン化合物Ｃとして、上述の式（Ｃ１）で表される化合物に加えて、例えば、下記式（Ｃ２）で表される化合物及び（Ｃ３）で表される化合物を併用することも可能である。

　式中、Ｒ^Ｃ２１、Ｒ^Ｃ２２、Ｒ^Ｃ３１は、それぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ^Ｃ２３、Ｒ^Ｃ２４、Ｒ^Ｃ３２、Ｒ^Ｃ３３、及びＲ^Ｃ３４は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基を表し、前記アルキル基中の炭素原子は酸素原子あるいは窒素原子に置換されていてもよく、ｍ２は１以上１０以下の整数を表す。

　式（Ｃ２）で表される化合物及び式（Ｃ３）で表される化合物としては、具体的には、例えば、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシランが挙げられる。式（Ｃ１）で表される化合物は、１種を単独で用いることができ、あるいは、２種以上を組み合わせて用いることもできる。式（Ｃ２）で表される化合物及び（Ｃ３）で表される化合物は、一般式（Ｃ１）で表される化合物と１種あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

　本実施形態の製造方法によって得られた発光性粒子分散体において、溶媒に分散する発光性粒子が備えるＳｉを含む表面層は、シラン化合物Ａに起因するポリシロキサンと、ポリマーＢと、シラン化合物Ｃに起因するポリシロキサンとを含む。シラン化合物Ａに起因するポリシロキサンは、結合性基によって半導体ナノ結晶粒子に結合（配位）していることから、半導体ナノ粒子側に偏在すると考えられる。Ａに起因するポリシロキサンの表面側には、ポリマーＢが、第一の構造単位中の塩基性基を半導体ナノ結晶粒子側に位置させるように集合している。ポリマーＢは、第一の構造単位中の塩基性基が、半導体ナノ結晶粒子に結合（配位）していてもよく、シラン化合物Ａに起因するポリシロキサンに結合（配位）していてもよい。シラン化合物Ｃに起因するポリシロキサンは、表面層においてシラン化合物Ａに起因するポリシロキサンよりも外方に偏在すると考えられる。シラン化合物Ｃに起因するポリシロキサンは、ポリマーＢの第一の構造単位中の塩基性基に配位（結合）していてもよい。シラン化合物Ｃに起因するポリシロキサンは、ポリマーＢの塩基性基を有する第一の構造単位をテンプレートとして当該粒子の表面に形成されると考えられる。前述によれば、発光性粒子表面がＳｉを有する層により強固に被覆されるために、発光性粒子分散体は、酸素、熱、水等の極性溶媒に対する優れた安定性を確保することができる。さらには、ポリマーＢの第一の構造単位中の塩基性基が半導体ナノ結晶粒子側に位置することによって、親溶媒性の第二の構造単位が発光性粒子の表面外に配置するために、発光性粒子分散体中の発光性粒子に対して、当該発光性粒子分散体中の分散媒に対する高い分散性を付与することができる。以上により、本実施形態の製造方法によれば、分散性及び安定性に優れた発光性粒子分散体を得ることができる。

　表面層の厚さは、例えば、１ｎｍ以上、２ｎｍ以上、又は３ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以下、１００ｎｍ以下、又は５０ｎｍ以下であることが好ましい。かかる表面層の厚さを備える発光性粒子は、優れた安定性と、分散媒への優れた分散性を得ることができる。

　発光性粒子の平均粒子径（体積平均径）は、例えば、１０ｎｍ以上、１５ｎｍ以上、又は２０ｎｍ以上であることが好ましく、４００ｎｍ以下、３００ｎｍ以下、又は２００ｎｍ以下であることが好ましい。発光性粒子の平均粒子径は、動的光散乱法により測定される体積平均径を意味する。

　＜発光性粒子分散体＞
　本発明の発光性粒子は、分散媒に分散して発光性粒子分散体として用いることが好ましい。分散媒として溶媒又は光重合性化合物を用いることが好ましい。発光性粒子分散体は、分散媒として少なくとも光重合性化合物を含有し、さらに光重合性化合物を含有ことが好ましい。このような発光性粒子分散体は、特に、光変換フィルム用コーティング組成物あるいは紫外線硬化型インクジェット用のインク組成物として好適である。このとき、溶媒を含んでもよく、含まなくてもよい。以下、発光性粒子と、光重合性化合物と、光重合性化合物を含む発光性分散体（以下、「インク組成物」と記載する。）について説明する。

　発光性粒子の詳細は、上述したとおりである。インク組成物中の発光性粒子の含有量は、好ましくは、１０質量％以上、１５質量％以上、又は２０質量％以上であり、好ましくは、５０質量％以下、４５質量％以下、又は４０質量％以下である。発光性粒子の含有量を前記範囲に設定することにより、インク組成物をインクジェット印刷法により吐出する場合には、その吐出安定性をより向上させることができる。また、発光性粒子同士が凝集し難くなり、得られる発光層（光変換層）の外部量子効率を高めることもできる。

　＜＜光重合性化合物＞＞
　光重合性化合物は、好ましくは光の照射によって重合する光ラジカル重合性化合物であり、光重合性のモノマーまたはオリゴマーであってよい。これらは、光重合開始剤と共に用いられる。光重合性化合物は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

　光ラジカル重合性化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。（メタ）アクリレート化合物は、（メタ）アクリロイル基を１つ有する単官能（メタ）アクリレートであってよく、（メタ）アクリロイル基を複数有する多官能（メタ）アクリレートであってもよい。インク組成物を調製した際の流動性に優れる観点、吐出安定性により優れる観点および発光性粒子を含む塗膜製造時における硬化収縮に起因する平滑性の低下を抑制し得る観点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを組み合わせて用いることが好ましい。

　単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルベンジル（メタ）アクリレート、こはく酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］フタルイミド、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］テトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。

　多官能（メタ）アクリレートは、２官能（メタ）アクリレート、３官能（メタ）アクリレート、４官能（メタ）アクリレート、５官能（メタ）アクリレート、６官能（メタ）アクリレート等であってよく、例えば、ジオール化合物の２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、トリオール化合物の２つまたは３つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジまたはトリ（メタ）アクリレート等であってよい。

　２官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、１，３－ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、３－メチル－１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エステルジアクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのネオペンチルグリコールに４モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのビスフェノールＡに２モルのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのトリメチロールプロパンに３モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるトリオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのビスフェノールＡに４モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　３官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、１モルのトリメチロールプロパンに３モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるトリオールの３つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　４官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　５官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　６官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　多官能（メタ）アクリレートは、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトールの複数の水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたポリ（メタ）アクリレートであってもよい。
　（メタ）アクリレート化合物は、リン酸基を有する、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキルリン酸（メタ）アクリレート等であってもよい。

　光重合性化合物の分子量は、例えば、５０以上であり、１００以上又は１５０以上であってもよい。光重合性化合物の分子量は、例えば、５００以下であり、４００以下又は３００以下であってもよい。該組成物をインクジェット方式の印刷方式を用いて塗布する場合、粘度と、吐出後のインクの耐揮発性を両立しやすい観点から、好ましくは５０～５００であり、より好ましくは１００～４００である。該組成物をロールコーター、グラビアコーター、フレキソコーター、ダイコーター等の印刷方式を用いてフィルム等の基材に塗布する場合には、粘度とレベリング性を両立しやすい観点から、好ましくは１００～５００であり、より好ましくは１５０～４００である。

　インク組成物において、硬化可能成分を、光重合性化合物のみまたはそれを主成分として構成する場合には、上記したような光重合性化合物としては、重合性官能基を１分子中に２以上有する２官能以上の多官能の光重合性化合物を必須成分として用いることが、硬化物の耐久性（強度、耐熱性等）をより高めることができることからより好ましい。
　インク組成物中に含まれる光重合性化合物の量は、４０～８０質量％であることが好ましく、４５～７５質量％であることがより好ましく、５０～７０質量％であることがさらに好ましい。インク組成物中に含まれる光重合性化合物の量を前記範囲に設定することにより、得られる発光層（光変換層）中での発光性粒子の分散状態が良好になり、よって外部量子効率をより高めることもできる。

　＜＜光重合開始剤＞＞
　光重合開始剤は、アルキルフェノン系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物およびオキシムエステル系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　アルキルフェノン系光重合開始剤としては、例えば、式（ｂ－１）で表される化合物が挙げられる。

　式中、Ｒ１ａは、下記式（Ｒ^１a－１）～式（Ｒ^１a－６）から選ばれる基を表し、Ｒ^２a、Ｒ^２ｂおよびＲ^２ｃは、それぞれ独立して、下記式（Ｒ^２－１）～式（Ｒ^２－７）から選ばれる基を表す。

　上記式（ｂ－１）で表される化合物の具体例としては、下記式（ｂ－１－１）～式（ｂ－１－６）で表される化合物が好ましく、下記式（ｂ－１－１）、式（ｂ－１－５）または式（ｂ－１－６）で表される化合物がより好ましい。

　アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤としては、例えば、式（ｂ－２）で表される化合物が挙げられる。

　式中、Ｒ^２４はアルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ^２５およびＲ^２６は、それぞれ独立して、アルキル基、アリール基、複素環基またはアルカノイル基を表すが、これらの基は、アルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン基、アリール基、アルコキシ基、アリールチオ基で置換されてもよい。

　上記式（ｂ－２）で表される化合物の具体例としては、下記式（ｂ－２－１）～式（ｂ－２－５）で表される化合物が好ましく、下記式（ｂ－２－１）または式（ｂ－２－５）で表される化合物がより好ましい。

　オキシムエステル系光重合開始剤としては、例えば、下記式（ｂ－３－１）または式（ｂ－３－２）で表される化合物が挙げられる。

　式中、Ｒ^２７～Ｒ^３１は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～１２の環状、直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、またはフェニル基を表し、各アルキル基およびフェニル基は、ハロゲン原子、炭素原子数１～６のアルコキシル基およびフェニル基からなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよく、Ｘ^１は、酸素原子または窒素原子を表し、Ｘ^２は、酸素原子またはＮＲを表し、Ｒは炭素原子数１～６のアルキル基を表す。

　上記式（ｂ－３－１）および式（ｂ－３－２）で表される化合物の具体例としては、下記式（ｂ－３－１－１）～式（ｂ－３－１－２）および下記式（ｂ－３－２－１）～（ｂ－３－２－２）で表される化合物が好ましく、下記式（ｂ－３－１－１）、式（ｂ－３－２－１）または式（ｂ－３－２－２）で表される化合物がより好ましい。

　光重合開始剤の含有量は、インク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．０５～１０質量％であることが好ましく、０．１～８質量％であることがより好ましく、１～６質量％であることがさらに好ましい。なお、光重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、２種以上を混合して使用することもできる。かかる量で光重合開始剤を含むインク組成物は、光硬化時の感光度を十分に維持するとともに、塗膜の乾燥時に光重合開始剤の結晶が析出し難く、よって塗膜物性の劣化を抑制することができる。

　インク組成物中に光重合開始剤を溶解する際には、予め光重合性化合物中に溶解してから使用することが好ましい。
　光重合性化合物に溶解させるには、熱による反応が開始されないように、光重合性化合物を攪拌しながら光重合開始剤を添加することにより均一溶解させることが好ましい。
　光重合開始剤の溶解温度は、用いる光重合開始剤の光重合性化合物に対する溶解性、および光重合性化合物の熱による重合性を考慮して適宜調節すればよいが、光重合性化合物の重合を開始させない観点から１０～５０℃であることが好ましく、１０～４０℃であることがより好ましく、１０～３０℃であることがさらに好ましい。

　インク組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、発光性粒子、光重合性化合物、光重合開始剤以外の他の成分を含有してもよい。かかる他の成分としては、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、レベリング剤、連鎖移動剤、分散助剤、熱可塑性樹脂、増感剤、光散乱性粒子等が挙げられる。

　＜＜重合禁止剤＞＞
　重合禁止剤としては、例えば、ｐ－メトキシフェノール、クレゾール、ｔ－ブチルカテコール、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシトルエン、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４－メトキシ－１－ナフトール、４，４’－ジアルコキシ－２，２’－ビ－１－ナフトールのようなフェノール系化合物；ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロキノン、ｐ－ベンゾキノン、メチル－ｐ－ベンゾキノン、ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－ベンゾキノン、２，５－ジフェニルベンゾキノン、２－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノンのようなキノン系化合物；ｐ－フェニレンジアミン、４－アミノジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－ｉ－プロピル－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－（１．３－ジメチルブチル）－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ジ－２－ナフチル－ｐ－フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ－フェニル－β－ナフチルアミン、４，４’－ジクミル－ジフェニルアミン、４，４’－ジオクチル－ジフェニルアミンのようなアミン系化合物；フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネートのようなチオエーテル系化合物；２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカルのようなＮ－オキシル化合物；Ｎ－ニトロソジフェニルアミン、Ｎ－ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ－ニトロソジナフチルアミン、ｐ－ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、ｐ－ニトロソジフェニルアミン、α－ニトロソ－β－ナフトール、Ｎ、Ｎ－ジメチル－ｐ－ニトロソアニリン、ｐ－ニトロソジフェニルアミン、ｐ－ニトロンジメチルアミン、ｐ－ニトロン－Ｎ，Ｎ－ジエチルアミン、Ｎ－ニトロソエタノールアミン、Ｎ－ニトロソ－ジ－ｎ－ブチルアミン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－ｎ－ブチル－４－ブタノールアミン、Ｎ－ニトロソ－ジイソプロパノールアミン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－エチル－４－ブタノールアミン、５－ニトロソ－８－ヒドロキシキノリン、Ｎ－ニトロソモルホリン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩（富士フィルム和光純薬株式会社製、「Ｑ－１３００」）、ニトロソベンゼン、２，４，６－トリ－ｔｅｒｔ－ブチルニトロンベンゼン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－メチル－ｐ－トルエンスルホンアミド、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－エチルウレタン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－ｎ－プロピルウレタン、１－ニトロソ－２－ナフトール、２－ニトロソ－１－ナフトール、１－ニトロソ－２－ナフトール－３，６－スルホン酸ナトリウム、２－ニトロソ－１－ナフトール－４－スルホン酸ナトリウム、２－ニトロソ－５－メチルアミノフェノール塩酸塩、２－ニトロソ－５－メチルアミノフェノール塩酸塩、Ｑ－１３０１（富士フィルム和光純薬株式会社製）のようなニトロソ系化合物等が挙げられる。
　重合禁止剤の添加量は、インク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．０１～１．０質量％であることが好ましく、０．０２～０．５質量％であることがより好ましい。

　＜＜酸化防止剤＞＞
　酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート（「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」）、チオジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート（「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」）、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート（「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」）、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、４，６－ビス（オクチルチオメチル）－ｏ－クレゾール（「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」）、「ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」（以上、ＢＡＳＦ株式会社製であり、ＩＲＧＡＮＯＸは登録商標である。）；「アデカスタブＡＯ－２０」、「アデカスタブＡＯ－３０」、「アデカスタブＡＯ－４０」、「アデカスタブＡＯ－５０」、「アデカスタブＡＯ－６０」、「アデカスタブＡＯ－８０」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製であり、アデカスタブは登録商標である。）；「ＪＰ－３６０」、「ＪＰ－３０８Ｅ」、「ＪＰＥ－１０」（以上、城北化学工業株式会社製）；「スミライザーＢＨＴ」、「スミライザーＢＢＭ－Ｓ」、「スミライザーＧＡ－８０」（以上、住友化学株式会社製であり、スミライザーは登録商標である。）等が挙げられる。
　酸化防止剤の添加量は、インク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．０１～２．０質量％であることが好ましく、０．０２～１．０質量％であることがより好ましい。

　＜＜分散剤＞＞
　分散剤は、発光性粒子のインク組成物中での分散安定性を向上させ得る化合物であれば、特に限定されない。分散剤は、低分子分散剤と高分子分散剤とに分類される。
　本明細書中において、「低分子」とは、重量平均分子量（Ｍｗ）が５，０００以下の分子を意味し、「高分子」とは、重量平均分子量（Ｍｗ）が５，０００超の分子を意味する。なお、本明細書中において、「重量平均分子量（Ｍｗ）」は、ポリスチレンを標準物質としたゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて測定された値を採用することができる。
　低分子分散剤としては、例えば、オレイン酸；リン酸トリエチル、ＴＯＰ（トリオクチルフォスフィン）、ＴＯＰＯ（トリオクチルフォスフィンオキサイド）、ヘキシルホスホン酸（ＨＰＡ）、テトラデシルホスホン酸（ＴＤＰＡ）、オクチルホスフィン酸（ＯＰＡ）のようなリン原子含有化合物；オレイルアミン、オクチルアミン、トリオクチルアミン、ヘキサデシルアミンのような窒素原子含有化合物；１－デカンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオール、アミルスルフィドのような硫黄原子含有化合物等が挙げられる。

　一方、高分子分散剤としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリウレア系樹脂、アミノ系樹脂、ポリアミン系樹脂（ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン等）、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ウッドロジン、ガムロジン、トール油ロジンのような天然ロジン、重合ロジン、不均化ロジン、水添ロジン、酸化ロジン、マレイン化ロジンのような変性ロジン、ロジンアミン、ライムロジン、ロジンアルキレンオキシド付加物、ロジンアルキド付加物、ロジン変性フェノールのようなロジン誘導体等が挙げられる。
　なお、高分子分散剤の市販品としては、例えば、ビックケミー社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）シリーズ、エボニック社製のＴＥＧＯ（登録商標）　Ｄｉｓｐｅｒｓシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥＦＫＡ（登録商標）シリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥ（登録商標）シリーズ、味の素ファインテクノ社製のアジスパー（登録商標）シリーズ、楠本化成製のＤＩＳＰＡＲＬＯＮ（登録商標）シリーズ、共栄社化学社製のフローレンシリーズ等を使用することができる。
　分散剤の配合量は、１００質量部の発光性粒子に対して、０．０５～１０質量部であることが好ましく、０．１～５質量部であることがより好ましい。

　＜＜レベリング剤＞＞
　レベリング剤としては、特に限定はないが、発光性粒子の薄膜を形成する場合に、膜厚ムラを低減させ得る化合物が好ましい。
　かかるレベリング剤としては、例えば、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類等が挙げられる。

　レベリング剤の具体例としては、例えば、「メガファックＦ－１１４」、「メガファックＦ－２５１」、「メガファックＦ－２８１」、「メガファックＦ－４１０」、「メガファックＦ－４３０」、「メガファックＦ－４４４」、「メガファックＦ－４７２ＳＦ」、「メガファックＦ－４７７」、「メガファックＦ－５１０」、「メガファックＦ－５１１」、「メガファックＦ－５５２」、「メガファックＦ－５５３」、「メガファックＦ－５５４」、「メガファックＦ－５５５」、「メガファックＦ－５５６」、「メガファックＦ－５５７」、「メガファックＦ－５５８」、「メガファックＦ－５５９」、「メガファックＦ－５６０」、「メガファックＦ－５６１」、「メガファックＦ－５６２」、「メガファックＦ－５６３」、「メガファックＦ－５６５」、「メガファックＦ－５６７」、「メガファックＦ－５６８」、「メガファックＦ－５６９」、「メガファックＦ－５７０」、「メガファックＦ－５７１」、「メガファックＲ－４０」、「メガファックＲ－４１」、「メガファックＲ－４３」、「メガファックＲ－９４」、「メガファックＲＳ－７２－Ｋ」、「メガファックＲＳ－７５」、「メガファックＲＳ－７６－Ｅ」、「メガファックＲＳ－７６－ＮＳ」、「メガファックＲＳ－９０」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ－１３６７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ１４３７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ１５３７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ－２０６６」（以上、ＤＩＣ株式会社製であり、メガファックは登録商標である。）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェント１００Ａ-Ｋ」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント３２０」、「フタージェント４００ＳＷ」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２１２Ｍ」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「ＦＴＸ－２１８」、「フタージェント２０９Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」、「フタージェント２０８Ｇ」、「フタージェント２４０Ｇ」、「フタージェント２１２Ｐ」、「フタージェント２２０Ｐ」、「フタージェント２２８Ｐ」、「ＤＦＸ－１８」、「フタージェント６０１ＡＤ」、「フタージェント６０２Ａ」、「フタージェント６５０Ａ」、「フタージェント７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＭ」、「フタージェント７３０ＦＬ」、「フタージェント７１０ＦＳ」、「フタージェント７１０ＦＭ」、「フタージェント７１０ＦＬ」、「フタージェント７５０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＳ」、「フタージェント７３０ＬＭ」、（以上、株式会社ネオス製であり、フタージェントは登録商標である。）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＢＹＫ－３００」、「ＢＹＫ－３０２」、「ＢＹＫ－３０６」、「ＢＹＫ－３０７」、「ＢＹＫ－３１０」、「ＢＹＫ－３１５」、「ＢＹＫ－３２０」、「ＢＹＫ－３２２」、「ＢＹＫ－３２３」、「ＢＹＫ－３２５」、「ＢＹＫ－３３０」、「ＢＹＫ－３３１」、「ＢＹＫ－３３３」、「ＢＹＫ－３３７」、「ＢＹＫ－３４０」、「ＢＹＫ－３４４」、「ＢＹＫ－３７０」、「ＢＹＫ－３７５」、「ＢＹＫ－３７７」、「ＢＹＫ－３５０」、「ＢＹＫ－３５２」、「ＢＹＫ－３５４」、「ＢＹＫ－３５５」、「ＢＹＫ－３５６」、「ＢＹＫ－３５８Ｎ」、「ＢＹＫ－３６１Ｎ」、「ＢＹＫ－３５７」、「ＢＹＫ－３９０」、「ＢＹＫ－３９２」、「ＢＹＫ－ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ－ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ－ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ－Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００」（以上、ＢＹＫ株式会社製）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２１００」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２０１１」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２２００Ｎ」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２２５０」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２３００」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２５００」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２６００」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２６５０」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２７００」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ３００」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ３７０」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ４２５」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ　ＡＴＦ２」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ　ＺＦＳ４６０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ１００」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ１１０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ１３０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４１０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４１１」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４１５」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４３２」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４４０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４５０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４８２」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ　Ａ１１５」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ　Ｂ１４８４」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ　ＺＧ４００」、「ＴＥＧＯ　Ｔｗｉｎ４０００」、「ＴＥＧＯ　Ｔｗｉｎ４１００」、「ＴＥＧＯ　Ｔｗｉｎ４２００」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２４０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２５０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２６０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２６５」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２７０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２８０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ５００」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ５０５」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ５１０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ５２０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ　ＫＬ２４５」（以上、エボニック・インダストリーズ株式会社製）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＦＣ－４４３０」、「ＦＣ－４４３２」（以上、スリーエムジャパン株式会社製）、「ユニダインＮＳ」（以上、ダイキン工業株式会社製であり、「ユニダイン」は登録商標である。）；「サーフロンＳ－２４１」、「サーフロンＳ－２４２」、「サーフロンＳ－２４３」、「サーフロンＳ－４２０」、「サーフロンＳ－６１１」、「サーフロンＳ－６５１」、「サーフロンＳ－３８６」（以上、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製であり、サーフロンは登録商標である。）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－８８０ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－８８１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－８８３」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－７７ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－７１０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９２２」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９２７」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９５８」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　Ｐ－４１０ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　Ｐ－４２０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　Ｐ－４２５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＰＤ－７」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９７０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　２３０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１９８０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１９８２」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１９８３」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１０８４」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１９８５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＨＰ－９０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＨＰ－９１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＨＰ－９５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＨＰ－９６」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－７１５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９３０Ｎ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９３１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９３３」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９３４」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１７１１ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１７５１Ｎ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１７６１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＳ－００９」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＳ－００１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＳ－０５０」（以上、楠本化成株式会社製）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＰＦ－１５１Ｎ」、「ＰＦ－６３６」、「ＰＦ－６３２０」、「ＰＦ－６５６」、「ＰＦ－６５２０」、「ＰＦ－６５２－ＮＦ」、「ＰＦ－３３２０」（以上、ＯＭＮＯＶＡ　ＳＯＬＵＴＩＯＮＳ社製）；「ポリフローＮｏ．７」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ」、「ポリフローＮｏ．５０ＥＨＦ」、「ポリフローＮｏ．５４Ｎ」、「ポリフローＮｏ．７５」、「ポリフローＮｏ．７７」、「ポリフローＮｏ．８５」、「ポリフローＮｏ．８５ＨＦ」、「ポリフローＮｏ．９０」、「ポリフローＮｏ．９０Ｄ－５０」、「ポリフローＮｏ．９５」、「ポリフローＮｏ．９９Ｃ」、「ポリフローＫＬ－４００Ｋ」、「ポリフローＫＬ－４００ＨＦ」、「ポリフローＫＬ－４０１」、「ポリフローＫＬ－４０２」、「ポリフローＫＬ－４０３」、「ポリフローＫＬ－４０４」、「ポリフローＫＬ－１００」、「ポリフローＬＥ－６０４」、「ポリフローＫＬ－７００」、「フローレンＡＣ－３００」、「フローレンＡＣ－３０３」、「フローレンＡＣ－３２４」、「フローレンＡＣ－３２６Ｆ」、「フローレンＡＣ－５３０」、「フローレンＡＣ－９０３」、「フローレンＡＣ－９０３ＨＦ」、「フローレンＡＣ－１１６０」、「フローレンＡＣ－１１９０」、「フローレンＡＣ－２０００」、「フローレンＡＣ－２３００Ｃ」、「フローレンＡＯ－８２」、「フローレンＡＯ－９８」、「フローレンＡＯ－１０８」（以上、共栄社化学株式会社製）等が挙げられる。

　また、レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「Ｌ－７００１」、「Ｌ－７００２」、「８０３２ＡＤＤＩＴＩＶＥ」、「５７ＡＤＤＴＩＶＥ」、「Ｌ－７０６４」、「ＦＺ－２１１０」、「ＦＺ－２１０５」、「６７ＡＤＤＴＩＶＥ」、「８６１６ＡＤＤＴＩＶＥ」（以上、東レ・ダウシリコーン株式会社製）等が挙げられる。
　レベリング剤の添加量は、インク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．００５～２質量％であることが好ましく、０．０１～０．５質量％であることがより好ましい。

　＜＜連鎖移動剤＞＞
　連鎖移動剤は、インク組成物の基材との密着性をより向上させること等を目的として使用される成分である。
　連鎖移動剤としては、例えば、芳香族炭化水素類；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、ブロモトリクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素類；オクチルメルカプタン、ｎ－ブチルメルカプタン、ｎ－ペンチルメルカプタン、ｎ－ヘキサデシルメルカプタン、ｎ－テトラデシルメル、ｎ―ドデシルメルカプタン、ｔ－テトラデシルメルカプタン、ｔ－ドデシルメルカプタンのようなメルカプタン化合物；ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４－ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６－トリメルカプト－ｓ－トリアジン、２－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－４，６－ジメルカプト－ｓ－トリアジンのようなチオール化合物；ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドのようなスルフィド化合物；Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジビニルアニリン、ペンタフェニルエタン、α－メチルスチレンダイマー、アクロレイン、アリルアルコール、ターピノーレン、α－テルピネン、γ－テルビネン、ジペンテン等が挙げられるが、２，４－ジフェニル－４－メチル－１－ペンテン、チオール化合物が好ましい。

　連鎖移動剤の具体例としては、例えば、下記一般式（９－１）～（９－１２）で表される化合物が好ましい。

　式中、Ｒ^９５は炭素原子数２～１８のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であってもよく、該アルキル基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子および硫黄原子が相互に直接結合することなく、酸素原子、硫黄原子、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－または－ＣＨ＝ＣＨ－で置換されていてもよい。
　Ｒ^９６は炭素原子数２～１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子および硫黄原子が相互に直接結合することなく、酸素原子、硫黄原子、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－または－ＣＨ＝ＣＨ－で置換されていてもよい。
　連鎖移動剤の添加量は、インク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．１～１０質量％であることが好ましく、１．０～５質量％であることがより好ましい。

　＜＜分散助剤＞＞
　分散助剤としては、例えば、フタルイミドメチル誘導体、フタルイミドスルホン酸誘導体、フタルイミドＮ－（ジアルキルアミノ）メチル誘導体、フタルイミドＮ－（ジアルキルアミノアルキル）スルホン酸アミド誘導体のような有機顔料誘導体等が挙げられる。これらの分散助剤は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　＜＜熱可塑性樹脂＞＞
　熱可塑性樹脂としては、例えば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、スチレンマレイン酸系樹脂、スチレン無水マレイン酸系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂等が挙げられる。
　＜＜増感剤＞＞
　増感剤としては、光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を使用することができる。かかる増感剤としては、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ－ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。

　＜＜光散乱性粒子＞＞
　光散乱性粒子は、例えば、光学的に不活性な無機微粒子であることが好ましい。光散乱性粒子は、発光層（光変換層）に照射された光源部からの光を散乱させることができる。
　光散乱性粒子を構成する材料としては、例えば、タングステン、ジルコニウム、チタン、白金、ビスマス、ロジウム、パラジウム、銀、スズ、プラチナ、金のような単体金属；シリカ、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタン、クレー、カオリン、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、アルミナホワイト、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛のような金属酸化物；炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、次炭酸ビスマス、炭酸カルシウムのような金属炭酸塩；水酸化アルミニウムのような金属水酸化物；ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の複合酸化物、次硝酸ビスマスのような金属塩等が挙げられる。
　中でも、光散乱性粒子を構成する材料としては、漏れ光の低減効果により優れる観点から、酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウムおよびシリカからなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、酸化チタン、硫酸バリウムおよび炭酸カルシウムからなる群より選択される少なくとも一種を含むことがより好ましい。

　インク組成物の粘度は、インクジェット印刷時の吐出安定性の観点から、２～２０ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましく、５～１５ｍＰａ・ｓの範囲であることがより好ましく、７～１２ｍＰａ・ｓの範囲であることがさらに好ましい。この場合、吐出ヘッドのインク吐出孔におけるインク組成物のメニスカス形状が安定するため、インク組成物の吐出制御（例えば、吐出量及び吐出のタイミングの制御）が容易となる。また、インク吐出孔からインク組成物を円滑に吐出させることができる。なお、インク組成物の粘度は、例えば、Ｅ型粘度計によって測定することができる。
　また、インク組成物の表面張力は、インクジェット印刷法に適した表面張力であることが好ましい。表面張力の具体的な値は、２０～４０ｍＮ／ｍの範囲であることが好ましく、２５～３５ｍＮ／ｍの範囲であることがより好ましい。表面張力を前記範囲に設定することにより、インク組成物の液滴の飛行曲がりの発生を抑制することができる。なお、飛行曲がりとは、インク組成物をインク吐出孔から吐出させたとき、インク組成物の着弾位置が目標位置に対して３０μｍ以上ズレることをいう。

　以上のようなインク組成物は、発光性粒子を、光重合性化合物および光重合開始剤等を混合した溶液中に分散させて調製することができる。発光性粒子の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、３本ロールミル、ペイントコンディショナー、アトライター、分散攪拌機、超音波等の分散機を使用することにより行うことができる。

＜インク組成物セット＞
　本発明の他の一実施形態は、インク組成物セットである。一実施形態のインク組成物セットは、上述した実施形態のインク組成物を備える。インク組成物セットは、上述した実施形態のインク組成物（発光性インク組成物）に加えて、発光性粒子を含有しないインク組成物（非発光性インク組成物）を備えていてよい。非発光性インク組成物は、例えば、硬化性のインク組成物である。非発光性インク組成物は、従来公知のインク組成物であってよく、発光性粒子を含まないこと以外は、上述した実施形態のインク組成物（発光性インク組成物）と同様の組成であってもよい。

　非発光性インク組成物は、発光性粒子を含有しないため、非発光性インク組成物により形成される画素部（非発光性インク組成物の硬化物を含む画素部）に光を入射させた場合に画素部から出射する光は、入射光と略同一の波長を有する。したがって、非発光性インク組成物は、光源からの光と同色の画素部を形成するために好適に用いられる。例えば、光源からの光が４２０～４８０ｎｍの範囲の波長を有する光（青色光）である場合、非発光性インク組成物により形成される画素部は青色画素部となり得る。

　非発光性インク組成物は、好ましくは光散乱性粒子を含有する。非発光性インク組成物が光散乱性粒子を含有する場合、当該非発光性インク組成物により形成される画素部によれば、画素部に入射した光を散乱させることができ、これにより、画素部からの出射光の、視野角における光強度差を低減することができる。

　本発明の発光性粒子分散体は、さらに光変換フィルム用途にも好適である。本発明の発光性粒子分散体を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、インクジェット法、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、発光性粒子分散体に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒が挙げられるが、発光性粒子の安定性の観点から、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エステル系溶媒が好ましい。有機溶媒として具体的には、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンが挙げられる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と発光性粒子含有組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。フィルムの膜厚は、用途に応じて適宜調整して良いが、例えば０．１μｍ以上、１０ｍｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上、１ｍｍ以下であることが特に好ましい。

　本発明の発光性粒子分散体を基板上に担持させる際の基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

　本発明の発光性粒子分散体を基板上に担持させ重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。照射時の温度は、本発明の発光性粒子の粒子形状が保持される温度範囲内であることが好ましい。光重合によってフィルムを製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２以上、２．０Ｗ／ｃｍ^２以下であることが好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ^２未満の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２．０Ｗ／ｃｍ^２よりも高い場合、発光性粒子又は発光性粒子分散体が劣化してしまう危険がある。

　重合によって得られた本発明の発光性粒子分散体を形成材料とする光変換フィルムは、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０～２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒～１２時間の範囲であることが好ましい。

　このような方法によって製造された本発明の発光性粒子分散体を形成材料とする光変換フィルムは、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光変換フィルムを積層しても良く、他の基板に貼り合わせて用いても良い。

　本発明の発光性粒子分散体を形成材料とする光変換フィルムを積層構造体に用いる場合、積層構造体は、例えば基板、バリア層、光散乱層等の任意の層を有していても良い。基板を構成する材料としては例えば前記のものが挙げられる。積層構造体の構成例としては、例えば、２枚の基板間に本発明の発光性粒子分散体を形成材料とする光変換フィルムを挟持した構造が挙げられる。その場合、空気中の水分や酸素から発光性粒子分散体を形成材料とする光変換フィルムを保護するために、基板間の外周部を封止材によって封止しても良い。また、バリア層としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ガラスが挙げられる。光を均一に散乱させるために、光散乱層を有しても良い。光散乱層としては、例えば、前記光散乱粒子を含有する層及び光拡散フィルムが挙げられる。図１は、本実施形態の積層構造体の構成を模式的に示す断面図である。図１では、図面が煩雑になることを避けるため、断面を示すハッチングの記載を省略している。積層構造体５０は、第１の基板５１及び第２の基板５２の間に、本実施形態の光変換フィルム５４が挟持されている。光学フィルム５４は、光散乱粒子５４１と発光性粒子５４２とを含有する発光性粒子分散体を形成材料として形成され、光散乱粒子５４１及び発光性粒子５４２は、光変換フィルム中に均一に分散している。光変換フィルム５４は、封止材によって形成された封止層５３によって封止されている。

　本発明の発光性粒子を含む積層構造体は、発光デバイス用途に好適である。発光デバイスの構成例としては、例えば、プリズムシート、導光板、本発明の発光性粒子を含む積層構造体及び光源を有する構造が挙げられる。光源としては、例えば、発光ダイオード、レーザー、電界発光デバイスが挙げられる。

　本発明の発光性粒子を含む積層構造体は、ディスプレイ用の波長変換部材として使用されることが好ましい。波長変換部材として使用する場合の構成例としては、例えば、２枚のバリア層の間に本発明の発光性粒子含有組成物を形成材料とする光変換フィルムを封止した積層構造体を、導光板上に設置する構造が挙げられる。この場合、導光板の側面に設置された発光ダイオードからの青色光を、前記積層構造体を通すことによって、緑色光や赤色光へと変換することができ、ディスプレイ用のバックライトとして使用することができる。

＜光変換層、カラーフィルタ及び発光素子＞
　本発明の他の一実施形態は、光変換層、カラーフィルタ及び発光素子である。以下、上述した実施形態のインク組成物又はインク組成物セットを用いて得られる光変換層及びカラーフィルタの詳細について、図面を参照しつつ説明する。ただし、以下の実施形態は、インク組成物が光散乱性粒子を含有する場合の実施形態である。なお、以下の説明において、同一又は相当要素には同一符号を用い、重複する説明は省略する。

　図２は、一実施形態のカラーフィルタの模式断面図である。図２に示すように、カラーフィルタ１００は、基材４０と、基材４０上に設けられた光変換層３０と、を備える。光変換層３０は、複数の画素部１０と、遮光部２０と、を備えている。

　光変換層３０は、画素部１０として、第１の画素部１０ａと、第２の画素部１０ｂと、第３の画素部１０ｃとを有している。第１の画素部１０ａと、第２の画素部１０ｂと、第３の画素部１０ｃとは、この順に繰り返すように格子状に配列されている。遮光部２０は、隣り合う画素部の間、すなわち、第１の画素部１０ａと第２の画素部１０ｂとの間、第２の画素部１０ｂと第３の画素部１０ｃとの間、第３の画素部１０ｃと第１の画素部１０ａとの間に設けられている。言い換えれば、これらの隣り合う画素部同士は、遮光部２０によって離間されている。

　第１の画素部１０ａ及び第２の画素部１０ｂは、それぞれ上述した実施形態のインク組成物の硬化物を含む発光性の画素部（発光性画素部）である。図１に示す硬化物は、発光性粒子と、硬化成分と、光散乱性粒子とを含有する。第１の画素部１０ａは、第１の硬化成分１３ａと、第１の硬化成分１３ａ中にそれぞれ分散された第１の発光性粒子１１ａ及び第１の光散乱性粒子１２ａとを含む。同様に、第２の画素部１０ｂは、第２の硬化成分１３ｂと、第２の硬化成分１３ｂ中にそれぞれ分散された第２の発光性粒子１１ｂ及び第２の光散乱性粒子１２ｂとを含む。硬化成分は、光重合性化合物の重合によって得られる成分であり、光重合性化合物の重合体を含む。硬化成分には、上記重合体の他、インク組成物に含まれていた有機溶剤以外の成分が含まれていてよい。第１の画素部１０ａ及び第２の画素部１０ｂにおいて、第１の硬化成分１３ａと第２の硬化成分１３ｂとは同一であっても異なっていてもよく、第１の光散乱性粒子１２ａと第２の光散乱性粒子１２ｂとは同一であっても異なっていてもよい。

　第１の発光性粒子１１ａは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を吸収し６０５～６６５ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、赤色発光性のナノ結晶粒子である。すなわち、第１の画素部１０ａは、青色光を赤色光に変換するための赤色画素部と言い換えてよい。また、第２の発光性粒子１１ｂは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を吸収し５００～５６０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、緑色発光性のナノ結晶粒子である。すなわち、第２の画素部１０ｂは、青色光を緑色光に変換するための緑色画素部と言い換えてよい。

　発光性画素部における発光性粒子の含有量は、外部量子効率の向上効果により優れる観点及び優れた発光強度が得られる観点から、発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、好ましくは、１質量％以上、２質量％以上、又は３質量％以上である。発光性粒子の含有量は、画素部の信頼性に優れる観点及び優れた発光強度が得られる観点から、発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、好ましくは、１５質量％以下、１０質量％以下、又は７質量％以下である。

　発光性画素部における光散乱性粒子の含有量は、外部量子効率の向上効果により優れる観点から、発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、０．１質量％以上、１質量％以上又は３質量％以上であってもよい。光散乱性粒子の含有量は、外部量子効率の向上効果により優れる観点及び画素部の信頼性に優れる観点から、発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、３０質量％以下、２５質量％以下、２０質量部％以下、１５質量部％以下又は１０質量％以下であってもよい。

　第３の画素部１０ｃは、上述した非発光性インク組成物の硬化物を含む非発光性の画素部（非発光性画素部）である。硬化物は、発光性粒子を含有せず、光散乱性粒子と、硬化成分とを含有する。すなわち、第３の画素部１０ｃは、第３の硬化成分１３ｃと、第３の硬化成分１３ｃ中に分散された第３の光散乱性粒子１２ｃとを含む。第３の硬化成分１３ｃは、例えば、重合性化合物の重合によって得られる成分であり、重合性化合物の重合体を含む。第３の光散乱性粒子１２ｃは、第１の光散乱性粒子１２ａ及び第２の光散乱性粒子１２ｂと同一であっても異なっていてもよい。

　第３の画素部１０ｃは、例えば、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光に対し３０％以上の透過率を有する。そのため、第３の画素部１０ｃは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を発する光源を用いる場合に、青色画素部として機能する。なお、第３の画素部１０ｃの透過率は、顕微分光装置により測定することができる。

　非発光性画素部における光散乱性粒子の含有量は、視野角における光強度差をより低減することができる観点から、非発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、１質量％以上であってよく、５質量％以上であってもよく、１０質量％以上であってもよい。光散乱性粒子の含有量は、光反射をより低減することができる観点から、非発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、８０質量％以下であってよく、７５質量％以下であってもよく、７０質量％以下であってもよい。

　画素部（第１の画素部１０ａ、第２の画素部１０ｂ及び第３の画素部１０ｃ）の厚さは、例えば、１μｍ以上であってよく、２μｍ以上であってもよく、３μｍ以上であってもよい。画素部（第１の画素部１０ａ、第２の画素部１０ｂ及び第３の画素部１０ｃ）の厚さは、例えば、３０μｍ以下であってよく、２０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以下であってもよい。

　遮光部２０は、隣り合う画素部を離間して混色を防ぐ目的及び光源からの光の漏れを防ぐ目的で設けられる、いわゆるブラックマトリックスである。遮光部２０を構成する材料は、特に限定されず、クロム等の金属の他、バインダーポリマーにカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させた樹脂組成物の硬化物等を用いることができる。ここで用いられるバインダーポリマーとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を１種又は２種以上混合したもの、感光性樹脂、Ｏ／Ｗエマルジョン型の樹脂組成物（例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの）などを用いることができる。遮光部２０の厚さは、例えば、０．５μｍ以上であってよく、１０μｍ以下であってよい。

　基材４０は、光透過性を有する透明基材であり、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の透明なガラス基板、透明樹脂フィルム、光学用樹脂フィルム等の透明なフレキシブル基材などを用いることができる。これらの中でも、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスからなるガラス基板を用いることが好ましい。具体的には、コーニング社製の「７０５９ガラス」、「１７３７ガラス」、「イーグル２００」及び「イーグルＸＧ」、旭硝子社製の「ＡＮ１００」、日本電気硝子社製の「ＯＡ－１０Ｇ」及び「ＯＡ－１１」が好適である。これらは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性及び高温加熱処理における作業性に優れる。

　以上の光変換層３０を備えるカラーフィルタ１００は、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を発する光源を用いる場合に好適に用いられる。

　カラーフィルタ１００は、例えば、基材４０上に遮光部２０をパターン状に形成した後、基材４０上の遮光部２０によって区画された画素部形成領域に画素部１０を形成することにより製造できる。画素部１０は、インク組成物（インクジェットインク）をインクジェット方式により基材４０上の画素部形成領域に選択的に付着させる工程と、インク組成物に対して活性エネルギー線（例えば紫外線）を照射し、インク組成物を硬化させて発光性画素部を得る工程と、を備える方法により形成することができる。インク組成物として上述した発光性インク組成物を用いることで発光性画素部が得られ、非発光性インク組成物を用いることで非発光性画素部が得られる。

　遮光部２０を形成させる方法は、基材４０の一面側の複数の画素部間の境界となる領域に、クロム等の金属薄膜、又は、遮光性粒子を含有させた樹脂組成物の薄膜を形成し、この薄膜をパターニングする方法等が挙げられる。金属薄膜は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等により形成することができ、遮光性粒子を含有させた樹脂組成物の薄膜は、例えば、塗布、印刷等の方法により形成することができる。パターニングを行う方法としては、フォトリソグラフィ法等が挙げられる。

　インクジェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェット（登録商標）方式、或いは圧電素子を用いたピエゾジェット方式等が挙げられる。

　インク組成物の硬化は、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ等を用いてよい。照射する光の波長は、例えば、２００ｎｍ以上であってよく、４４０ｎｍ以下であってよい。露光量は、例えば、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上であってよく、４０００ｍＪ／ｃｍ^２以下であってよい。

　例えば、光変換層は、第３の画素部１０ｃに代えて又は第３の画素部１０ｃに加えて、青色発光性のナノ結晶粒子を含有する発光性インク組成物の硬化物を含む画素部（青色画素部）を備えていてもよい。また、光変換層は、赤、緑、青以外の他の色の光を発するナノ結晶粒子を含有する発光性インク組成物の硬化物を含む画素部（例えば黄色画素部）を備えていてもよい。これらの場合、光変換層の各画素部に含有される発光性粒子のそれぞれは、同一の波長域に吸収極大波長を有することが好ましい。

　また、光変換層の画素部の少なくとも一部は、発光性粒子以外の顔料を含有する組成物の硬化物を含むものであってもよい。

　また、カラーフィルタは、遮光部のパターン上に、遮光部よりも幅の狭い撥インク性を持つ材料からなる撥インク層を備えていてもよい。また、撥インク層を設けるのではなく、画素部形成領域を含む領域に、濡れ性可変層としての光触媒含有層をベタ塗り状に形成した後、当該光触媒含有層にフォトマスクを介して光を照射して露光を行い、画素部形成領域の親インク性を選択的に増大させてもよい。光触媒としては、酸化チタン、酸化亜鉛等が挙げられる。

　また、カラーフィルタは、基材と画素部との間に、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルアルコール、ゼラチン等を含むインク受容層を備えていてもよい。

　また、カラーフィルタは、画素部上に保護層を備えていてもよい。この保護層は、カラーフィルタを平坦化すると共に、画素部に含有される成分、又は、画素部に含有される成分及び光触媒含有層に含有される成分の液晶層への溶出を防止するために設けられるものである。保護層を構成する材料は、公知のカラーフィルタ用保護層として使用されているものを使用できる。

　また、カラーフィルタ及び光変換層の製造では、インクジェット方式ではなく、フォトリソグラフィ方式で画素部を形成してもよい。この場合、まず、基材にインク組成物を層状に塗工し、インク組成物層を形成する。次いで、インク組成物層をパターン状に露光した後、現像液を用いて現像する。このようにして、インク組成物の硬化物からなる画素部が形成される。現像液は、通常アルカリ性であるため、インク組成物の材料としてはアルカリ可溶性の材料が用いられる。ただし、材料の使用効率の観点では、インクジェット方式がフォトリソグラフィ方式よりも優れている。これはフォトリソグラフィ方式では、その原理上、材料のほぼ２／３以上を除去することとなり、材料が無駄になるからである。このため、本実施形態では、インクジェットインクを用い、インクジェット方式により画素部を形成することが好ましい。

　また、本実施形態の光変換層の画素部には、上記した発光性粒子に加えて、発光性粒子の発光色と概ね同色の顔料を更に含有させてもよい。顔料を画素部に含有させるため、インク組成物に顔料を含有させてもよい。

　また、本実施形態の光変換層中の赤色画素部（Ｒ）、緑色画素部（Ｇ）、及び青色画素部（Ｂ）のうち、１種又は２種の発光性画素部を、発光性粒子を含有させずに色材を含有させた画素部としてもよい。ここで使用し得る色材としては、公知の色材を使用することができ、例えば、赤色画素部（Ｒ）に用いる色材としては、ジケトピロロピロール顔料及び／又はアニオン性赤色有機染料が挙げられる。緑色画素部（Ｇ）に用いる色材としては、ハロゲン化銅フタロシアニン顔料、フタロシアニン系緑色染料、フタロシアニン系青色染料とアゾ系黄色有機染料との混合物からなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。青色画素部（Ｂ）に用いる色材としては、ε型銅フタロシアニン顔料及び／又はカチオン性青色有機染料が挙げられる。これらの色材の使用量は、光変換層に含有させる場合には、透過率の低下を防止できる観点から、画素部（インク組成物の硬化物）の全質量を基準として、１～５質量％であることが好ましい。

　上記カラーフィルタは、発光素子である有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）、液晶表示素子等のカラーフィルタに用いることができる。本発明では、とりわけ、有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）として有用であり、以下、有機ＥＬ素子の構成について簡単に説明する。

　有機ＥＬ素子である発光素子は、基板上に画素毎に区画された有機ＥＬ光源部を有し、かつ、該有機ＥＬ光源部の上部に該有機ＥＬ光源部から発せられる青色光を赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）へ変換するカラーフィルタを配設してなる発光素子である。画素毎に区画された有機ＥＬ光源部は、有機ＥＬ発光部材と共に、充填層と、保護層とを有していてもよい。

　かかる発光素子は、有機ＥＬ光源部（ＥＬ層）から発せられた光を前記カラーフィルタによって吸収及び再放出するか或いは透過させ、上基板側から外部に赤色光、緑色光、青色光として取り出すことができる。

　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。

［ポリマーＢの合成］
＜合成例１＞
　反応容器に、１２ヒドロキシステアリン酸１５部、ε－カプロラクトン２８５部、及び触媒としてモノブチルスズオキシド０．０５部を仕込み、窒素ガスで置換した後、１２０℃で４時間加熱撹拌し、ポリエステル中間体を得た。次に反応容器に、ポリアリルアミン１０％水溶液（日東紡績（株）製「ＰＡＡ－１ＬＶ」、数平均分子量約３，０００）１００部を１６０℃で撹拌し、分離装置を使用して水を溜去すると共に、これにポリエステル中間体２００部を１６０℃まで昇温したものを加え、２時間１６０℃で反応を行い、グラフトコポリマーＢ４を得た。得られたポリマーの重量平均分子量(Ｍｗ)を、後述する条件のゲル浸透クロマトグラフィー(ＧＰＣ)測定により求めたところ、ポリスチレン標準で、４４，０００であり、常温で淡黄色固体であった。

＜合成例２＞
　反応容器に、ポリエチレンイミン（（株）日本触媒製「ＥｐｏｍｉｎＳＰ－０１８」）６部、ε－カプロラクトン６０部、δ－バレロラクトン４０部、１２ヒドロキシステアリン酸１５部、ジラウリン酸ジブチルスズ０．０５部を混合し、５時間１７０℃で反応を行い、グラフトコポリマーＢ５を得た。得られたポリマーの重量平均分子量(Ｍｗ)を、後述する条件のゲル浸透クロマトグラフィー(ＧＰＣ)測定により求めたところ、ポリスチレン標準で、２５，０００であり、常温で褐色液体であった。
［ＧＰＣを用いた重量平均分子量（Ｍｗ）の測定条件］
　Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドに、リチウムブロマイドを１０ｍｍｏｌ／Ｌの濃度となるように溶解した液を溶離液として、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定〔東ソー株式会社製、ＧＰＣ装置（ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ）、東ソー株式会社製カラム（ＴＳＫ－ＧＥＬ　ｓｕｐｅｒ　ＡＷＭ－Ｈ×２本）、流速：０．６ｍＬ／ｍｉｎ〕により、標準物質としてポリスチレンを用いて測定した。

＜実施例１＞
［発光性粒子分散体の調製］
（工程Ｓ１）
　まず、０．１２ｇの炭酸セシウムと、５ｍＬの１－オクタデセンと、０．５ｍＬのオレイン酸とを混合して混合液を得た。次に、この混合液を１２０℃で３０分間、減圧乾燥した後、アルゴン雰囲気下に１５０℃で加熱した。これにより、セシウム－オレイン酸溶液を得た。

　一方、０．１ｇの臭化鉛（ＩＩ）と７．５ｍＬの１－オクタデセンと、０．７５ｍＬのオレイン酸とを混合して混合液を得た。次に、この混合液を９０℃で１０分間、減圧乾燥した後、アルゴン雰囲気下に混合液に０．７５ｍＬの３－アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）を添加した。その後さらに２０分間減圧乾燥を行った後、アルゴン雰囲気下に１４０℃で加熱した。

　その後、上記臭化鉛（ＩＩ）を含む混合液に１５０℃で０．７５ｍＬの前記セシウム－オレイン酸溶液を添加し、５秒間加熱撹拌することにより反応させた後、氷浴で冷却した。次いで、６０ｍＬの酢酸メチルを添加した。得られた懸濁液を遠心分離（１０，０００回転／分、１分間）した後、上澄み液を除去することにより、前駆体粒子Ｐ１を含む固形物を得た。なお、前駆体粒子Ｐ１を構成するナノ結晶はペロブスカイト型の三臭化鉛セシウム結晶であり、走査透過電子顕微鏡観察により分析したところその平均粒子径は１０ｎｍであった。

（工程Ｓ２）
　ポリマーＢとして、下記式（Ｂ６）で表される構造を有するブロックコポリマー（Ｓ２ＶＰ、ＰｏｌｙｍｅｒＳｏｕｒｃｅ．社製）８００ｍｇをトルエン８０ｍＬに添加し、６０℃で加熱溶解させた。上記前駆体粒子Ｐ１を含む固形物に、ブロックコポリマーが溶解したトルエン８０ｍＬを添加し、１５分間撹拌した後、遠心分離して、上澄み液を回収することにより、前駆体粒子及びブロックコポリマーを含むトルエン分散液を得た。

（工程Ｓ３）
　上記トルエン分散液２ｍＬに対して、下記式（Ｃ４）で表される化合物（ＭＳ－５１、コルコート株式会社製、式（Ｃ４）中のｍの平均値は４）１０μＬを添加し、５分間撹拌し、次いで、イオン交換水５μＬを更に添加して２時間撹拌した。

　得られた溶液を、９，０００回転／分、５分間の条件で遠心分離した後、上澄み液２ｍＬを回収することにより、発光性粒子がトルエンに分散した発光性粒子分散体１を得た。発光性粒子分散体に分散した発光性粒子について、動的光散乱式ナノトラック粒度分布計を用いて平均粒子径を測定したところ、１０９ｎｍであった。前記発光性粒子について、走査透過電子顕微鏡を用いたエネルギー分散型Ｘ線分析法（ＳＴＥＭ－ＥＤＳ）によって元素分布を評価した結果を図３に示した。図３に示す通り、発光性粒子の表面層にＳｉが含まれていることを確認した。また、当該表面層の厚さを測定したところ、約４ｎｍであった。

＜実施例２＞
　工程Ｓ１において、さらに３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン（ＭＰＴＥＳ）を０．１５ｍＬ添加した以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体２を調製した。

＜実施例３＞
　工程Ｓ１において、さらに３－トリエトキシシリルプロピルコハク酸無水物（ＳＡＰＴＥＳ）を０．１５ｍＬ添加した以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体３を調製した。

＜実施例４＞
　工程Ｓ２において、ポリマーＢとして、Ｓ２ＶＰに代えて「ＥＦＫＡ（登録商標）　ＰＸ４７０１」（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を添加した以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体４を調製した。前記ＥＦＫＡ　ＰＸ４７０１は、塩基性の第一の構造単位としてビニルピリジンを含み、親溶媒性の第二の構造単位としてポリエチレングリコール構造を含むブロックコポリマーである。

＜実施例５＞
　工程Ｓ２において、ポリマーＢとして、Ｓ２ＶＰに代えて合成例１で合成したポリマーＢ４を添加した以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体５を調製した。

＜実施例６＞
　工程Ｓ２において、ポリマーＢとして、Ｓ２ＶＰに代えて合成例１で合成したポリマーＢ５を添加した以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体６を調製した。

＜比較例１＞
　工程Ｓ２においてポリマーＢを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体７を調製した。

＜比較例２＞
　工程Ｓ３において式（Ｃ４）で表される化合物及びイオン交換水を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体８を調製した。

＜比較例３＞
　工程Ｓ２においてポリマーＢを添加せず、工程Ｓ３において式（Ｃ４）で表される化合物及びイオン交換水を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体９を調製した。

＜比較例４＞
　工程Ｓ１において、３－アミノプロピルトリエトキシシランに代えてオレイルアミンを添加した以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体１０を調製した。

＜比較例５＞
　工程Ｓ１において、３－アミノプロピルトリエトキシシランに代えてオレイルアミンを添加し、工程Ｓ２においてポリマーＢを添加せず、工程Ｓ３において式（Ｃ４）で表される化合物及びイオン交換水を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして発光性粒子分散体１１を調製した。

　下記表１に、得られた発光性粒子分散体１～１１について、半導体ナノ結晶組成と、用いたシラン化合物Ａ、ポリマーＢ、シラン化合物Ｃについて示す。

［分散性の評価］
　実施例及び比較例の各発光性粒子分散体について、工程Ｓ３の遠心分離直後及び１週間保管した後の当該分散体の色及び状態を目視で確認した。結果を表１に示す。評価基準は以下のとおりである。なお、比較例１は、評価がＣであり、遠心分離によって発光性粒子が沈殿し、遠心分離後の上澄み液に発光性粒子が実質的に存在しないと考えられるため、これ以降の評価を行わなかった。
Ａ：工程Ｓ３の遠心分離直後及び１週間保管後も黄緑色に着色していて、１週間保管後も沈殿が確認されなかった。
Ｂ：工程Ｓ３の遠心分離直後は黄緑色に着色していたが、１週間保管後は無色に変化していて沈殿が生じていた。
Ｃ：工程Ｓ３の遠心分離直後に無色だった。

［初期の量子収率の測定］
　実施例及び比較例の各発光性粒子分散体について、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス株式会社製、「Ｑｕａｎｔａｕｒｕｓ－ＱＹ」）を用いて初期の量子収率ＱＹ_０を測定した。結果を表１に示す。

［エタノールに対する安定性の評価］
　上述したように、ペロブスカイト型の半導体ナノ結晶は水等の極性溶媒に対して不安定化しやすいため、量子収率の低下を招くおそれがある。そこで、極性溶媒としてエタノールを用いて、発光性粒子分散体に分散した発光性粒子の極性溶媒に対する安定性を評価した。実施例及び比較例の各発光性粒子分散体に対し、１０体積％となるようにエタノールを添加し、撹拌により均一化した後、上記と同様にして、エタノール添加後の量子収率ＱＹ_１を測定した。エタノール添加前後での量子収率保持率（％）は以下の式（１）によって算出した。結果を表２に示した。
　エタノール添加前後での量子収率保持率（％）＝ＱＹ_１／ＱＹ_０×１００…（１）

［加熱に対する安定性の評価］
　実施例及び比較例の各発光性粒子分散体中のトルエンを、エバポレーターを用いて揮発させることで各発光性粒子を固体として回収し、初期の量子収率ＱＹ_２を測定した。さらに１００℃で１時間加熱した後の量子収率ＱＹ_３を測定した。加熱前後での量子収率保持率（％）は、以下の式（２）によって算出した。結果を表２に示した。
　加熱前後での量子収率保持率（％）＝ＱＹ_３／ＱＹ_２×１００…（２）

　表２に示すように、実施例１～６の発光性粒子分散体は、比較例１～５と比較して、溶媒に対する分散性及び分散安定性に優れる。また、初期の量子収率が高いことから、良好な発光強度を得ることができる。さらに、極性溶媒であるエタノールに対する安定性及び耐熱性に優れる。

＜実施例７＞
［発光性粒子を含有するフィルムの製造］
　実施例１において調製した、発光性粒子分散体１を２ｍＬとヘキサン４ｍＬを混合し、得られた懸濁液を４，０００ｒｐｍで１分間遠心分離した。上澄み液を除去することにより、発光性粒子を含有する固形物（Ｘ-1）を得た。

　波長５００ｎｍ以下の光をカットしたクリーンルーム内で、撹拌子を備えたガラス製バイアルに、ライトアクリレートＩＢ－ＸＡ（共栄社化学社製）２６．７質量部、ライトアクリレートＤＣＰ－Ａ（共栄社化学社製）５０質量部、ＭＩＲＡＭＥＲＭ－３１３０（ＭＩＷＯＮＳｐｅｃｉａｌｔｙＣｈｅｍｉｃａｌ社製）２０質量部及びＯｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎ社製）３質量部を加え、室温で撹拌し溶解させた。発光性粒子を含有する固形物（Ｘ-1）０．３質量部を加え、室温で撹拌し溶解させ、メンブレンフィルター（孔径０．５０μｍ）により濾過することによって、発光性粒子分散体１２を調製した。得られた発光性粒子分散体１２を、メンブレンフィルター（孔径０．５０μｍ）により濾過した。得られた濾過後の発光性粒子分散体を、５０μｍスペーサー付きガラス基板ＥａｇｌｅＸＧ（コーニング社製）に滴下し、もう一枚のガラス基板ＥａｇｌｅＸＧを重ね置き、窒素雰囲気下、主波長が３９５ｎｍのＵＶ光を、積算光量が１０Ｊ／ｃｍ２になるように照射することによって、発光性粒子を含有する厚み５０μｍのフィルムを製造した。

［耐熱性の評価］
　得られた発光性粒子を含有する各フィルムについて、遮光下、空気中、８０℃、５０％ＲＨで５時間加熱した。加熱前後におけるフィルムの絶対量子収率（ＰＬＱＹ）を測定し、加熱後ＰＬＱＹ保持率（％）を求めた。加熱後ＰＬＱＹ保持率（％）は、下記の式（３）によって算出した。
　加熱後ＰＬＱＹ保持率（％）＝（加熱後のフィルムのＰＬＱＹ）／（加熱前のフィルムのＰＬＱＹ）×１００…（３）

［耐光性の評価］
　得られた発光性粒子を含有する各フィルムについて、耐光性試験機（シーシーエス社製）を用いて、空気中、ピーク発光波長４５０ｎｍの青色光を、ステージ温度３０℃で６０ｍＷ／ｃｍ^２、２時間照射した。光照射前後におけるフィルムの絶対量子収率（ＰＬＱＹ）を測定し、光照射後ＰＬＱＹ保持率（％）を求めた。光照射後ＰＬＱＹ保持率（％）は、下記の式（４）によって算出した。
　光照射後ＰＬＱＹ保持率（％）＝（光照射後のフィルムのＰＬＱＹ）／（光照射前のフィルムのＰＬＱＹ）×１００…（４）
　得られた発光性粒子を含有する各フィルムについて、加熱後ＰＬＱＹ保持率（％）及び光照射後ＰＬＱＹ保持率（％）を下記の表３に示した。

＜実施例８～１２及び比較例６～９＞
　発光性粒子分散体１を、下記表２に示す発光性粒子分散体に変更した以外は、発光性粒子分散体１２の調製と同一条件で、実施例８～１２の発光性粒子分散体１２～１７及び比較例６～９の発光性粒子分散体１８～２１を得た。
　調製した発光性粒子分散体を用いて、実施例７と同様に、フィルムを作製し、絶対量子収率及び絶対量子収率保持率（％）の評価を行った。結果を表３に示す。

　実施例７～１２に示したように、本発明の発光性粒子を含有するフィルムは、比較例６から比較例９に示した発光性粒子を含有するフィルムと比較して、加熱後ＰＬＱＹ保持率（％）及び光照射後ＰＬＱＹ保持率（％）がいずれも高いことから、水分、光及び熱に対する安定性が高いことがわかる。これは、本発明の発光性粒子は粒子どうしの凝集が起こりにくいことから、フィルムを形成した場合に凹凸が少なくなり、水分子や酸素ラジカルと接触する可能性のある表面積が小さく劣化が起こりにくいことが原因と推定される。

＜実施例１３＞
［光散乱粒子分散液１の調製］
　窒素ガスで満たした容器内で、酸化チタン（石原産業株式会社製「ＣＲ６０－２」）１０．０質量部と、高分子分散剤「Ｅｆｋａ　ＰＸ４７０１」（アミン価：４０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）１．０質量部と、フェノキシエチルアクリレート（ライトエステルＰＯ－Ａ；共栄社化学株式会社製）１４．０質量部とを混合した。さらに、得られた配合物にジルコニアビーズ（直径:１．２５ｍｍ) を加え、前記容器を密栓しペイントコンディショナーを用いて２時間振とうさせて配合物の分散処理を行うことにより、光拡散粒子分散体１を得た。分散処理後の光拡散粒子の平均粒子径は、ＮＡＮＯＴＲＡＣ　ＷＡＶＥ　ＩＩを用いて測定したところ、０．２４５μｍであった。

［発光性粒子を含有する光変換層の製造］
　波長５００ｎｍ以下の光をカットしたクリーンルーム内で、撹拌子を備えたガラス製バイアルに、ライトアクリレートＩＢ－ＸＡ（共栄社化学社製）５８．５質量部、ライトエステル１，６ＨＸ（共栄社化学社製）２９．５質量部及びＯｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎ社製）３質量部を加え、室温で撹拌し溶解させた。つぎに、１．５質量部の発光性粒子を含有する固形物（Ｘ－１）を加え、室温で撹拌し溶解させた。さらに、８質量部の光散乱粒子分散液１を加えて攪拌し均一溶液とし、メンブレンフィルター（孔径０．６μｍ）により濾過することによって、発光性粒子分散体２２を調製した。

　本発明の発光性粒子分散体２２を、ガラス基板上に、乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように、スピンコーターにて大気中で塗布した。塗布膜を窒素雰囲気下、主波長３９５ｎｍのＬＥＤランプを用いたＵＶ照射装置で積算光量１０Ｊ／ｃｍ２になるようにＵＶを照射して硬化させた後、酸素濃度１体積％以下のグローブボックス中にて３０分間、１８０℃にて加熱し、ガラス基板上に該分散体の硬化物からなる光変換層を形成した。以下のようにして、外部量子効率保持率を評価した。

［外部量子効率（ＥＱＥ）の評価］
　面発光光源としてのシーシーエス株式会社社製の青色ＬＥＤ（ピーク発光波長：４５０ｎｍ）の上方に積分球を設置し、この積分球に大塚電子株式会社製の放射分光光度計（商品名「ＭＣＰＤ－９８００」）を接続した。次に、青色ＬＥＤと積分球との間に上述の評価用試料１を挿入して、青色ＬＥＤを点灯させ、観測されるスペクトル及び各波長における照度を放射分光光度計によって測定した。得られたスペクトル及び照度から、以下のようにして外部量子効率（ＥＱＥ）を求めた。

　外部量子効率は、光変換層に入射した光（光子）のうち、どの程度の割合で蛍光として観測者側に放射されるかを示す値である。従って、この値が大きければ光変換層が発光特性に優れていることを示しており、重要な評価指標である。外部量子効率（ＥＱＥ）は、以下の式（５）で算出される。
　　　　　ＥＱＥ［％］＝Ｐ２／Ｅ（Ｂｌｕｅ）×１００…（５）
　式中、Ｅ（Ｂｌｕｅ）は、３８０～４９０ｎｍの波長域における「照度×波長÷ｈｃ」の合計値を表し、Ｐ２は、５００～６５０ｎｍの波長域における「照度×波長÷ｈｃ」の合計値を表し、これらは観測した光子数に相当する値である。なお、ｈは、プランク定数、ｃは光速を表す。

［耐熱性の評価］
　得られた光変換層について、遮光下、空気中、８０℃、５０％ＲＨで１００時間加熱した。加熱前後における光変換層の外部量子効率（ＥＱＥ）を測定し、加熱後ＥＱＥ保持率（％）を求めた。加熱後ＥＱＥ保持率（％）は、下記の式（６）によって算出した。
　加熱後ＥＱＥ保持率（％）＝（加熱後の光変換層のＥＱＥ）／（加熱前の光変換層のＥＱＥ）×１００…（６）

［耐光性の評価］
　得られた光変換層について、耐光性試験機（シーシーエス社製）を用いて、空気中、ピーク発光波長４５０ｎｍの青色光を、ステージ温度３０℃で１００ｍＷ／ｃｍ^２、１００時間照射した。光照射前後における光変換層の外部量子効率（ＥＱＥ）を測定し、光照射後のＥＱＥ保持率（％）を、下記の式（７）によって算出した。
　光照射後のＥＱＥ保持率（％）＝（光照射後の光変換層のＥＱＥ）／（光照射前の光変換層のＥＱＥ）×１００　　式（７）
　得られた発光性粒子を含有する各光変換層について、加熱後ＥＱＥ保持率（％）及び光照射後のＥＱＥ保持率（％）を下記の表４に示した。

＜実施例１３～１８及び比較例１０～１３＞
　発光性粒子分散体１を、下記表２に示す発光性粒子分散体に変更した以外は、発光性粒子分散体２２の調製と同一条件で、実施例１４～１８の発光性粒子分散体２３～２７及び比較例１０～１３の発光性粒子分散体２８～３１を得た。
　調製した発光性粒子分散体を用いて、実施例１３と同様に、光変換層を作製し、外部量子効率及び外部量子効率保持率（％）の評価を行った。結果を表４に示す。

　実施例１３～１８に示したように、本発明の発光性粒子を含有する光変換層は、比較例１０から比較１３に示した発光性粒子を含有する光変換層と比較して、加熱後ＥＱＥ保持率（％）及び光照射後ＥＱＥ保持率（％）がいずれも高いことから、水分、光及び熱に対する安定性が高いことがわかる。

　以上の結果から、本発明の発光性粒子を含有する光変換層を用いて、発光素子のカラーフィルタ画素部を構成した場合には、優れた発光特性と安定性を得ることができるものと期待できる。

　１０…画素部、１０ａ…第１の画素部、１０ｂ…第２の画素部、１０ｃ…第３の画素部、１１ａ…第１の発光性粒子、１１ｂ…第２の発光性粒子、１２ａ…第１の光散乱性粒子、１２ｂ…第２の光散乱性粒子、１２ｃ…第３の光散乱性粒子、２０…遮光部、３０…光変換層、４０…基材、５０…積層構造体、５１…第１の基板、５２…第２の基板、５３…封止層、５４…光変換フィルム、５４１…光散乱粒子、５４２…発光性粒子、１００…カラーフィルタ。

Claims

　メタルハライドからなる半導体ナノ結晶粒子の表面に、Ｓｉを含有する表面層を備えた発光性粒子の製造方法であって、
　前記半導体ナノ結晶粒子の原料化合物と、前記半導体ナノ結晶粒子の表面に結合可能な結合性基及び加水分解性シリル基を有するシラン化合物Ａと、溶媒とを含む溶液から、前記半導体ナノ結晶粒子及びその表面にポリシロキサン結合を形成させることにより、前記半導体ナノ結晶粒子の表面に前記シラン化合物Ａの重合体を含む層を備えた前駆体粒子を得る工程と、
　前記前駆体粒子と、塩基性基を有する第一の構造単位及び塩基性基を有さず親溶媒性の第二の構造単位を備えたポリマーＢと、溶媒とを混合して混合物を得る工程と、
　加水分解性シリル基を有するシラン化合物Ｃを前記混合物に添加し、ポリシロキサン結合を形成させることにより、前記前駆体粒子の表面に前記ポリマーＢ及び前記シラン化合物Ｃの重合体を含む層を備えた発光性粒子を得る工程と、を備える、発光性粒子の製造方法。
　前記シラン化合物Ａが、下記式（Ａ１）で表される化合物である、請求項１に記載の発光性粒子の製造方法。

［式中、Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ２及びＲ^Ａ３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数が１～６のアルキル基を表し、Ｒ^Ａ４は、前記結合性基を有する１価の基を表す。］
　前記結合性基が、カルボキシル基、メルカプト基及びアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１又は２に記載の発光性粒子の製造方法。
　前記シラン化合物Ｃが、下記式（Ｃ１）で表される化合物である、請求項１～３のいずれか一項に記載の発光性粒子の製造方法。

［式中、Ｒ^Ｃ１及びＲ^Ｃ２は、それぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ^Ｃ３及びＲ^Ｃ４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、ｎは０又は１を表し、ｍは１以上の整数を表す。］
　請求項１～４のいずれか一項に記載の製造方法によって得られた、発光性粒子。
　請求項５に記載の発光性粒子と分散媒とを含有する、発光性粒子分散体。
　前記分散媒が溶媒又は光重合性化合物である、請求項６に記載の発光性粒子分散体。
　前記分散媒として少なくとも光重合性化合物を含有し、さらに光重合開始剤を含有する、請求項６又は７に記載の発光性粒子分散体。
　請求項８に記載の発光性粒子分散体の重合体を含む光変換フィルム。
　請求項９に記載の光変換フィルムを備える積層構造体。
　請求項１０に記載の積層構造体を備える発光素子。
　複数の画素部と、当該複数の画素部間に設けられた遮光部と、を備え、
　前記複数の画素部は、請求項８に記載の発光性粒子分散体の硬化物を含む発光性画素部を有する、光変換層。
　請求項１２に記載の光変換層を備える、カラーフィルタ。
　請求項１３に記載のカラーフィルタを備える、発光素子。